DE10253512A1 - Device for treating workpieces, especially hollow bodies, comprises treatment unit for receiving the workpieces, fluid supply unit which supplies fluid to the treatment unit and fluid control unit for controlling the fluid supply - Google Patents

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Abstract

Device for treating workpieces, especially hollow bodies, comprises a treatment unit (101) for receiving the workpieces, a fluid supply unit (80) which supplies fluid to the treatment unit, and a fluid control unit (40) for controlling the fluid supply to the treatment unit. An Independent claim is also included for a fluid supply unit used in the above device.

Description

Die Erfindung betrifft eine Rundläufermaschine und ein Verfahren zur Behandlung von Werkstücken, insbesondere eine Rundläufermaschine und ein Verfahren für CVD-Beschichtungen mit rotierenden Pumpeinrichtungen.The invention relates to a rotary machine and a method for the treatment of workpieces, in particular a rotary machine and a procedure for CVD coatings with rotating pump devices.

Die beispielsweise zur Aufbewahrung von Lebensmitteln immer häufiger verwendeten Kunststoffbehälter weisen im allgemeinen eine vergleichsweise hohe Permeation für Gase auf. So entweicht mit der Zeit Kohlensäure aus kohlensäurehaltigen Getränken, die in solchen Behältern aufbewahrt werden, wodurch die Getränke schnell schal werden. Außerdem kann auch Sauerstoff durch den Kunststoff dringen und Oxidationsprozesse in darin aufbewahrten Lebensmitteln in Gang setzen, was ebenfalls deren Haltbarkeit deutlich verkürzt. Andererseits weisen Kunststoffbehälter auch vielseitige Vorzüge, wie etwa niedriges Gewicht, niedriger Stückpreis und Stabilität gegenüber mechanischen Beanspruchungen aufgrund der gegenüber Glasbehältern hohen Elastizität.For example, for storage of food increasingly common used plastic container generally have a comparatively high permeation for gases. So over time, carbon dioxide escapes from carbonated drinks, the in such containers be kept, which makes the drinks quickly stale. Besides, can oxygen also penetrate through the plastic and oxidation processes in food stored in it, which also their shelf life significantly shortened. On the other hand, plastic containers also have many advantages, such as low weight, low unit price and stability across from mechanical stress due to the high elasticity compared to glass containers.

Um diese Vorzüge von Kunststoffbehältern mit denen von Glasbehältern mit ihrer äußerst guten Barrierewirkung zu vereinen, ist es bekannt, Kunststoffbehälter mit Barrierebeschichtungen, beziehungsweise Diffusionssperrschichten zu versehen, welche die Barrierewirkung von solchen Behältern um Größenordnungen verbessern.To take advantage of plastic containers those of glass containers with their extremely good barrier effect to unite, it is known to plastic containers with barrier coatings, or to provide diffusion barrier layers, which the Barrier effect from such containers orders of magnitude improve.

Derartige Beschichtungen können sogar auf Glasbehältern, beispielsweise im Bereich der Pharmaverpackungen sinnvoll sein, wobei etwa die Migration von Alkaliionen aus der Glasbehälter-Wandung in den Innenraum durch eine Siliziumoxid-Barriere verhindert werden kann.Such coatings can even on glass containers, make sense in the area of pharmaceutical packaging, for example, where the migration of alkali ions from the glass container wall in the interior can be prevented by a silicon oxide barrier can.

Eine besonders effektive und kostengünstige Technologie für das Aufbringen solcher Schichten ist die chemische Dampfphasenabscheidung (CVD). Bei den CVD-Verfahren geschieht die Abscheidung einer Schicht über ein reaktives chemisches Gasgemisch, welche die zu beschichtende Oberfläche umgibt. Aus Gemischen verschiedener Gase läßt sich so eine nahezu unbegrenzte Vielfalt möglicher Schichten erzeugen. Als Diffusionsbarrieren haben sich dabei unter anderem Oxidschichten, wie etwa die bereits erwähnten SiO2-Schichten bewährt.Chemical vapor deposition (CVD) is a particularly effective and cost-effective technology for applying such layers. In the CVD process, a layer is deposited using a reactive chemical gas mixture that surrounds the surface to be coated. An almost unlimited variety of possible layers can be created from mixtures of different gases. Oxide layers, such as the SiO 2 layers already mentioned, have proven themselves as diffusion barriers.

Ein chemisch reaktives Gasgemisch kann für die CVD-Beschichtung thermisch oder durch Ionisation der Prozeßgase zum Beispiel durch Eintrag von elektromagnetischer Energie erzeugt werden. Da Kunststoffe in der Regel thermisch nicht ausreichend stabil sind oder niedrige Erweichungspunkte aufweisen, ist für die Beschichtung von Kunstoffoberflächen CVD-Beschichtung unter Temperatureinwirkung ungeeignet. Hier bietet sich jedoch die Möglichkeit der Plasmaunterstützten CVD-Beschichtung (PECVD) an. Da auch hier durch das Plasma eine Erwärmung der zu beschichtenden Oberfläche auftritt ist insbesondere auch die Plasmaimpuls-CVD-Beschichtung (PICVD) geeignet.A chemically reactive gas mixture can for that CVD coating thermally or by ionization of the process gases, for example by entry generated by electromagnetic energy. Because plastics in are generally not thermally sufficiently stable or low Having softening points is for the coating of plastic surfaces CVD coating unsuitable under the influence of temperature. Here, however, the possibility of the plasma-assisted CVD coating (PECVD). Because here too through the plasma Warming the surface to be coated occurs especially the plasma pulse CVD coating (PICVD) suitable.

Um ein solches Verfahren industriell einsetzen zu können, werden aufgrund der Prozeßzeiten eine Vielzahl von Kammern benötigt, in denen gleichzeitig oder zeitlich versetzt eine Beschichtung durchgeführt wird. Da PICVD-Beschichtungen unter Niederdruckbedingungen durchgeführt werden, ergibt sich dabei das Problem, die zu beschichtenden Werkstücke, wie etwa Kunststoffhohlkörper in die Beschichtungsbereiche zu schleusen und diese sehr schnell zu evakuieren, da insbesondere bei der Beschichtung von Massenartikeln hohe Durchsätze durch eine Beschichtungsvorrichtung erreicht werden müssen und so nur wenig Zeit für die Evakuierung zur Verfügung steht.To make such a process industrial to be able to use become a due to the process times Variety of chambers needed in which a coating is carried out simultaneously or at different times. Since PICVD coatings are carried out under low pressure conditions, the problem arises, the workpieces to be coated, such as about plastic hollow body into the coating areas and very quickly to evacuate, especially when coating bulk articles high throughputs a coating device must be reached and so little time for the Evacuation available stands.

Um die geforderten hohen Durchsätze erreichen zu können, ist eine Rundläufervorrichtung vorteilhaft, bei welcher die Beschichtungsstationen für die zu beschichtenden Werkstücke auf einer kreisförmigen Bahn umlaufen. Mit derartigen Vorrichtungen kann ein kontinuierlicher Beschichtungsablauf realisiert werden, bei der die einzelnen Bearbeitungsphasen während des Umlaufs bestimmten Kreissegmenten oder Winkelbereichen zugeordnet sind.To achieve the required high throughputs to be able is a rotary device advantageous, in which the coating stations for the coating workpieces on a circular Run around the track. With such devices, a continuous Coating process can be realized in which the individual processing phases while assigned to specific circular segments or angular ranges are.

Eine solche Vorrichtung ist unter anderem aus der WO 00 58631 bekannt. Bei dem in dieser Druckschrift vorgeschlagenen Förderkarussell für die Plasmabehandlung von dielektrischen Hohlkörpern mit mehreren identischen Behandlungsstationen, die jeweils für die Aufnahme von mindestens einem Hohlkörper ausgelegt sind, werden die Behandlungsstationen zur Evakuierung mittels Verteilereinrichtungen mit rotierenden luftdichten Anschlüssen mit Druckquellen in Verbindung gebracht. Dabei weist das Förderkarussell mindestens zwei unabhängige und gleichwertige Druckquellen auf. Die Behandlungsstationen sind in Gruppen unterteilt, die jeweils einer Druckquelle zugeteilt sind. Zu- und Abschaltung zu den Druckquellen erfolgt dabei über die Verteilereinrichtung mit dem rotierenden Anschlüssen.Such a device is under other known from WO 00 58631. With the in this publication proposed carousel for plasma treatment of dielectric hollow bodies with several identical treatment stations, each for admission of at least one hollow body are designed, the treatment stations for evacuation by means of distribution devices with rotating airtight connections with pressure sources connected. The conveyor carousel has at least two independent and equivalent pressure sources. The treatment stations are in Groups divided, each assigned to a pressure source. Switching on and off to the pressure sources takes place via the Distribution device with the rotating connections.

Dieses Förderkarussell weist jedoch mehrere Nachteile auf. Es hat sich unter anderem als günstig erwiesen, die Beschichtungsstationen nicht mit einer einzelnen Pumpvorrichtung abzupumpen. Um schnell niedrige Drücke zu erreichen, ist vielmehr ein mehrstufiges Abpumpen auf unterschiedlichen Druckstufen günstig, während die in WO 00 58631 offenbarte Vorrichtung nur eine Verbindung einer Behandlungsstation mit jeweils einer Druckquelle vorsieht.However, this conveyor carousel points several disadvantages. Among other things, it has proven to be beneficial the coating stations not with a single pumping device pump out. To reach low pressures quickly is much more a multi-stage pumping at different pressure levels cheap, while the device disclosed in WO 00 58631 only one connection of one Provides treatment station with one pressure source each.

Weiterhin muß eine drehende Verbindung zwischen den Druckquellen und den sich drehenden Behandlungsstationen realisiert werden. Bei niedrigen Drücken sind hier die Anforderungen an die Dichtigkeit und den Leitwert sehr hoch, was mit einer erhöhten Anfälligkeit der Vorrichtung einhergeht.Furthermore, a rotating connection between the pressure sources and the rotating treatment stations become. At low pressures here are the requirements for tightness and conductivity very high, what with an increased susceptibility accompanied by the device.

