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QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNG
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Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität, die auf der am 3. Juni 2021 angemeldeten japanischen Patentanmeldung Nr.
2021-093677 basiert, und deren gesamter Inhalt wird hier zitiert.
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Gebiet
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Die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung betreffen eine Anzeigevorrichtung.
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Hintergrund
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In den letzten Jahren werden Anzeigevorrichtungen, auf die eine organische Leuchtdiode (OLED) als Anzeigeelement angewendet wird, praktisch verwendet. Das Anzeigeelement ist mit einer ersten Elektrode, einer zweiten Elektrode und einer organischen Schicht versehen, die zwischen diesen Elektroden angeordnet ist. Die organische Schicht enthält eine lichtemittierende Schicht, die in Reaktion auf eine Spannung zwischen der ersten und der zweiten Elektrode Licht emittiert.
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Im Allgemeinen weisen organische Schichten eine geringe Feuchtigkeitsbeständigkeit auf. Wenn aus irgendeinem Grund Feuchtigkeit in die organische Schicht gelangt, kann dies eine Verringerung der Anzeigequalität, z. B. eine Verringerung der Leuchtdichte des Anzeigeelements bei der Lichtemission, verursachen.
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Figurenliste
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Es zeigt:
- 1 ein Ausbildungsbeispiel für eine Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform;
- 2 ein Ausbildungsbeispiel für das Layout eines Subpixels gemäß einer Ausführungsform;
- 3 eine schematische Schnittansicht der Anzeigevorrichtung entlang der Linie III-III von 2;
- 4 eine Schnittansicht, die ein Beispiel für die Schichtausbildung zeigt, die auf eine organische Schicht gemäß einer Ausführungsform angewendet werden kann;
- 5 eine vergrößerte schematische Schnittansicht des Nahbereichs einer Trennwand in 3;
- 6 eine schematische Draufsicht, die ein Beispiel für die Form einer Metallschicht gemäß einer Ausführungsform zeigt;
- 7 eine schematische Schnittansicht der Anzeigevorrichtung entlang der Linie VII-VII in 6;
- 8 einen Herstellungsprozess zum Erhalten der Trennwand und der Metallschicht gemäß einer Ausführungsform;
- 9 einen auf 8 folgenden Herstellungsprozess;
- 10 einen auf 9 folgenden Herstellungsprozess;
- 11 einen Herstellungsprozess zum Erhalten eines Verbindungsteils gemäß einer Ausführungsform;
- 12 einen auf 11 folgenden Herstellungsprozess;
- 13 eine Schnittansicht zur Veranschaulichung der Effekte einer Ausführungsform.
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Ausführliche Beschreibung
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Im Allgemeinen ist eine Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform versehen mit: einem Basismaterial, mehreren Anzeigeelementen, die mit einer ersten Elektrode, einer zweiten Elektrode, die der ersten Elektrode gegenüberliegt, und einer organischen Schicht versehen sind, die als Reaktion auf eine Spannung zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode Licht emittiert, und oberhalb des Basismaterials angeordnet sind, einer Trennwand, die zwischen den benachbarten Anzeigeelementen angeordnet ist, einer Metallschicht entlang der Trennwand und einer anorganischen Schicht, die aus einem anorganischen Material besteht und die Anzeigeelemente, die Trennwand und die Metallschicht bedeckt. Die Trennwand weist einen ersten Teil und einen zweiten Teil auf, der unterhalb des ersten Teils positioniert ist und eine geringere Breite als der erste Teil aufweist. Die Metallschicht bedeckt einen ersten Bereich einer Seitenfläche des zweiten Teils, und die anorganische Schicht bedeckt einen zweiten Bereich der Seitenfläche, und der zweite Bereich ist zwischen dem ersten Bereich und dem ersten Teil positioniert.
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Mit dieser Ausbildung ist es möglich, eine Anzeigevorrichtung bereitzustellen, bei der die Anzeigequalität verbessert werden kann.
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Im Folgenden wird eine Ausführungsform unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert.
