DE10327248A1

DE10327248A1 - Walze, insbesondere Formierwalze

Info

Publication number: DE10327248A1
Application number: DE2003127248
Authority: DE
Inventors: Thomas Dr. Jaschinski
Original assignee: Voith Paper Patent GmbH
Current assignee: Voith Patent GmbH
Priority date: 2003-06-17
Filing date: 2003-06-17
Publication date: 2005-01-05

Abstract

Es wird eine Walze, insbesondere Formierwalze, zur Herstellung und/oder Behandlung einer Faserstoffbahn, insbesondere Papier- oder Kartonbahn, beschrieben, deren Mantel mit einer Vielzahl von Öffnungen versehen ist. Die in die Walzenoberfläche eingebrachten Öffnungen sind zumindest bereichsweise entsprechend wenigstens einem bestimmten Grundmuster angeordnet. Zudem ist wenigstens ein zusätzliches Oberflächenmuster in die Walzenoberfläche eingebracht, das von wenigstens einem einen bestimmten Informationsgehalt besitzenden Zeichen gebildet ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Walze, insbesondere Formierwalze, zur Herstellung und/oder Behandlung einer Faserstoffbahn, insbesondere Papier- oder Kartonbahn, deren Mantel mit einer Vielzahl von Öffnungen versehen ist.
Zur Vergleichmäßigung der Entwässerung einer Papierbahn auf der Formierwalze eines jeweiligen Formers ist zur Vermeidung von Lochschattenmarkierungen im Papier bisher ein Schrumpfsiebbezug auf der Formierwalze erforderlich. Ein solcher Bezug bringt nun aber eine Reihe von Nachteilen mit sich. Zu diesen Nachteilen zählen beispielsweise der in Folge des Schrumpfsiebverschleißes erforderliche häufige Walzenwechsel (in der Regel alle drei bis neun Monate), ungeplante Stillstände in Folge von Schrumpfsiebschäden und Einschränkungen bezüglich des Einsatzes bestimmter Reinigungsmittel. So beschädigen zum Beispiel Laugen das Polyestermaterial des Schrumpfsiebbezuges. Da die Walze mit einem Strumpf versehen ist, ist die Verwendung eines Schabers nicht möglich.

Eine Formierwalze ohne Schrumpfsiebbezug würde also eine höhere Runability der Papiermaschine bedeuten. Es wurden bereits verschiedene Lösungen für dieses Problem vorgeschlagen (vgl. z.B. WO99/32713 und DE-A-100 26 542 ). Alle diese bereits vorgeschlagenen Lösungen basieren auf einer Walze, auf die ein regelmäßiges Grundbohrmuster aufgebracht ist. Dieses besteht in der Regel aus durch den Walzenmantel gebohrten Löchern, die an der Außenseite der Walze angesenkt sind. Es wurde auch bereits vorgeschlagen, auf die gesamte Walzenoberfläche zusätzlich ein bestimmtes Oberflächenmuster aufzubringen. Unter bestimmten Betriebs bedingungen der Papiermaschine können ein regelmäßiges Grundbohrmuster sowie auch die zusätzlichen Oberflächenstrukturen nun aber zu Lochschattenmarkierungen im Papier führen. Diese Markierungen sind deshalb sichtbar, weil das Grundbohrmuster und zumindest teilweise auch das Zusatzmuster regelmäßig sind, also bestimmte Vorzugsrichtungen vorhanden sind. Diese werden durch das menschliche Auge und durch bestimmte Analyseverfahren im Papier erkannt.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Walze, insbesondere Formierwalze, der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der die zuvor erwähnten Probleme beseitigt sind, wobei insbesondere erreicht werden soll, dass durch eine geeignete Oberflächenstruktur des Walzenmantels der bisher erforderliche Schrumpfsiebbezug entfallen kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die in die Walzenoberfläche eingebrachten Öffnungen zumindest bereichsweise entsprechend wenigstens einem bestimmten Grundmuster angeordnet sind, und dass wenigstens ein zusätzliches Oberflächenmuster in die Walzenoberfläche eingebracht ist, das von wenigstens einem einen bestimmten Informationsgehalt besitzenden Zeichen gebildet ist.

