DE1067934B - - Google Patents

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DE1067934B
DE1067934B DENDAT1067934D DE1067934DA DE1067934B DE 1067934 B DE1067934 B DE 1067934B DE NDAT1067934 D DENDAT1067934 D DE NDAT1067934D DE 1067934D A DE1067934D A DE 1067934DA DE 1067934 B DE1067934 B DE 1067934B
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/265Contactless testing
    • G01R31/2656Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

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Description

  • Verfahren zur Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in Halbleitern Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in Halbleitern.
  • Zur Messung der Diffusionslänge von Minoritätsladungsträgern in Haibleiterkristallen ist es bereits bekanntgeworden, daß der Halbleiterkristall scheibenförmig hergestellt und mit einer großflächigen, lichtdurchlässigen Sperrschichtelektrode auf einer Scheibenfiäche sowie mit einer zweiten Elektrode versehen wird und daß die fotoelektrische Empfindlichkeit dieser Anordnung mittels durch die großflächige, lichtdurchlässige Sperrschichtelektrode einfallenden Lichtes gemessen wird.
  • Fernerhin ist es bereits bekannt, für die Fotoladungsträgererzeugung zwei verschiedene Anregungsbedingungen zu wählen, in deren Abklingvorgang die Volumenrekombination und die Oberflächenrekombination mit unterschiedlichem Gewicht eingehen. Hierbei werden nacheinander zwei verschiedene Messungen durchgeführt, bei denen die Halbleiterkristallzone mit einer Strahlung zweier verschiedener Wellenlängen bestrahlt wird. Dabei ist insbesondere vorgesehen, daß die zwei Wellenlängen so gewählt werden, daß die eine oberhalb und die andere unterhalb der Bandkante des Halbleitermaterials liegt.
  • Diese und ähnliche Verfahren sind sehr aufwendig; sie erfordern, entweder mehrere Messungen nacheinander durchzuführen oder einen präparativen Eingriff in den Prüfling oder sogar das Herstellen besonderer Prüfobj ekte aus dem Halbleitermaterial, dessen Diffusionslänge bzw. Lebensdauer gemessen werden soll.
  • Die Erfindung bezieht sich daher auf ein Verfahren zur Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in Halbleitern, bei dem Ladungsträger fotoelektrisch in dem Halbleiter erzeugt werden und die dadurch hervorgerufenen Änderungen des elektrischen Widerstandes des Halbleiters in Abhängigkeit von der Zeit gemessen werden, wozu an den Halbleiter eine Spannung gelegt und der Spannungsabfall im Halbleiter gemessen wird.
  • Bei diesem bekannten Verfahren wird eine Gleich spannung an den Halbleiter gelegt oder jedenfalls eine Impulsspannung, deren Impulsdauer groß ist gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger. Solche Verfahren haben aber den Nachteil, daß die angelegte Spannung die Ladungsträger aus dem Halbleiterinnern entfernt, beispielsweise dadurch, daß die Ladungsträger auf die Elektroden, mit denen der Halbleiter kontaktiert ist, auftreffen. Das Ende des gemessenen Spannungsabfalls ist dann nicht mehr charakteristisch für die Lebensdauer der Ladungsträger.
  • Erfindungsgemäß wird, um die durch das Meßfeld hervorgerufene, einseitige, räumliche Verlagerung der Ladungsträger im Halbleiter während der Messung zu verringern, insbesondere um das Verschwinden der Ladungsträger in den Zuleitungselektroden zu dem Halbleiter zu verhindern, für die an den Halbleiter angelegte Spannung ein derartig kurzzeitiger Verlauf gewählt, daß das durch sie im Halbleiter erzeugte elektrische Feld die Ladungsträger während ihrer Lebensdauer nicht aus dem Haibleiterinnern hinaustreibt.
  • Der Spannungsverlauf kann insbesondere die Form unipolarer Impulse haben, und die Dauer der Impulse ist klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger. Außerdem wird das Verhältnis von Impulsdauer zu Impulspause kleiner als 1 gehalten. Bei einer Lebensdauer der Ladungsträger von 100 llsec werden beispielsweise Impulsdauern von 1 llsec und Impulspausen von 6 iisec gewählt.
  • Die Impulsspannung kann höher sein als die bisher verwendeten Gleichspannungen, wodurch eine Empfindlichkeitssteigerung der Anzeige erreicht wird. Je kürzer die Impuls dauer bei vorgegebener Impulsfolgefrequenz ist, desto höher kann die Impulsspannung sein. In dem angeführten Beispiel kann die Impulsspannung sechsmal höher sein als die maximale Gleichspannung, die zur Erfassung noch praktisch aller Ladungsträger his zu ihrem durch feldfreie Rekombination bedingten Lebensende gerade noch zulässig ist. Es wird hierdurch eine Empfindlichkeitssteigerung um den Faktor 6 erzielt.