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Die Offenbarung ist lediglich ein Beispiel, und entsprechende Änderungen, die dem Fachmann unter Beibehaltung des Hauptzwecks der Erfindung ohne weiteres naheliegen, gehören selbstverständlich zum Umfang der vorliegenden Erfindung. Um die Erläuterung zusätzlich zu verdeutlichen, können die Zeichnungen ferner die Breite, Dicke, Form usw. der einzelnen Teile im Vergleich zur tatsächlichen Form schematisch zeigen, jedoch ist dies lediglich ein Beispiel und schränkt die Interpretation der vorliegenden Erfindung nicht ein. In der vorliegenden Beschreibung und den jeweiligen Zeichnungen sind die Bestandteile, die die gleichen oder ähnlichen Funktionen wie mit Bezug auf die bereits erwähnten Zeichnungen entfalten, mit den gleichen Bezugszeichen versehen und überlappende ausführliche Erläuterungen können den Umständen entsprechend weggelassen werden.
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In den Zeichnungen werden zur Vereinfachung des Verständnisses nach Bedarf die zueinander orthogonalen X-, Y- und Z-Achsen angegeben. Die Richtung entlang der X-Achse wird als erste Richtung bezeichnet, die Richtung entlang der Y-Achse als zweite Richtung und die Richtung entlang der Z-Achse als dritte Richtung. Die Ebene, die durch die X-Achse und die Y-Achse definiert wird, wird als X-Y-Ebene bezeichnet, und die Ebene, die durch die X-Achse und die Z-Achse definiert ist, als X-Z-Ebene. Die Betrachtung der X-Y-Ebene wird Draufsicht genannt.
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Die Anzeigevorrichtung dieser Ausführungsform ist eine organische Elektrolumineszenz-Anzeigevorrichtung, die mit einer organischen Leuchtdiode (OLED) als Anzeigeelement versehen ist, und kann in Fernsehern, PCs, Bordgeräten, Tabletcomputern, Smartphones, Mobiltelefonendgeräten usw. eingebaut werden.
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1 zeigt ein Ausbildungsbeispiel für eine Anzeigevorrichtung DSP gemäß der vorliegenden Ausführungsform. Die Anzeigevorrichtung DSP weist einen Anzeigebereich DA, auf dem Bilder angezeigt werden, und einen Randbereich SA um den Anzeigebereich DA auf einem isolierenden Basismaterial 10 auf. Das Basismaterial 10 kann ein Glas oder ein Harzfilm mit Nachgiebigkeit sein.
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In der vorliegenden Ausführungsform ist die Form des Basismaterials 10 in der Draufsicht rechteckig. Die Form des Basismaterials 10 in der Draufsicht ist jedoch nicht auf ein Rechteck beschränkt, sondern kann auch andere Formen annehmen, wie z. B. quadratische, runde oder ovale Form.
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Der Anzeigebereich DA ist mit mehreren Pixeln PX versehen, die in einer ersten Richtung X und einer zweiten Richtung Y matrixförmig aufgereiht sind. Das Pixel PX ist mit mehreren Subpixeln SP versehen. In einem Beispiel ist das Pixel PX mit einem roten Subpixel SP1, einem grünen Subpixel SP2 und einem blauen Subpixel SP3 versehen. Zusätzlich zu den oben genannten Subpixeln in drei Farben kann das Pixel PX auch mit vier oder mehr Subpixeln anderer Farben, wie z. B. Weiß, versehen sein.
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Das Subpixel SP ist mit einer Pixelschaltung 1 und einem Anzeigeelement 20 versehen, das von der Pixelschaltung 1 angesteuert wird. Die Pixelschaltung 1 ist mit einem Pixelschalter 2, einem Treibertransistor 3 und einem Kondensator 4 versehen. Der Pixelschalter 2 und der Treibertransistor 3 sind Schaltelemente, die z. B. aus Dünnschichttransistoren bestehen.
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Beim Pixelschalter 2 ist die Gate-Elektrode mit einer Abtastleitung GL verbunden. Eine der Source- und Drain-Elektroden des Pixelschalters 2 ist mit einer Signalleitung SL verbunden, und die andere ist mit der Gate-Elektrode des Treibertransistors 3 und dem Kondensator 4 verbunden. Beim Treibertransistor 3 ist eine der Source- und Drain-Elektroden mit der Stromleitung PL und dem Kondensator 4 verbunden, und die andere mit der Anode des Anzeigeelements 20 verbunden. Das Anzeigeelement 20 ist eine organische Leuchtdiode (OLED) als lichtemittierendes Element. Die Kathode des Anzeigeelements 20 ist mit einer Versorgungsleitung FL verbunden, an die eine gemeinsame Spannung angelegt wird. Die Ausbildung der Pixelschaltung 1 ist nicht auf das in den Zeichnungen gezeigte Beispiel beschränkt.
