DE10362349B3 - Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung - Google Patents

Abstract

Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung mit – einem Feld (24; 68) von Fotodetektionselementen (66) und – einer Anordnung von Polarisatorbereichen (61, 62, 62', 62'', 62'''), die als Polarisationsfilter (61, 62, 62', 62'', 62''') für optische Strahlung wenigstens einer Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente erfassbaren optischen Strahlung wirken, auf einer Oberfläche der Fotodetektionselemente oder einer damit verbundenen Schicht (60), bei dem für die Polarisatorbereiche (61, 62, 62', 62'', 62''') jeweils eine Struktur (64) aus leitendem Material direkt auf dem Feld der Fotodetektionselemente (66) oder auf eine damit verbundene Schicht (60) lithografisch aufgebracht wird, die für wenigstens eine Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente (66) erfassbaren optischen Strahlung als Polarisationsfilter wirkt.

Description

• Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung, insbesondere zur Verwendung bei der Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht, und einen entsprechenden Sensor.
• Verfahren zur Untersuchung von Oberflächen oder Schichten sind grundsätzlich bekannt. Insbesondere kann zur berührungslosen Untersuchung von Oberflächen oder Schichten optische Strahlung verwendet werden. Beispielsweise können das Reflexionsvermögen einer Oberfläche oder das Transmissionsvermögen einer Schicht untersucht werden, um Rückschlüsse auf die Qualität der Oberfläche oder der Schicht zu ziehen. Diese Eigenschaften können insbesondere auch spektral aufgelöst, das heißt wellenlängenabhängig erfasst werden. Um mögliche Inhomogenitäten in der Oberfläche oder der Schicht erkennen zu können, ist es dabei wünschenswert, diese Eigenschaften ortsaufgelöst, das heißt in Abhängigkeit vom Ort auf der Oberfläche, zu erfassen.
• Es gibt jedoch lokal variierende Oberflächen bzw. Schichteigenschaften, die sich nicht in einem veränderten Absorptions-, Reflexions- oder Transmissionsverhalten niederschlagen. Zur lokal aufgelösten Untersuchung solcher Eigenschaften müssen daher bislang gegebenenfalls sehr aufwändige Untersuchungsmethoden herangezogen werden, die sich insbesondere nicht für den routinemäßigen Einsatz eignen.
• DE 195 47 552 C1 beschreibt eine Vorrichtung zur Bestimmung des Polarisationszustandes empfangener Strahlung mit einer auf einer Bildfläche angeordneten Mehrzahl von Bildelementen, denen jeweils mindestens zwei Polarisationsfilter unterschiedlichen Azimuts zugeordnet sind. DE 196 21 512 A1 beschreibt ein Verfahren zur Auswertung des wellenlängenabhängigen Polarisationszustandes, bei dem die Strahlung ortsabhängig polarisiert und wellenlängenabhängig aufgespaltet ist, wobei sich im Strahlengang ein lithographisch strukturiertes Polarisationsgitter, ein spektrales Ablenkgitter und ein CCD-Kamerachip befinden. DE 198 42 364 C1 beschreibt ein Mikropolarimeter mit einem Retarder, einer dahinter angeordneten Analysatorscheibe und einer Fotodetektormatrix. US 5 841 538 beschreibt eine Vorrichtung zur Bestimmung der Polarisation mit einem Polarisationsfilter auf einem Retroreflektor.
• Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein neues Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung, insbesondere zur Untersuchung von Oberflächen oder Schichten zu schaffen, womit einfach ortsaufgelöst eine Oberfläche oder Schicht untersuchbar ist.
• Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung eines Sensors mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
• Mit einem Sensor, der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist, kann ein Verfahren zur Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht durchgeführt werden, bei dem polarisierte optische Strahlung als Beleuchtungsstrahlung auf die Oberfläche bzw. Schicht gestrahlt und in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht im Wesentlichen gleichzeitig wenigstens eine Polarisationseigenschaft der von der Oberfläche als Messstrahlung zurückgeworfenen bzw. von der Schicht als Messstrahlung abgegebenen optischen Strahlung erfasst wird.
• Ein Sensor, der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist, kann in einer Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht eingesetzt werden, die eine Quelle für polarisierte optische Strahlung zur Abgabe von Beleuchtungsstrahlung auf die Oberfläche oder Schicht und eine Detektionseinrichtung zur im Wesentlichen gleichzeitigen, ortsaufgelösten Erfassung wenigstens einer Polarisationseigenschaft der von der Oberfläche als Messstrahlung zurückgeworfenen bzw. von der Schicht als Messstrahlung abgegebenen optischen Strahlung aufweist.
• Das Untersuchungsverfahren kann, insbesondere da es berührungslos arbeitet, zu Untersuchung beliebiger Oberflächen, beispielsweise von festen Körpern oder Flüssigkeiten verwendet werden.
• Das Untersuchungsverfahren kann weiterhin zur Untersuchung beliebiger, insbesondere dünner, Schichten aus beispielsweise festen oder flüssigen Materialien bzw. Stoffen verwendet werden. Insbesondere können auch Folien untersucht werden.
• Bei dem Untersuchungsverfahren wird eine zu untersuchende Oberfläche oder Schicht mit polarisierter optischer Strahlung als Beleuchtungsstrahlung bestrahlt. Unter optischer Strahlung wird dabei elektromagnetische Strahlung im infraroten und/oder sichtbaren und/oder ultravioletten Bereich des elektromagnetischen Spektrums verstanden. Die verwendete optische Strahlung kann dabei, je nach zu untersuchender Oberfläche bzw. Schicht, monochromatisch sein oder einen ganzen Wellenlängenbereich umfassen. Die polarisierte Strahlung kann weiterhin grundsätzlich einen beliebigen vorgegebenen Polarisationszustand innehaben. Beispielsweise kann zirkular oder elliptisch polarisierte optische Strahlung verwendet werden, jedoch ist die verwendete optische Strahlung bevorzugt linear polarisiert. Die Beleuchtungsstrahlung kann dabei kontinuierlich oder gepulst abgestrahlt werden.
• Die Untersuchungsvorrichtung weist zur Bereitstellung der polarisierten optischen Strahlung die Quelle für polarisierte optische Strahlung auf, die beispielsweise eine Quelle für unpolarisierte optische Strahlung und einen in deren Strahlengang nachgeordneten Polarisationsfilter umfassen kann. Vorzugsweise werden jedoch Laser verwendet, mittels derer, insbesondere linear, polarisierte optische Strahlung abgebbar ist.
• Der Quelle für polarisierte optische Strahlung kann im Beleuchtungsstrahlengang insbesondere noch eine Beleuchtungsoptik mit strahlumlenkenden, brechenden und/oder diffraktiven optischen Bauelementen nachgeordnet sein, um die von der Quelle abgegebene polarisierte optische Strahlung auf die Oberfläche oder die Schicht zu fokussieren bzw. zu lenken. Vorzugsweise wird Beleuchtungsstrahlung in Form eines Beleuchtungsstrahlenbündels verwendet.
• Die polarisierte Beleuchtungsstrahlung wird auf die Oberfläche oder Schicht gestrahlt.
• Bei Untersuchung einer Oberfläche, bei der die optische Strahlung nicht wesentlich in die Oberfläche eindringt, wird die optische Strahlung wenigstens teilweise zurückgeworfen. Je nach Art der Oberfläche kann dabei Reflexion oder auch nur eine Rückstreuung der Strahlung auftreten.
• Bei der Untersuchung einer Schicht dringt die optische Strahlung durch eine Vorderseite der Schicht in die für die verwendete optische Strahlung wenigstens etwas transparente Schicht ein, wobei sie an der Oberfläche der Schicht gegebenenfalls teilweise reflektiert oder zurückgestreut werden kann. Bei Erreichen der der Vorderseite gegenüberliegenden Rückseite, kann je nach Material hinter der Schicht, die optische Strahlung aus der Schicht austreten und so zur weiteren Untersuchung abgegeben werden. Es ist jedoch auch möglich, dass die optische Strahlung wenigstens teilweise an der Rückseite reflektiert wird und nach einer weiteren Durchquerung der Schicht wieder an der Vorderseite austritt und so von der Schicht abgegeben wird. Schließlich ist es möglich, dass die Schicht das Beleuchtungsstrahlenbündel durch Streuung in der Schicht wenigstens teilweise zurückwirft und so wieder abgibt. Bei dem Verfahren kann der zurückgeworfene oder der transmittierte Anteil der Beleuchtungsstrahlung als von der Schicht abgegebene Strahlung verwendet werden.
• Bei der Wechselwirkung mit der Oberfläche und/oder der Schicht kann abhängig von den Materialeigenschaften und/oder der Topographie der Oberfläche bzw. Schicht der Polarisationszustand der polarisierten Beleuchtungsstrahlung verändert werden. Beispielsweise kann neben anderen von dem Polarisationszustand unabhängigen oder abhängigen Effekten die Polarisationsebene von linear polarisierter Beleuchtungsstrahlung gedreht werden. Die Beleuchtungsstrahlung wird daher, gegebenenfalls durch die Wechselwirkung mit der Oberfläche bzw. Schicht verändert, insbesondere gegebenenfalls mit lokal variierender Änderung des Polarisationszustands und/oder der Intensität, als Messstrahlung von der Oberfläche zurückgeworfen bzw. von der Schicht abgegeben.
• Das Spektrum der Messstrahlung braucht nicht mit dem der Beleuchtungsstrahlung übereinzustimmen, sondern kann beispielsweise bei spektral abhängiger Absorption einen schmaleren Wellenlängenbereich umfassen.
• Weiterhin kann die Messstrahlung bei Beleuchtung mit einem Beleuchtungsstrahlenbündel in Form eines Messstrahlenbündels zurückgeworfen werden.
• Es wird dann im Wesentlichen gleichzeitig wenigstens eine Polarisationseigenschaft der von der Oberfläche als Messstrahlung zurückgeworfenen bzw. von der Schicht als Messstrahlung abgegebenen optischen Strahlung erfasst. Dabei kann vorzugsweise ein Wert für die Polarisationseigenschaft der Messstrahlung erfasst werden. Bei der wenigstens einen Polarisationseigenschaft kann es sich bevorzugt um den Polarisationsgrad der Messstrahlung und/oder die Lage der Polarisationsebene des Messstrahlung oder eine, vorzugsweise umkehrbare, Funktion dieser Größen handeln. Insbesondere bei der Ermittlung der Lage der Polarisationsebene genügt es dabei grundsätzlich, dass Werte ermittelt werden, die einen eindeutigen Rückschluss auf einen Winkel zwischen der Polarisationsrichtung der Beleuchtungsstrahlung bzw. der Richtung der Oberfläche und der Polarisationsebene der Messstrahlung erlauben. Eine ausdrückliche Winkelangabe ist daher nicht unbedingt notwendig.
• Die Erfassung der Polarisationseigenschaft kann im Wesentlichen gleichzeitig erfolgen, worunter verstanden wird, dass die Polarisationseigenschaft in im Wesentlichen einem Schritt für alle Orte im Untersuchungsgebiet erfasst wird. Wird zu der Erfassung der Polarisationseigenschaft ein Feld von Photodetektionselementen verwendet, so können gegebenenfalls geringe zeitliche Unterschiede zwischen den Erfassungs- oder Auslesezeiten der einzelnen Photodetektionselemente des Feldes auftreten. Eine solche Erfassung wird hier als im Wesentlichen gleichzeitig angesehen.
• Die Polarisationseigenschaft wird dabei ortsaufgelöst, das heißt in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht ermittelt, wobei unter der Abhängigkeit von dem Ort in der Schicht eine Abhängigkeit von dem Ort parallel zu einer Fläche der Schicht verstanden wird. Das bedeutet, dass für verschiedene den Orten entsprechende Bereiche die Polarisationseigenschaft wenigstens näherungsweise getrennt erfasst wird. Die Größe dieser Bereiche richtet sich dabei nach dem Auflösungsvermögen der verwendeten Detektionseinrichtung und liegt vorzugsweise unterhalb von 4 mm².
• Zur Erfassung der Polarisationseigenschaft weist die Untersuchungsvorrichtung die Detektionseinrichtung auf. Diese umfasst insbesondere wenigstens ein Photodetektionselement zum Empfang wenigstens eines Anteils der Messstrahlung, eine Erfassungsoptik zur Abbildung des untersuchten Oberflächenbereichs auf das Photodetektionselement und polarisierende optische Elemente.