  • Bei Anwendung unipolarer Impulse werden die Ladungsträger allmählich in einer Richtung durch den Halbleiter getrieben. Bei sehr hoher spezifischer Leitfähigkeit des Halbleiters und der dadurch bedingten Meßunempfindlichkeit kann wegen der beschränkten Kleinheit der Impuls dauer der Fall eintreten, daß die Empfindlichkeitssteigerung durch Anwendung tinipolarer Impulse nicht ausreicht. In solchen Fällen ist es vorteilhaft, statt dessen Dipolare Impulse zu verwenden, unter deren Einfluß die Ladungsträger allein um eine Ruhelage herumpendeln. Die Impuls dauer dieser bipolaren Impulse ist ebenfalls klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger zu halten.
  • Statt bipolarer Impulse kann man auch eine Wech sel spannung verwenden, deren Periode klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger ist.
  • Das Verfahren gemäß der Erfindung eignet sich insbesondere zur Messung verhältnismäßig langer Lebensdauern von Ladungsträgern und zur Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in Halbleitern verhältnismäßig hoher Leitfähigkeit, also z. B. in stark mit Donatoren oder Akzeptoren dotierten Silizium- oder Germaniumkristallen.
  • Einzelheiten des Verfahrens gemäß der Erfindung und von Anordnungen zur Durchführung dieses Verfahrens werden nachfolgend im Zusammenhang mit den Figuren erläutert: In Fig. 1 kennzeichnet 1 den Halbleiter, der über einen Vorwiderstand 2 an einen Impulsgenerator 3 angeschlossen ist. Auf den Halbleiter 1 wird ein Lichtblitz 4 gerichtet. Die in dem Halbleiter 1 abfallende Spannung wird in einem Elektronenstrahloszillographen 5 angezeigt.
  • Die Lichtblitze 4 sind mit der Zeitablenkung des Kathodenstrahls der Kathodenstrahlröhre synchronisiert, beispielsweise mit dem periodischen Zeitpunkt 6 auf der Zeitachse des Kathodenstrahloszillographen 5.
  • Die Anstiegsdauer der Lichtblitzintensität ist dabei klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger zu halten, etwa gleich der Dauer der Impulse. Nach Auftreffen eines Lichtblitzes 4 auf den Halbleiter 1 wird zu den Zeiten, an denen die Impulsspannungen an dem Halbleiter 1 liegen, der Spannungsabfall an dem Pl albleiter 1 als die Vertikalauslenkung des Kathodenstrahls in der Kathodenstrahlröhre angezeigt. Dies ist durch die auf dem Kathodenstrahloszillographen 5 dargestellten Impulse 7 angedeutet. Die Impulse 7 werden allmählich kleiner, da die Zahl der Ladungsträger infolge Beendigung ihrer natürlichen Lebensdauer allmählich abnimmt. Vor dem Zeitpunkt 6 wird mir die Leitfähigkeit angezeigt, die der nicht durch einen Lichtblitz angeregte Halbleiter hat. Dies ist markiert durch die Impulse konstanter Höhe 8.
  • Die Geschwindigkeit der Zeitablenkung des Kathodenstrahls in dem Kathodenstrahloszillographen 5 nimmt, vorzugsweise periodisch, exponentiell mit der Zeit ab und ist hinsichtlich der Zeitkonstanten dieses exponentiellen Abklingens einstellbar. Hierdurch kann man erreichen, daß die Spitzen der Impulsachse 7 auf einer geraden Linie liegen, da nämlich auch die Zahl der Ladungsträger im Laufe der Zeit nach dem Lichtblitz exponentiell abklingt.
  • Ein solches Vorgehen vereinfacht die Auswertung des Oszillogramms.
  • Ist die angezeigte Leitfähigkeitserhöhung 9 gering gegenüber der Höhe der Impulse 8, so ist es zweckmäßig, eine Schaltung zu wählen, die die Impulse 8 nicht anzeigt. Eine solche Schaltung ist in Fig. 2 angegeben. Der Impulsgenerator 20 wird an einer Brückenschaltung angeschlossen, in deren einem Zweig der Halbleiter 21 und ein Widerstand 22 und in deren anderem Zweig ein Widerstand 23 und ein veränderbarer Widerstand 24 liegen. Die Darstellung beschränkt sich auf die Wiedergabe von Gleichstromwiderständen. Tatsächlich können statt dessen in bekannter Weise auch Wechselstromwiderstände vorgesehen sein. Tm Nullzvweig der Brücke liegt der Kathodenstrahloszillograph 25. Die Brücke ist durch Einstellung des Widerstandes 24 derart abgeglichen, daß bei angelegter Impulsspannung durch den Nullzweig kein Strom fließt, wenn der Halbleiter nicht belichtet wurde. Er zeigt daher nur die Leitfähigkeit an, die durch die Lichtblitze hervorgerufen wurden, also nur die Impulse 26, die den Impulsen 7 in Fig. 1 entsprechen, nicht aber Impulse, die den Impulsen 8 in Fig. 1 entsprechen.