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2 zeigt ein Beispiel für das Layout des Subpixel SP (SP1, SP2, SP3). Hier werden vier Pixel PX in Betracht gezogen. In jedem Pixel PX sind die Subpixel SP1, SP2, SP3 in dieser Reihenfolge in der ersten Richtung X aufgereiht. D. h., im Anzeigebereich DA sind eine Reihe, die aus mehreren Subpixeln SP1 besteht, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, eine Reihe, die aus mehreren Subpixeln SP2 besteht, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, und eine Reihe, die aus mehreren Subpixeln SP3 besteht, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, in der ersten Richtung X abwechselnd angeordnet.
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An den Grenzen der Subpixel SP1, SP2, SP3, ist eine Rippe 14 angeordnet. Im Beispiel von 2 weist die Rippe 14 eine Gitterform mit einem Teil, der zwischen in der ersten Richtung X benachbarten Subpixeln SP positioniert ist, und einem Teil auf, der zwischen in der zweiten Richtung Y benachbarten Subpixeln SP positioniert ist. Die Rippe 14 bildet jeweils Öffnungen OP an den Subpixeln SP1, SP2, SP3.
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Auf der Rippe 14 sind mehrere Trennwände PT angeordnet. Im Beispiel von 2 umfassen die mehreren Trennwände PT mehrere Trennwände PT1 parallel zur zweiten Richtung Y und mehrere Trennwände PT2 parallel zur ersten Richtung X. D. h., die mehreren Trennwände PT sind in einer Gitterform angeordnet.
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Die Trennwände PT1 sind zwischen den in der ersten Richtung X benachbarten Subpixeln SP1 und SP2, zwischen den in der ersten Richtung X benachbarten Subpixeln SP2, SP3, und zwischen den in der ersten Richtung X benachbarten Subpixeln SP1 und SP3 jeweils positioniert. D. h., die Trennwand PT1 ist an der Grenze zwischen den verschiedenfarbigen Subpixeln SP positioniert.
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Die Trennwände PT2 sind zwischen zwei in der zweiten Richtung Y benachbarten Subpixeln SP1, zwischen zwei in der zweiten Richtung Y benachbarten Subpixeln SP2, und zwischen zwei in der zweiten Richtung Y benachbarten Subpixeln SP3 jeweils positioniert. D. h., die Trennwand PT2 ist an der Grenze zwischen den gleichfarbigen Subpixeln SP positioniert. Da in den gleichfarbigen Subpixeln SP keine Farbmischung auftritt, kann die Trennwand PT2 weggelassen werden.
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3 ist eine schematische Schnittansicht der Anzeigevorrichtung DSP entlang der Linie III-III von 2. In 3 ist hauptsächlich die Schnittstruktur des Subpixels SP2 dargestellt, wobei die Subpixel SP1, SP3 ebenfalls die gleiche Schnittstruktur aufweisen. Als Elemente, die im Subpixel SP2 angeordnet sind, sind der Treibertransistor 3 und das Anzeigeelement 20 gezeigt und die Darstellung der anderen Elemente ist weggelassen.
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Die Anzeigevorrichtung DSP ist zusätzlich zu dem oben beschriebenen Basismaterial 10, der Rippe 14 und den Trennwänden PT1 auch mit Isolierschichten 11, 12, 13, einer ersten anorganischen Schicht IL1, einer zweiten anorganischen Schicht IL2, einer Harzschicht RL und einer Metallschicht ML versehen.
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Die Isolierschichten 11, 12, 13 sind auf dem Basismaterial 10 in der dritten Richtung Z gestapelt. Die Isolierschichten 11, 12 bestehen z. B. aus einem anorganischen Material. Die Isolierschicht 13 besteht z. B. aus einem organischen Material.
