DE1075272B - Iomsationsgetterpumpe - Google Patents
IomsationsgetterpumpeInfo
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J41/00—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas; Discharge tubes for evacuation by diffusion of ions
- H01J41/12—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps
- H01J41/18—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps with ionisation by means of cold cathodes
- H01J41/20—Discharge tubes for evacuating by diffusion of ions, e.g. ion pumps, getter ion pumps with ionisation by means of cold cathodes using gettering substances
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
DEUTSCHES
Die Erfindung bezieht sich auf Ionisationsgetterpumpen. Darunter werden Pumpen verstanden, deren
Saugwirkung darauf beruht, daß im Zuge einer innerhalb des Pumpengehäuses erzeugten elektrischen Entladung
die abzusaugenden Gase mit Hilfe von sorptionsfähigen Stoffen bleibend gebunden werden.
Solche Pumpen werden z. ß. benutzt, wenn es darum geht, in einem evakuierten Behälter, z. B. dem eines
Vakuumschalters, einer Senderöhre, eines Teilchenbeschleunigers u. dgl., das Vakuum ständig aufrechtzuerhalten.
Es sind bereits lonisationsgetterpumpen bekannt, deren Pumpwirkung auf einer ständigen Bildung
frischer Sorptionsschichten durch Kathodenzerstäubung und gleichzeitige Ionisierung und Anregung der
Gasmoleküle beruht. Bei der älteren Bauweise dieser Pumpen wird die Zerstäubung der Gettersubstanz an
den gleichen Flächen durchgeführt, an denen auch die Sorption der abzusaugenden Gase erfolgt. Hieraus
ergibt sich eine teilweise Wiederbefreiung der bereits gebundenen Gase und dadurch eine Minderung der
Pumpwirkung. Bei einer neueren Bauart sind bereits Maßnahmen getroffen, um die zu sorbierenden Ionen
von den Flächen abzulenken, an denen die Kathodenzerstäubung hauptsächlich erfolgt. Von den Erkenntnissen
ausgehend, auf denen die vorliegende Erfindung beruht, kommt man zu der Feststellung, daß bei
der genannten Bauart zur Zerstäubung des Getterwerkstoffes einerseits und zur Aufnahme der sich bildenden
Sorptionsschichten andererseits zwei verschiedene Flächengruppen benutzt sind.
Dieser —- hier klar ausgesprochene — Gedanke
wird durch die Erfindung weitergebildet im Sinne der Erzielung einer Ionisationsgetterpumpe, die möglichst
weitgehend wartungsfrei ist, eine hohe Lebensdauer hat und bei einer gegebenen Größe eine möglichst
hohe Saugleistung besitzt. Erreicht ist dies dadurch, daß gemäß der Erfindung die die Sorptionsschichten
aufnehmende Flächengruppe den Entladungsraum umschließt, zumindest auf den Seiten, die senkrecht zu
den die Entladung bewirkenden elektrischen und magnetischen Feldlinien stehen. Diese räumliche Anordnung
bringt gegenüber dem Vorbekannten einen grundlegenden Unterschied in der Wirkungsweise mit
sich, wie sich aus folgendem ergibt.
Beim Gegenstand der Erfindung sind die die Sorptionsschichten aufnehmenden Flächen bezüglich
des Entladungsraumes so orientiert, daß die zu sorbierenden Gasionen oder angeregten Moleküle auf
kürzestem und direktem Wege zu diesen Flächen gelangen können. Dies ist dadurch begründet, daß die
Driftbewegung, die den Ionen durch die Entladungsfeldstärke erteilt wird, auf die Sorptionsflächen gerichtet
ist, ferner dadurch, daß die Diffusionswege der Ionis ationsgetterpump e
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke
Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dr.-Phys. Karl-Georg Günther, Nürnberg,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
angeregten Gasmoleküle bis zum Erreichen der genannten Flächen durch die erwähnte räumliche Anordnung
derselben auf ein sehr geringes Maß, praktisch auf ein Minimum, verkürzt sind und sich den angeregten
Molekülen andere Möglichkeiten zum Entweichen aus dem Entladungsraum nicht darbieten.