• Durch Vergleich der bekannten Polarisationseigenschaft der Beleuchtungsstrahlung und der erfassten Polarisationseigenschaft der Messstrahlung an der Oberfläche bzw. Schicht kann dann vorzugsweise auf eine Eigenschaft der Oberfläche bzw. Schicht zurück geschlossen werden. Durch die ortsaufgelöste, im Wesentlichen gleichzeitige Erfassung der Polarisationseigenschaft ist es daher mit der Erfindung möglich, Inhomogenitäten in Oberflächen oder Schichten mit nur einem Erfassungsschritt zu erkennen. Dabei können insbesondere auch Eigenschaften erfasst werden, die sich nicht unmittelbar im Absorptionsvermögen niederschlagen, sondern beispielsweise in der Drehung der Polarisationsebene. Das Untersuchungsverfahren und die Untersuchungsvorrichtung eignen sich daher insbesondere zur routinemäßigen Untersuchung von Oberflächen oder Schichten, besonders bevorzugt zur Materialuntersuchung.
• Grundsätzlich genügt es bei einem Untersuchungsverfahren, das mit einem gemäß der Erfindung hergestellten Sensor durchgeführt werden kann, dass nur die Polarisationseigenschaft ortsaufgelöst ermittelt wird. Es ist jedoch bevorzugt, dass zusätzlich in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht die Intensität der Messstrahlung erfasst wird. Bei einer entsprechenden Vorrichtung ist es dazu bevorzugt, dass die Detektionseinrichtung zur Erfassung der Intensität der Messstrahlung in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht ausgebildet ist. Mit der Intensität der Messstrahlung ist dabei deren Intensität nahe der Oberfläche bzw. Schicht und insbesondere vor einer möglichen Filterung mit Polarisationsfiltern gemeint. Auf diese Weise kann nicht nur eine gegebenenfalls auftretende Drehung der Polarisationsebene durch die Oberfläche oder die Schicht erfasst werden, sondern es kann gleichzeitig auch untersucht werden, ob eine gegebenenfalls durch Anisotropien der Oberfläche oder der Schicht bedingte Absorption oder Reflexion von optischer Strahlung aufgetreten ist, die gegebenenfalls zu einer Drehung der Polarisationsebene geführt hat. Es ist so eine vollständigere Charakterisierung der Oberfläche bzw. der Schicht durch optische Eigenschaften möglich.
• Die Untersuchung kann grundsätzlich mit optischer Strahlung nur einer Wellenlänge durchgeführt werden. Insbesondere kann dazu im Messstrahlengang ein entsprechender Filter vorgesehen sein, der optische Strahlung aus der Umgebung, die nicht der Wellenlänge der optischen Beleuchtungsstrahlung entspricht, herausfiltert, um so die Präzision der Bestimmung der Polarisationseigenschaft zu erhöhen. Zur Untersuchung von Oberflächen oder Schichten mit spektral abhängigen Eigenschaften ist es jedoch bevorzugt, dass zusätzlich in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht spektrale Eigenschaften der Messstrahlung erfasst werden. Bei einer entsprechenden Vorrichtung ist es dazu bevorzugt, wenn die Detektionseinrichtung zur spektral aufgelösten Erfassung der Messstrahlung in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht ausgebildet ist. Die Quelle für die Beleuchtungsstrahlung ist dabei zur Abgabe polarisierter optischer Strahlung in dem gewünschten Wellenlängenbereich ausgebildet. Zur Untersuchung von Farben kann sie insbesondere zur Abgabe von weißem Licht ausgebildet sein.
• Unter der Erfassung spektraler Eigenschaften der Messstrahlung bzw. der optischen Strahlung des Messstrahlenbündels wird dabei insbesondere auch eine spektral abhängige Erfassung der Polarisationseigenschaft bzw. der Intensität verstanden. Weiterhin braucht die spektrale Auflösung nicht sehr hoch zu sein. Beispielsweise kann eine Erfassung von Intensitäten in verschiedenen Wellenlängenbereichen durchgeführt werden, wie sie bei Farb-Videosensoren üblich ist. Auf diese Weise kann die Polarisationseigenschaft beispielsweise in Abhängigkeit sowohl von dem Ort als auch einer Wellenlänge bzw. eines Wellenlängenbereichs erfasst und vorzugsweise mit der der Beleuchtungsstrahlung verglichen werden, so dass, insbesondere bei gleichzeitiger ortsaufgelöster Erfassung der Intensität, eine sehr vollständige Charakterisierung der Oberfläche bzw. Schicht ermöglicht wird.
• Zur spektral aufgelösten Erfassung der optischen Strahlung kann die Detektionseinrichtung insbesondere ein Feld von Photodetektionselementen aufweisen, wobei in dem Strahlengang der Messstrahlung, insbesondere eines Messstrahlenbündels, zwischen der Oberfläche bzw. Schicht und dem Photodetektionselementfeld ein Spektrometer angeordnet ist, bei dem es sich insbesondere um ein Beugungsgitter bzw. eine beugende Struktur handeln kann. Es sind jedoch auch refraktiv arbeitende optische Bauelemente denkbar.
• Wegen der hohen räumlichen Auflösung und der einfachen Herstellung ist es jedoch besonders bevorzugt, dass die Detektionseinrichtung einen farbempfindlichen Sensor für optische Strahlung aufweist. Dabei kann es sich beispielsweise um grundsätzlich bekannte Anordnungen mit drei CCD-Sensoren, denen jeweils Anteile der Messstrahlung nach Strahlteilung und Filterung mit Farbfiltern zugeführt wird, handeln. Es sind jedoch auch so genannte Ein-Chip-Sensoren verwendbar, bei denen über benachbarten Photodetektionselementen bzw. Pixeln des Sensors jeweils Farbfilter unterschiedlicher Farbe angeordnet sind, so dass aus benachbarten Pixeln unterschiedlicher Farben sowohl eine Gesamtintensität der optischen Strahlung als Summe der Intensitäten für die einzelnen Farben als auch Farb- bzw. Spektralinformationen gewonnen werden können. Weiterhin können auch in Richtung der Messstrahlung hintereinander angeordnete, beispielsweise CMOS-Photodetektionselemente verwendet werden, zwischen denen in bekannter Weise Farbfilter angeordnet sind, und die so eine besonders hohe Ortsauflösung erlauben. Solche Anordnungen erlauben zwar nicht unbedingt eine sehr genaue spektrale Auflösung nach Wellenlängen, jedoch genügt es häufig, nur Informationen über bestimmte Wellenlängenbereiche bzw. Farbinformationen zu erhalten, wozu dann die Verwendung solcher farbempfindlichen Sensoren wegen der hohen Erfassungsgeschwindigkeit und der hohen örtlichen Auflösung bei gleichzeitig geringen Kosten sehr vorteilhaft sein kann.
• Bei dem Untersuchungsverfahren ist es bevorzugt, dass die erfasste Polarisationseigenschaft und/oder die erfassten Intensitäten und/oder die spektralen Eigenschaften mit entsprechenden vorgegebenen Soll-Eigenschaften bzw. -Werten für die Oberfläche bzw. Schicht verglichen werden. Es kann dann entsprechend dem Ergebnis des Vergleichs ein Signal gebildet und ausgegeben werden. Bei der Untersuchungsvorrichtung ist es dazu bevorzugt, dass eine Vergleichseinrichtung vorgesehen ist, in der für die Polarisationseigenschaft und/oder die Intensitäten und/oder die spektralen Eigenschaften entsprechende Soll-Eigenschaften bzw. -Werte für die Oberfläche bzw. Schicht speicherbar sind, und mittels derer die erfasste Polarisationseigenschaft und/oder die erfassten Intensitäten und/oder die spektralen Eigenschaften mit den entsprechenden vorgegebenen Soll-Eigenschaften bzw. -Werten vergleichbar und dem Vergleichsergebnis entsprechende Signale bildbar sind. Es können dann Abweichungen der erfassten Eigenschaften der Messstrahlung von vorgegebenen Eigenschaften, die beispielsweise durch Untersuchung eines Gutmusters erhalten wurden oder anderweitig vorgegeben sind, erkannt werden. Die Abweichungen der erfassten Eigenschaften der Messstrahlung können beispielsweise auf entsprechende Abweichungen in den Materialeigenschaften der Oberfläche bzw. der Schicht oder der Topographie der Oberfläche bzw. der Schicht von denen des Gutmusters zurückzuführen sein. Abweichungen können bei dem Vergleich beispielsweise als kritisch eingestuft werden, wenn ein vorgegebener Schwellwert für den Betrag der Abweichung überschritten wird. Die das Vergleichsergebnis wiedergebenden Signale können dann an weiterverarbeitende Einrichtungen ausgegeben werden. Auf diese Weise wird eine automatische Untersuchung und insbesondere auch Qualitätskontrolle von Oberflächen bzw. Schichten ermöglicht. Das Untersuchungsverfahren stellt insofern in dieser Weiterbildung auch ein Verfahren zur Qualitätskontrolle von Oberflächen oder Schichten dar.
• Zur Erfassung der Polarisationseigenschaft ist es bei dem Untersuchungsverfahren bevorzugt, dass die Messstrahlung mittels einer im Strahlengang der Messstrahlung angeordneten Anordnung von Polarisationsfiltern unter Bildung von zumindest in einem Bereich nahe der Polarisationsfilteranordnung der Anordnung der Polarisationsfilter entsprechend räumlich verschiedenen Strahlungsanteilen mit unterschiedlichen Polarisationszuständen gefiltert wird, dass Intensitäten der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht erfasst werden, und dass in Abhängigkeit von den erfassten Intensitäten in Verbindung mit der Lage der Polarisationsfilter zueinander und zu der Oberfläche bzw. Schicht die Polarisationseigenschaft der Messstrahlung an der Oberfläche bzw. der Schicht ortsaufgelöst ermittelt wird. Bei der Untersuchungsvorrichtung ist es dazu bevorzugt, dass die Detektionseinrichtung ein Feld von Photodetektionselementen, eine im Strahlengang der Messstrahlung vor den Photodetektionselementen angeordnete Anordnung von Polarisationsfiltern, mittels derer die Messstrahlung unter Bildung von zumindest in einem Bereich nahe der Polarisationsfilteranordnung der Anordnung der Polarisationsfilter entsprechend räumlich verschiedenen Strahlungsanteilen mit unterschiedlichem Polarisationszustand filterbar ist, und eine Auswerteeinrichtung, mittels derer aus Signalen der Photodetektionselemente in Abhängigkeit von der Lage der Polarisationsfilter der Polarisationsfilteranordnung relativ zueinander, zu den Photodetektionselementen und der Oberfläche bzw. Schicht lokal aufgelöst die Polarisationseigenschaft der Messstrahlung für verschiedene Orte auf der Oberfläche bzw. in der Schicht ermittelbar ist, umfasst.
• Bei den Photodetektionselementen, die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung für den Sensor verwendet werden, kann es sich grundsätzlich um beliebige Photodetektionselemente, beispielsweise Photodioden, Phototransistoren oder Photogates, handeln. Vorzugsweise werden jedoch CCD-Sensoren oder CMOS-Sensoren verwendet. Diese gestatten bei einfacher Herstellung eine besonders hohe räumliche Auflösung bei geringen Kosten. Zur Erzielung der räumlichen Auflösung wird die Messstrahlung, vorzugsweise als Messstrahlenbündel, wenigstens teilweise durch die Polarisationsfilteranordnung geführt, wobei räumlich verschiedene Strahlungsanteile entstehen. Unter räumlich verschieden wird dabei verstanden, dass sich die Strahlungsanteile wenigstens unmittelbar hinter der Polarisationsfilteranordnung in unterschiedliche Raumbereiche ausbreiten bzw. dass die Strahlungsanteile sich im Bereich der Photodetektionselemente nicht wesentlich überlappen, so dass die Intensität der Strahlungsanteile räumlich aufgelöst erfassbar ist. Bei diesen Strahlungsanteilen kann es sich je nach Lage der Polarisationsfilteranordnung relativ zu dem Feld von Photodetektionselementen um Teilbündel eines Messstrahlenbündels oder, bei direkter Anordnung der Polarisationsfilter auf den Photodetektionselementen, auch nur um in die Photodetektionselemente eindringende Feldanteile handeln.
• Unter einem Polarisationsfilter der Polarisationsfilteranordnung wird dabei ein optisches Element verstanden, das einfallende optische Strahlung in einer vorgegebenen Richtung linear oder zirkular polarisiert sein kann.