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Der Treibertransistor 3 ist mit einer Halbleiterschicht 30 und Elektroden 31, 32, 33 versehen. Die Elektrode 31 entspricht der Gate-Elektrode. Eine der Elektroden 32, 33 entspricht der Source-Elektrode und die andere der Drain-Elektrode. Die Halbleiterschicht 30 ist zwischen dem Basismaterial 10 und der Isolierschicht 11 angeordnet. Die Elektrode 31 ist zwischen den Isolierschichten 11, 12 angeordnet. Die Elektroden 32 und 33 sind zwischen den Isolierschichten 12, 13 angeordnet und stehen durch ein Kontaktloch, das die Isolierschichten 11, 12 durchdringt, mit der Halbleiterschicht 30 in Kontakt.
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Das Anzeigeelement 20 ist mit einer ersten Elektrode E1, einer zweiten Elektrode E2 und einer organischen Schicht OR versehen, die zwischen der ersten Elektrode E1 und der zweiten Elektrode E2 angeordnet ist. Die erste Elektrode E1 ist eine Elektrode, die für jedes Subpixel SP angeordnet ist und kann als Pixelelektrode, untere Elektrode oder Anode bezeichnet werden. Die zweite Elektrode E2 kann als gemeinsame Elektrode, obere Elektrode oder Kathode bezeichnet werden.
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Die Rippe 14 ist auf der Isolierschicht 13 angeordnet. Die Rippe 14 kann aus einem organischen Material bestehen. Die erste Elektrode E1 ist auf der Isolierschicht 13 angeordnet und überlappt die Öffnung OP. Der Umfang der ersten Elektrode E1 ist von der Rippe 14 bedeckt. Die erste Elektrode E1 ist durch ein Kontaktloch, das die Isolierschicht 13 durchdringt, elektrisch mit der Elektrode 33 verbunden. Die erste Elektrode E1 ist aus einem metallischen Material gebildet. Die erste Elektrode E1 kann jedoch auch aus einem transparenten leitfähigen Material wie Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) gebildet werden oder aus einem Stapel aus einem transparenten leitfähigen Material und einem metallischen Material bestehen.
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Die organische Schicht OR steht durch die Öffnung OP mit der ersten Elektrode E1 in Kontakt. Ein Teil der organischen Schicht OR ist auf der Rippe 14 positioniert. Die zweite Elektrode E2 bedeckt die organische Schicht OR. Die zweite Elektrode E2 besteht z. B. aus einem metallischen Material. Die zweite Elektrode E2 kann jedoch auch aus einem transparenten leitfähigen Material wie ITO oder IZO gebildet werden.
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Die Trennwand PT1 ist auf der Rippe 14 angeordnet. Die in 2 gezeigte Trennwand PT2 ist ebenfalls auf der Rippe 14 angeordnet. Die Trennwände PT1, PT2 bestehen in der vorliegenden Ausführungsform aus einem anorganischen Material.
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Die Metallschicht ML ist in der Nähe der Wurzel der Trennwand PT1 angeordnet. Im Beispiel von 3 sind auf der Rippe 14 zwei Metallschichten ML angeordnet, zwischen denen die Trennwand PT1 positioniert ist. Auch in der Nähe der Wurzel der Trennwand PT2 ist ebenfalls die Metallschicht ML angeordnet. Die Metallschicht ML besteht z. B. aus Aluminium.
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Die erste anorganische Schicht IL1 bedeckt die zweite Elektrode E2, die Trennwände PT1, PT2 und die Metallschicht ML. Die Harzschicht RL bedeckt die erste anorganische Schicht IL1. Die Harzschicht RL besteht z. B. aus einem organischen Material (Harz). Die Harzschicht RL ist dicker als die Isolierschichten 11, 12, 13, Rippe 14, die erste anorganische Schicht IL1, die zweite anorganische Schicht IL2, die Metallschicht ML und die Trennwände PT1, PT2 und planarisiert die Unebenheiten, die durch die Rippe 14 oder die Trennwände PT1, PT2 auftreten. Die zweite anorganische Schicht IL2 bedeckt die Harzschicht RL. Die erste anorganische Schicht IL1, die zweite anorganische Schicht IL2 und die Harzschicht RL dienen als Abdichtungsschichten, die die organische Schicht OR vor Feuchtigkeit usw. schützen.