Erfindungsgemäß erfolgt die Strukturierung der Walzenoberfläche durch wenigstens ein bestimmtes Grundmuster und zumindest ein zusätzliches Oberflächenmuster in Form eines oder mehrerer Zeichen mit einem bestimmten Informationsgehalt. Durch das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen wird die zwischen den das Grundmuster bildenden Öffnungen verbleibende Stegfläche weiter reduziert und das freie Volumen unterhalb eines eventuell vorgesehenen Siebes weiter vergrößert. Erfindungsgemäß wird ausgenutzt, dass die Überlagerung wenigstens eines bestimmten Grundmusters mit wenigstens einem einen bestimmten In formationsgehalt besitzenden Zeichen insgesamt zu einer unregelmäßigen Struktur der Walzenoberfläche auch dann führt, wenn das Grundmuster regelmäßig ist. Erfindungsgemäß kann also eine dem jeweiligen Zeichen innewohnende Unregelmäßigkeit ausgenutzt werden, um eine unregelmäßige Struktur auf der Walzenoberfläche zu bilden. Hierdurch wird die Bildung von Vorzugsrichtungen in der Walzenoberfläche vermieden, die zu störenden Markierungen auf der Faserstoffbahn führen und in denen sich unerwünschte Strömungen ausbilden könnten. Von Vorteil ist ferner, dass durch das zusätzliche Oberflächenmuster ein hoher Grad an Asymmetrie der verbleibenden Stege realisiert werden kann, wodurch störende Markierungen der Faserstoffbahn vermieden oder zumindest auf ein Minimum reduziert werden können, d.h. Probleme aufgrund einer Tendenz der Walze, störende Markierungen auf der Faserstoffbahn zu erzeugen, werden erfindungsgemäß zumindest weitestgehend vermieden. Ein ganz besonderer Vorteil der Erfindung besteht in der Verbindung von funktionalen Aspekten einerseits und Designaspekten andererseits, da das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen gezielt dazu eingesetzt werden kann, bestimmte Designeffekte auf der Walze zu erzielen. Während das Zeichen auf der Walze erkennbar ist und so gezielt als werbewirksame Design-Maßnahme z.B. in Form eines Logos oder Slogans eines Kunden des Walzenherstellers eingesetzt werden kann, können Grundmuster und Zeichen insgesamt eine Oberflächenstruktur bilden, die auf der Faserstoffbahn keine Strukturen mehr und insbesondere nicht mehr das Zeichen erkennen lässt. In diesem bevorzugten Fall ist das Zeichen also auf der Walze erkennbar, insbesondere lesbar, nicht aber auf der Faserstoffbahn. Im Prinzip wäre es aber auch möglich, Grundmuster und Zeichen derart auszuführen, dass das Zeichen in der Faserstoffbahn erkennbar ist.

Es ist erfindungsgemäß also zwar nicht zwingend erforderlich, jedoch bevorzugt, dass die Kombination aus dem wenigstens einen Grundmuster und dem zumindest einen ein zusätzliches Oberflächenmuster bildenden Zeichen insgesamt zu einer unregelmäßigen Struktur auf der Walzenoberfläche führt. Bei einer derartigen unregelmäßigen Struktur sind Lochschattenmarkierungen in der Faserstoffbahn bzw. dem Papier praktisch nicht mehr erkennbar, da regelmäßige Strukturen bzw. von der Walze herrührende Markierungen fehlen, die erfasst werden könnten. Auch das als Sekundärmuster zusätzlich zu dem Grundmuster vorgesehene Zeichen ist in diesem Fall auf der Faserstoffbahn bzw. dem Papier nicht erkennbar. Es ist kein Schrumpfsiebbezug mehr erforderlich. Soweit dies andere technologische Vorteile mit sich bringt, kann die Walze jedoch auch mit einem Bezug versehen sein. Ohne Bezug kann die Walze jedoch länger betrieben werden, d.h. der betreffende Former kann mit längeren Wartungsintervallen betrieben werden. Die verbleibende, das betreffende Sieb stützende Fläche kann so klein wie möglich, jedoch groß genug sein, um die durch das Sieb bzw. die Siebspannung aufgebrachten Kräfte aufzunehmen.