• Ein Polarisationsfilter kann beispielsweise als einzelner polarisierend wirkender Körper ausgebildet oder auch durch einen entsprechenden Bereich auf einer Folie oder einem anderen Träger gegeben sein.
• Um eine ortsaufgelöste Erfassung der Polarisationseigenschaft zu ermöglichen, sind dabei die Polarisationsfilteranordnung und das Feld von Photodetektionselementen so ausgebildet, dass einer der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile jeweils durch wenigstens ein Photodetektionselement erfassbar ist. Die erzielbare räumliche Auflösung hängt dabei unter anderem von der Anzahl und Größe der Polarisationsfilter, der Anzahl und Größe der Photodetektionselemente und den Abbildungsverhältnissen, die festlegen, wie viele der Photodetektionselemente einen der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile erfassen, ab.
• Zur ortsaufgelösten Erfassung der Polarisationseigenschaft ist weiterhin die Relativlage der Polarisationsfilteranordnung und der Photodetektionselemente festgelegt, so dass abhängig von dem Strahlengang der Messstrahlung einem Photodetektionselement ein bestimmter Bereich der Anordnung von Polarisationsfiltern und damit ein bestimmter Polarisationszustand zugeordnet ist, der durch die polarisierenden Eigenschaften des entsprechenden Bereichs gegeben ist. In der Auswerteeinrichtung wird dann aus der bekannten Anordnung von Photodetektionselementen, der Zuordnung von Polarisationszuständen zu diesen und der sich aus der Abbildungsgeometrie ergebenden Zuordnung der Photodetektionselemente zu Orten auf der Oberfläche bzw. in der Schicht die Polarisationseigenschaft für verschiedene Orte auf der Oberfläche ermittelt. Die Auswerteeinrichtung kann hierzu entsprechende feste analoge und/oder digitale Schaltungen umfassen, was eine schnelle Verarbeitung der Signale ermöglicht, oder einen mit einen entsprechend programmierten Mikroprozessor umfassen, der bei geringen Kosten auch einfach die Durchführung aufwändigerer Auswerteverfahren ermöglicht.
• Auf diese Weise ist mit sehr geringem Aufwand eine ortsaufgelöste Erfassung der Polarisationseigenschaft möglich.
• Dabei ist es bevorzugt, dass zur Ermittlung der Polarisationseigenschaft für einen vorgegebenen Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht die Intensität eines entsprechenden räumlich verschiedenen Strahlungsanteils und die Intensität wenigstens eines räumlich verschiedenen Strahlungsanteils, der einem benachbarten Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht entspricht und einen unterschiedlichen Polarisationszustand besitzt, verwendet werden. Bei der Untersuchungsvorrichtung ist es dazu bevorzugt, dass die Auswerteeinrichtung so ausgebildet ist, dass zur Ermittlung der Polarisationseigenschaft für einen vorgegebenen Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht die Intensität eines entsprechenden räumlich verschiedenen Strahlungsanteils und die Intensität wenigstens eines räumlich verschiedenen Strahlungsanteils, der einem benachbarten Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht entspricht und einen unterschiedlichen Polarisationszustand besitzt, verwendet werden.
• Es kann also die Oberfläche bzw. Schicht in benachbarte Orte bzw. Bereiche aufgeteilt werden, die auf das Feld von Photodetektionselementen abgebildet werden. Bei der Filterung durch die Polarisationsfilteranordnung, die die Lage und Größe der Bereiche bestimmt, entstehen dann die räumlich verschiedenen Strahlungsanteile mit unterschiedlichen Polarisationszuständen, deren Intensitäten einzeln erfasst werden. Für einen gewählten Ort bzw. Bereich kann die Intensität des entsprechenden Strahlungsanteils mit einem entsprechenden Polarisationszustand ermittelt werden. Unter Verwendung der Intensitäten der Strahlungsanteile mit unterschiedlichen Polarisationszuständen, die benachbarten Orten bzw. Bereichen entsprechen und einen anderen Polarisationszustand aufweisen als der des erfassten Strahlungsanteils für den gewählten Ort, kann dann beispielsweise durch Interpolation für den gewählten Ort eine interpolierte Intensität eines dem Ort entsprechenden Anteils der Messstrahlung für den anderen Polarisationszustand näherungsweise ermittelt und dem Ort zugeordnet werden. Die interpolierte Intensität kann insbesondere der bei der Bildung des dem gewählten Ort entsprechenden Strahlungsanteils weggefilterten Anteils der Messstrahlung von dem Ort entsprechen. Dabei braucht grundsätzlich nur ein benachbarter Ort bzw. ein entsprechender Strahlungsanteil verwendet zu werden, es ist jedoch bevorzugt, mehrere zu verwenden, um durch entsprechende Interpolationsverfahren eine genauere Bestimmung zu ermöglichen. Aus der erfassten Intensität des Strahlungsanteils für den gewählten Ort und die interpolierte Intensität eines Messstrahlungsanteils anderer Intensität kann dann die Polarisationseigenschaft ermittelt werden. Solche Interpolationsverfahren sind beispielsweise im Zusammenhang mit einer Verbesserung der Bildeigenschaften bei digitalen Kameras bekannt.
• Bei dem Untersuchungsverfahren ist es daher besonders bevorzugt, dass zur Ermittlung der Polarisationseigenschaft für einen gewählten Ort an der Oberfläche bzw. Schicht die Intensität des dem Ort entsprechenden Strahlungsanteils mit einem entsprechenden ersten Polarisationszustand und eine durch Inter- oder Extrapolation aus der Intensität wenigstens eines dem gewählten Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht benachbarten Orts entsprechenden räumlich verschiedenen Strahlungsanteils mit einem von dem ersten abweichenden zweiten Polarisationszustands gewonnene inter- bzw. extrapolierte Intensität verwendet werden. Die inter- bzw. extrapolierte Intensität entspricht der Intensität des von dem gewählten Ort ausgehenden Anteils der Messstrahlung mit dem zweiten Polarisationszustand. Bei der Untersuchungsvorrichtung ist es dementsprechend bevorzugt, dass die Auswerteeinrichtung eine Inter- bzw. Extrapolationseinrichtung aufweist, die so ausgebildet ist, dass zur Ermittlung der Polarisationseigenschaft für einen gewählten Ort der Oberfläche bzw. Schicht die Intensität des dem Ort entsprechenden Strahlungsanteils mit einem entsprechenden ersten Polarisationszustand und eine durch Inter- oder Extrapolation aus der Intensität wenigstens eines dem gewählten Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht benachbarten Orts entsprechenden räumlich verschiedenen Strahlungsanteils mit einem von dem ersten abweichenden zweiten Polarisationszustands gewonnene inter- bzw. extrapolierte Intensität verwendet werden. Der Ort kann dabei, wie zuvor erwähnt, durch einen kleinen Bereich um einen Aufpunkt gegeben sein.
• Diese Weiterbildung des Untersuchungsverfahrens erlaubt es insbesondere, genau die Lage der Polarisationsebene der Messstrahlung zu ermitteln, wenn die räumlich verschiedenen Strahlungsanteile in zwei Richtungen linear polarisiert sind, die einen bekannten Winkel einschließen.
• Um eine besonders hohe räumliche Auflösung zu erreichen, ist es bevorzugt, dass die Polarisationsfilter in einer Fläche quer zu der mittleren Ausbreitungsrichtung der Messstrahlung und nahe dem Feld der Photodetektionselemente oder in oder nahe einem durch eine Erfassungsoptik erzeugten Zwischenbild der Oberfläche oder der Schicht angeordnet sind. Wird die Beleuchtungsstrahlung als Messstrahlenbündel von der Oberfläche oder Schicht zurückgeworfen bzw. abgegeben, kann die Fläche quer zu dem Messstrahlenbündel ausgerichtet sein. Auf diese Weise wird weitgehend vermieden, dass ein von einem Bereich bzw. Ort auf der Oberfläche oder in der Schicht ausgehendes Strahlenbündel der Messstrahlung durch mehrere Bereiche der Polarisationsfilteranordnung geführt wird, in denen das Strahlenbündel in unterschiedlichen Polarisationsrichtungen gefiltert wird, was dazu führen kann, dass ein Photodetektionselement einen Strahlungsanteil mit undefiniertem Polarisationszustand empfängt.
• Weiterhin ist es bei dem Untersuchungsverfahren bevorzugt, dass zur Ermittlung von Werten der Intensität der Messstrahlung für verschiedene Orte auf der Oberfläche bzw. in der Schicht Summen von Intensitäten von räumlich verschiedenen Strahlungsanteilen, die benachbarten Orten auf der Oberfläche bzw. in der Schicht entsprechen und einen unterschiedlichen Polarisationszustand besitzen, verwendet werden. Dazu ist es bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung bevorzugt, dass die Auswerteeinrichtung eine Summationseinrichtung zur Summation von Intensitäten aufweist, die von Photodetektionselementen erfasst sind, mittels derer räumlich verschiedene Strahlungsanteile empfangbar sind, die benachbarten Orten auf der Oberfläche bzw. in der Schicht entsprechen und einen unterschiedlichen Polarisationszustand besitzen. Auf diese Weise ist es sehr einfach, nicht nur Intensitäten von unterschiedlich polarisierten gefilterten Strahlungsanteilen und daraus eine Polarisationseigenschaft zu bestimmen, sondern es ist auch, ähnlich einer Mittelwertbildung, möglich, einem von einem Bereich bzw. Ort auf der Oberfläche bzw. in der Schicht abgegebenen Anteil der Messstrahlung unter Beachtung der Polarisationsrichtungen der räumlich unterschiedlichen Strahlungsanteile eine Intensität an der Oberfläche bzw. Schicht zuzuordnen.
• Wie zur Ermittlung der Polarisationseigenschaft ist es zur ortsaufgelösten Ermittlung genauerer Werte für die Intensität der Messstrahlung an der Oberfläche bzw. Schicht weiterhin bevorzugt, dass die Intensität der Messstrahlung für einen gewählten Ort unter Verwendung der Intensität des dem Ort entsprechenden Strahlungsanteils einer entsprechenden Polarisationsrichtung und wenigstens einer inter- bzw. extrapolierten Intensität eines von dem gewählten Ort ausgehenden Anteils der Messstrahlung mit einem von dem ersten Polarisationszustand abweichenden anderen Polarisationszustand, die durch Inter- oder Extrapolation von Intensitäten von dem gewählten Ort benachbarten Orten entsprechenden, räumlich verschiedenen Strahlungsanteilen mit dem anderen Polarisationszustand erhalten wird, ermittelt wird. Die Untersuchungsvorrichtung weist hierzu vorzugsweise eine entsprechend ausgebildete Auswerteeinrichtung auf. Wie zuvor entspricht dabei, bedingt durch das endliche Auflösungsvermögen der Vorrichtung, einem Ort ein kleiner Bereich auf der Oberfläche bzw. Schicht.
• Grundsätzlich können bei der Polarisationsfilteranordnung Polarisationsfilter mit gleicher Polarisationsrichtung so zueinander angeordnet sein, dass zwischen diesen Bereiche entstehen, in denen auf die Anordnung auftreffende optische Strahlung nicht in Bezug auf den Polarisationszustand gefiltert wird. Auf diese Weise können räumlich verschiedene Strahlungsanteile gebildet werden, die entweder einen Polarisationszustand aufweisen, wie er durch die Polarisationsfilter definiert ist, oder den an der Oberfläche bzw. der Schicht vorhandenen Polarisationszustand der Messstrahlung. Ist beispielsweise bekannt, dass die Oberfläche bzw. die Schicht allenfalls zu einer Drehung der Polarisationsebene von linear polarisierter optischer Strahlung führt, kann eine solche Polarisationsfilteranordnung zur Bestimmung der Polarisationseigenschaften und Intensitäten in Abhängigkeit vom Ort genügen. Es ist jedoch bevorzugt, dass bei Filterung der Messstrahlung räumlich verschiedene Strahlungsanteile mit zwei verschiedenen, durch die Polarisationsfilteranordnung bestimmten Polarisationsrichtungen gebildet werden. Dazu ist es bevorzugt, dass die Polarisationsfilter auf einer Fläche angeordnet sind, wobei zu wenigstens einem Polarisationsfilter mit einer ersten Polarisationsrichtung jeweils wenigstens ein Polarisationsfilter mit einer von der ersten Polarisationsrichtung abweichenden zweiten Polarisationsrichtung benachbart ist. Die Verwendung einer solchen Polarisationsfilteranordnung ist insbesondere bei dem Untersuchungsverfahren ebenfalls bevorzugt. Unter benachbart wird dabei verstanden, dass zur Erfassung der Polarisationseigenschaft verwendete Photodetektionselemente jeweils nur Strahlungsanteile empfangen, die durch nur einen der Polarisationsfilter getreten sind, so dass sich je nach Anordnung der Polarisationsfilter und den anderen optischen Eigenschaften der Detektionseinrichtung die Polarisationsfilter dabei nicht unbedingt entlang ihrer Ränder zu berühren brauchen. Auf diese Weise ist es möglich, unabhängig von der Kenntnis des Polarisationszustandes des Beleuchtungsstrahlenbündels und der Eigenschaften der Oberfläche und der Schicht die Lage der Polarisationsebene des Messstrahlenbündels an der Oberfläche bzw. der Schicht ortsaufgelöst ohne weitere Annahmen zu bestimmen.