Darüber hinaus bedingt eine Verteilereinrichtung mit rotierenden, luftdichten Anschlüssen eine Anordnung dieser Einrichtung an der Drehachse des Förderkarussells, während die Beschichtungsstationen am Umfang des Karussells angebracht sind. Dadurch werden lange Vakuumverbindungsleitungen von der Verteilereinrichtung zu den Behandlungsstationen erforderlich. Dies ist jedoch für den Leitwert des Vakuumsystems abträglich und wirkt sich damit nachteilig auf die Dauer der notwendigen Evakuierungszeit aus.In addition, a distributor device is required device with rotating, airtight connections an arrangement of this device on the axis of rotation of the conveyor carousel, while the coating stations are attached to the circumference of the carousel. This requires long vacuum connection lines from the distribution device to the treatment stations. However, this is detrimental to the conductance of the vacuum system and therefore has an adverse effect on the duration of the necessary evacuation time.

Auch kann ein gemeinsamer Anschluß zweier zu einer Gruppe gehörenden Behandlungsstationen an einer gemeinsamen Druckquelle zu einem Übersprechen der über die Druckquelle miteinander verbundenen Behandlungsstationen führen, wenn sich diese auf unterschiedlichen Druckniveaus befinden.A common connection of two belonging to a group Treatment stations at a common pressure source for crosstalk the over the pressure source interconnect treatment stations if lead these are at different pressure levels.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Rundläufermaschine und ein Verfahren für CVD-Beschichtungen anzugeben, welche eine besonders effektive und schnelle Beschichtung von Werkstücken ermöglicht.The invention is therefore the object based on a rotary machine and a procedure for CVD coatings indicate which is a particularly effective and quick coating of workpieces allows.

Diese Aufgabe wird bereits in höchst überraschend einfacher Weise mit einer Rundläufervorrichtung zur Behandlung, insbesondere für CVD-Beschichtungen von Werkstücken gemäß Anspruch 1, sowie ein Verfahren gemäß Anspruch 20 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Vorrichtung sind in den Unteransprüchen angegeben. Dementsprechend umfaßt eine erfindungsgemäße Rundläufervorrichtung

  • – ein Förderkarussell,
  • – Behandlungsstationen, welche mit dem Förderkarussell transportiert werden, und
  • – zumindest eine erste Pumpeinrichtung.
This object is already achieved in a most surprisingly simple manner with a rotary device for treatment, in particular for CVD coatings on workpieces, and a method according to claim 20. Advantageous developments of the device are specified in the subclaims. Accordingly, a rotary device according to the invention comprises
  • - a carousel,
  • - treatment stations, which are transported with the conveyor carousel, and
  • - At least a first pump device.

Dabei wird die erste Pumpeinrichtung mit dem Förderkarussell transportiert.The first pump device with the carousel transported.

Dadurch, daß die Pumpeinrichtung mit dem Förderkarussell transportiert wird, kann bei der Verbindung dieser Pumpeinrichtung mit den Behandlungsstationen auf eine vakuumdichte Drehzuführung verzichtet werden. Auch die Zuleitungen können durch eine sonst bei Verwendung einer Drehzuführung nicht realisierbare Nähe der Pumpeinrichtung zu den Behandlungsstationen kurz gehalten und mit großen Querschnitten vorgesehen werden.The fact that the pumping device with the conveyor carousel can be transported when connecting this pump device with the treatment stations, there is no vacuum-tight rotary feed become. The supply lines can also a proximity of the pumping device that would otherwise not be achievable when using a rotary feeder the treatment stations kept short and with large cross sections be provided.

Bei rotierenden Anschlüssen wachsen demgegenüber auch die Schwierigkeiten, die Verbindung dicht zu halten, mit dem Durchmesser und damit mit dem erreichbaren Leitwert.Growing with rotating connections In contrast, also the difficulties in keeping the connection tight with the Diameter and thus with the achievable conductance.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur CVD-Beschichtung von Werkstücken in einer insbesondere wie oben beschriebenen Rundläufervorrichtung, sieht dementsprechend vor, daß

  • – wenigstens ein Werkstück in eine Behandlungsstation auf einem rotierenden Förderkarussell eingeführt,
  • – die Behandlungsstation mit zumindest einer ersten Pumpeinrichtung verbunden,
  • – die Behandlungsstation evakuiert, und
  • – das Werkstück beschichtet wird,

wobei die erste Pumpeinrichtung mit dem Förderkarussel befördert wird.The method according to the invention for CVD coating workpieces in a rotary device, in particular as described above, accordingly provides that
  • At least one workpiece is introduced into a treatment station on a rotating conveyor carousel,
  • The treatment station is connected to at least one first pump device,
  • - the treatment station is evacuated, and
  • - the workpiece is coated,

wherein the first pumping device is conveyed by the conveyor carousel.

Nach erfolgter Beschichtung können dann die Behandlungsstationen belüftet und die Werkstücke herausgenommen werden.After coating, the Treatment stations ventilated and the workpieces be taken out.

Die Verbindung der einen oder mehreren Pumpeinrichtungen mit den Behandlungsstationen kann vorteilhaft mittels einer Verteilereinrichtung hergestellt werden. Diese kann mit Vorteil einen Ringverteiler umfassen, an dem die Pumpeinrichtungen und Verbindungsleitungen zu den Beschichtungskammern angeschlossen sind.The connection of the one or more pump devices with the treatment stations can advantageously by means of a distribution device getting produced. This can advantageously include a ring distributor, on which the pumping devices and connecting lines to the coating chambers are connected.

Die Verbindung einer bestimmten Behandlungsstation mit einer Pumpeinrichtung kann dabei durch die Verteilereinrichtung in Abhängigkeit von der Winkelposition der Behandlungsstation auf dem Förderkarussell geschehen. Dazu kann die Verteilereinrichtung Steuerventile umfassen. Das Verbinden der Behandlungsstationen mit der ersten oder zweiten Pumpeinrichtung kann so durch Schalten der Steuerventile erfolgen, wobei die Ventile an entsprechenden Winkelpositionen geöffnet oder geschlossen werden und so die Verbindung mit der Pumpeinrichtung oder dem Verteiler herstellen.The connection of a specific treatment station with a pump device can thereby through the distributor device dependent on from the angular position of the treatment station on the conveyor carousel happen. For this purpose, the distributor device can comprise control valves. Connecting the treatment stations to the first or second Pumping device can be done by switching the control valves, the valves being opened at corresponding angular positions or be closed and so the connection to the pumping device or manufacture the distributor.

Besonders bevorzugt weist die erfindungsgemäße Rundläufervorrichtung außerdem zumindest eine feststehend angeordnete zweite Pumpeinrichtung auf. Die Behandlungsstationen können dabei zur Evakuierung auch mit dieser zweiten Pumpeinrichtung verbunden werden. Dazu kann die zweite, feststehende Pumpeinrichtung ebenso wie die erste, mitrotierende Pumpeinrichtung mit wenigstens einer, insbesondere auch derselben Verteilereinrichtung zur Verbindung der Behandlungsstationen mit der zweiten Pumpeinrichtung verbunden sein.The rotary device according to the invention particularly preferably has Moreover at least one stationary second pump device. The treatment stations can connected to this second pumping device for evacuation become. The second, fixed pump device can also do this like the first, co-rotating pump device with at least one, in particular also the same distribution device for connecting the treatment stations be connected to the second pump device.

Das Evakuieren der Behandlungsstationen erfolgt bevorzugt in wenigstens zwei Schritten, wobei zwischen den Schritten bevorzugt zwischen verschiedenen Pumpeinrichtungen umgeschaltet wird. Um den Enddruck schnell erreichen zu können, ist es beispielsweise von Vorteil, wenn die erste und zweite Pumpeinrichtung für unterschiedliche Druckbereiche angepaßt sind. Diese können dann beispielsweise während der Evakuierung nacheinander nach absteigenden Druckbereichen geordnet mit den Behandlungsstationen verbunden werden, so daß jede Pumpeinrichtung in dem für sie optimalen Druckbereich arbeitet. Insbesondere ist es dabei von Vorteil, wenn die mitrotierende erste Pumpeinrichtung für einen niedrigeren Druckbereich optimiert ist, als die zweite Pumpeinrichtung, da bei sinkendem Druck bei gleichbleibendem Saugvermögen die Saugleistung abnimmt. Dementsprechend sind für kurze Abpumpzeiten besonders bei niedrigen Drücken gute Leitwerte der Zuleitungen wichtig um ein möglichst großes effektives Saugvermögen zu erhalten.The treatment stations are preferably evacuated in at least two steps, with a switch being preferably made between different pump devices. In order to be able to reach the final pressure quickly, it is advantageous, for example, if the first and second pump devices are adapted for different pressure ranges. These can then be connected, for example during the evacuation, in succession to the treatment stations in order of descending pressure areas, so that each pump device operates in the pressure area which is optimal for it. In particular, it is advantageous if the co-rotating first pump device is optimized for a lower pressure range than the second pump device, since the suction power decreases as the pressure drops while the pumping speed remains the same. Accordingly, are for short pumpdown times Good conductance values of the supply lines are important, especially at low pressures, in order to obtain the greatest possible effective suction capacity.

Außerdem ist es aber auch möglich, neben einer Umschaltung zwischen Pumpeinrichtungen auch eine Hinzuschaltung von Pumpeinrichtungen vorzunehmen um die Saugleistung dem in der Beschichtungskammer herrschenden Druck anzupassen.But it is also possible to have one Switching between pumping devices also includes switching of pumping devices to perform the suction power in the Coating chamber to adjust prevailing pressure.

Besonders vorteilhaft wird das Evakuieren sowohl bei einstufigem Abpumpen, als auch bei Evakuierung in mehreren Schritten so vorgenommen, daß eine Pumpeinrichtung nur mit jeweils einer Behandlungsstation verbunden ist. Dies ist vorteilhaft, da auf diese Weise vermieden wird, daß eine Pumpeinrichtung mit zwei Behandlungsstationen verbunden ist, deren Beschichtungskammern unterschiedliche Drücke aufweisen. Ansonsten würde dies zu einer Einstellung eines mittleren Druckes in beiden Behandlungsstationen durch einen Gasfluß über die Pumpeinrichtung und damit zu einem Druckanstieg in der Kammer mit anfangs niedrigerem Druck führen.Evacuation is particularly advantageous with single-stage pumping, as well as with evacuation in several steps made so that a Pump device only connected to one treatment station at a time is. This is advantageous since it prevents a pump device is connected to two treatment stations, their coating chambers different pressures exhibit. Otherwise it would this leads to an adjustment of an average pressure in both treatment stations by a gas flow through the pumping device and thus to a pressure increase in the chamber with an initially lower one Lead pressure.