Ferner wird der zerstäubte Getterwerkstoff vollständig zur Bildung der Sorptionsschichten ausgenutzt.
Demgegenüber ist bei der bekannten Bauart eine eigene Saugspannung erforderlich, um die Ionen zu den die Sorptionsschichten tragenden Flächen hinzulenken. Die angeregten Moleküle können diese Flächen nur durch zufällige Diffusion erreichen. Es wird so nur ein Teil der zu bindenden Gasionen und der angeregten Gasmoleküle aus dem Entladungsraum herausgezogen, und zwar nur aus seinen Randzonen. Infolgedessen ist die Pumpwirkung wesentlich geringer als bei der neuen Ionisationsgetterpumpe.
Demgegenüber ist bei der bekannten Bauart eine eigene Saugspannung erforderlich, um die Ionen zu den die Sorptionsschichten tragenden Flächen hinzulenken. Die angeregten Moleküle können diese Flächen nur durch zufällige Diffusion erreichen. Es wird so nur ein Teil der zu bindenden Gasionen und der angeregten Gasmoleküle aus dem Entladungsraum herausgezogen, und zwar nur aus seinen Randzonen. Infolgedessen ist die Pumpwirkung wesentlich geringer als bei der neuen Ionisationsgetterpumpe.
Allgemein läßt sich die Saugwirkung der hier behandelten Pumpenart folgendermaßen erklären. Für
das Zustandekommen der Saugwirkung ist es erforderlich, daß die ionisierten oder angeregten Gasmoleküle
auf Oberflächen solcher Stoffe auftreffen, die frisch gebildet sind und infolge ihrer chemischen Zusammensetzung
besonders sorptionsfähig sind. Die Saugleistung ist dabei abhängig von der Bildungsgeschwindigkeit dieser Schichten einerseits und von
der Einfall dichte der Gasionen und der angeregten Gasmoleküle andererseits. Es ist jedoch möglich, daß
bereits sorbierte Gasmoleküle durch das Einfallen neuer Teilchen hoher Geschwindigkeit wieder losgeschlagen
werden und in den Gasraum zurückkehren. Es kommt somit darauf an, diesen letztgenannten
Vorgang zu verhindern. Hierauf und auf der oben er-
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läuterten Notwendigkeit, den Getterwerkstoft" mit ausreichender
Geschwindigkeit zu zerstäuben, beruht die angegebene Aufgliederung der wirksamen Flächen in
zwei Gruppen, von denen die eine, aus der Gettermaterial zerstäubt wird, ein höheres Potential gegenüber
der Anode erhält als die Flächengruppe, die zur Aufnahme des zerstäubten Gettermaterials und damit
zur Sorption dient.
Die Zeichnung veranschaulicht einige Ausführung»- bei-piele der neuen Ionisationsgetterpumpe; es zeigt
Fig. 1 in einem Längsschnitt das erste Ausführungsbeispiel,
Fig. 2 eine Abwandlung der Ausführung nach Fig. 1,
Fig. 3 das zweite Ausführungsbeispiel in einem Längsschnitt.
Bei der Ausführung nach Fig. 1 ist 1 das Pumpengehäuse mit dem Saugstutzen 2. Innerhalb des Pumpengehäuses
ist, gegen das Gehäuse isoliert, die Anode 3 angebracht, und zwar in Gestalt einer
Wendel. Sie kann, wie üblich, aus einem Metall mit hohem Schmelzpunkt, z. B. aus \Arolfram oder aus
Molybdän, bestehen. Die Anode 3 wird über die Leitung 4 an das Potential U1 gelegt. Die Leitung 4
ist mit Hilfe einer elektrisch isolierenden Durchführung 5 durch die Wandung des Pumpengehäuses 1
hindurchgeführt.