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Die Trennwände PT1, PT2, die erste anorganische Schicht IL1 und die zweite anorganische Schicht IL2 bestehen aus anorganischen Materialien z. B. Siliziumoxid (SiOx), Siliziumnitrid (SiNx) oder Siliziumoxynitrid (SiONx) usw. Die Trennwände PT1, PT2 und die erste anorganische Schicht IL1 bestehen unter dem Gesichtspunkt der Adhäsion zwischen ihnen vorzugsweise aus dem gleichen anorganischen Material.
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Wie in dem Fall, dass eine der Trennwände PT1, PT2 und der ersten anorganischen Schicht IL1 aus Siliziumoxid und die andere aus Siliziumnitrid besteht, können beide der Trennwände PT1, PT2 und der ersten anorganischen Schicht IL1 aus anorganischen Materialien auf Siliziumbasis bestehen. Überdies können die Trennwände PT1, PT2 und die erste anorganische Schicht IL1 aus dem anorganischen Material des gleichen Systems abgesehen von Siliziumbasis bestehen. Auch in diesen Fällen kann die Adhäsion der Trennwände PT1, PT2 und der ersten anorganischen Schicht IL1 verbessert werden. Auch in Bezug auf die zweite anorganische Schicht IL2 kann diese aus dem gleichen anorganischen Material wie die Trennwände PT1, PT2 und die erste anorganische Schicht IL1 bestehen oder aus dem anorganischen Material des gleichen Systems wie die Trennwände PT1, PT2 und der ersten anorganischen Schicht IL1 bestehen.
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4 zeigt eine Schnittansicht, die ein Beispiel für die Schichtausbildung zeigt, die auf die organische Schicht OR angewendet werden kann. Bspw. umfasst die organische Schicht OR eine erste Funktionsschicht F1, eine lichtemittierende Schicht EL und eine zweite Funktionsschicht F2, die von der ersten Elektrode E1 zur zweiten Elektrode E2 hin nacheinander gestapelt sind.
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Wenn das Potential der ersten Elektrode E1 relativ höher ist als das der zweiten Elektrode E2, entspricht die erste Elektrode E1 der Anode und die zweite Elektrode E2 der Kathode. Wenn das Potential der zweiten Elektrode E2 relativ höher ist als das der ersten Elektrode E1, entspricht die zweite Elektrode E2 der Anode und die erste Elektrode E1 der Kathode.
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Als ein Beispiel, wenn die erste Elektrode E1 einer Anode entspricht, umfasst die erste Funktionsschicht F1 mindestens entweder eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht oder eine Elektronensperrschicht, und die zweite Funktionsschicht F2 umfasst mindestens entweder eine Elektronentransportschicht, eine Elektroneninjektionsschicht oder eine Lochsperrschicht.
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Wenn eine Potentialdifferenz zwischen der ersten Elektrode E1 und der zweiten Elektrode E2 gebildet wird, emittiert die lichtemittierende Schicht EL Licht. In der vorliegenden Ausführungsform wird angenommen, dass die lichtemittierende Schicht EL, die von der organischen Schicht OR der Subpixel SP1, SP2, SP3 umfasst ist, jeweils Licht der gleichen Farbe (z. B. weiß) ausstrahlt. In diesem Fall können z. B. oberhalb der Harzschicht RL Farbfilter, die den Farben der Subpixel SP1, SP2, SP3 entsprechen, angeordnet sein. In den Subpixeln SP1, SP2, SP3 kann auch eine Schicht angeordnet sein, die Quantenpunkte enthält, die durch das von der lichtemittierenden Schicht EL emittierte Licht angeregt werden, und Licht in einer Farbe erzeugen, die den Subpixeln SP1, SP2, SP3 entspricht. Die lichtemittierende Schicht EL der Subpixel SP1, SP2, SP3 kann auch Farben jeweils entsprechend den Subpixeln SP1, SP2, SP3 emittieren.
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5 zeigt eine vergrößerte schematische Schnittansicht des Nahbereichs der Trennwand PT1, die zwischen den Subpixeln SP1, SP2 in 3 positioniert ist. Die Trennwand PT1 weist einen ersten Teil P1 und einen zweiten Teil P2 auf, deren Breite kleiner ist als der erste Teil P1. Der zweite Teil P2 ist unterhalb des ersten Teils P1 positioniert. Der erste Teil P1 und der zweite Teil P2 sind einstückig gebildet. Im Beispiel von 5 steht der zweite Teil P2 in Kontakt mit der oberen Fläche 14a der Rippe 14.