Durch die erfindungsgemäße, mitrotierende Anordnung der ersten Pumpeinrichtung in der Rundläufervorrichtung können kurze Verbindungsleitungen der Pumpeinrichtung oder den Pumpeinrichtungen zu den Beschichtungsstationen mit großen Leitungsquerschnitten realisiert werden. Auf diese Weise ist es möglich, daß das effektive Saugvermögen der ersten Pumpeinrichtung gegenüber dem tatsächlichen maximalen Saugvermögen der Pumpeinrichtung nur verhältnismäßig wenig reduziert wird. Dabei besteht zwischen tatsächlichem Saugvermögen S und effektivem, durch die Zuleitung reduziertem Saugvermögem Seff der Zusammenhang:

Figure 00080001
wobei L den Leitwert oder Strömungsleitwert der Zuleitung bezeichnet.Due to the co-rotating arrangement of the first pump device in the rotary device according to the invention, short connecting lines of the pump device or the pump devices to the coating stations with large line cross sections can be realized. In this way it is possible that the effective pumping speed of the first pumping device is reduced only relatively little compared to the actual maximum pumping speed of the pumping device. There is a connection between the actual pumping speed S and the effective pumping speed S eff reduced by the supply line:
Figure 00080001
where L denotes the conductance or flow conductance of the feed line.

Der Strömungsleitwert wird wesentlich durch den Querschnitt der Rohrleitungen bestimmt und ist beispielsweise der für eine Leitung gegeben durch die Beziehung:

Figure 00080002
Dabei bezeichnet p0 den Druck vor der Leitung und p2 den Druck am pumpenseitigen Ende der Leitung. Mit qpV ist der p·V-Strom durch die Vakuumleitung bezeichnet. Dieser ist beispielsweise für den Fall laminarer Strömung gegeben durch (siehe beispielsweise „Handbuch Vakuumtechnik", 6. Auflage, Vieweg-Verlag 1997):
Figure 00090001
The flow conductance is essentially determined by the cross-section of the pipes and is given, for example, for a pipe by the relationship:
Figure 00080002
P 0 denotes the pressure upstream of the line and p 2 denotes the pressure at the pump end of the line. Q pV denotes the p · V current through the vacuum line. In the case of laminar flow, for example, this is given by (see, for example, “Handbuch Vacuum Technology”, 6th edition, Vieweg-Verlag 1997):
Figure 00090001

Mit η ist dabei die dynamische Viskosität des Gases bezeichnet. Die Größen d und 1 bezeichnen den Durchmesser und die Länge der Leitung. Anhand von Gleichung 3 wird ersichtlich, daß der Leitwert der Vakuumleitungen in starkem Maße von deren Länge und insbesondere deren Durchmesser abhängt. Ferner wird aus Gleichung (2) in Verbindung mit Gleichung (3) auch ersichtlich, daß der Leitwert bei sinkenden Druckdifferenzen abnimmt. Bei sinkenden Drücken werden auch dementsprechend die auftretenden Druckdifferenzen kleiner. Somit ist der Leitungsquerschnitt oder der Koeffizient von Durchmesser zu Länge, d/l, bei höheren Drücken weniger kritisch für den Leitwert als dies bei niedrigeren Druckbereichen der Fall ist. Durch die erfindungsgemäße Anordnung der ersten Pumpeinrichtung auf dem Förderkarussel und die damit mögliche Realisierung besonders kurzer Vakuumleitungen von dieser Pumpeinrichtung zu den Behandlungsstationen kann so das Evakuieren deutlich beschleunigt werden. Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung kann so beispielsweise der Quotient d/l aus Durchmesser d der Vakuumleitung zwischen erster Pumpeinrichtung und einer Verteilereinrichtung zu deren Länge l größer oder gleich 1/15, bevorzugt größer oder gleich 1/10 betragen.With η is the dynamic viscosity of the gas designated. The sizes d and 1 denote the diameter and length of the line. Based on Equation 3 shows that the conductance of the vacuum lines to a great extent of their length and especially their diameter depends. Furthermore, from equation (2) in connection with equation (3) also shows that the conductance at decreasing pressure differences decreases. As the pressures drop accordingly, the pressure differences occurring are smaller. So the line cross-section or coefficient is diameter to length, d / l, at higher To press less critical for the conductance than is the case at lower pressure ranges. Through the arrangement according to the invention the first pumping device on the conveyor carousel and the so possible Realization of particularly short vacuum lines from this pump device evacuation to the treatment stations can be accelerated significantly become. According to one embodiment For example, the quotient d / l of diameter can be used in the invention d the vacuum line between the first pump device and a distributor device to their length l bigger or equal to 1/15, preferably greater than or equal to 1/10.

Bei einer Ausführungsform der Erfindung mit zumindest einer zweiten, feststehenden Pumpeinrichtung kann diese als Vorstufe zu der ersten, mitrotierenden Pumpeinrichtung und/oder als erste Pumpstufe bei der Evakuierung einer Behandlungsstation verwendet werden. In beiden Fällen arbeitet dann die zweite, feststehende Pumpeinrichtung in einem höheren Druckbereich als die erste, mitrotierende Pumpeinrichtung. Dementsprechend erhöht sich gemäß den Gleichungen (2) und (3) bei gegebenem Leitungsquerschnitt der Leitwert, so daß die Vakuumverbindung von der feststehenden zweiten Pumpeinrichtung zum rotierenden Förderkarussell und die Länge der Vakuumleitungen hier weniger kritisch ist. Gemäß einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann dabei beispielsweise die zweite Pumpeinrichtung so angeordnet und eine Vakuumleitung von der Pumpeinrichtung zu einer Verteilereinrichutng wie insbesondere einem Ringverteiler oder zu einer ersten Pumpeinrichtung so dimensioniert werden, daß der Quotient d/l aus Durchmesser d der Vakuumleitung zwischen zweiter Pumpeinrichtung und einer Verteilereinrichtung zu deren Länge l größer oder gleich 1/60, bevorzugt größer oder gleich 1/30 beträgt.In one embodiment of the invention with at least A second, fixed pump device can be used as a preliminary stage to the first co-rotating pump device and / or the first Pump stage used in the evacuation of a treatment station become. In both cases the second, fixed pumping device then works in one higher Pressure range as the first, co-rotating pump device. Accordingly elevated yourself according to the equations (2) and (3) for a given line cross section the conductance, so that the vacuum connection from the fixed second pumping device to the rotating conveyor carousel and the length of the Vacuum lines are less critical here. According to one embodiment the device according to the invention For example, the second pump device can be arranged in this way and a vacuum line from the pump device to a distributor device such as in particular a ring distributor or to a first pump device be dimensioned so that the Quotient d / l from diameter d of the vacuum line between the second Pump device and a distribution device to their length l greater or equal to 1/60, preferably greater than or is equal to 1/30.

Gemäß einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt die Evakuierung der Behandlungsstationen in vier Evakuierungssschritten. Eine gute Abstufung wird dabei erreicht, wenn die Pumpeinrichtungen so umgeschaltet werden, daß der Druck in einer Behandlungsstation stufenweise in, einem ersten Schritt bis auf ≤ 200mbar, in einem darauffolgenden zweiten Schritt bis auf ≤ 80 mbar, in einem darauffolgenden dritten Schritt bis auf ≤ 1,5 mbar, in einem darauffolgenden vierten Schritt bis auf ≤ 0,1 mbar reduziert wird.According to one embodiment of the method according to the invention, the treatment stations are evacuated in four evacuation steps. A good gradation is achieved if the pumping devices are switched so that the pressure in a treatment station is gradually increased in a first step up to ≤ 200 mbar, in a subsequent second step up to ≤ 80 mbar, in a subsequent third Step down to ≤ 1.5 mbar, in a subsequent fourth step it is reduced to ≤ 0.1 mbar.

Eine weitere Ausführungsform der Erfindung sieht ferner eine Evakuierung in fünf Schritten vor. Dabei kann beispielsweise die Evakuierung wie bei dem oben angegebenen vierschrittigen Verfahren erfolgen und in einem darauffolgenden fünften Schritt dann der Druck in der Behandlungsstation bis auf ≤ 0,01 mbar reduziert werden. Bei beiden Ausführungsformen kann dann zum Beispiel in einem weiteren Schritt auf eine Pumpeinrichtung zur Absaugung des Prozeßgases umgeschaltet werden.Another embodiment of the invention provides an evacuation in five Steps ahead. The evacuation can, for example, be the same as for the above-mentioned four-step process and in one subsequent fifth Then the pressure in the treatment station is reduced to ≤ 0.01 mbar be reduced. In both embodiments can then Example in a further step to a pump device Extraction of the process gas can be switched.

Als Vakuumquellen für die Pumpeinrichtung sind dabei unter anderem Wälzkolbenpumpen geeignet. Diese zeichnen sich durch ein hohes Saugvermögen bei niedrigen Drücken, insbesondere im Feinvakuumbereich aus.Are as vacuum sources for the pumping device including Roots pumps suitable. These are characterized by a high pumping speed low pressures, especially in the fine vacuum range.

Alternativ oder zusätzlich kann die zweite Pumpeinrichtung auch als Vorstufe der ersten Pumpeinrichtung betrieben, beziehungsweise an diese angeschlossen werden. Dadurch wird ein Vorvakuum für die erste Pumpeinrichtung bereitgestellt, wodurch sich deren Saugleistung bei niedrigen Drücken erhöht. Die zweite Pumpeinrichtung kann beispielsweise eine oder mehrere Drehschieberpumpen umfassen. Dieser Pumpentyp ist gekennzeichnet durch hohe Saugleistungen bei höheren Drücken im Grobvakuumbereich.Alternatively or additionally the second pump device also as a preliminary stage of the first pump device operated, or connected to this. Thereby becomes a backing vacuum for the first pump device is provided, whereby its suction power at low pressures elevated. The second pump device can, for example, one or more Rotary vane pumps include. This type of pump is marked due to high suction power at higher To press in the rough vacuum range.