• Dabei ist es besonders bevorzugt, dass die Polarisationsfilteranordnung Polarisationsfilter mit zueinander orthogonalen Polarisationsrichtungen aufweist. Die Verwendung einer solchen Polarisationsfilteranordnung erlaubt eine besonders einfache Bestimmung des Polarisationsgrades, der Polarisationsebene und auch der Intensität der Messstrahlung an der Oberfläche bzw. Schicht in Abhängigkeit vom Ort, da die entsprechenden Strahlungsanteile voneinander linear unabhängig sind. Insbesondere kann der Polarisationsgrad unter Verwendung von Differenzen der Intensitäten räumlich verschiedener Strahlungsanteile ermittelt werden, die benachbarten Orten auf der Oberfläche bzw. in der Schicht entsprechen. Ebenso kann die Intensität der Messstrahlung in Abhängigkeit vom Ort durch Summation der entsprechenden Intensitäten der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile erhalten werden.
• Polarisationsfilter können eine sehr hohe Filterqualität aufweisen, so dass transmittiertes Licht einen Polarisationsgrad von über 99% aufweist. Dies ist grundsätzlich wünschenswert. Eine Empfangseinrichtung zur Erfassung der transmittierten optischen Strahlung, die Ausgangssignale eines Photodetektionselements mittels einer mit diesem verbundenen digitalen Messsignalverarbeitung digitalisiert, kann jedoch einen im Vergleich dazu kleinen Dynamikbereich, zum Beispiel von 128 Stufen, aufweisen. Bei orthogonaler Anordnung der Polarisationsrichtungen können, wenn die Polarisationsebene der zurückgeworfenen Strahlung einen nur sehr kleinen Winkel mit einer der Polarisationsrichtungen aufweist, die dann nur kleinen Beiträge in der anderen Polarisationsrichtung nicht mehr aufgelöst werden. Es ist dann bevorzugt, dass die Polarisationsfilteranordnung Polarisationsfilter mit zueinander geneigten, nicht orthogonalen Polarisationsrichtungen aufweist. Besonders bevorzugt weist die Polarisationsfilteranordnung für wenigstens einen Polarisationsfilter mit einer ersten Polarisationsrichtung wenigstens zwei weitere zu diesem benachbarte Polarisationsfilter mit voneinander abweichenden Polarisationsrichtungen auf, deren Polarisationsrichtungen mit der ersten Polarisationsrichtung einen von 90° abweichenden Winkel einschließen. Die Beträge der Winkel sind dabei größer als 0°. Vorzugsweise sind die Winkel gleich groß. Insbesondere können die Polarisationsfilter streifenförmig nebeneinander angeordnet sein, wobei die Polarisationsrichtungen aufeinander folgender benachbarter Streifen in der gleichen Drehrichtung, vorzugsweise um etwa 120°, gegeneinander gedreht sind. Selbst wenn die Polarisationsebene einfallender optischer Strahlung nur einen sehr kleinen Winkel mit einer der Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter einschließt, lassen die anderen Polarisationsfilter noch relativ große Intensitäten durch, die auch bei einem kleinen Dynamikbereich einer Empfangseinrichtung gut detektiert werden können.
• Um eine Zuordnung von Polarisationszuständen bzw. Polarisationsfiltern zu Photodetektionselementen zu erleichtern und eine gleichmäßige Ortsauflösung im gesamten Erfassungsbereich auf der Oberfläche bzw. in der Schicht zu gewährleisten, ist es bevorzugt, dass die Polarisationsfilter regelmäßig angeordnet sind. Insbesondere können die Polarisationsfilter streifen-, schachbrett- oder wabenartig angeordnet sein. Es sind jedoch auch Muster mit beispielsweise Achtecksymmetrie denkbar. So können bei streifenförmigen Mustern streifenförmige Polarisationsfilter mit unterschiedlichen Polarisationsrichtungen alternierend parallel zueinander angeordnet sein. Dadurch kann bei einer entsprechenden matrixartigen Anordnung der Photodetektionselemente eine Justierung in einer Richtung parallel zu den Längsrichtungen der Streifen entfallen. Es ist jedoch auch möglich, streifenförmige Polarisationsfilter beabstandet voneinander parallel anzuordnen, so dass zwischen diesen nicht filternde Bereiche entstehen, die die ungefilterte Transmission entsprechender räumlich verschiedener Strahlungsanteile erlauben.
• Bei einer schachbrettartigen Anordnung können beispielsweise rechteckige oder insbesondere quadratische Polarisationsfilter die jeweils eine von zwei, vorzugsweise orthogonal zueinander ausgerichteten, Polarisationsrichtungen aufweisen, alternierend zueinander angeordnet sein. Bei wabenförmigen Mustern, die insbesondere hexagonale Symmetrie aufweisen können, können insbesondere auch Polarisationsfilter mit jeweils einer von drei verschiedenen Polarisationsrichtungen verwendet werden, die so angeordnet sind, dass ein Polarisationsfilter einer ersten Polarisationsrichtung von sechs Polarisationsfiltern mit jeweils alternierender zweiter und dritter Polarisationsrichtung umgeben ist. Eine schachbrettartige oder auch wabenartige Anordnung erlaubt eine bessere räumliche Auflösung bzw. günstigere Interpolationsmöglichkeiten bei der Bestimmung der Polarisationseigenschaft bzw. der Intensität der Messstrahlung, wobei jedoch bei dem zuletzt genannten Wabenmuster ein erhöhter Verarbeitungsaufwand auftritt, da die Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter nicht orthogonal zueinander liegen.
• Grundsätzlich können als Polarisationsfilter beliebige polarisierende Elemente verwendet werden. Insbesondere können polarisierend wirkende Folien, beispielsweise gestreckte Polymerfolien, oder auch doppelbrechende Kristalle verwendet werden. Die Herstellung einer Anordnung von Polarisationsfiltern kann sich jedoch, insbesondere bei Verwendung von doppelbrechenden Kristallen, durch die geringe Größe der einzelnen Polarisationsfilter bzw. filternden Bereiche als sehr aufwändig erweisen, wenn die räumliche Auflösung hoch sein soll. Es ist daher vorteilhaft, wenn die Polarisationsfilteranordnung diffraktiv polarisierende Elemente umfasst. Bei solchen Elementen wird ausgenutzt, dass die Beugung an nicht rotationssymmetrischen Strukturen aus einem leitenden Material einen polarisierenden Effekt hat. Entsprechende Strukturen können insbesondere bei sehr kleiner Ausdehnung der Polarisationsfilter im Vergleich zu den zuvor genannten Möglichkeiten sehr einfach hergestellt werden.
• Das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren sieht daher vor, dass als wenigstens einer der Polarisationsfilter eine für wenigstens eine Wellenlänge im Bereich der durch die Photodetektionselemente erfassbaren optischen Strahlung oder der Beleuchtungsstrahlung polarisierend wirkende Struktur aus wenigstens einem leitenden Material, insbesondere einem Metall gebildet wird. Ein solcher Polarisationsfilter ist sehr einfach herstellbar, wobei insbesondere bei Verwendung von Metall als leitendem Material, auch feine Strukturen mit bekannten Strukturierungsverfahren, wie sie aus der Mikroelektronik oder der Mikromechanik bekannt sind, herstellbar sind.
• Dabei ist es besonders bevorzugt, wenn die Größe von Öffnungen zwischen oder in Elementen der Struktur kleiner als etwa das Doppelte einer Wellenlänge, vorzugsweise kleiner als eine Wellenlänge, im Bereich der durch die Photodetektionselemente erfassbaren optischen Strahlung oder der Beleuchtungsstrahlung gebildet wird. Solche Strukturen leitender Materialien, insbesondere Metalle, wirken nicht mehr im einfachen Sinne beugend, sondern es können auch Effekte auftreten, wie sie von Wellenleitern bekannt sind. So können sich teilweise Resonanzeffekte ergeben, da die leitenden Teile der Struktur mit den elektrischen Feldern der optischen Strahlung wechselwirken und im Bereich der Wellenlänge der Strahlung voneinander beabstandet sind. Insbesondere bei Strukturabständen kleiner als eine Wellenlänge tritt im Wesentlichen nur ein Strahlungsanteil durch die Filteranordnung hindurch, der bei einer Betrachtung im Rahmen einer Beugungstheorie als nullte Beugungsordnung angesehen werden kann. Parallel zu Strukturelementen polarisierte Feldanteile der Messstrahlung führen dabei zu entsprechenden Strömen in den leitenden Bereichen, die zu einer Absorption und/oder Reflexion dieser Strahlungsanteile führen, die so bei der Transmission wesentlich geschwächt werden oder gar nicht den Polarisationsfilter durchdringen können. Orthogonal zu der Richtung der Strukturelemente polarisierte optische Strahlung dagegen kann die Struktur mit nur geringer Schwächung oder gar ungeschwächt passieren. Besonders bevorzugt sind die Strukturen wesentlich kleiner als die Wellenlänge der verwendeten Strahlung, da sich so eine nur geringe spektrale Abhängigkeit des Transmissionsgrades ergibt. Diese Strukturen können auch in Reflexion verwendet werden.
• Um linear polarisierte Strahlung zu erhalten und gleichzeitig eine einfache Herstellung zu ermöglichen, ist es bevorzugt, dass die Struktur parallele Streifen umfasst. Die dadurch entstehende Polarisationsrichtung verläuft dabei dann, wie oben ausgeführt, orthogonal zu der Richtung der als Streifen ausgebildeten Strukturelemente aus dem leitenden Material, insbesondere Metall.
• Erfindungsgemäß ist daher vorgesehen, dass die polarisierend wirkenden Strukturen auf eine Oberfläche der Photodetektionselemente unmittelbar oder auf eine mit der Oberfläche der Photodetektionselemente verbundene Schicht aufgebracht werden. Auf diese Weise werden gleichzeitig mehrere Vorteile erreicht. Zum einen liegen die Polarisationsfilter dabei im Bild der Oberfläche, so dass, wie oben ausgeführt, eine sehr gute räumliche Auflösung im Hinblick auf die Abbildungsgeometrie erreicht wird. Zum anderen kann eine Dejustierung zwischen der Polarisationsfilteranordnung und dem Feld von Photodetektionselementen nicht stattfinden, so dass eine so gebildete Vorrichtung sehr robust ist. Schließlich sind die entsprechenden Strukturen auf der Oberfläche der Photodetektionselemente oder auf der mit der Oberfläche verbundenen Schicht einfach mit üblichen Metallisierungs- und/oder Strukturierungsverfahren, die ohnehin zur Herstellung von Feldern von Photodetektionselementen, wie zum Beispiel CCD-Sensoren oder CMOS-Sensoren, verwendet werden, mit der erforderlichen Präzision und räumlichen Feinheit herstellbar.
• Gegenstand einer Ausgestaltung der Erfindung ist insbesondere auch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 14 zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung, bei dem ein Feld von Photodetektionselementen und gegebenenfalls wenigstens eine mit diesen verbundene Schicht gebildet werden und danach auf die so gebildete Oberfläche eine für eine vorgegebene Wellenlänge von optischer Strahlung polarisierend wirkende Struktur aus einem leitenden Material, vorzugsweise einem Metall, aufgebracht, wird. Bevorzugt werden hierzu lithographische Verfahren der Mikroelektronik oder Mikromechanik verwendet.