Das Pumpengehäuse selbst kann gemäß Fig. 1 geerdet sein. Es besteht z. B., wie für die Darstellung
angenommen ist, aus nichtmagnetischem Metall, z. B. aus Kupfer oder Edelstahl. Koaxial zu der wendel·
förmigen Anode 3 sind zwei metallische Platten 6 und 7 vorgesehen. Sie können an der Wandung des
Pumpengehäuses 1 befestigt sein, z. B. durch Löten oder Schweißen. Sie sind hierdurch oder in sonstiger
Weise elektrisch leitend und mit dem Pumpengehäuse 1 verbunden und damit an das Potential O
gelegt. Man könnte sie aber auch gegenüber dem Pumpengehäuse 1 isolieren und über eine gesonderte
Leitung an ein bestimmtes, z. ß. von O abweichendes Potential, legen, das aber, da die Platten 6 und 7 gegenüber
der Anode 3 die Kathode (Hauptkathode) darstellen, wesentlich von dem Potential U1 an der
Anode 3 abweichen müßte. Die Platten 6 und 7 bestehen aus Getterwerkstoff, z. B. aus reinem (vakuumentgastem)
Titan oder Zirkon.
L*m die Platten 6 und 7 herum sind die zur Aufnähme
der Sorptionsschichten dienenden Flächen angeordnet. Im Ausführungsbeispiel sind hierfür zwei
Ringscheiben 8 und 9 aus einem vorzugsweise hochschmelzenden Material (z. B. Molybdän, AVoIfram,
Edelstahl) vorgesehen. Sie stehen miteinander elekirisch leitend in \rerbindung und sind über die Leitung
10 an das Potential U2 gelegt. Die Leitung 10 ist mit Hilfe einer elektrisch isolierenden Durchführung
11 durch das Pumpengehäuse 1 hindurchgeführt.
Zur Erzeugung des Magnetfeldes dient Vorzugsweise ein Dauermagnet 12. Das Pumpengehäuse 1 befindet
sich in der aus der Zeichnung ersichtlichen Lage zwischen den Polschuhen des Dauermagneten 12. Der
Magnet wird bekanntlich vorgesehen, um die effektive Bahnlänge der Elektronen zu verlängern und damit
den Arbeitsbereich der Pumpe in Richtung kleiner Drücke zu erweitern.
Zum Betrieb der Pumpe wird über die Leitungen 4 und 10 zwischen der Anode 3 und dem Pumpengehäuse
1 bzw. den Platten 6 und 7 eine Potentialdifferenz von beispielsweise 2000 bis 4000V und
zwischen der Anode 3 und den Ringplatten 8 und 9
eine Potentialdifferenz von etwa 400 bis 800 V hergestellt.
Die Wirkungsweise ist folgende: Unter dem Einnuß der Spannung U1 wird an den Platten 6 und 7, die
nach obigem aus Getterwerkstoft' bestehen, Getterwerkstoff zerstäubt. Dieser schlägt sich vornehmlich
an den Platten 8 und 9, die im Sinne der obigen Darlegungen die zweite Flächengruppe darbieten, laufend
als sorptionsfähige Schicht nieder. Die an der Platte 6 zerstäubten Teilchen gelangen insbesondere auf die
obere Seite (bezogen auf die Lage gemäß Fig. 1) der Platte 9, während die an der Platte 7 zerstäubten
Teilchen hauptsächlich auf die Unterseite der Platte 8 gelangen. Die Teilchen, die von der Platte 6 auf die
Platte 7 und umgekehrt von der Platte 7 auf die Platte 6 gelangen, tragen zur Saugwirkung wenig
oder gar nicht bei, da sie immer wieder zerstäubt werden. Die zerstäubten Teilchen, die auf der Anode 3
niedergeschlagen werden, tragen zur Pumpwirkung bei, ihr Anteil ist jedoch gering, da die Fläche der
Anode verhältnismäßig klein ist. Während die zerstäubten Teilchen hauptsächlich auf den Ringscheiben
8 und 9 niedergeschlagen werden, fallen auf die sich so bildenden Sorptionsschichten unter der
Wirkung der Spannung U2 die ionisierten Gasmoleküle
ein und ferner auch angeregte Gasmoleküle. Diese beiden Molekülgruppen werden durch die genannten
Sorptionsschichten bleibend gebunden, denn eine Zerstäubung findet hier nicht statt, da die Einfallgeschwindigkeit
wegen der verhältnismäßig kleinen Spannung zwischen Anode und den Ringscheiben
(nach obigem z. B. 400 bis 800 V) für eine merkliche Zerstäubung zu niedrig ist.