Die feststehende zweite Pumpeinrichtung kann zum Beispiel mittels einer Drehzuführung mit dem Förderkarussell verbunden werden. Ist die zweite Pumpeinrichtung für einen höheren Druckbereich vorgesehen, so sind hier die Anforderungen bezüglich Leitwert und Leckrate der Drehzuführung erheblich niedriger, als wenn über eine solche Verbindung der Enddruck hergestellt werden müßte. Gemäß einer Ausführungsform ist dabei die Leckrate der Drehzuführung 10–1 mbar l/sec oder kleiner, bevorzugt im Bereich zwischen 10–2 bis 10–4 mbar l/sec bei ruhendem und/oder drehendem Betrieb.The fixed second pump device can be connected to the conveyor carousel, for example, by means of a rotary feed. If the second pump device is provided for a higher pressure range, then the requirements with regard to the conductance and leakage rate of the rotary feeder are considerably lower than if the final pressure would have to be established via such a connection. According to one embodiment, the leak rate of the rotary feed is 10 −1 mbar l / sec or less, preferably in the range between 10 −2 to 10 −4 mbar l / sec when the operation is idle and / or rotating.

Es hat sich als günstig erwiesen, wenn auch das Abpumpen mit den ersten und/oder zweiten Pumpeinrichtungen jeweils in mehreren Stufen bei unterschiedlichen Druckbereichen durchgeführt wird. Gegenüber einer einstufigen Evakuierung kann dabei die gesamte Pumpleistung und damit die Größe der verwendeten Pumpen deutlich reduziert werden. Dementsprechend können vorteilhaft zumindest zwei feststehende erste und/oder zweite Pumpeinrichtungen vorgesehen sein, welche bei Drehung des Förderkarussells nacheinander mit den Behandlungsstationen verbunden werden.It turned out to be cheap, if that too Pumping out with the first and / or second pumping devices in each case is carried out in several stages at different pressure ranges. Opposite one Single stage evacuation can take the total pumping power and so the size of the used Pumps can be significantly reduced. Accordingly, can be advantageous at least two fixed first and / or second pump devices be provided, which one after the other when the conveyor carousel rotates be connected to the treatment stations.

Um weiterhin bei niedrigen Drücken in der Beschichtungskammer eine große Saugleistung bereitstellen zu können, ist es außerdem von Vorteil, wenn eine erste Pumpeinrichtung zumindest zwei hintereinandergeschaltete Pumpstufen umfaßt. Auch können während der Evakuierungsphase, etwa durch geeignete Schaltung der Steuerventile zeitweise zwei oder mehr erste Pumpeinrichtungen hintereinandergeschaltet werden.To continue at low pressures provide the coating chamber with a high suction power to be able it is also of advantage if a first pump device connected at least two series Pump stages includes. Can too while the evacuation phase, for example by suitable switching of the control valves temporarily two or more first pumping devices connected in series become.

Besonders bevorzugt wird die erfindungsgemäße Rundläufervorrichtung für die PECVD- oder PICVD-Beschichtung eingesetzt, wobei das Werkstück durch Zuführen von Prozeßgas und elektromagnetischer Energie in die Behandlungsstation beschichtet wird. Dazu weist die Vorrichtung außerdem eine Einrichtung zur Zuführung von Prozeßgas in die Behandlungsstationen, sowie eine Einrichtung zur Zuführung von elektromagnetischer Energie, vorzugsweise von Mikrowellen auf. Mittels der Mikrowellen wird in der Prozeßgasatmosphäre dann ein Plasma erzeugt, dessen Reaktionsprodukte sich auf Oberfläche der zu beschichtenden Werkstücke abscheiden. Insbesondere kann dabei auch eine Innenbeschichtung von hohlkörperförmigen Werkstücke, wie etwa Ampullen oder Flaschen aus Kunststoff oder Glas vorgenommen werden, indem im Innenbereich der Werkstücke ein Plasma gezündet wird. Dazu wird Prozeßgas in den Innenbereich der Werkstücke eingefüllt.The rotary device according to the invention is particularly preferred for the PECVD or PICVD coating used, the workpiece through Respectively of process gas and electromagnetic energy are coated in the treatment station becomes. For this purpose, the device also has a device for feed of process gas in the treatment stations, as well as a device for feeding electromagnetic energy, preferably from microwaves. through the microwaves then generate a plasma in the process gas atmosphere, whose reaction products deposit on the surface of the workpieces to be coated. In particular, an inner coating of hollow workpieces, such as such as ampoules or bottles made of plastic or glass by igniting a plasma in the interior of the workpieces. This will process gas in the interior of the workpieces filled.

Sollen nur die Innenseiten solcher Werkstücke beschichtet werden, so können die Werkstücke in entsprechenden Aufnahmen in den Behandlungsstationen aufgenommen werden, welche den Innenbereich gegenüber der Umgebung abdichten. Auf diese Weise kann das Prozeßgas dann nur in den Innenbereich geleitet werden. Bei geeigneter Druckeinstellung kommt es dann nur dort zur Zündung eines Plasmas.Should only the inside of such workpieces can be coated so the workpieces in corresponding recordings in the treatment stations that seal the interior from the environment. In this way, the process gas then only be directed into the interior. With a suitable pressure setting then the ignition only occurs there of a plasma.

Das Prozeßgas kann während des Beschichtens auch mit einer ersten Pumpeinrichtung abgesaugt werden. Wird gleichzeitig neues Prozeßgas zugeführt, so wird eine ständige Regeneration der Prozeßgasatmosphäre während des Beschichtungsvorgangs erreicht. Dabei werden im Plasma entstehende unerwünschte Reaktionsprodukte ständig abgeführt, wodurch besonders reine und qualitativ hochwertige Beschichtungen hergestellt werden können.The process gas can also during the coating can be suctioned off with a first pump device. Will at the same time new process gas supplied so becomes a constant Regeneration of the process gas atmosphere during the Coating process reached. This creates in the plasma undesirable Reaction products constantly dissipated resulting in particularly pure and high quality coatings can be produced.

Die Erfindung wird nachfolgend genauer anhand beispielhafter Ausführungsformen und unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Dabei verweisen gleich Bezugszeichen auf gleiche oder ähnliche Teile.The invention will be described in more detail below based on exemplary embodiments and described with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals refer to the same or similar ones Parts.

Es zeigen:Show it:

1A eine Ansicht einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung, 1A 2 shows a view of an embodiment of the rotary device according to the invention,

1B eine Ansicht einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung, 1B 2 shows a view of a further embodiment of the rotary device according to the invention,

2 eine schematische Aufsicht auf Teile einer erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung, und 2 a schematic plan view of parts of a rotary device according to the invention, and

3 ein Vakuumschema für eine Ausführungsform einer mehrstufigen Vakuumbeschaltung einer erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung. 3 a vacuum scheme for an embodiment of a multi-stage vacuum circuit of a rotary device according to the invention.

In 1A ist eine schematisch Ansicht einer erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung dargestellt, die als Ganzes mit 1 bezeichnet ist.In 1A is a schematic view of a rotary device according to the invention, shown as a whole 1 is designated.

Die Rundläufervorrichtung 1 weist ein Förderkarussell 3 auf, auf dem mehrere Behandlungsstationen montiert sind, von denen zwei Behandlungsstationen 51 und 52 in der Zeichnung dargestellt sind. Das Förderkarussell 3 ist in einem Tragrahmen 17 drehbar montiert. Dazu ist das Förderkarussell 3 auf einer Tragplatte 25 aufgebaut, die ihrerseits auf Drehlagern 26 gelagert ist und so im Tragrahmen 17 um die Drehachse 4 rotieren kann.The rotary device 1 has a carousel 3 on which several treatment stations are mounted, two of which are treatment stations 51 and 52 are shown in the drawing. The conveyor carousel 3 is in a support frame 17 rotatably mounted. This is the conveyor carousel 3 on a support plate 25 built, which in turn on pivot bearings 26 is stored and so in the support frame 17 around the axis of rotation 4 can rotate.

Ebenfalls auf dem Förderkarussell 3 montiert sind mitrotierende erste Pumpeinrichtungen, von denen in der Zeichnung zwei erste Pumpeinrichtungen 71 und 72 eingezeichnet sind.Also on the carousel 3 Co-rotating first pump devices are mounted, of which two first pump devices are shown in the drawing 71 and 72 are drawn.

Zusätzlich weist die erfindungsgemäße Vorrichtung auch noch zweite, feststehende Pumpeinrichtungen auf, die über Vakuumleitungen 19 mit einer Drehzuführung 11 verbunden sind. Dabei sind in 1A zwei Pumpeinrichtungen 91, 92 beispielhaft dargestellt. Die Vorrichtung kann jedoch auch noch weitere zweite Pumpeinrichtungen aufweisen. Von der Drehzuführung 11 zweigen weitere Vakuumleitungen 20 des Förderkarussells 3 ab, die mit den Gasauslässen den ersten Pumpeinrichtungen 71 und 72 verbunden sind. Die feststehenden, zweiten Pumpeinrichtungen 91, 92,.. wirken so als Vorstufe für die ersten, mitrotierenden Pumpeinrichtungen 71 und 72. Dadurch, daß diese Pumpeinrichtungen als Vorstufe im Grobvakuum betrieben werden, sind auch die Anforderungen an die Drehzuführung 11 in Bezug auf die Leckrate und den Leitwert niedrig. Dies senkt sowohl die Kosten für die Fertigung einer solchen Vorrichtung, als auch bei geeigneter Konstruktion die Anfälligkeit der Drehzuführung. Eine Leckrate der Drehzuführung von der Größenordnung 10–1 mbar l /sec oder kleiner, bevorzugt im Bereich zwischen 10–2 bis 10–4 mbar l/sec bei ruhendem und/oder drehendem Betrieb kann dabei gemäß einer Ausführungsform der Erfindung noch toleriert werden.In addition, the device according to the invention also has second, fixed pump devices, which are connected via vacuum lines 19 with a rotary feeder 11 are connected. Here are in 1A two pumping devices 91 . 92 shown as an example. However, the device can also have further second pump devices. From the rotary feeder 11 branch further vacuum lines 20 of the conveyor carousel 3 starting with the gas outlets the first pumping devices 71 and 72 are connected. The fixed, second pumping devices 91 . 92 , .. thus act as a preliminary stage for the first, co-rotating pump devices 71 and 72 , The fact that these pumping devices are operated as a preliminary stage in a rough vacuum means that the requirements for the rotary feed are also high 11 low in terms of leak rate and conductance. This lowers both the costs for the manufacture of such a device and, with a suitable design, the susceptibility of the rotary feeder. A leak rate of the rotary feed of the order of magnitude of 10 −1 mbar l / sec or less, preferably in the range between 10 −2 to 10 −4 mbar l / sec when the system is at rest and / or rotating, can still be tolerated according to one embodiment of the invention.

