DE1084955B

DE1084955B - Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Speicher- oder Schaltmatrix

Info

Publication number: DE1084955B
Application number: DET16199A
Authority: DE
Inventors: Dr-Ing Sigfried Schweizerhof
Original assignee: Telefunken AG
Current assignee: Telefunken AG
Priority date: 1959-01-30
Filing date: 1959-01-30
Publication date: 1960-07-07
Also published as: NL113905C; NL247893A

Description

Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Speicher-oder Schaltmatrix Zusatz zum Patent 1062 036 Im Hauptpatent 1062 036 ist ein Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Speicher- oder Schaltmatrix angegeben, bei dem auf ein vorgefertigtes Verdrahtungssystem in Form eines Gewebes oder Netzes aus isolierten Drähten eine magnetische Schicht aus dem geschmolzenen Zustand aufgesprüht oder aus der Gasphase aufgedampft wird, derart, daß mindestens die speichernden oder schaltenden Kreuzungspunkte der Drähte allseitig von der aufgebrachten magnetischen Schicht umhüllt werden.
Die Erfindung betrifft eine Verbesserung dieses Verfahrens und geht von der Überlegung aus, daß die Dicke der aufgebrachten magnetischen Schicht für die Schaltzeit der Matrix von wesentlicher Bedeutung ist.
Es ist bekannt, daß der Prozeß der Ummagnetisierung aufgedampfter magnetischer Schichten bei Unterschreitung gewisser sehr kleiner Schichtdicken, z. B. solcher von einigen Zehntel Mikron (1 Mikron = 10-3 mm), um mehrere Größenordnungen schneller als normal ablaufen kann, z. B. in 10-9 sec. Die physikalische Ursache für diese Erscheinung ist wohl darin zu suchen, daß die elementaren Magnetisierungsvektoren bei solchen geringen Schichtdicken im wesentlichen parallel zur Schichtebene liegen und unter der Wirkung äußerer Magnetfelder hauptsächlich durch kohärente Drehprozesse ihre Richtung ändern.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß das Verfahren nach dem Hauptpatent für die praktische Anwendung derartiger, sehr dünner, magnetischer Schichten besonders geeignet ist und hierdurch weitgehend verbessert werden kann. Erfindungsgemäß wird daher vorgeschlagen, daß die magnetische Schicht in so geringer Dicke aufgebracht wird, daß die Ummagnetisierung im wesentlichen nur durch ; kohärente Drehprozesse parallel zur Schichtfläche erfolgt.
Es ist ferner bekannt, daß der Ummagnetisierungsprozeß solcher extrem dünnen Schichten aus geeigneten magnetischen Werkstoffen, z. B. aus bestimmten Eisen-Nickel-Legierungen, nach Durchführung einer Magnetfeldtemperung, d. h. nach vorübergehender Einwirkung von magnetischen Gleichfeldern bei gleichzeitiger mäßiger Erwärmung (z. B. auf mehrere hundert ° C), in Form einer nahezu rechteckförmigen Hys.tereschleife abläuft. Da dieser Ummagnetisierungsprozeß, wie bereits erwähnt, gleichzeitig außerordentlich rasch ablaufen kann, ist es für die Speicherung oder Weiterschaltung von sehr schnell zu verarbeitenden Informationen besonders zweckmäßig, die auf die vorgefertigte Drahtmatrix aufgebrachte, extrem dünne magnetische Schicht zusätzlich noch einer Magnetfeldtemperung zu unterziehen.
Die Magnetfeldtemperung kann während oder nach dem Aufbringen der magnetischen Schicht erfolgen. Das hierfür erforderliche Magnetfeld kann z. B. mit Hilfe einer oder mehrerer der Matrixwicklungen selbst erzeugt werden. Hierdurch kann man der die Kreuzungspunkte umhüllenden Schicht eine magnetische Vorzugsrichtung einprägen, die der späteren Funktion der Matrix genau angepaßt ist.
Um die im allgemeinen sehr schwachen Ummagnetisierungssignale solcher dünner Schichten zu vergrößern, können diese durch Übereinanderaufbringen mehrerer sehr dünner Teilschichten gebildet werden, wobei gegebenenfalls zwischen den einzelnen Teilschichten noch Isolationsschichten eingebracht werden können.
Die Aufbringung der extrem dünnen magnetischen Schicht bzw. Teilschichten kann zweckmäßigerweise dadurch erfolgen, daß das magnetische Material, z. B. ein Ferrit oder eine Eisen-Nickel-Legierung, auf das Drahtnetz der Matrix aus der Gasphase aufgedampft oder aus einer Lösung hierauf niedergeschlagen wird. Das Niederschlagen kann dabei stromlos erfolgen, z. B. ähnlich dem bekannten Canegan-Verfahren für die Aufbringung von Nickelschichten.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Speicher- oder Schaltmatrix nach Patent 1062 036, bei dem auf ein vorgefertigtes Verdrahtungssystem in Form eines Gewebes oder Netzes aus isolierten Drähten eine magnetische Schicht aufgebracht wird, derart, daß mindestens die speichernden oder schaltenden Kreuzungspunkte der Drähte allseitig von der aufgebrachten, magnetischen Schicht umhüllt werden, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht in so geringer Dicke aufgebracht wird, daß die Ummagnetisierung im wesentlichen nur durch kohärente Drehprozesse parallel zur Schichtfläche erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht während und/oder nach dem Aufbringen zusätzlich einer Magnetfeldtemperung unterworfen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetfeldtemperung mit Hilfe eines oder mehrerer der Matrixdrähte selbst durchgeführt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Schicht durch Übereinanderaufbringen mehrerer sehr dünner Teilschichten gebildet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen die einzelnen Teilschichten noch Isolationsschichten eingebracht werden.
6. Verfahren nach Anspruch 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufbringung der magnetischen Schicht durch Aufdampfen aus der Gasphase oder Niederschlagen aus einer Lösung erfolgt.