Man kann die zweite Flächengruppe, auf der sich die Sorptionsschichten bilden, leicht dadurch vergrößern,
daß man gemäß Fig. 2 die Ringscheiben 8 und 9 durch einen metallischen Zylinder 13 verbindet.
Alsdann bilden die Ringscheiben 8 und 9 mit dem Zylinder 13 eine Einheit gleichen Potentials, mit der
Folge, daß die gesamte Innenfläche dieser Einheit die zweite Flächengruppe zur Aufnahme der Sorptionsschichten
darstellt. Es ergibt sich auf diese Weise eine wesentliche Vergrößerung der zweiten Flächengruppe.
Die Einheit 8, 9, 13 wird innerhalb des Pumpengehäuses isoliert angebracht und über die Leitung
10 an das Potential U2 gelegt. Innerhalb der Einheit
8, 9. 13 wird, ihr gegenüber isoliert, die Anode 3 angebracht.
Bei der Ausführung nach Fig. 3 ist innerhalb des Pumpengehäuses 1 — für dieses gilt das oben Gesagte
— die Anode 21 in Ringform angebracht. Soll sie an das gleiche Potential wie das Gehäuse 1, also
vorzugsweise an Erde, gelegt werden, so kann sie unmittelbar mit dem Gehäuse 1 verbunden bzw. von
diesem getragen werden. Zu beiden Seiten der Anode 1 ist koaxial zu ihr je eine Siebplatte 22 bzw.
23 angebracht. Sie stellen die Kathode und damit die eine der beiden Flächengruppen dar. Daher sind sie
tmtereinander elektrisch leitend verbunden und über die gemeinsame Zuleitung 24, die mit Hilfe einer
isolierenden Durchführung 25 durch das Gehäuse 1 hindurchgeführt ist. an das Potential U1 gelegt. Die
Scheiben 22 und 23 bestehen aus Getterwerkstoff. Die Anode 21 kann wieder aus hochschmelzendem Metall
bestehen. z.B. aus Wolfram oder aus Molybdän. Mit26 ist der Magnet bezeichnet, der den gleichen Zwecken
dient, wie der Magnet bei der Ausführung nach Fig. 1. Sind das Gehäuse 1 und damit die Anode 21 an das
Potential O gelegt, so wird das Potential U1 so gewählt,
daß sich etwa eine Potentialdifferenz von 2000
bis 4000 V zwischen Anode 21 und den die Kathode darstellenden Siebplatten 22 und 23 ergibt.
Die Wirkungsweise ist folgende: Unter dem Einfluß der Spannung U1 wird von den Platten 22 und 23
Getterwerkstoff zerstäubt. Dieser schlägt sich auf der gesamten Innenwandung des Gehäuses 1 nieder, vor
allem aber an den Flächen, die hinter den Öffnungen der Siebplatten 22 und 23 liegen. Die ionisierten und
angeregten Gasmoleküle schlagen sich an den sich laufend bildenden Sorptionsschichten nieder. Da bei der
Ausführung nach Fig. 3 diese Schichten auf dem gleichen Potential wie die Anode liegen, so treffen die
Ionen nur mit der Geschwindigkeit O auf. Eine Wiederzerstäubung der gebildeten Sorptionsflächen
tritt infolgedessen nicht ein. Wandelt man die Ausführung nach Fig. 3 dahingehend ab, daß die Anode
21 gegen das Gehäuse 1 isoliert und zwischen der Anode und dem Gehäuse über die Leitung 27, die mit
Hilfe der Durchführung 28 isoliert gegen das Gehäuse 1 herausgeführt wird, eine Potentialdifferenz Ua
von etwa 400 bis 800 V hergestellt wird, so erhöht sich der Ioneneinfall, d. h„ es treffen auch diejenigen
Moleküle auf, die erst in einem gewissen Abstand von der Anode ionisiert wurden. Da aber die Auftreffgeschwindigkeit
klein ist, tritt auch in diesem Falle eine merkbare Wiederzerstäubung der gebildeten
Ionenschichten nicht ein.