  • Verwendet man statt des unipolaren Impulsgenerators 3 in Fig. 1 einen Dipolarimpulsgenerator, so erhält man ein Kathodenstrahloszillogramm, wie es in Fig. 3 skizziert ist. Hier ist der Impulsverlauf in Abhängigkeit von der Zeit t als Spannungsverlauf U dargestellt. Der Einfachheit halber sind die Impulse in äquidistanter Reihenfolge gezeichnet, was eigentlich nur für eine lineare Zeitbasis zutrifft. Der Lichtblitz setzt beispielsweise zum Zeitpunkt 30 ein. Man erhält sowohl oberhalb als auch unterhalb der Zeitachse durch Verbindung der Impulsspitzen ein Bild der allmählich abklingenden Leitfähigkeit im Halbleiter, aus der man die Lebensdauer der Ladungsträger ermitteln kann.
  • Verwendet man statt der bipolaren Impulse eine Glechselspannung, so ergibt sich im wesentlichen das gleiche Bild, nur sind die Spitzen der Impulse angerundet. Da die Geschwindigkeit des Elektronenstrahls in der Vertikalen wesentlich größer ist als in der Horizontalen, sieht man praktisch auf der Kathodenstrahlröhre die Spitzen der Impulse wesentlich stärker als ihre Flanken, so daß man bei hinreichender Impulsdichte ein Bild bekommt, wie es schematisch in Fig. 4 skizziert ist. Zur Erzeugung dieses Bildes trägt noch bei, daß die Generatorimpulse nicht synchronisiert mit der Zeitablenkung zu sein brauchen, so daß in jeder Periode die Impulsspitzen an etwas verschiedenen Orten liegen. Dadurch ergibt sich ein kontinuierliches Bild.
  • Wendet man das Kompensationsverfahren nach Fig. 2 an, so ergibt sich ein Bild. wie es beispielsweise in Fig. 5 dargestellt ist. In diesem Bild ist noch ein weiterer praktisch auftretender Effekt angedeutet.
  • Der Abfall der Impulsspitzen ist in zwei Abschnitten 50 und 51 linear (die Linearität ist durch die exponenfelle Zeitablenkung erzeugt, wie bereits oben ausgeführt) Die Abschnitte 50 und 51 zeigen aber verschiedene Neigung. Dies bedeutet. daß die Ladungsträger zunächst mit einer Zeitkonstanten T1 abklingen und später mit einer davon verschiedenen Zeitkonstanten T2.
  • Um diesen Effekt herauszupräparieren, ist es vorteil haft, die Nullinien für die positiven Impulsbilder gegenüber der Nullinie für die negativen Impulsbilder zu verschieben, was in bekannter Weise möglich ist.
  • Man erhält dann ein Bild, wie es in Fig. 6 skizziert ist. Hier sind die beiden Übergangspunkte 52 und 53 aufeinandergelegt (gemeinsamer Punkt 60).
  • Das beanspruchte Verfahren wurde erläutert für den am häufigsten auftretenden Fall, daß der Halbleiter galvanisch an Spannung gelegt ist. Dieses Verfahren läßt sich aber auch sinngemäß abwandeln, wenn man den Halbleiter nur kapazitiv an Spannung legt, so daß er also als Dielektrikum wirkt. Wiederum ist hier die angelegte Spannung impulsförmig oder periodisch, und auch die Lichtanregung des Halbleiters ist periodisch. Angezeigt und gemessen werden dann die durch die Lichtblitze im Halbleiter hervorgerufenen Veränderungen seiner dielektrischen Ei genschaften (D ielektrizitätskonstante, Verlustwinkel).
  • Weiterhin läßt sich sinngemäß der Halbleiter auch als Magnetikuin in einer Spule anordnen, die periodisch oder pulsierend an Spannung gelegt wird. Es werden dann die Veränderungen der Induktivität oder des Verlustwinkels dieser Spule in Abhängigkeit des periodisch erfolgenden Anregungszustandes des Halbleiters gemessen.
  • In diesen beiden letztgenannten Fällen gewinnt man den Vorteil, daß man den Halbleiter nicht zu kontaktieren braucht; man vermeidet also eine Einwirkung von Effekten, die durch eine solche Kontaktierung bedingt sind.
  • PATENTANSPRtSCHE 1. Verfahren zur Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in Halbleitern, bei dem Ladungsträger fotoelektrisch in dem Halbleiter erzeugt werden und die dadurch hervorgerufenen Anderungen des elektrischen Widerstandes des Halbleiters in Abhängigkeit von der Zeit gemessen werden, wozu an den Halbleiter eine Spannung gelegt und der Spannungsabfall im Halbleiter ge messen wird, dadurch gekennzeichnet, daß, um die durch das Meßfeld hervorgerufene, einseitige, räumliche Verlagerung der Ladungsträger im Halbleiter während der Messung zu verringern, insbesondere um das Verschwinden der Ladungsträger in den Zuleitungs elektro den zu dem Halbleiter zu verhindern, für die an den Halbleiter angelegte Spannung ein derartig kurzzeitiger Verlauf gewählt wird, daß das durch sie im Halbleiter erzeugte elektrische Feld die Ladungsträger während ihrer Lebensdauer nicht aus dem Halbleiterinnern hinau streibt.