Dadurch, daß die zweiten, feststehenden Pumpeinrichtungen verglichen mit den ersten, mitrotierenden Pumpeinrichtungen in höheren Druckbereichen arbeiten, ist auch der Leitwert der Vakuumleitungen 19 bei gegebenem Durchmesser beispielsweise gemäß der Gleichungen (2) und (3) für laminare Strömung höher als bei Druckbereichen, bei welchen die ersten, mitrotierenden Pumpeinrichtungen verwendet werden. Dementsprechend wirken sich die durch die feststehende Anordnung bedingten größeren Längen der Vakuumleitungen 19 und die in der Vakuumverbindung befindliche Drehzuführung 13 bei diesen Pumpeinrichtungen 91, 92 nicht so stark auf deren Pumpvermögen aus, wie dies bei einer feststehenden Anordnung der ersten Pumpeinrichtungen der Fall wäre.Because the second, fixed pumping devices work in higher pressure ranges compared to the first, rotating pumping devices, the conductance of the vacuum lines is also 19 for a given diameter, for example according to equations (2) and (3) for laminar flow higher than in pressure ranges in which the first, co-rotating pump devices are used. The longer lengths of the vacuum lines caused by the fixed arrangement have a corresponding effect 19 and the rotary feed located in the vacuum connection 13 with these pumping devices 91 . 92 not so strongly on their pumping capacity as would be the case with a fixed arrangement of the first pumping devices.

Die ersten Pumpeinrichtungen 71 und 72 sind über Vakuumleitungen 23 mit großem Querschnitt an einem Ringverteiler 13 angeschlossen. Von diesem zweigen Verteilungsleitungen 21 ab, die mit Steuerventilen 15 verbunden sind. Die Steuerventile 15 sind ihrerseits mit den Beschichtungskammern 51, 52 gekoppelt.The first pumping devices 71 and 72 are about vacuum lines 23 with a large cross-section on a ring distributor 13 connected. From this branch distribution lines 21 starting with control valves 15 are connected. The control valves 15 are in turn with the coating chambers 51 . 52 coupled.

Bei Rotation des Förderkarussels 2 sind den einzelnen Bearbeitungsphasen bei der Beschichtung, wie etwa dem Einführen, Evakuieren Beschichten und Entnehmen bestimmte Winkelbereiche zugeordnet, welche die jeweilige Behandlungsstation 51, 52 durchläuft. Dabei wird das Verbinden einer Behandlungsstation 51, 52 mit einer ersten Pumpeinrichtung 71, 72 und auch das Trennen von dieser durch Schalten der Steuerventile 15 bewerkstelligt.When the conveyor carousel rotates 2 are assigned to the individual processing phases in the coating, such as the introduction, evacuation, coating and removal, certain angular ranges, which the respective treatment station 51 . 52 passes. This involves connecting a treatment station 51 . 52 with a first pump device 71 . 72 and also disconnecting them by switching the control valves 15 accomplished.

Die einzelnen mitrotierenden ersten Pumpeinrichtungen 71 und 72 können dabei insbesondere auch auf unterschiedlichen Druckstufen arbeiten. Dann kann das Evakuieren der Behandlungsstationen in mehreren Stufen erfolgen, wobei zu jeder Stufe von einer Pumpe auf einer höheren Druckstufe auf eine Pumpe auf niedrigerer Druckstufe umgeschaltet wird. Dementsprechend werden die Pumpeinrichtungen 71 und 72 bei Drehung des Förderkarussels nacheinander mit den Behandlungsstationen verbunden. Auch das Umschalten zwischen den Pumpeinrichtungen 71 und 72 erfolgt dabei vorzugsweise durch die Steuerventile 15. Die Ansteuerung der Steuerventile 15 kann beispielsweise durch mechanische Steuerkurven erfolgen, an denen die auf dem Förderkarussell montierten Steuerventile 15 vorbeibewegt werden. Ebenso können die Ventile aber auch elektromechanisch ausgeführt sein, wobei das Schalten dieser Ventile dann durch An- und Ausschalten von Schaltströmen.The individual co-rotating first pump devices 71 and 72 can work in particular at different pressure levels. The treatment stations can then be evacuated in several stages, with each stage being switched from a pump at a higher pressure stage to a pump at a lower pressure stage. Accordingly, the pumping devices 71 and 72 connected in turn to the treatment stations when the conveyor carousel rotates. Also switching between the pumping devices 71 and 72 is preferably carried out by the control valves 15 , Actuation of the control valves 15 can be done for example by mechanical control cams on which the control valves mounted on the conveyor carousel 15 be moved past. Likewise, the valves can also be designed electromechanically, the switching of these valves then by switching switching currents on and off.

Beim mehrstufigen Abpumpen können die zweiten, feststehenden Pumpeinrichtungen nicht nur als Vorstufe für die mitrotierenden, ersten Pumpeinrichtungen 71, 72 dienen. Es ist auch möglich, daß insbesondere in der Anfangsphase der Evakuierung auch die Behandlungsstation mit zumindest einer feststehenden zweiten Pumpeinrichtung verbunden wird. Dies ist zum Beispiel sinnvoll, um die Behandlungsstation von Atmosphärendruck auf Grobvakuum abzupumpen. Dazu ist bei der in 1A gezeigten Ausführungsform eine Vakuumleitung 22 vorgesehen, welche den Ringverteiler 13 über die Drehzuführung 11 mit der feststehenden zweiten Pumpeinrichtung 92 verbindet. Vom Ringverteiler 13 aus können dann mittels der Steuerventile 15 die Beschichtungskammern 51, 52 mit der Pumpeinrichtung 92 in einer ersten Stufe der Evakuierung zur Erreichung eines Grobvakuums verbunden werden.With multi-stage pumping, the second, fixed pumping devices cannot only act as a preliminary stage for the co-rotating, first pumping devices 71 . 72 serve. It is also possible that, in particular in the initial phase of the evacuation, the treatment station is also connected to at least one fixed second pump device. This is useful, for example, to pump the treatment station from atmospheric pressure to a rough vacuum. This is the case with in 1A embodiment shown a vacuum line 22 provided which the ring distributor 13 via the rotary feeder 11 with the fixed second pump device 92 combines. From the ring distributor 13 can then by means of the control valves 15 the coating chambers 51 . 52 with the pumping device 92 in a first stage of evacuation to achieve a rough vacuum.

1B zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Bei dieser Ausführungsform ist die Drehzuführung 11 unterhalb des Ringverteilers 13 angeordnet. Auf diese Weise können die Pumpeinrichtungen 91 und 92 in Bodennähe angeordnet und mit im Verhältnis zum Durchmesser besonders kurzen Vakuumleitungen mit der Drehzuführung 11 verbunden werden. Dadurch lassen sich auch sehr hohe Leitwerte der Vakuumverbindung von den mit dem Förderkarussell 3 mitrotierenden ersten Pumpeinrichtungen 71, 72 und dem Ringverteiler 13 zu den feststehenden zweiten Pumpeinrichungen 91, 92 erreichen. Diese Vakuumverbindung umfaßt die Vakuumleitungen 19 von den Pumpeinrichtungen 91, 92 zur Drehzuführung 11 und die von der Drehzuführung ausgehenden Vakuumleitungen 20 und 22 zu den Pumpeinrichtungen 71, 72, beziehungsweise dem Ringverteiler 13. 1B shows a further embodiment of a device according to the invention. In this embodiment, the rotary feeder 11 below the ring distributor 13 arranged. In this way, the pumping devices 91 and 92 arranged near the floor and with vacuum lines that are particularly short in relation to the diameter with the rotary feeder 11 get connected. This enables very high conductivities of the vacuum binding of those with the carousel 3 co-rotating first pump devices 71 . 72 and the ring distributor 13 to the fixed second pump devices 91 . 92 to reach. This vacuum connection includes the vacuum lines 19 from the pumping devices 91 . 92 for rotary feed 11 and the vacuum lines from the rotary feeder 20 and 22 to the pumping devices 71 . 72 , or the ring distributor 13 ,

Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung, wie sie beispielhaft in den 1A und 1B dargestellt ist, lassen sich Leitwerte erreichen, bei welchen das effektive Saugvermögen der Pumpeinrichtungen, die jeweils über die Vakuumverbindung pumpen, nur wenig gegenüber dem tatsächlichen maximalen Saugvermögen der Pumpeinrichtungen reduziert ist. Dies wird durch die erfindungsgemäße Anordnung mit mitrotierenden ersten Pumpeinrichtungen insbesondere auch für die Vakuumverbindung zu den Behandlungsstationen 51, 52 erreicht, da die Pumpeinrichtungen entsprechend nahe an den Behandlungsstationen angeordnet und die Vakuumleitungen kurz gehalten werden können. So können die Vakuumleitungen 23 zwischen erster Pumpeinrichtung 71, 72 und Ringverteiler 13 beipielsweise so kurz dimensioniert werden, daß der Quotient aus Durchmesser d der Vakuumleitung 23 zu deren Länge l größer oder gleich 1/15, oder sogar größer oder gleich 1/10 beträgt. Würden bei den anhand von 1A oder 1B dargestellten Ausführungsformen die Pumpeinrichtungen, anstelle mitzurotieren, feststehend montiert und mit den Behandlungsstationen über eine Drehzuführung verbunden sein, so wären deutlich längere Vakuumleitungen erforderlich. Bei gleichem Durchmesser würde konstruktionsbedingt der Quotient d/l aus Durchmesser d und Leitungslänge l nur noch 1/60 oder weniger betragen. Beispielsweise wären bei einem Leitungsdurchmesser von 10 Zentimetern Leitungslängen von etwa 6 Metern notwendig, während sich durch die mitrotierende Anordnung diese Länge auf etwa 1 bis 1,5 Meter oder sogar weniger reduzieren läßt. Zusätzlich können auf diese Weise auch Umlenkungen der Leitungen reduziert werden, wie sie etwa bei langen Vakuumverbindungen notwendig werden können. Jede 90° Umlenkung entspricht beispielsweise bezüglich des Leitwerts bei einer Leitung mit 10 Zentimetern Durchmesser einer zusätzlichen Verlängerung der Leitung um etwa 0,3 Meter.In the device according to the invention, as exemplified in the 1A and 1B is shown, guide values can be achieved at which the effective pumping speed of the pumping devices, which each pump via the vacuum connection, is only slightly reduced compared to the actual maximum pumping speed of the pumping devices. This is made possible by the arrangement according to the invention with co-rotating first pump devices, in particular also for the vacuum connection to the treatment stations 51 . 52 achieved because the pumping devices can be arranged close to the treatment stations and the vacuum lines can be kept short. So the vacuum lines 23 between the first pump device 71 . 72 and ring distributor 13 be dimensioned so short, for example, that the quotient of the diameter d of the vacuum line 23 to their length l is greater than or equal to 1/15, or even greater than or equal to 1/10. Would be based on the 1A or 1B Embodiments shown the pump devices, instead of co-rotating, fixedly mounted and connected to the treatment stations via a rotary feeder, significantly longer vacuum lines would be required. Given the same diameter, the ratio d / l of diameter d and line length l would only be 1/60 or less due to the design. For example, with a line diameter of 10 centimeters, line lengths of approximately 6 meters would be necessary, while this length can be reduced to approximately 1 to 1.5 meters or even less by the co-rotating arrangement. In this way, deflections of the lines can also be reduced, as may be necessary for long vacuum connections. For example, each 90 ° deflection corresponds to an additional extension of the line by about 0.3 meters with regard to the conductance for a line with a diameter of 10 centimeters.