Bei dem das zusätzliche Oberflächenmuster bildenden Zeichen kann es sich entweder um ein Einzelzeichen, insbesondere einen Buchstaben, eine Zahl oder ein eine bestimmte Bedeutung besitzendes Symbol, oder um eine mehrere Einzelzeichen umfassende Zeichenkombination handeln, beispielsweise um ein mehrere Buchstaben umfassendes Wort oder ein sowohl wenigstens einen Buchstaben und zumindest eine Zahl umfassendes alphanumerisches Zeichen. Auch wenn im Folgenden teilweise zwischen Zeichen und Zeichenkombinationen unterschieden wird, ist grundsätzlich der Begriff "Zeichen" so zu verstehen, dass damit sowohl Einzelzeichen (z.B. Buchstaben, Zahlen, Symbole etc.) als auch Zeichenkombi nationen (z.B. Wörter, Wortgruppen, Slogans etc.) umfasst sind. Der Informationsgehalt des Zeichens ist grundsätzlich beliebig.

Das von den in die Walzenoberfläche eingebrachten Öffnungen gebildete Grundmuster kann grundsätzlich beliebig sein. Es kommen sowohl unregelmäßige als auch regelmäßige Grundmuster in Frage.

Beispielsweise kann das Grundmuster auf einer spiral- bzw. teilspiralförmigen Anordnung von in die Walzenoberfläche eingebrachten Öffnungen basieren. Dabei kann der Winkel β zwischen einer jeweiligen, entsprechend einem Steigungswinkel α der Spirale gegenüber der Walzenachse geneigten Öffnungsreihe und wenigstens einer weiteren Öffnungsreihe des Grundmusters in einem Bereich zwischen 90° und 180° liegen. Dieser Winkel β kann gleich 90° sein, so dass die Öffnungen der in Richtung der Walzenachse aufeinander folgenden, jeweils entsprechend einem Steigungswinkel α der Spirale gegenüber der Walzenachse geneigten Öffnungsreihen des Grundmusters miteinander ausgerichtet sind. Alternativ können die Öffnungen von einander benachbarten, jeweils entsprechend einem Steigungswinkel α der Spirale gegenüber der Walzenachse geneigten Öffnungsreihen des Grundmusters um beliebige Bruchteile der Teilung gegeneinander versetzt sein, wodurch sich von 90° verschiedene Werte für den Winkel β ergeben.

Die das Grundmuster bildenden Öffnungen können zumindest teilweise als Durchgangsöffnungen vorgesehen sein. Die Öffnungen können zumindest teilweise radial in die Walzenoberfläche eingebracht sein. Es ist auch möglich, dass die Öffnungen auf der Walzenoberfläche zumindest teilweise angesenkt sind. Ferner wird vorgeschlagen, dass die Öffnungen zumindest teilweise ohne eine jeweilige Ansenkung vorgesehen sind. Des Weiteren kann wenigstens eine Öffnung vorgesehen sein, die zumindest bereichsweise durch eine Bohrung gebildet ist.

Das von dem wenigstens einen Zeichen gebildete zusätzliche Oberflächenmuster ist bevorzugt in Form einer Strukturierung der Oberfläche vorgesehen. Hierzu kann die Oberfläche angesenkt werden, wodurch die zwischen den Öffnungen des Grundmusters verbleibende Stegfläche, d.h. die ein eventuell vorgesehenes Sieb tragende Fläche, verkleinert wird.

Erfindungsgemäß kann des Weiteren vorgesehen sein, dass das zusätzliche Oberflächemuster von einer Mehrzahl von identischen Zeichen und/oder von einer Mehrzahl von identischen Zeichenkombinationen gebildet ist, die jeweils mehrere Zeichen umfassen, von denen wenigstens zwei verschieden sind.