Claims (7)
1. Ionisationsgetterpumpe, deren Pumpwirkung auf einer ständigen Bildung frischer Sorptionsschichten durch Kathodenzerstäubung und gleichzeitige
Ionisierung und Anregung der Gasmoleküle beruht und bei der zur Zerstäubung des Getterwerkstoffes einerseits und zur Aufnahme der
sich bildenden Sorptionsschichten andererseits zwei verschiedene Flächengruppen benutzt sind,
dadurch gekennzeichnet, daß die die Sorptionsschichten aufnehmende Flächengruppe den Entladungsraum
umschließt, zumindest auf den Seiten, die senkrecht zu den die Entladung bewirkenden
elektrischen und magnetischen Feldlinien stehen.
2. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zu beiden Seiten der
Anode, die vorzugsweise als Ringanode ausgebildet ist, in an sich bekannter Weise je eine
koaxiale Platte aus Getterwerkstoff angebracht ist und daß um diese Platten herum die zur Aufnahme
der Sorptionsschichten dienenden Flächen angeordnet sind.
3. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Körper, die die
Flächen zur Aufnahme der Sorptionsschichten darbieten, als Ringscheiben ausgebildet sind (Fig. 1).
4. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Ringscheiben durch
einen elektrisch leitenden Zylinder miteinander verbunden sind (Fig. 2).
5. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zu beiden Seiten der
Anode, die vorzugsweise als Ringanode ausgebildet ist, je eine Siebplatte aus Getterwerkstoff angebracht
ist und daß die zur Aufnahme der Sorptionsschichten dienenden Flächen die Anode und die
beiden vorgenannten Siebplatten umschließen (Fig. 3).
6. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Aufnahme der
Sorptionsschichten dienenden Flächen, die die Anode und die beiden Platten aus Getterwerkstoff
umschließen, an das gleiche Potential gelegt sind wie die Anode.
7. Ionisationsgetterpumpe nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Pumpengehäuse
zur Bildung der Flächen, die zur Aufnahme der Sorptionsschichten dienen, mitbenutzt ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift A 230481 a /27 d (bekanntgemacht am 21. 6. 1956).
Deutsche Auslegeschrift A 230481 a /27 d (bekanntgemacht am 21. 6. 1956).
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 909 729/106 2.60
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0058505 | 1958-06-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1075272B true DE1075272B (de) | 1960-02-11 |
Family
ID=7492586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DENDAT1075272D Pending DE1075272B (de) | 1958-06-06 | Iomsationsgetterpumpe |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3614264A (de) |
CH (1) | CH366625A (de) |
DE (1) | DE1075272B (de) |
FR (1) | FR1226838A (de) |
GB (1) | GB915748A (de) |
NL (2) | NL132318C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3391303A (en) * | 1965-01-25 | 1968-07-02 | Lewis D. Hall | Electronic vacuum pump including a sputter electrode |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3746474A (en) * | 1971-04-02 | 1973-07-17 | W Lloyd | Ionic vacuum pump |
WO2003058069A2 (en) * | 2002-01-14 | 2003-07-17 | Varco Ltd. | Arc vacuum pump |
US9053917B2 (en) | 2013-03-29 | 2015-06-09 | Agilent Technologies, Inc. | Vacuum fired and brazed ion pump element |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL49158C (de) * | 1936-05-29 | |||
GB797232A (en) * | 1955-07-11 | 1958-06-25 | Manfred Von Ardenne | Improvements in or relating to high vacuum ion pumps |
-
0
- DE DENDAT1075272D patent/DE1075272B/de active Pending
- NL NL239135D patent/NL239135A/xx unknown
- NL NL132318D patent/NL132318C/xx active
-
1959
- 1959-05-30 CH CH7379759A patent/CH366625A/de unknown
- 1959-06-05 GB GB19324/59A patent/GB915748A/en not_active Expired
- 1959-06-05 FR FR796724A patent/FR1226838A/fr not_active Expired
- 1959-06-05 US US818322A patent/US3614264A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3391303A (en) * | 1965-01-25 | 1968-07-02 | Lewis D. Hall | Electronic vacuum pump including a sputter electrode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3614264A (en) | 1971-10-19 |
NL132318C (de) | |
FR1226838A (fr) | 1960-08-16 |
GB915748A (en) | 1963-01-16 |
CH366625A (de) | 1963-01-15 |
NL239135A (de) |
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