In 2 ist eine schematische Aufsicht auf Teile einer Rundläufervorrichtung 1 gezeigt. Diese Ausführungsform der Rundläufervorrichtung weist drei mitrotierende erste Pumpeinrichtungen 71, 72, 73 auf, die mit dem Ringverteiler 13 verbunden sind. Bevorzugt werden für die ersten Pumpeinrichtungen Wälzkolbenpumpen eingesetzt, die durch ein großes Saugvermögen bei niedrigen Drücken gekennzeichnet sind. Derartige Pumpen weisen andererseits nur ein geringes Kompressionsvermögen auf, so daß zur Erreichung niedriger Enddrücke nach abgeschlossener Evakuierung im allgemeinen Vorstufen notwendig sind. Diese werden, wie bereits oben erläutert, durch zweite, feststehende Pumpeinrichtungen bereitgestellt, die über eine Drehzuführung 11 mit den Pumpeinrichtungen 71, 72 und 73 verbunden sind.In 2 is a schematic plan view of parts of a rotary device 1 shown. This embodiment of the rotary device has three co-rotating first pump devices 71 . 72 . 73 on that with the ring manifold 13 are connected. Roots pumps, which are characterized by a high pumping speed at low pressures, are preferably used for the first pumping devices. Pumps of this type, on the other hand, have only a low compression capacity, so that preliminary stages are generally necessary in order to achieve low final pressures after the evacuation has been completed. As already explained above, these are provided by second, fixed pump devices, which are connected via a rotary feed 11 with the pumping devices 71 . 72 and 73 are connected.

Im einzelnen weist die in 2 dargestellte Ausführungsform der Rundläufervorrichtung 1 insgesamt fünf solcher feststehenden Pumpeinrichtungen 91 bis 95 auf. Die Pumpeinrichtungen 91 bis 95 müssen dabei nicht alle vom gleichen Typ sein. Diese können sich vielmehr hinsichtlich ihrer Saugleistung und des optimalen Druckbereichs unterscheiden. Vorzugsweise werden für die Pumpeinrichtungen 91 bis 95 Drehschieberpumpen eingesetzt, die hohe Saugleistungen im Grobvakuumbereich aufweisen.In detail, the in 2 illustrated embodiment of the rotary device 1 a total of five such fixed pumping devices 91 to 95 on. The pumping devices 91 to 95 do not all have to be of the same type. Rather, these can differ with regard to their suction power and the optimal pressure range. Preferably for the pumping devices 91 to 95 Rotary vane pumps are used that have high suction power in the rough vacuum range.

In 3 ist ein Vakuumschema für eine Ausführungsform einer mehrstufigen Vakuumbeschaltung einer erfindungsgemäßen Rundläufervorrichtung dargestellt. Bei dieser Ausführungsform der Erfindung wird das Evakuieren in vier oder fünf Schritten durchgeführt. Während der Beschichtungsphase wird nach der Evakuierung außerdem das Prozeßgas abgepumpt. Den zusammen mit dem Abpumpen des Prozeßgases insgesamt sechs einzelnen Abpumpphasen sind Winkelbereiche oder Sektoren 41 bis 46 zugeordnet, durch welche sich die einzelnen Behandlungsstationen 51, 52, ..., 5N auf dem Förderkarussell 3 durch die Rotation des Karussells hindurchbewegen. In jedem der Sektoren 41 bis 46 wird jeweils eine Behandlungsstation mit einer einzelnen Pumpeinrichtung oder mit mehrstufigen Pumpeinrichtungen verbunden. Während des gesamten Evakuierungsprozesses einschließlich des Abpumpens von Prozeßgas ist dabei jede der Pumpeinrichtungen nur mit jeweils einer Behandlungsstation verbunden. Beim Verlassen eines einer bestimmten Evakuierungsphase zugeordneten Winkelbereichs, beziehungsweise vor dem Eintritt in den darauffolgenden Winkelbereich wird die Verbindung der Behandlungsstation zu einer Pumpeinrichtung dann wieder getrennt. Das Verbinden und Trennen kann dabei ebenfalls mittels einer Verteilereinrichtung geschehen, die Steuerventile und einen Ringverteiler umfaßt. Die Drücke können dabei mit geeigneten Druckmeßröhren 30, beispielsweise Pirani-Meßröhren gemessen und überprüft werden.In 3 a vacuum diagram for an embodiment of a multi-stage vacuum circuit of a rotary device according to the invention is shown. In this embodiment of the invention, the evacuation is carried out in four or five steps. During the coating phase, the process gas is also pumped out after the evacuation. The six individual pumping phases together with the pumping off of the process gas are angular ranges or sectors 41 to 46 assigned through which the individual treatment stations 51 . 52 , ..., 5N on the conveyor carousel 3 move through the rotation of the carousel. In each of the sectors 41 to 46 a treatment station is connected to a single pump device or to multi-stage pump devices. During the entire evacuation process, including the pumping off of process gas, each of the pump devices is connected to only one treatment station. When leaving an angular range assigned to a specific evacuation phase, or before entering the subsequent angular range, the connection of the treatment station to a pump device is then disconnected again. The connection and disconnection can also take place by means of a distributor device which comprises control valves and a ring distributor. The pressures can be measured using suitable pressure measuring tubes 30 , for example Pirani measuring tubes are measured and checked.

Nach dem Zuführen der Werkstücke in einem Beladebereich, der einem Sektor 40 zugeordnet ist, wird die Behandlungsstation während des Durchlaufens durch den Sektor 41 mit einer feststehenden zweiten Pumpeinrichtung 91 verbunden, welche den Beschichtungsbereich der Behandlungsstation auf einen Druck von ≤ 200 mbar abpumpt. Befindet sich eine Behandlungsstation im darauffolgenden Sektor 42 wird eine Verbindung zu einer weiteren feststehenden Pumpeinrichtung 92 hergestellt, die für einen niedrigeren Druckbereich optimiert ist. Während des Durchlaufens dieses Sektors pumpt die Pumpeinrichtung 92 den Beschichtungsbereich der Behandlungsstation auf einen Druck von ≤ 80 mbar ab. Um in weiteren Evakuierungsphasen noch niedrigere Drücke zu erreichen, werden daraufhin mitrotierende erste Pumpeinrichtungen 71, 72 und bei Evakuierung in fünf Stufen auch eine optionale weitere erste Pumpeinrichtungen 73 verwendet, so daß kurze Zuleitungen mit großem Querschnitt verwendet und Schwierigkeiten bei der Abdichtung der Drehzuführung vermieden werden können. Dabei werden die Behandlungsstationen während des Durchlaufens der Winkelbereiche 53, 54 und 55 auf kleiner gleich 1,5 mbar, kleiner gleich 0,1 mbar, beziehungsweise im Falle einer Evakuierung in fünf Schritten kleiner gleich 0,01 mbar abgepumpt, so daß der Druck in jeder der Evakuierungsphasen jeweils um etwa eine Größenordnung erniedrigt wird.After feeding the workpieces in a loading area, which is a sector 40 is assigned to the treatment station as it passes through the sector 41 with a fixed second pump device 91 connected, which pumps out the coating area of the treatment station to a pressure of ≤ 200 mbar. There is a treatment station in the next sector 42 becomes a connection to another fixed pump device 92 manufactured, which is optimized for a lower pressure range. The pump device pumps as it passes through this sector 92 the coating area of the treatment station to a pressure of ≤ 80 mbar. In order to use even lower pressures in further evacuation phases To achieve this, there are also first pump devices that rotate 71 . 72 and in the case of evacuation in five stages, an optional further first pumping device 73 used, so that short leads with a large cross section can be used and difficulties in sealing the rotary feed can be avoided. Thereby the treatment stations during the passage through the angular ranges 53 . 54 and 55 pumped to less than or equal to 1.5 mbar, less than or equal to 0.1 mbar, or in the event of an evacuation in five steps less than or equal to 0.01 mbar, so that the pressure in each of the evacuation phases is reduced by approximately one order of magnitude.

Um eine hohe Maschinenleistung, beziehungsweise einen großen Durchsatz zu erreichen, ist die Zeit zwischen dem Beladen zweier Behandlungsstationen sehr kurz. Entsprechend kurz können auch die Abpumpzeiten gehalten werden. Die fein unterteilte Abstufung des Evakuierungsprozesses ist hierbei von großem Vorteil, da die dazu erforderlichen Pumpen relativ klein gehalten werden können.To high machine performance, respectively a big Reaching throughput is the time between loading two Treatment stations very short. They can also be correspondingly short Pumping times are kept. The finely divided gradation of The evacuation process is of great advantage because the pumps required for this can be kept relatively small.

Außerdem sind den ersten Pumpeinrichtungen 71, 72 und 73 zweite, feststehende Pumpeinrichtungen 93, 94 und 95 als Vorstufe vorgeschaltet, so daß das Pumpen zweistufig erfolgt, um große Kompressionsverhältnisse über einzelnen Pumpen abzubauen oder zu vermeiden.In addition, the first are pumping devices 71 . 72 and 73 second, fixed pumping devices 93 . 94 and 95 upstream as a preliminary stage, so that the pumping takes place in two stages in order to reduce or avoid large compression ratios over individual pumps.