Mehrere Zeichen und/oder Zeichenkombinationen können sowohl regelmäßig als auch unregelmäßig angeordnet sein.

In einem weiteren praktischen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist das zusätzliche Oberflächenmuster von einer Mehrzahl von Zeichen und/oder Zeichenkombinationen gebildet, von denen wenigstens zwei Zeichen bzw. Zeichenkombinationen bezüglich des Grundmusters unterschiedlich orientiert sind.

Des Weiteren kann bei einem Grundmuster, das auf einer zumindest bereichsweise vorgesehenen spiral- bzw. teilspiralförmigen Anordnung von in die Walzenoberfläche eingebrachten Öffnungen basiert, das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen entsprechend dem Steigungswinkel α der Spirale gegenüber der Walzenachse orientiert sein. Bei einem von Null verschiedenen Steigungswinkel α kann das Zeichen senkrecht zu den Öffnungsreihen des Grundmusters und damit gegenüber der Walzenachse geneigt orientiert sein. Alternativ ist auch eine von der Größe des Steigungswinkels α unabhängige Orientierung des Zeichens parallel zur Walzenachse, also eine axiale Anordnung des Zeichens denkbar. Auch eine radiale Anordnung oder Orientierung des Zeichens ist möglich, bei der das Zeichen in Umfangsrichtung der Walze – in einer abgewickelten Darstellung also radial oder senkrecht zur Walzenachse – ausgerichtet ist.

Grundsätzlich sind unabhängig davon, ob im Fall des Vorsehens einer Mehrzahl von Zeichen diese die gleiche Orientierung aufweisen oder unterschiedlich bezüglich der Walzenachse orientiert sind, die Neigungswinkel der Zeichen sowohl relativ zur Walzenachse beliebig wählbar.

Das Grundmuster und das zusätzliche Oberflächenmuster sind vorzugsweise einander derart überlagert, dass das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen teilweise von wenigstens einer Öffnung des Grundmusters gebildet ist.

Des Weiteren kann vorgesehen sein, dass zwischen den Öffnungen des Grundmusters verbleibende Stege durch das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen durchbrochen sind.

Durch das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen können mehrere Öffnungen des Grundmusters miteinander verbunden sein. Es ist auch möglich, dass mehrere Einzelzeichen eines Kombinationszeichens – z.B. benachbarte Buchstaben eines Wortes – durch wenigstens eine der das Grundmuster bildenden Öffnungen miteinander verbunden sind.

Vorzugsweise umfasst das Grundmuster Öffnungen, die jeweils ohne Verbindung zu einer der anderen Öffnungen des Grundmusters sind.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung weist das Zeichen in Bereichen zwischen den Öffnungen des Grundmusters eine konstante Strichstärke auf.

Die Strichstärke des Zeichens kann von dem Durchmesser der das Grundmuster bildenden Öffnungen verschieden sein. In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist die Strichstärke des Zeichens kleiner als der Durchmesser der das Grundmuster bildenden Öffnungen, jedoch größer als der halbe Durchmesser.

Vorzugsweise sind erfindungsgemäß das Grundmuster und das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen derart angeordnet, dass die Struktur der Walzenoberfläche insgesamt eine Asymmetrie aufweist. Dabei kann eine dem Grundmuster bereits innewohnende Asymmetrie durch das zusätzliche Oberflächenmuster weiter erhöht sein.

Das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen kann von wenigstens einer nut- oder rillenförmigen Vertiefung gebildet sein.

Ferner kann das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen von wenigstens einer geradlinig, gekrümmt, insbesondere kreis- oder teilkreisförmig, und/oder in Form sich überkreuzender Linien verlaufenden Vertiefung gebildet sein.