• Gegenstand der Erfindung ist zudem ein Sensor für optische Strahlung mit einem Feld von Photodetektionselementen und auf einer Oberfläche der Photodetektionselemente unmittelbar oder auf einer mit der Oberfläche der Photodetektionselemente verbundenen Schicht aufgebrachten Polarisatorbereichen, die jeweils eine Struktur aus wenigstens einem leitenden Material, insbesondere einem Metall, aufweisen, und die als Polarisationsfilter für optische Strahlung wenigstens einer Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Photodetektionselemente erfassbaren optischen Strahlung wirken. Für einen solchen Sensor gelten insbesondere die im vorhergehenden Absatz geschilderten Vorteile und Erläuterungen.
• Die Photodetektionselemente können dabei an ihrer Oberfläche wenigstens eine, insbesondere isolierende Schicht oder eine Schicht mit Mikrolinsen, die Strahlung auf die Photodetektionselemente fokussieren, aufweisen, auf die die polarisierend wirkenden Strukturen aufgebracht werden.
• Dabei ist es bevorzugt, dass zu jedem Polarisatorbereich mit einer ersten Polarisationsrichtung wenigstens ein Polarisatorbereich benachbart ist, der eine von der ersten Polarisationsrichtung abweichende zweite Polarisationsrichtung aufweist. Besonders bevorzugt sind die beiden Polarisationsrichtungen dabei, wie oben ausgeführt, orthogonal zueinander ausgerichtet. Je nach Verwendung sind allerdings auch die oben genannten anderen Polarisationsfilteranordnungen, insbesondere solche, für wenigstens einen Polarisationsfilter mit einer ersten Polarisationsrichtung wenigstens zwei weitere zu diesem benachbarte Polarisationsfilter mit voneinander abweichenden Polarisationsrichtungen aufweist, deren Polarisationsrichtungen mit der ersten Polarisationsrichtung einen von 90° abweichenden Winkel einschließen, bevorzugt. Diese können insbesondere in Streifen mit gleicher Polarisationsrichtung angeordnet sein.
• Vorzugsweise ist bei dem Sensor die Größe von Öffnungen zwischen oder in Elementen der Struktur kleiner als etwa das Doppelte einer Wellenlänge, vorzugsweise einer Wellenlänge einer vorgegebenen, von den Photodetektionselementen empfangbaren optischen Strahlung.
• Weiterhin umfasst die Struktur für einen Polarisatorbereich vorzugsweise parallele Streifen als Strukturelemente. Wie zuvor ausgeführt ergibt sich dann eine zu den Streifen orthogonale Polarisationsrichtung.
• Um auch Farbinformationen ortsaufgelöst erfassen zu können, ist es bei dem Sensor bevorzugt, wenn das Feld von Photodetektionselementen zur wenigstens zweikanaligen Detektion von optischer Strahlung ausgebildet ist, wobei jeder Kanal einem von wenigstens zwei sich höchstens teilweise überlappenden Wellenlängenbereichen entspricht. Vorzugsweise wird das Feld von Photodetektionselementen zur dreikanaligen Detektion von optischer Strahlung ausgestaltet, da diese eine für den Menschen angepasste Erfassung von spektralen Informationen erlaubt. Dabei ist es besonders bevorzugt, wenn ein einzelner Polarisationsfilter bzw. Polarisatorbereich sich über alle Photodetektionselemente erstreckt, die bei dem Sensor verschiedenen Farben, aber den gleichen Orten zugeordnet sind. Werden bei dem Feld von Photodetektionselementen dazu Farbfilter verwendet, können diese oberhalb oder unterhalb der polarisierenden Struktur angeordnet sein. Um auch zirkular polarisiertes Licht erfassen zu können, ist es bevorzugt, wenn im Messstrahlengang zwischen der Oberfläche und der Polarisationsfilteranordnung eine für eine zur Untersuchung verwendete Wellenlänge ausgelegte Viertelwellenplatte angeordnet ist.
• Um eine besonders kompakte Ausbildung der Untersuchungsvorrichtung zu ermöglichen, ist es bevorzugt, dass der Beleuchtungs- und der Messstrahlengang in wenigstens einem Abschnitt koaxial verlaufen. Insbesondere kann hierzu im Beleuchtungs- und Messstrahlengang ein halbdurchlässiger Reflektor angeordnet sein, der am Ende des Abschnitts angeordnet ist und die Beleuchtungs- oder das Messstrahlung in bzw. aus dem gemeinsamen Strahlengang ein- bzw. auskoppelt.
• Weiterbildungen und bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind außerdem in den Ansprüchen, der Beschreibung und den Zeichnungen beschrieben.
• Die Erfindung wird nun weiter beispielhaft anhand der Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
• 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche
• 2 eine schematische Darstellung einer Polarisationsfilteranordnung der Vorrichtung in 1,
• 3 eine schematische Darstellung eines Ausschnitts aus einer Polarisationsfilteranordnung einer zweiten Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht
• 4A und B eine teilweise schematische Draufsicht und Schnittansicht durch einen Sensor für einer dritten Vorrichtung,
• 5 eine schematische Darstellung eines Ausschnitts aus einer Polarisationsfilteranordnung einer vierten Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche oder Schicht, und
• 6 eine schematische Darstellung eines Ausschnitts aus einer Polarisationsfilteranordnung einer fünften Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche oder Schicht.
• In 1 umfasst eine Vorrichtung 10 zur Untersuchung einer Oberfläche 12 eines Gegenstands 14, beispielsweise eines Werkstücks, eine Quelle 16 für polarisierte optische Strahlung, die als Beleuchtungsstrahlung ein Beleuchtungsstrahlenbündel 18 abgibt, eine Beleuchtungsoptik 20 zur Fokussierung des Beleuchtungsstrahlenbündels 18 auf die Oberfläche 12 und eine Detektionseinrichtung. Diese umfasst eine in einer geeigneten Lage relativ zu der Beleuchtungsoptik 20 und der Oberfläche 16 angeordnete Kamera 22 mit einem Feld 24 von Photodetektionselementen in Form eines CCD-Sensors zur Erfassung eines Bildes der Oberfläche 12, eine Erfassungsoptik 26 zur Abbildung der Oberfläche 12 auf das Feld 24 von Photodetektionselementen, sowie, in 1 nur schematisch gezeigt, eine im Strahlengang zwischen der Erfassungsoptik 26 und dem Feld 24 von Photodetektionselementen angeordnete Anordnung 28 von Polarisationsfiltern.
• Als Quelle 16 für polarisierte optische Strahlung wird im Beispiel ein Laser verwendet, der im Wesentlichen monochromatisches Licht mit linearer Polarisation abgibt.
• Die Beleuchtungsoptik 20 ist in 1 nur sehr schematisch dargestellt und kann insbesondere auch mehrere Linsen oder wenigstens eine Blende aufweisen.
• Die Erfassungsoptik 26 ist in 1 ebenfalls nur stark schematisch als Linse dargestellt, kann aber ebenso wie die Beleuchtungsoptik 20 mehrere Linsen und gegebenenfalls eine oder mehrere Blenden umfassen.
• Die Anordnung 24 von Photodetektionselementen, im Beispiel ein CCD-Sensor mit einer matrixförmigen Anordnung von entsprechenden Photodetektionselementen, ist zur Erfassung der von der Oberfläche 12 als Messstrahlung bzw. Messstrahlenbündel 36 zurückgeworfenen optischen Strahlung des Beleuchtungsstrahlenbündels 18 in Abhängigkeit von dem Ort auf der Oberfläche 12 ausgebildet.
• Die Vorrichtung 10 umfasst weiterhin eine in der Kamera 22 angeordnete Auswerteeinrichtung 30. Die Auswerteeinrichtung 30 ist mit dem Feld 24 von Photodetektionselementen verbunden, um Signale von den Photodetektionselementen mit einer vorgegebenen Erfassungsfrequenz auszulesen und entsprechende Intensitätsbilder weiterzuverarbeiten und gegebenenfalls zu speichern.
• Die Polarisationsfilteranordnung 28 ist, in 1 nur der Übersichtlichkeit halber anders gezeigt, unmittelbar im Strahlengang zwischen der Erfassungsoptik 26 und dem Feld 24 von Photodetektionselementen unmittelbar vor dem Feld 24 angeordnet und relativ zu diesem ausgerichtet.
• Ein Ausschnitt aus der Polarisationsfilteranordnung ist in 2 schematisch genauer gezeigt. Die Anordnung weist in Polarisationsfilterstreifen 32 und 32' angeordnete Polarisationsfilter 34 bzw. 34' auf, wobei die Polarisationsfilter 34 bzw. 34' der Polarisationsfilterstreifen 32 bzw. 32' jeweils gleiche Polarisationsrichtung aufweisen. Die Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter 34 und 34' sind dabei, in 2 durch eine entsprechende Schraffierung angedeutet, zueinander orthogonal ausgerichtet.
• Die Polarisationsfilter 34 bzw. 34' sind insgesamt matrixförmig angeordnet und entsprechen in ihrer Ausdehnung und Anordnung der Ausdehnung und Anordnung der Photodetektionselemente des Feldes 24 von Photodetektionselementen. Im Beispiel weisen die Photodetektionselemente eine Fläche von etwa 16 μm² auf.
• Im vorliegenden Beispiel sind die Polarisationsfilter 34 und 34' durch Strukturen mit jeweils parallel zueinander verlaufenden Streifen aus einem Metall gegeben, deren Abstand kleiner als die Wellenlänge der optischen Strahlung des Beleuchtungsstrahlenbündels 18, im Beispiel etwa 80% der Wellenlänge des Beleuchtungsstrahlenbündels 18, ist. Die Streifen der Polarisationsfilter 34 bzw. 34' sind im Wesentlichen senkrecht zueinander orientiert. Die Polarisationsrichtung der Filter 34 bzw. 34' verläuft daher jeweils im Wesentlichen orthogonal zu der Richtung der metallischen Streifen der entsprechenden Strukturen.
• Obwohl in 2 die Polarisationsfilter 34 bzw. 34' als quadratische Felder gezeichnet sind, ist es bei einer alternativen Ausführungsform auch möglich, dass die Polarisationsfilterstreifen 32 und 32' jeweils eine über den jeweiligen Polarisationsfilterstreifen homogene Strukturierung aufweisen, so dass eine Justierung zwischen der Polarisationsfilteranordnung 28 und dem Feld 24 von Photodetektionselementen in nur einer Richtung erforderlich ist.
• Die Polarisationsfilteranordnung 28 ist in einer festen Lage vor dem Feld 24 von Photodetektionselementen so angeordnet, dass jeweils einer der Polarisationsfilter 34 bzw. 34' über bzw. vor einem entsprechenden Photodetektionselement des Feldes 24 angeordnet ist. Die Polarisationsfilter 34 und 34' entsprechen daher sowohl in Form als auch Lage im Wesentlichen der Form und Lage der Photodetektionselemente des Feldes 24.
• Zur Untersuchung der Oberfläche 12 wird linear polarisiertes Licht von der Quelle 16 in Form eines Beleuchtungsstrahlenbündels 18 durch die Beleuchtungsoptik 20 auf die Oberfläche 12 gestrahlt, wobei diese je nach Gegenstand 14 beispielsweise unter Drehung der Polarisationsebene und teilweiser Absorption als Messstrahlenbündel 36 reflektiert oder zurückgestreut wird. Das Messstrahlenbündel 36 wird dann durch die Erfassungsoptik 26 auf das Feld 24 von Photodetektionselementen abgebildet, wobei es durch die Polarisationsfilteranordnung 28 in Bezug auf die Polarisation gefiltert wird.
• Bei der Filterung entstehen aus dem Messstrahlenbündel 36 durch die Filterung räumlich verschiedene Strahlungsanteile, im Beispiel Teilbündel, die jeweils hinter den Polarisationsfiltern 34 bzw. 34' räumlich im Wesentlichen voneinander getrennt verlaufen bzw. sich ausbreiten und ebenso auf die Photodetektionselemente im Wesentlichen räumlich getrennt auftreffen.
• Jedes Photodetektionselement empfängt ein Strahlenbündel eines entsprechenden Bereichs bzw. Orts auf der Oberfläche 12 des Gegenstands 14. Diese im Beispiel gleich großen Bereiche bzw. Orte bilden dabei entsprechend der Abbildungsgeometrie der Erfassungsoptik 26 auf der Oberfläche entsprechend der Anordnung der Photodetektionselemente eine matrixartige Anordnung. Solche Bereiche sind 1 stark schematisch und nicht größengerecht ausschnittsweise durch Quadrate gekennzeichnet.
• Ein von einem solchen Bereich bzw. Ort auf der Oberfläche 16 ausgehendes Strahlenbündel wird auf ein entsprechendes Photodetektionselement abgebildet, wobei es einen der Polarisationsfilter 34 bzw. 34' passiert und danach einen entsprechenden Polarisationszustand aufweist. Bedingt durch die Anordnung der Polarisationsfilter 34 und 34' gibt es zu jedem Ort bzw. Bereich auf der Oberfläche 16 wenigstens zwei benachbarte Orte bzw. Bereiche, die ebenfalls auf das Feld 24, jedoch auf benachbarte Photodetektionselemente abgebildet werden, wobei die entsprechenden durch Filterung entstehenden Teilbündel einen anderen Polarisationszustand aufweisen.