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Im Beispiel von 5 ist das Paar von ersten Seitenflächen SF1 des ersten Teils P1 derart geneigt, dass der Abstand zwischen den Seitenflächen SF1 vom oberen Ende zum unteren Ende des ersten Teils P1 zunimmt. D. h., die Breite des ersten Teils P1 ist in der dritten Richtung Z nicht konstant. Als weiteres Beispiel kann das Paar von Seitenflächen SF1 parallel zur dritten Richtung Z verlaufen. Das Paar von Seitenflächen SF1 kann auch derart geneigt sein, dass der Abstand zwischen den Seitenflächen SF1 vom oberen Ende zum unteren Ende des ersten Teils P1 abnimmt.
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Im Beispiel von 5 ist das Paar von Seitenflächen SF2 des zweiten Teils P2 derart geneigt, dass der Abstand zwischen den Seitenflächen SF2 vom oberen Ende zum unteren Ende des zweiten Teils P2 abnimmt. D. h., die Breite des zweiten Teils P2 ist in der dritten Richtung Z nicht konstant. Als weiteres Beispiel kann das Paar von Seitenflächen SF2 parallel zur dritten Richtung Z verlaufen. Das Paar von Seitenflächen SF2 kann auch derart geneigt sein, dass der Abstand zwischen den Seitenflächen SF2 vom oberen Ende zum unteren Ende des zweiten Teils P2 zunimmt.
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Der erste Teil P1 weist ein Paar von unteren Flächen BF auf, die die Seitenfläche SF1 und die Seitenfläche SF2 verbinden. Diese unteren Flächen BF liegen der oberen Fläche 14a der Rippe 14 gegenüber. Die Form der Trennwand PT1 mit dem ersten Teil P1 und dem zweiten Teil P2 mit einer solchen Form kann z. B. als überhängende Form bezeichnet werden.
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Die Metallschicht ML bedeckt einen Teil der Seitenfläche SF2. Mit anderen Worten, die Seitenfläche SF2 weist einen ersten Bereich A1, der von der Metallschicht ML bedeckt ist, und einen zweiten Bereich A2 auf, der von der Metallschicht ML nicht bedeckt ist. Der zweite Bereich A2 ist zwischen dem ersten Bereich A1 und dem ersten Teil P1 positioniert. In dem Beispiel von 5 ist der erste Bereich A1 größer als der zweite Bereich A2.
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Im Beispiel von 5 ist die Breite der Metallschicht ML in der ersten Richtung X kleiner als die Breite (Höhe) der Metallschicht ML in der dritten Richtung Z. Die Breite der Metallschicht ML in der ersten Richtung X ist ferner kleiner als die Breite der unteren Fläche BF in der ersten Richtung X. Die Metallschicht ML ist insgesamt unterhalb des ersten Teils P1 positioniert. Das untere Ende der Metallschicht ML steht in Kontakt mit der oberen Fläche 14a. Das obere Ende der Metallschicht ML ist oberhalb der zweiten Elektrode E2 auf der Rippe 14 positioniert. Die Form der Metallschicht ML ist nicht auf die hier gezeigte Form beschränkt.
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Die obere Fläche UF der Trennwand PT1 (erster Teil PI) ist mit einer organischen Schicht ORa bedeckt. Die organische Schicht ORa ist weiter mit einer leitfähigen Schicht E2a bedeckt. Im Beispiel von 5 bedeckt die organische Schicht ORa auch die Seitenfläche SF1.
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Die organische Schicht ORa besteht aus dem gleichen Material wie die organische Schicht OR. Die leitfähige Schicht E2a besteht aus dem gleichen Material wie die zweite Elektrode E2. Die organische Schicht ORa ist von der organischen Schicht OR beabstandet, die in den Subpixeln SP1, SP2 angeordnet ist. Die leitfähige Schicht E2a ist von der zweiten Elektrode E2 beabstandet, die in den Subpixeln SP1, SP2 angeordnet ist.