Claims (1)

  1. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die an den Halbleiter anzulegende Spannung über die Elektroden, mit denen der Halbleiter kontaktiert ist, zugeführt wird.
    3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die an den Halbleiter anzulegende Spannung über flächenhafte Elektroden, mit denen der Halbleiter nicht kontaktiert ist, zugeführt wird.
    4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß für den Spannungsverlauf die Form unipolarer Impulse verwendet wird und daß die Dauer der Impulse klein gegenüber der Lebens dauer der Ladungsträger und außerdem das Verhältnis von Impulsdauer zu Impulspause kleiner als Eins gehalten wird.
    5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für den Spannungsverlauf die Form bipolarer Impulse verwendet und die Dauer der Impulse klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger gewählt wird.
    6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die angelegte Spannung eine Wechselspannung verwendet und die Dauer einer Periode dieser Wechselspannung klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger gewählt wird.
    7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Messung der Lebensdauer von Ladungsträgern in stark mit Donatoren oder Akzeptoren dotierten Silizium- oder Germaniumkristallen vorgenommen wird.
    8. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Spannungsabfall mit einem Kathodenstrahloszillographen sichtbar gemacht ist, bei dem die Geschwindigkeit der Zeitablenkung des Kathodenstrahls exponentiell mit der Zeit abnimmt und hinsichtlich der Zeitkonstanten dieses Verlaufs einstellbar ist.
    9. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Spannungsabfall mit einem Kathodenstrahloszillographen sichtbar gemacht ist, dessen Nullinie für die positiven Impulse gegenüber der Nullinie für die negativen Impulse verstellbar ist.
    10. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Messung im Nullzweig oder Gleichspannungszweig einer Brückenschaltung vorgenommen ist.
    11. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der fotoelektrische Effekt durch Lichtblitze erzeugt ist, deren Intensitätsanstieg klein gegenüber der Lebensdauer der Ladungsträger ist.
    12. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Spannungsabfall mit einem Kathodenstrahloszillographen sichtbar gemacht ist und daß die Zeitablenkung des Kathodenstrahloszillographen mit den Lichtblitzen synchronisiert ist.
    In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 012 377; Proc. IRE, Bd. 40, 1952, Nr. ll, 5. 1420 bis 1424; Zeitschrift für Elektrochemie, Bd. 58, 1954, 5. 283 bis 321(306).
DENDAT1067934D 1957-09-03 Pending DE1067934B (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002451A1 (de) * 1977-12-12 1979-06-27 International Business Machines Corporation Verfahren und Anordnung zur berührungsfreien Messung von Verunreinigungsstellen in Halbleitern

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1012377B (de) * 1955-03-14 1957-07-18 Licentia Gmbh Verfahren zur Messung der Diffusionslaenge in einem Halbleiterkristall

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