Die Herstellung des das zusätzliche Oberflächenmuster bildenden Zeichens in der Walzenoberfläche kann grundsätzlich auf beliebige Art und Weise erfolgen. Beispielsweise kann das zusätzliche Oberflächenmuster durch Ausbilden von Blindbohrungen, durch Fräsen und/oder durch Ätzen in die Walzenoberfläche eingebracht sein.

Bei einer nicht bezogenen Walze ist u.a. beispielsweise auch der Einsatz eines Schabers denkbar. Dieser kann z.B. in Kombination mit einem Hochdruck-Spritzrohr vorgesehen sein. Grundsätzlich ist jedoch auch der Einsatz eines Hochdruck-Spritzrohres ohne Schaber möglich.

Weitere bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen, der Beschreibung sowie der Zeichnung angegeben.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert; in dieser zeigen:
1 einen Ausschnitt einer Walzenoberfläche, die eine Oberflächenstruktur gemäß einer Ausführungsform der Erfindung aufweist,
2 eine invertierte Darstellung der 1,
3 einen Ausschnitt einer Walzenoberfläche mit einer Oberflächenstruktur gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung,
4 einen Ausschnitt einer Walzenoberfläche mit einer Oberflächenstruktur gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung,
5a eine invertierte Darstellung der 4 und
5b eine verkleinerte Darstellung der 4 mit einem zu Erläuterungszwecken hervorgehobenen Zeichen, das Bestandteil ei nes mehrere identische Zeichen umfassenden zusätzlichen Oberflächenmusters ist.
1 zeigt einen Ausschnitt der Oberfläche 16 einer Walze 10, hier beispielsweise einer Formierwalze, zur Herstellung und/oder Behandlung einer Faserstoffbahn, bei der es sich insbesondere um eine Papier- oder Kartonbahn handeln kann.
Der Mantel 12 der Walze 10 ist mit einer Vielzahl von Öffnungen 14 versehen. Die in die Walzenoberfläche 16 eingebrachten Öffnungen 14 sind zumindest bereichsweise entsprechend einem bestimmten Grundmuster angeordnet, das auf einer spiralförmigen Anordnung der Öffnungen 14 basiert.
Die Öffnungen 14 können zumindest teilweise als Durchgangsöffnungen vorgesehen und beispielsweise radial in die Walzenoberfläche 16 eingebracht sein. Ferner können die Öffnungen 14 auf der Walzenoberfläche 16 zusätzlich angesenkt sein. Grundsätzlich kann zumindest ein Teil der Öffnungen 14 auch unbehandelt bleiben.
Das von den Öffnungen 14 gebildete Grundmuster wird dadurch erzeugt, dass die Öffnungen 14 spiralförmig unter einem Steigungswinkel α zur Walzenachse X eingebracht werden. Die Öffnungsreihen 14a des Grundmusters, die jeweils entsprechend diesem Steigungswinkel α der Spirale gegenüber der Walzenachse X geneigt sind, sind derart angeordnet, dass jeweils zwei in Richtung der Walzenachse X unmittelbar aufeinander folgende Öffnungsreihen 14a so gegeneinander versetzt sind, dass zwei weitere Öffnungsreihen 14b und 14c vorhanden sind, die gegenüber der Walzenachse X um einen Winkel γ bzw. δ geneigt sind. Aus den Winkeln α, γ und δ lassen sich die Winkel β1 und β2 zwischen den Öffnungsreihen 14a und 14b bzw. 14a und 14c bestimmen. In der Ausführungsform der 1, die lediglich beispielhaft ein mögliches Grundmuster zeigt, gilt α = 99,02°, γ = 38,37° und δ = 158,42°, woraus sich β1 = α – y = 60,65° und β2 = α – δ + 180° = 120,60° ergibt.