• Beispielsweise wird also das von dem Ort bzw. Bereich 38 auf der Oberfläche 16 ausgehende Strahlenbündel durch den Polarisationsfilter 40 auf das dahinter liegende Photodetektionselement abgebildet, wobei das entsprechende Teilbündel in einer ersten Polarisationsrichtung orthogonal zu den Längsrichtungen der Polarisationsfilterstreifen 32 und 32' polarisiert ist. Von den zu dem Ort 38 benachbarten Orten bzw. Bereichen 42 und 44 werden jeweils Strahlenbündel von der Erfassungsoptik 26 durch die entsprechenden Polarisationsfilter 46 und 48 hindurch auf die jeweils dahinter liegenden Photodetektionselemente abgebildet, wobei die entsprechenden Teilbündel nun aber eine zweite Polarisationsrichtung und damit einen Polarisationszustand aufweisen, bei dem die Polarisationsrichtung im Wesentlichen parallel zu der Längsrichtung der Polarisationsfilterstreifen 32 und 32' polarisiert ist. In einer anderen Raumrichtung zu dem Ort 38 benachbarte Orte werden jeweils durch innerhalb des Polarisationsfilterstreifens 32 angeordnete benachbarte Polarisationsfilter 34 auf die entsprechenden Photodetektionselemente abgebildet.
• Auf dem Feld 24 von Photodetektionselementen werden also Intensitäten von Teilbündeln erfasst, die verschiedenen Orten auf der Oberfläche 16 entsprechen und die wenigstens teilweise, im Beispiel spaltenweise, unterschiedliche Polarisationszustände aufweisen.
• Zur Ermittlung der Intensität der Messstrahlung am Ort bzw. im Bereich 38 werden nun in der Auswerteeinrichtung 30 die erfassten Intensitäten der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile bzw. Teilbündel, die durch Filterung der von den Bereichen 38, 42 und 44 ausgehenden Strahlenbündel erhalten wurden, gemittelt. Dazu wird zu der dem Ort 38 entsprechenden Intensität des gefilterten Strahlungsanteils mit der ersten Polarisationsrichtung die Hälfte der Summe der Intensitäten der den dem Ort 38 benachbarten Bereichen bzw. Orten 42 und 44 entsprechenden, durch die Polarisationsfilter 46 und 48 gebildeten Strahlungsanteile mit der zweiten Polarisationsrichtung addiert. Diese einfache Ermittlung wird dadurch ermöglicht, dass die Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter 34 und 34' zueinander orthogonal ausgerichtet sind. Die Hälfte der Summe der Intensitäten der den dem Ort 38 benachbarten Orten 42 und 44 entsprechenden, durch die Polarisationsfilter 46 und 48 gebildeten Strahlungsanteile mit der zweiten Polarisationsrichtung stellt einen durch Interpolation gewonnener Schätzwert für die Intensität des entsprechenden Polarisationsanteils der Messstrahlung am Ort 38, d. h. eine interpolierte Intensität für einen entsprechenden Anteil der Messstrahlung von dem Ort bzw. Bereich 38 mit der zweiten Polarisationsrichtung dar. Hierzu weist die Auswerteeinrichtung 30 eine in den Figuren nicht gezeigte Summationseinrichtung auf.
• Zur Bestimmung der Lage der Polarisationsebene im Bereich bzw. Ort 38 wird von der Intensität des dem Bereich bzw. Ort 38 auf der Oberfläche 12 entsprechenden Strahlungsanteils mit der ersten Polarisationsrichtung, der durch Filterung durch den Polarisationsfilter 40 entstanden ist, interpolierte Intensität der dem Bereich 38 entsprechenden Messstrahlung mit der zweiten Polarisationsrichtung, d. h. im Beispiel die Hälfte der Summe der Intensitäten der den zu dem Ort 38 benachbarten Orten 42 und 44 entsprechenden, durch die Polarisationsfilter 46 bzw. 48 gefilterten Strahlungsanteile, subtrahiert. Diese Differenz wird durch die ermittelte Intensität geteilt, so dass die resultierende Lagegröße Werte zwischen 1 und –1 annehmen kann. Sie bildet je nach Polarisationsrichtung damit ein Maß für den Winkel, den die Polarisationsrichtung mit einer Geraden durch die Orte 40, 38 und 44 bzw. mit einer der Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter 34 bzw. 34' bildet. Die so gebildete Lagegröße ist sehr einfach zu ermitteln und ist eine eindeutige, streng monotone Funktion des genannten Winkels.
• Zur Durchführung dieser Schritte weist die Auswerteeinrichtung 30 entsprechende digitale Teilschaltungen sowie eine in den Figuren nicht gezeigte Interpolationseinrichtung auf.
• Soll der genannte Winkel direkt bestimmt werden, so kann dieser auch dadurch bestimmt werden, dass man ausnutzt, dass die Quadratwurzel aus dem Verhältnis der dem Ort 38 entsprechenden Intensität des durch Filterung gebildeten Strahlungsanteils erster Polarisationsrichtung zu der gemittelten Summe der den Orten 42 und 44 entsprechenden Intensitäten der durch Filterung gebildeten Strahlungsanteile bzw. allgemein der durch Interpolation gewonnenen Intensität mit der zweiten Polarisationsrichtung dem Tangens bzw. Kotangens des eingeschlossenen Winkels entspricht.
• In der Auswertevorrichtung 30 ist eine Vergleichseinrichtung (in den Figuren nicht gezeigt) vorgesehen, die die so erfassten Werte für die Lage der Polarisationsebene und die Intensitäten der Messstrahlung an der Oberfläche 12 als Funktion des Ortes mit in der Vergleichseinrichtung gespeicherten Vergleichsdaten eines Gutmusters vergleicht und bei Abweichungen, die jeweils vorgegebene Schwellwerte betragsmäßig überschreiten, ein entsprechendes Warnsignal ausgibt.
• In 3 ist ein Ausschnitt aus einer Polarisationsfilteranordnung 50 einer zweiten Vorrichtung zur Untersuchung einer Oberfläche oder einer Schicht gezeigt, die sich ansonsten nur durch die Ausbildung der Auswerteeinrichtung von der Vorrichtung in 1 unterscheidet.
• Die Polarisationsfilteranordnung 50 weist nun ein schachbrettartiges Muster von Polarisationsfiltern 52 auf, die jeweils, wie durch eine Schraffur angedeutet, einfallende optische Strahlung linear polarisieren. Zwischen diesen Polarisationsfiltern 52 liegen Bereiche 54, in denen eine polarisationsabhängige Filterung der auf die Polarisationsfilteranordnung 50 auftreffenden optischen Strahlung nicht stattfindet. Die Polarisationsfilteranordnung 50 kann, wie in dem vorhergehenden Beispiel in Form von metallischen Gittern mit Gitterabständen unterhalb der Wellenlänge der verwendeten Strahlung oder auch durch entsprechende Polarisatorfolien gegeben sein, aus denen die Bereiche 54 ausgestanzt sind.
• Die Auswerteeinrichtung dieses Beispiels unterscheidet sich von der Auswerteeinrichtung 30 dadurch, dass nun zur Bestimmung der Intensität und der Lage der Polarisationsebene der Messstrahlung um einen dem Bereich bzw. Ort 38 entsprechenden Polarisationsfilter 56 benachbarten Felder der Polarisationsfilteranordnung 50 verwendet werden. Es wird also ein 3 × 3-Block von durch die Polarisationsfilteranordnung 50 gebildeten Teilstrahlen verwendet, wobei im Beispiel des Bereichs bzw. Ortes 38 fünf Teilbündel linear entsprechend der Polarisationsrichtung der Polarisationsfilter 56 polarisiert sind, während die verbleibenden vier Teilbündel unverändert sind. Aus der wiederum durch Mittelung über die neun Intensitäten der durch Filterung entstandenen Teilbündel gebildeten Intensität der Messstrahlung für den Bereich bzw. Ort 38 auf der Oberfläche 12 und der erfassten Intensität des durch den Polarisationsfilter 56 gebildeten räumlich verschiedenen Strahlungsanteils sowie einer interpolierten Intensität, die durch Interpolation der Intensitäten der räumlich verschiedenen Strahlungsanteile benachbarter Orte erhalten wurde, kann nun ebenfalls mittels bekannter Formeln über eine Differenzbildung und Division durch die Intensität der Messstrahlung eine der oben für die Ausrichtung der Polarisationsebene des Messstrahlenbündels an dem Ort 38 verwendete Lagegröße analoge Lagegröße ermittelt werden.
• Eine Vorrichtung, die einen gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Sensor umfasst, zeichnet sich dadurch aus, dass das Feld 24 von Photodetektionselementen und die Polarisationsfilteranordnung 28 zu einem Sensor 58 zusammengefasst sind.
• Ansonsten ist die gezeigte Vorrichtung wie in dem ersten Beispiel ausgebildet, wobei jedoch die Auswerteeinrichtung bedingt durch die etwas andere Anordnung der Polarisationsfilter modifiziert ist.
• Wie in 4A und 4B im Schnitt gezeigt, sind die Polarisationsfilter bildenden Polarisatorbereiche, von denen in 4A einige mit den Bezugszeichen 61, 62, 62', 62'' und 62''' gekennzeichnet sind, mit der Oberfläche des Feldes 24 von Photodetektionselementen 66, das heißt des CCD-Chips 68, verbunden. Die Polarisatorbereiche bzw. Polarisationsfilter sind durch Strukturen von parallel zueinander verlaufenden metallischen Streifen 64 mit einem Abstand unterhalb der Wellenlänge des Beleuchtungsstrahlenbündels gebildet. Sie sind dabei schachbrettartig angeordnet, wobei die parallelen Streifen und damit die dazu orthogonal verlaufenden Polarisationsrichtungen nächst benachbarter Polarisationsfilter jeweils orthogonal zueinander ausgerichtet sind. Die metallischen Streifen 64 sind dabei nach Herstellung einer Isolationsschicht 60 auf den photoempfindlichen Oberflächen der Photodetektionselemente 66 durch lithografische Verfahren, wie sie in der Mikroelektronik üblich sind, auf die Oberfläche der mit den Photodetektionselementen 66 verbundenen Schicht 60 aufgebracht. Um diese Struktur zu schützen, kann in einem anderen Ausführungsbeispiel die genannte Struktur durch eine weitere dielektrische Schicht abgedeckt sein.
• Auf diese Weise wird eine perfekte Justierung der Polarisationsfilter zu den Photodetektionselementen 66 erzielt.
• Die ortsabhängige Ermittlung der Intensität der Messstrahlung kann nun wie im zweiten Beispiel erfolgen. Die Ermittlung der Lage der Polarisationsebene kann in diesem Ausführungsbeispiel analog zu dem Beispiel dadurch erfolgen, dass die Intensität des dem Ort 38 auf der Oberfläche 12 entsprechenden, durch den Polarisationsfilter 61 gebildeten Strahlungsanteils von dem Mittelwert der umliegenden, nächst benachbarten Polarisationsfilter 62, 62', 62'' und 62''', der als durch Interpolation gewonnener Schätzwert für die Intensität des Strahlungsanteils angesehen werden kann, der durch den Polarisationsfilter 61 aufgrund der anderen Polarisationsrichtung herausgefiltert wurde, abgezogen und das Resultat durch die Gesamtintensität geteilt wird. Es ergibt sich so wieder eine Größe, die wie im ersten Ausführungsbeispiel entsprechend der Ausrichtung der Polarisationsebene an der Oberfläche 12 relativ zu den Polarisationsfiltern Werte zwischen –1 und 1 annehmen kann.
• Einen Ausschnitt aus einer Polarisationsfilteranordnung 70 einer vierten Vorrichtung ist in 5 gezeigt und weist eine hexagonale Anordnung von sechseckigen Polarisationsfiltern 72, 74 und 76 auf, jeweils um 120° zueinander geneigte Polarisationsrichtungen aufweisen. Die Auswerteeinrichtung, die der Auswerteeinrichtung 30 in dem ersten Ausführungsbeispiel entspricht, ist hier entsprechend modifiziert, so dass wiederum die Gesamtintensität und Differenzen von Intensitäten von Strahlungsanteilen hinter den Polarisationsfiltern 72, 74 bzw. 76 als Maß für die Lage der Polarisationsebene ermittelt werden.
• Einen Ausschnitt aus einer Polarisationsfilteranordnung 78 einer fünften Vorrichtung ist in 6 gezeigt und weist eine streifenförmige Anordnung von Polarisationsfiltern 80, 82 und 84 auf, die jeweils um 120° zueinander geneigte Polarisationsrichtungen aufweisen. Die Auswerteeinrichtung, die der Auswerteeinrichtung 30 in dem ersten Ausführungsbeispiel entspricht, ist hier entsprechend modifiziert. Bezeichnen e_i für i = 1, 2, 3 Einheitsvektoren in den drei verschiedenen Polarisationsrichtungen der Polarisationsfilter, so kann die Gesamtintensität I der zurückgeworfenen optischen Strahlung auf der Basis der von den quer zur Streifenrichtung benachbarten Polarisationsfiltern 80, 82 und 84 transmittierten und von den entsprechenden Photodetektionselementen erfassten Intensitäten I_i für i = 1, 2, 3 anhand der folgenden Formel ermittelt werden:

  
• Dabei bezeichnet (e_ie_j) das Skalarprodukt der Vektoren e_i und e_j.
• Der Winkel δ, den die Polarisationsebene der zurückgeworfenen optischen Strahlung mit der Polarisationsrichtung e₁ einschließt, kann beispielsweise folgendermaßen ermittelt werden:

  
• Bei beiden Formeln wird davon ausgegangen, dass die von einem Photodetektionselement für den Ort eines Polarisationsfilters erfasste Intensität, beispielsweise von dem Photodetektionselements für den Polarisationsfilter 80, auf den Ort des benachbarten Polarisationsfilters, beispielsweise des Polarisationsfilters 82, extrapolierbar ist, indem der gleiche Wert auch an diesem Ort angenommen wird.
• Soll nur ein Vergleich mit einem Gutmuster durchgeführt werden, können auch Funktionen des Winkels δ verwendet werden, die einfacher aus den Intensitäten I_i ermittelbar sind.
• Bei einer sechsten Vorrichtung wird statt des CCD-Sensors im ersten Beispiel ein dreikanaliger Farb-CCD-Sensor verwendet, wobei jeweils benachbarte Sensorelemente mit verschiedenen Farben die Intensität eines einzelnen durch einen Polarisationsfilter gebildeten Strahlungsanteils erfassen. Die Auswerteeinrichtung ermittelt nun die Intensitäten und die Lage der Polarisationsebene des Messstrahlenbündels an einem Ort auf der Oberfläche 16 für jeden der von den verschiedenen Sensorelementen erfassten Spektralbereiche bzw. Kanäle getrennt.
• Bezugszeichenliste