Die feststehenden zweiten Pumpeinrichtungen 91 bis 94 sind jeweils als Drehschieberpumpen ausgeführt, die sich gut für das Pumpen gegen Atmosphärendruck eignen. Demgegenüber umfassen alle mitrotierenden ersten Pumpeinrichtungen 71 bis 74 Wälzkolbenpumpen, um große Saugleistungen bei niedrigen Drücken bereitzustellen.The fixed second pumping devices 91 to 94 are each designed as rotary vane pumps, which are well suited for pumping against atmospheric pressure. In contrast, all co-rotating first pump devices 71 to 74 Roots pumps to provide high suction at low pressures.

Die Pumpeinrichtungen 72 und 74 sind zusätzlich zweistufig ausgeführt und umfassen jeweils Wälzkolbenpumpen 721, 722, beziehungsweise 741, 742.The pumping devices 72 and 74 are also designed in two stages and each include Roots pumps 721 . 722 , respectively 741 . 742 ,

Nach dem Durchlaufen der Sektoren 41 bis 45 ist die Evakuierung auf den Enddruck abgeschlossen und die Beschichtungskammer durchläuft einen der Beschichtung zugeordneten Winkelbereich 46. Hier wird Prozeßgas in den Beschichtungsbereich eingelassen und Mikrowellen zugeführt, wodurch ein Plasma gezündet und das in der Behandlungsstation befindliche Werkstück beschichtet. Während dieser Bearbeitungsphase wird die Beschichtungsanlage mit der zweistufig ausgelegten Pumpeinrichtung 74 verbunden, die ebenfalls wie die übrigen ersten Pumpeinrichtungen an einer zweiten feststehenden Pumpeinrichtung angeschlossen ist. Um die großen anfallenden Gasmengen zu beseitigen, umfaßt hier auch die Vorstufe, beziehungsweise die feststehende zweite Pumpeinrichtung 96 eine Wälzkolbenpumpe.After going through the sectors 41 to 45 the evacuation to the final pressure is complete and the coating chamber passes through an angular range assigned to the coating 46 , Here process gas is admitted into the coating area and microwaves are supplied, whereby a plasma is ignited and the workpiece located in the treatment station is coated. During this processing phase, the coating system with the two-stage pumping device 74 connected, which is also connected to a second fixed pump device like the other first pump devices. In order to eliminate the large amounts of gas produced, the preliminary stage or the stationary second pump device also comprises here 96 a Roots pump.

Nach abgeschlossener Beschichtung gelangt die Behandlungsstation in einen dem Sektor 47 zugeordneten Entnahmebereich, wo das beschichtete Werkstück herausgenommen und mittels einer geeigneten Transporteinrichtung abtransportiert wird. Ebenso wie das Beladen der Behandlungsstationen kann auch die Entnahme durch in 3 nicht dargestellte Zuteilräder geschehen.After the coating has been completed, the treatment station enters a sector 47 assigned removal area, where the coated workpiece is removed and transported away by means of a suitable transport device. Just like loading the treatment stations, removal by in 3 Allocation wheels, not shown, happen.

11
RundläufervorrichtungRotary apparatus
33
Förderkarussellconveyor carousel
44
Drehachseaxis of rotation
51, 52, .., 5N51 52, .., 5N
Behandlungsstationentreatment stations
71–7471-74
erste, mitrotierende Pumpeinrichungen first, co-rotating pump devices
721, 722, 741, 742721 722, 741, 742
WälzkolbenpumpenRoots
91–9691-96
zweite, feststehende Pumpeinrichungen.second, fixed pump devices.
1111
Drehzuführungrotary feeder
1313
Ringverteilerring distributor
1515
Steuerventilecontrol valves
1717
Tragrahmensupporting frame
19–2319-23
Vakuumleitungen vacuum lines
2525
Trageplattesupport plate
2626
Lagercamp
3030
DruckmeßröhreDruckmeßröhre
40–4740-47
Winkelbereiche angle ranges

Claims (34)