In die Walzenoberfläche 16 ist zusätzlich zu dem vorstehend erläuterten, von den Öffnungen 14 gebildeten regelmäßigen Grundmuster ein weiteres Oberflächenmuster eingebracht, das in diesem Ausführungsbeispiel in Form mehrerer identischer, einen bestimmten Informationsgehalt besitzender Zeichen 18 vorgesehen ist. Die Zeichen 18 stellen jeweils eine Zeichenkombination aus mehreren Einzelzeichen 20 dar, nämlich ein mehrere Buchstaben 20 umfassendes Wort, in diesem Ausführungsbeispiel das Wort VOITH. An dieser Stelle sei bereits auf 5b verwiesen, die zwar ein anderes Ausführungsbeispiel zeigt, in der jedoch aus Gründen der Verdeutlichung eines der das zusätzliche Oberflächenmuster bildenden Wörter VOITH hervorgehoben ist. Das Wort VOITH ist hier lediglich beispielhaft genannt.
Die Zeichen 18 sind in dem Ausführungsbeispiel der 1 regelmäßig angeordnet und miteinander ausgerichtet. Ferner sind die Zeichen 18 entsprechend dem Steigungswinkel α des Grundmusters angeordnet, d.h. das Wort VOITH ist jeweils senkrecht zu den Öffnungsreihen 14a orientiert.
Jedes Einzelzeichen 20 der Zeichen 18, d.h. jeder Buchstabe des Wortes VOITH, ist teilweise von mehreren Öffnungen 14 des Grundmusters gebildet. Zusätzlich sind die Stege zwischen den betreffenden Öffnungen 14 zur Bildung der einzelnen Buchstaben 20 durchbrochen, wodurch die betref fenden Öffnungen 14 miteinander verbunden sind. Wie beispielsweise an dem V und dem O sowie an dem T und dem H des Wortes VOITH zu erkennen ist, können auch benachbarte Buchstaben 20 des Wortes 18 durch eine der Öffnungen 14 miteinander verbunden sein. Eine solche Verbindung kann auch durch mehrere Öffnungen erfolgen.
Wie am Beispiel des I des Wortes VOITH zu erkennen ist, ist es aber auch möglich, dass ein Buchstabe 20 des Wortes 18 keine Verbindung zu weiteren Öffnungen 14 und damit zu weiteren Buchstaben 20 des Wortes 18 besitzt.
Aus 1 geht des Weiteren hervor, dass in der Walzenoberfläche 16 Öffnungen 14 ausgebildet sind, die zu keiner der anderen Öffnungen 14 eine Verbindung besitzen.
Obwohl in dem Ausführungsbeispiel der 1 ein regelmäßiges Grundmuster und eine regelmäßige Anordnung der Zeichen 18 vorgesehen sind, ergibt die Überlagerung des Grundmusters mit dem von den Zeichen 18 gebildeten zusätzlichen Oberflächenmuster insgesamt eine unregelmäßige Oberflächenstruktur mit einem hohen Grad an Asymmetrie, was sich sowohl hinsichtlich der Funktion der Walze 10 als auch in ästhetischer Hinsicht vorteilhaft auswirkt, da auf der Walze 10 zwar in gewünschter Weise die Wörter VOITH, auf der Faserstoffbahn bzw. dem Papier jedoch weder diese Wörter noch irgendwelche Lochschattenmarkierungen erkennbar sind. Die einem aus mehreren Buchstaben gebildeten Wort innewohnende Unregelmäßigkeit wird folglich zur Erzielung einer unregelmäßigen Oberflächenstruktur der Walze 10 ausgenutzt, wobei mit der Bedeutung bzw. dem Informationsgehalt des Zeichens 18 gleichzeitig eine Designkomponente für die Walze 10 geschaffen wird, die beliebig variiert werden kann, ohne die vorteilhafte Unregelmäßigkeit bzw. Asymmetrie zu beeinträchtigen.