10

Vorrichtung zur Oberflächenuntersuchung

12

Oberfläche

14

Gegenstand

16

Quelle für optische Strahlung

18

Beleuchtungsstrahlenbündel

20

Beleuchtungsoptik

22

Kamera

24

Feld von Photodetektionselementen

26

Erfassungsoptik

28

Polarisationsfilteranordnung

30

Auswerteeinrichtung

32, 32'

Polarisationsfilterstreifen

34, 34'

Polarisationsfilter

36

Messstrahlenbündel

38

Bereich der Oberfläche

40

Polarisationsfilter

42

Bereich der Oberfläche

44

Bereich der Oberfläche

46

Polarisationsfilter

48

Polarisationsfilter

50

Polarisationsfilteranordnung

52

Polarisationsfilter

54

nicht filternder Bereich

56

Polarisationsfilter

58

Sensor

60

Isolationsschicht

61

Polarisationsfilter

62, 62', 62'', 62'''

Polarisationsfilter

64

Streifen

66

Photodetektionselement

68

CCD-Chip

70

Polarisationsfilteranordnung

72

Polarisationsfilter

74

Polarisationsfilter

76

Polarisationsfilter

78

Polarisationsfilteranordnung

80

Polarisationsfilter

82

Polarisationsfilter

84

Polarisationsfilter

Claims (20)

1. Verfahren zur Herstellung eines Sensors für optische Strahlung mit – einem Feld (24; 68) von Fotodetektionselementen (66) und – einer Anordnung von Polarisatorbereichen (61, 62, 62', 62'', 62'''), die als Polarisationsfilter (61, 62, 62', 62'', 62''') für optische Strahlung wenigstens einer Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente erfassbaren optischen Strahlung wirken, auf einer Oberfläche der Fotodetektionselemente oder einer damit verbundenen Schicht (60), bei dem für die Polarisatorbereiche (61, 62, 62', 62'', 62''') jeweils eine Struktur (64) aus leitendem Material direkt auf dem Feld der Fotodetektionselemente (66) oder auf eine damit verbundene Schicht (60) lithografisch aufgebracht wird, die für wenigstens eine Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente (66) erfassbaren optischen Strahlung als Polarisationsfilter wirkt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Struktur (64) aus leitendem Material metallisch ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem als Struktur aus leitendem Material metallische Streifen (64) lithografisch aufgebracht werden, wobei die Streifen eines Polarisatorbereiches parallel zueinander verlaufen.
4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem die Abstände der metallischen Streifen (64) eines Polarisatorbereiches kleiner als das doppelte einer Wellenlänge, vorzugsweise kleiner als eine Wellenlänge, im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente (66) erfassbaren optischen Strahlung oder der Beleuchtungsstrahlung gewählt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 oder 4, bei dem die metallischen Streifen (64) der Polarisatorbereiche derart gewählt werden, dass Polarisatorbereiche mit zueinander orthogonalen Streifen vorliegen.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 oder 4, bei dem die metallischen Streifen (64) der Polarisatorbereiche derart gewählt werden, dass zumindest für einen ersten Polarisatorbereich wenigstens zwei weitere Polarisatorbereiche vorliegen, deren Streifenausrichtungen mit der Streifenausrichtung des ersten Polarisatorbereiches einen von 90 Grad abweichenden von 0 Grad unterschiedlichen Winkel einschließen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem zunächst eine Isolationsschicht (60) auf dem Feld der Fotodetektionselemente hergestellt wird und dann die Strukturen (64) aus leitendem Material lithografisch aufgebracht werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem zunächst eine Schicht mit Mikrolinsen auf dem Feld der Fotodetektionselemente hergestellt wird und dann die Strukturen aus leitendem Material lithografisch aufgebracht werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem oberhalb oder unterhalb der Strukturen aus leitendem Material Farbfilter angeordnet werden.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem oberhalb der Strukturen aus leitendem Material eine dielektrische Schicht aufgebracht wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem die Polarisatorbereiche (61, 62, 62', 62'', 62''') mit einer jeweiligen Fläche kleiner als 4 mm² gewählt werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei dem die Polarisatorbereiche regelmäßig zueinander, insbesondere streifen-, schachbrett- oder wabenförmig angeordnet werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, bei dem als Anordnung von Fotodetektionselementen (66) wenigstens ein CCD-Sensor oder CMOS-Sensor verwendet wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, das – die Bildung des Feldes von Fotodetektionselementen (66) und gegebenenfalls wenigstens einer mit diesem verbundenen Schicht (60) und – die darauf folgende lithografische Herstellung der Struktur (64) aus leitendem Material der Polarisatorbereiche (61, 62, 62', 62'', 62''') umfasst.
15. Sensor für optische Strahlung mit einem Feld von Fotodetektionselementen (66) und auf einer Oberfläche der Fotodetektionselemente (66) unmittelbar oder auf einer mit der Oberfläche der Fotodetektionselemente verbundenen Schicht (60) aufgebrachten Polarisatorbereichen (61, 62, 62', 62'', 62'''), die jeweils eine Struktur (64) aus wenigstens einem leitenden Material aufweisen, und die als Polarisationsfilter (61, 62, 62', 62'', 62''') für optische Strahlung wenigstens einer Wellenlänge im Bereich der Wellenlängen der durch die Fotodetektionselemente (66) erfassbaren optischen Strahlung wirken.
16. Sensor nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass zu jedem Polarisatorbereich (61) mit einer ersten Polarisationsrichtung wenigstens ein Polarisatorbereich (62, 62', 62'', 62''') benachbart ist, der eine von der ersten Polarisationsrichtung abweichende zweite Polarisationsrichtung aufweist.
17. Sensor nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Größe von Öffnungen zwischen oder in Elementen der Struktur (64) kleiner als etwa das Doppelte einer Wellenlänge, vorzugsweise einer Wellenlänge, einer vorgegebenen, von den Fotodetektionselementen (66) empfangbaren optischen Strahlung ist.
18. Sensor nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur parallele Streifen (64) umfasst.
19. Sensor nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Feld von Fotodetektionselementen zur wenigstens zweikanaligen Detektion von optischer Strahlung ausgebildet ist, wobei jeder Kanal einem von wenigstens zwei sich höchstens teilweise überlappenden Wellenlängenbereichen entspricht.
20. Sensor nach einem der Ansprüche 15 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Polarisatorbereiche (61, 62, 62', 62'', 62''') jeweils eine Struktur aus wenigstens einem Metall aufweisen.

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