Rundläufervorrichtung (1) zur Behandlung, insbesondere für CVD-Beschichtungen von Werkstücken mit – einem Förderkarussell (3), – Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N), welche mit dem Förderkarussell (3) transportiert werden, und – zumindest einer ersten Pumpeinrichtung (7174), dadurch gekennzeichnet, daß die erste Pumpeinrichtung (7174) mit dem Förderkarussell transportiert wird.Rotary device ( 1 ) for treatment, especially for CVD coatings of workpieces with - a conveyor carousel ( 3 ), - treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ), which with the conveyor carousel ( 3 ) are transported, and - at least one first pump device ( 71 - 74 ), characterized in that the first pumping device ( 71 - 74 ) is transported with the conveyor carousel. Rundläufervorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch wenigstens eine Verteilereinrichtung (13, 15) zur Verbindung der Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) mit der Pumpeinrichtung (7174).Rotary device according to claim 1, characterized by at least one distributor device ( 13 . 15 ) to connect the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) with the pump device ( 71 - 74 ). Rundläufervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Verteilereinrichtung (13, 15) einen Ringverteiler (13) umfaßt.Rotary device according to claim 2, characterized in that the distributor device ( 13 . 15 ) a ring distributor ( 13 ) includes. Rundläufervorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Verteilereinrichtung (13, 15) Steuerventile (15) umfaßt.Rotary device according to claim 2 or 3, characterized in that the distributor device ( 13 . 15 ) Control valves ( 15 ) includes. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Pumpeinrichtung (7174) zumindest eine Wälzkolbenpumpe umfaßt.Rotary device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the first pump device ( 71 - 74 ) comprises at least one Roots pump. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Quotient aus Durchmesser d der Vakuumleitung zwischen erster Pumpeinrichtung und einer Verteilereinrichtung (13, 15) zu deren Länge l größer oder gleich 1/15, bevorzugt größer oder gleich 1110 beträgt.Rotary device according to one of claims 1 to 5, characterized in that the quotient of diameter d of the vacuum line between the first pump device and a distributor direction ( 13 . 15 ) whose length l is greater than or equal to 1/15, preferably greater than or equal to 1110. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch zumindest eine feststehend angeordnete zweite Pumpeinrichtung (9196).Rotary device according to one of claims 1 to 6, characterized by at least one stationary second pump device ( 91 - 96 ). Rundläufervorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und zweite Pumpeinrichtung (7174, 9196) für unterschiedliche Druckbereiche angepaßt sind.Rotary device according to claim 7, characterized in that the first and second pumping devices ( 71 - 74 . 91 - 96 ) are adapted for different pressure ranges. Rundläufervorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Pumpeinrichtung (9196) als Vorstufe der ersten Pumpeinrichtung (7174) angeschlossen ist.Rotary device according to claim 7 or 8, characterized in that the second pump device ( 91 - 96 ) as a preliminary stage of the first pumping device ( 71 - 74 ) connected. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Pumpeinrichtung (9196) zumindest eine Drehschieberpumpe umfaßt.Rotary device according to one of claims 7 to 9, characterized in that the second pump device ( 91 - 96 ) comprises at least one rotary vane pump. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Pumpeinrichtung mittels einer Drehzuführung (11) mit dem Förderkarussell (3) verbunden ist.Rotary device according to one of claims 7 to 10, characterized in that the second pump device by means of a rotary feed ( 11 ) with the carousel ( 3 ) connected is. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Leckrate der Drehzuführung 10–1 mbar l/sec oder kleiner, bevorzugt im Bereich zwischen 10–2 bis 10–4 mbar l/sec bei ruhendem und/oder drehendem Betrieb ist.Rotary device according to one of claims 7 to 11, characterized in that the leakage rate of the rotary feed is 10 -1 mbar l / sec or less, preferably in the range between 10 -2 to 10 -4 mbar l / sec with idle and / or rotating operation , Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite, feststehende Pumpeinrichtung (9196) mit wenigstens einer Verteilereinrichtung (13, 15) zur Verbindung der Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) mit der Pumpeinrichtung (9196) verbunden ist.Rotary device according to one of claims 7 to 11, characterized in that the second, fixed pump device ( 91 - 96 ) with at least one distributor device ( 13 . 15 ) to connect the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) with the pump device ( 91 - 96 ) connected is. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 13, gekennzeichnet durch zumindest zwei feststehende zweite Pumpeinrichtungen (91, 92), welche bei Drehung des Förderkarussels (3) nacheinander mit den Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) verbunden werden.Rotary device according to one of claims 7 to 13, characterized by at least two fixed second pump devices ( 91 . 92 ), which when rotating the conveyor carousel ( 3 ) one after the other with the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) get connected. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, gekennzeichnet durch zumindest zwei erste Pumpeinrichtungen (7174), welche bei Drehung des Förderkarussels nacheinander mit den Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) verbunden werden.Rotary device according to one of claims 1 to 14, characterized by at least two first pump devices ( 71 - 74 ) which, when the conveyor carousel rotates, one after the other with the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) get connected. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, gekennzeichnet durch eine erste Pumpeinrichtung (74) zur Abfuhr von Prozeßgas.Rotary device according to one of claims 1 to 15, characterized by a first pump device ( 74 ) for the removal of process gas. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Pumpeinrichtung (72, 74) zumindest zwei hintereinandergeschaltete Pumpstufen (721, 722, 741, 742) umfaßt.Rotary device according to one of claims 1 to 16, characterized in that the first pump device ( 72 . 74 ) at least two pump stages connected in series ( 721 . 722 . 741 . 742 ) includes. Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zur Zuführung von Prozeßgas in die Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N).Rotary device according to one of claims 1 to 17, characterized by a device for supplying process gas to the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ). Rundläufervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 18, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zur Zuführung von elektromagnetischer Energie, vorzugsweise von Mikrowellen.Rotary apparatus according to one of the claims 1 to 18, characterized by a device for feeding electromagnetic energy, preferably microwaves. Verfahren zur CVD-Beschichtung von Werkstücken in einer Rundläufervorrichtung (1), insbesondere gemäß einem der Ansprüche 1 bis 16, wobei – wenigstens ein Werkstück in eine Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) auf einem rotierenden Förderkarussell (3) eingeführt, – die Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) mit zumindest einer ersten Pumpeinrichtung (7174) verbunden, – die Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) evakuiert, und – das Werkstück beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Pumpeinrichtung (7174) mit dem Förderkarussell (3) befördert wird.Process for CVD coating of workpieces in a rotary device ( 1 ), in particular according to one of claims 1 to 16, wherein - at least one workpiece in a treatment station ( 51 . 52 , ..., 5N ) on a rotating conveyor carousel ( 3 ) introduced - the treatment center ( 51 . 52 , ..., 5N ) with at least one first pump device ( 71 - 74 ) connected, - the treatment station ( 51 . 52 , ..., 5N ) evacuated, and - the workpiece is coated, characterized in that the first pump device ( 71 - 74 ) with the carousel ( 3 ) is promoted. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das Werkstück durch Zuführen von Prozeßgas und elektromagnetischer Energie in die Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) beschichtet wird.A method according to claim 20, characterized in that the workpiece by feeding process gas and electromagnetic energy into the treatment station ( 51 . 52 , ..., 5N ) is coated. Verfahren nach Anspruch 20 oder 21, gekennzeichnet durch die Schritte des Belüftens und Herausnehmens des Werkstücks.A method according to claim 20 or 21, characterized through the steps of venting and taking out the workpiece. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 22, wobei die Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) mit zumindest einer feststehenden zweiten Pumpeinrichtung (91, 92) verbunden wird.Method according to one of claims 20 to 22, wherein the treatment station ( 51 . 52 , ..., 5N ) with at least one fixed second pump device ( 91 . 92 ) is connected. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Pumpeinrichtungen (7174, 9196) nacheinander mit den Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) verbunden werden.Method according to claim 23, characterized in that the pump devices ( 71 - 74 . 91 - 96 ) one after the other with the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) get connected. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Pumpeinrichtung (9396) als Vorstufe zur ersten Pumpeinrichtung (7174) betrieben wird.Method according to claim 23 or 24, characterized in that the second pump device ( 93 - 96 ) as a preliminary stage to the first pumping device ( 71 - 74 ) is operated. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß während der Beschichtung mit einer ersten Pumpeinrichtung (74) Prozeßgas abgesaugt wird.Method according to one of claims 20 to 25, characterized in that during the coating with a first pump device ( 74 ) Process gas is sucked off. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß während des Evakuierens wenigstens zeitweise zwei oder mehr erste Pumpeinrichtungen (71, 72, 73) hintereinandergeschaltet werden.Method according to one of claims 20 to 26, characterized in that during the evacuation at least temporarily two or more first pump devices ( 71 . 72 . 73 ) can be connected in series. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß das Verbinden der Behandlungsstationen (51, 52,..., 5N) mit der ersten (71, 72, 73) oder zweiten Pumpeinrichtung (91, 92) durch Schalten von Steuerventilen (15) erfolgt.Method according to one of claims 20 to 27, characterized in that the connection of the treatment stations ( 51 . 52 , ..., 5N ) with the first ( 71 . 72 . 73 ) or second pump device ( 91 . 92 ) by switching control valves ( 15 ) he follows. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß das Evakuieren in wenigstens zwei Schritten erfolgt.Method according to one of claims 20 to 28, characterized in that that this Evacuation is carried out in at least two steps. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Schritten zwischen verschiedenen Pumpeinrichtungen (71, 72, 73, 91, 92) umgeschaltet wird.Method according to claim 29, characterized in that between the steps between different pump devices ( 71 . 72 . 73 . 91 . 92 ) is switched. Verfahren nach Anspruch 30, mit vier oder fünf Evakuierungssschritten.The method of claim 30, with four or five evacuation steps. Verfahren nach Anspruch 31, wobei der Druck in einer Behandlungsstation stufenweise in einem ersten Schritt bis auf ≤ 200mbar, in einem darauffolgenden zweiten Schritt bis auf ≤ 80 mbar, in einem darauffolgenden dritten Schritt bis auf ≤ 1,5 mbar, in einem darauffolgenden vierten Schritt bis auf ≤ 0,1 mbar und bei Evakuierung in fünf Schritten in einem darauffolgenden fünften Schritt bis auf ≤ 0,01 mbar reduziert wird.32. The method of claim 31, wherein the pressure is in a Treatment station gradually in a first step up to ≤ 200mbar, in a subsequent second step up to ≤ 80 mbar, in a subsequent third step up to ≤ 1.5 mbar, in a subsequent fourth step up to ≤ 0.1 mbar and in evacuation in five Steps in a subsequent fifth step down to ≤ 0.01 mbar is reduced. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß während des Evakuierens eine Pumpeinrichtung (7174, 9196) nur mit jeweils einer Behandlungsstation (51, 52,..., 5N) verbunden ist.Method according to one of Claims 20 to 32, characterized in that during the evacuation a pump device ( 71 - 74 . 91 - 96 ) only with one treatment station each ( 51 . 52 , ..., 5N ) connected is. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 332, wobei die Werkstücke hohlkörperförmig sind, dadurch gekennzeichnet, daß das Werkstück durch Zündung eines Plasmas im Innenbereich der Werkstücke beschichtet wird.Method according to one of claims 20 to 332, wherein the workpieces are hollow, thereby characterized that the workpiece by ignition a plasma is coated in the interior of the workpieces.
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AU2003237678A AU2003237678A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Device and method for treating workpieces
JP2004507557A JP2005531688A (en) 2002-05-24 2003-05-26 Workpiece processing apparatus and processing method
CNB03811898XA CN100434566C (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotary machine for CVD coatings
CA002484844A CA2484844A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating
BR0311217-9A BR0311217A (en) 2002-05-24 2003-05-26 Apparatus and method for workpiece treatment
MXPA04011663A MXPA04011663A (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating.
CNB038119218A CN100412230C (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating
US10/514,880 US20050229850A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotary machine for cvd coatings
DK03737973T DK1507887T3 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multiple seat coating device and plasma coating method
CA002484023A CA2484023A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Device and method for treating workpieces
AU2003242577A AU2003242577A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotary machine for cvd coatings
MXPA04011431A MXPA04011431A (en) 2002-05-24 2003-05-26 Device and method for treating workpieces.
JP2004507566A JP4386832B2 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotating device for CVD coating
PCT/EP2003/005499 WO2003100129A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotary machine for cvd coatings
EP03737973A EP1507887B1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating
AT03737973T ATE400671T1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 MULTI-PLACE COATING DEVICE AND METHOD FOR PLASMA COATING
DE50312906T DE50312906D1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 ROTATING MACHINE FOR CVD COATINGS
US10/515,084 US7926446B2 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multi-place coating apparatus and process for plasma coating
AU2003245890A AU2003245890A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating
PCT/EP2003/005473 WO2003100120A2 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Device and method for treating workpieces
DE50310110T DE50310110D1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 MULTIPLATE COATING DEVICE AND METHOD FOR PLASMA COATING
US10/515,514 US7810448B2 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Apparatus and method for the treating of workpieces
JP2004507558A JP4567442B2 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multi-site coating apparatus and plasma coating method
AT03755134T ATE474943T1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 ROTARY MACHINE FOR CVD COATINGS
BRPI0311232-2A BR0311232B1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 coating apparatus and process for plasma coating of workpieces.
EP03735458A EP1537253A1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Device and method for treating workpieces
CNB038118955A CN100469943C (en) 2002-05-24 2003-05-26 Multistation coating device and method for plasma coating
EP03755134A EP1507895B1 (en) 2002-05-24 2003-05-26 Rotary machine for cvd coatings
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007022976A3 (en) * 2005-08-24 2007-04-26 Schott Ag Method and device for the plasma treatment of the interior of hollow bodies
DE102007016026A1 (en) 2007-03-30 2008-10-02 Sig Technology Ag Vacuum coating apparatus, especially CVD apparatus, has HF or microwave source, especially magnetron, mounted between coating chamber and vacuum pump to treat residual gases
DE102007016025A1 (en) 2007-03-30 2008-10-16 Sig Technology Ag Position displacement vacuum pump e.g. roots vacuum pump, for use in chemical vapor deposition system, has trap surface defining boundary to collecting area with height that is larger than half of minimum clearance provided for pump
DE102011017119B3 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Eisenmann Ag Plasma treatment plant for hardening subject matter e.g. vehicle rim, by applying UV paint on surface of subject matter, has processing chamber located in working position in which treatment parameters for chamber are established
JP2013545897A (en) * 2010-12-15 2013-12-26 カーハーエス コーポプラスト ゲーエムベーハー Workpiece plasma processing method and workpiece with gas barrier layer

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000058631A1 (en) * 1999-03-30 2000-10-05 Sidel Conveyor for treating hollow bodies comprising an advanced pressure distribution circuit
DE69903951T2 (en) * 1998-07-29 2003-07-17 Sidel Sa BLOW MOLDING METHOD FOR PRODUCING HOLLOW BODIES FROM PLASTIC MATERIAL, DEVICE AND INSTALLATION FOR IMPLEMENTING THE METHOD

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69903951T2 (en) * 1998-07-29 2003-07-17 Sidel Sa BLOW MOLDING METHOD FOR PRODUCING HOLLOW BODIES FROM PLASTIC MATERIAL, DEVICE AND INSTALLATION FOR IMPLEMENTING THE METHOD
WO2000058631A1 (en) * 1999-03-30 2000-10-05 Sidel Conveyor for treating hollow bodies comprising an advanced pressure distribution circuit

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007022976A3 (en) * 2005-08-24 2007-04-26 Schott Ag Method and device for the plasma treatment of the interior of hollow bodies
US8747962B2 (en) 2005-08-24 2014-06-10 Schott Ag Method and device for the internal plasma treatment of hollow bodies
DE102007016026A1 (en) 2007-03-30 2008-10-02 Sig Technology Ag Vacuum coating apparatus, especially CVD apparatus, has HF or microwave source, especially magnetron, mounted between coating chamber and vacuum pump to treat residual gases
DE102007016025A1 (en) 2007-03-30 2008-10-16 Sig Technology Ag Position displacement vacuum pump e.g. roots vacuum pump, for use in chemical vapor deposition system, has trap surface defining boundary to collecting area with height that is larger than half of minimum clearance provided for pump
JP2013545897A (en) * 2010-12-15 2013-12-26 カーハーエス コーポプラスト ゲーエムベーハー Workpiece plasma processing method and workpiece with gas barrier layer
DE102011017119B3 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Eisenmann Ag Plasma treatment plant for hardening subject matter e.g. vehicle rim, by applying UV paint on surface of subject matter, has processing chamber located in working position in which treatment parameters for chamber are established

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