Es ist nicht zwingend erforderlich, dass in den Bereichen zwischen den Öffnungen 14 die einzelnen Zeichen 20 die gleiche Tiefe wie die betreffenden Öffnungen 14 aufweisen. Grundsätzlich genügt es, wenn die Walzenoberfläche 16 angesenkt wird, was beispielsweise durch Ausbilden von Blindbohrungen, durch Fräsen oder durch Ätzen erfolgen kann. Grundsätzlich kann das Einbringen der Zeichen 18, d.h. das Durchbrechen der zwischen den Öffnungen 14 verbleibenden Stege, auf jede fertigungstechnisch realisierbare Art und Weise erfolgen.
2 zeigt eine invertierte Darstellung der 1, d.h. hier sind die von den Öffnungen 14 und den Zeichen 18 gebildeten Senken dunkler dargestellt als die verbleibenden, den Rest der Walzenoberfläche 16 darstellenden Stege, die einen eventuell vorgesehen Schrumpfsiebbezug tragen.
In dem Ausführungsbeispiel der 3 ist das gleiche Grundmuster wie in dem Ausführungsbeispiel der 1 vorgesehen. Abweichend von der Ausführungsform der 1 sind jedoch die Zeichen VOITH nicht senkrecht zu den Lochreihen 14a, sondern parallel zur Walzenachse X ausgerichtet. Hierdurch wird ein anderer Designeffekt, jedoch nach wie vor eine insgesamt unregelmäßige Oberflächenstruktur mit hohem Asymmetriegrad erzielt.
In dem Ausführungsbeispiel der 4, das ebenfalls von dem gleichen Grundmuster ausgeht wie die Ausführungsformen der 1 und 3, sind abweichend von diesen Beispielen die Zeichen VOITH nicht alle gleich bezüglich des von den Öffnungen 14 gebildeten Grundmusters orientiert. In dem Ausführungsbeispiel der 4 sind die Zeichen 18 nach Art einer in Richtung der Walzenachse X verlaufenden Doppel-Zickzacklinie angeordnet. Dabei ist die durch die Zeichen 18 erzielte Unregelmäßigkeit der Oberflächenstruktur auf einen vergleichsweise schmalen Bereich begrenzt. In Umfangsrichtung betrachtet oberhalb und unterhalb der von den Zeichen VOITH gebildeten Doppel-Zickzacklinie ist lediglich das von den Öffnungen 14 gebildete Grundmuster vorgesehen, das in diesem Ausführungsbeispiel eine regelmäßige Struktur aufweist.
5a zeigt eine invertierte Darstellung der 4, so dass entsprechend 2 die das Grundmuster bildenden Öffnungen 14 und die die Zeichen 18 bildenden Buchstaben 20 dunkel und die verbleibenden Stege hell dargestellt sind.
In 5b ist lediglich zur Veranschaulichung in einer verkleinerten Darstellung der 4 eines der Wörter VOITH hervorgehoben dargestellt.
Die vorstehend anhand der 1 bis 5b erläuterten Oberflächenstrukturen stellen lediglich Beispiele dar. In Abhängigkeit von den Anforderungen an die Funktion der Walze einerseits und an die Designkomponente andererseits können sowohl das Grundmuster als auch das von einem oder mehreren Zeichen gebildete 18 zusätzliche Oberflächenmuster beliebig variiert werden, so dass für die jeweilige Anwendung maßgeschneiderte Oberflächenstrukturen mit einem jeweils gewünschten Grad an Unregelmäßigkeit und Asymmetrie bereit gestellt werden können. Insbesondere kann das Zeichen kundenspezifisch in Form eines Kundenwortes, -logos oder -slogans vorgesehen werden, wodurch der Walzenhersteller den Designeffekt gezielt als werbewirksame Maßnahme für seine Kunden anbieten kann, ohne die technische Funktion der Walze zu beeinträchtigen.

10: Walze, Formierwalze
12: Walzenmantel
14: Öffnung
14a: Öffnungsreihe
14b: Öffnungsreihe
14c: Öffnungsreihe
16: Walzenoberfläche
18: Zeichen, Wort
20: Einzelzeichen, Buchstabe
X: Walzenachse

Claims

Walze (10), insbesondere Formierwalze, zur Herstellung und/oder Behandlung einer Faserstoffbahn, insbesondere Papier- oder Kartonbahn, deren Mantel (12) mit einer Vielzahl von Öffnungen (14) versehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die in die Walzenoberfläche (16) eingebrachten Öffnungen (14) zumindest bereichsweise entsprechend wenigstens einem bestimmten Grundmuster angeordnet sind, und dass wenigstens ein zusätzliches Oberflächenmuster in die Walzenoberfläche (16) eingebracht ist, das von wenigstens einem einen bestimmten Informationsgehalt besitzenden Zeichen (18) gebildet ist.
Walze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) ein einzelner Buchstabe ist.
Walze nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) eine einzelne Zahl ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) ein eine bestimmte Bedeutung besitzendes Symbol ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) eine mehrere Einzelzeichen (20) umfassende Zeichenkombination ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) ein mehrere Buchstaben (20) umfassendes Wort ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) alphanumerisch ist und sowohl wenigstens einen Buchstaben sowie zumindest eine Zahl umfasst.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) zusätzlich zu wenigstens einem Symbol zumindest einen Buchstaben und/oder zumindest eine Zahl umfasst.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zusätzliche Oberflächenmuster von einer Mehrzahl von identischen Zeichen (18) und/oder von einer Mehrzahl von identischen Zeichenkombinationen (18) gebildet ist, die jeweils mehrere Zeichen umfassen, von denen wenigstens zwei verschieden sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Zeichen (18) und/oder Zeichenkombinationen (18) regelmäßig angeordnet sind.
Walze nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Zeichen (18) und/oder Zeichenkombinationen (18) unregelmäßig angeordnet sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zusätzliche Oberflächenmuster von einer Mehrzahl von Zeichen (18) und/oder Zeichenkombinationen (18) gebildet ist, von denen wenigstens zwei Zeichen (18) bzw. Zeichenkombinationen (18) bezüglich des Grundmusters unterschiedlich orientiert sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Grundmuster auf einer zumindest bereichsweise vorgesehenen spiral- bzw. teilspiralförmigen Anordnung von in die Walzenoberfläche (16) eingebrachten Öffnungen (14) basiert und das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen (18) entsprechend dem Steigungswinkel (α) der Spirale gegenüber der Walzenachse (X) orientiert ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Grundmuster und das zusätzliche Oberflächenmuster einander derart überlagert sind, dass das das zusätzliche Oberflä chenmuster bildende Zeichen (18) teilweise von wenigstens einer Öffnung (14) des Grundmusters gebildet ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den Öffnungen (14) des Grundmusters verbleibende Stege durch das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen (18) durchbrochen sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem das zusätzliche Oberflächenmuster bildenden Zeichen (18) mehrere Öffnungen (14) des Grundmusters miteinander verbunden sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Zeichen (18) in Bereichen zwischen den Öffnungen (14) des Grundmusters eine konstante Strichstärke aufweist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strichstärke des Zeichens (18) von dem Durchmesser der das Grundmuster bildenden Öffnungen (14) verschieden und insbesondere kleiner als dieser Durchmesser, bevorzugt jedoch größer als der halbe Durchmesser ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Grundmuster Öffnungen (14) umfasst, die jeweils ohne Verbindung zu einer der anderen Öffnungen (14) des Grundmusters sind.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur der Walzenoberfläche (16) aufgrund des zusätzlichen Oberflächenmusters eine Asymmetrie aufweist, oder dass eine dem Grundmuster bereits innewohnende Asymmetrie durch das zusätzliche Oberflächenmuster weiter erhöht ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur der verbleibenden Walzenoberfläche (16) unregelmäßig ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen (18) von wenigstens einer nut- oder rillenförmigen Vertiefung gebildet ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das das zusätzliche Oberflächenmuster bildende Zeichen (18) von wenigstens einer geradlinig, gekrümmt, insbesondere kreis- oder teilkreisförmig, und/oder in Form sich überkreuzender Linien verlaufenden Vertiefung gebildet ist.
Walze nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zusätzliche Oberflächenmuster durch Ausbilden von Blindbohrungen, durch Fräsen und/oder durch Ätzen in die Walzenoberfläche eingebracht ist.