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Die organische Schicht OR und die zweite Elektrode E2 werden auf der gesamten Fläche des Anzeigebereichs DA gebildet, z. B. durch Vakuumverdampfung. Hierbei haftet das Material aus der Verdampfungsquelle an der oberen Fläche UF und der Seitenfläche SF1 der Trennwand PT1, wodurch die organische Schicht ORa und die leitfähige Schicht E2a gebildet werden. Demgegenüber ist es unwahrscheinlich, dass das Material aus der Verdampfungsquelle an der unteren Fläche BF und der Seitenfläche SF2 haftet. Hierdurch werden die organische Schicht OR und die organische Schicht ORa getrennt, und die zweite Elektrode E2 und die leitfähige Schicht E2a werden getrennt.
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Die organische Schicht OR weist ein erstes Ende ED1 auf, das auf der oberen Fläche 14a der Rippe 14 positioniert ist. Die zweite Elektrode E2 weist ein zweites Ende ED2 auf, das auf der oberen Fläche 14a positioniert ist. Das erste Ende ED1 ist mit der zweiten Elektrode E2 bedeckt. Das zweite Ende ED2 steht in Kontakt mit der Metallschicht ML.
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Die erste anorganische Schicht IL1 bedeckt kontinuierlich die zweite Elektrode E2 der Subpixel SP1, SP2, die Metallschichten ML, die auf jeder der paarweisen Seitenfläche SF2 jeweils gebildet sind, den zweiten Bereich A2 jeder der paarweisen Seitenfläche SF2, das Paar von unteren Flächen BF und die leitfähige Schicht E2a. D. h., die erste anorganische Schicht IL1 steht in Kontakt mit dem zweiten Teil P2 im zweiten Bereich A2.
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Obwohl die Struktur in der Nähe der Grenze zwischen den Subpixeln SP1, SP2 in 5 dargestellt ist, kann die gleiche Struktur in der Nähe der Grenze zwischen den Subpixeln SP2, SP3 und in der Nähe der Grenze zwischen den Subpixeln SP1, SP3 verwendet werden. Auf die in 2 gezeigte Trennwand PT2 kann die gleiche Form wie die Trennwand PT1 angewendet werden. Die in 5 gezeigte Struktur kann in der Nähe der Grenze von zwei Subpixeln SP1, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, in der Nähe der Grenze von zwei Subpixeln SP2, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, und in der Nähe der Grenze von zwei Subpixeln SP3, die in der zweiten Richtung Y aufgereiht sind, verwendet werden.
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6 ist eine schematische Draufsicht, die ein Beispiel für die Form der Metallschicht ML zeigt. In 6 ist die Kontur des ersten Teils P1 der Trennwände PT1, PT2 mit gestrichelten Linien dargestellt. Die Metallschicht ML weist einen ersten Linienteil LN1, der sich entlang der Trennwand PT1 in der zweiten Richtung Y erstreckt, und einen zweiten Linienteil LN2, der sich entlang der Trennwand PT2 in der ersten Richtung X erstreckt. Die in 3 und 5 dargestellte Metallschicht ML entspricht dem ersten Linienteil LN1.
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Im Beispiel von 6 sind die zwei ersten Linienteile LN1 und die zwei zweite Linienteile LN2, die zur Öffnung OP des Subpixels SP1 benachbart sind, rechteckig verbunden. D. h., die Metallschicht ML umgibt die Öffnung OP und das Anzeigeelement 20.
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Die Metallschicht ML weist am Schnittpunkt der Trennwände PT1, PT2 (Schnittpunkt der Rippe 14) einen Verbindungsteil CP auf. Der Verbindungsteil CP verbindet die mehreren ersten Linienteile LN1 und die mehreren zweiten Linienteile LN2. Hierdurch werden die mehreren ersten Linienteile LN1 und die mehreren zweiten Linienteile LN2, die das benachbarte Subpixel SP umgeben, verbunden.
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Die Metallschicht ML in dieser Ausbildung als Versorgungsleitung FL verwendet werden, wie in 2 dargestellt. In diesem Fall ist die Metallschicht ML z. B. im Randbereich SA mit einer Leitung verbunden, an die eine gemeinsame Spannung anliegt. Wie in 5 dargestellt, steht die Metallschicht ML in der vorliegenden Ausführungsform in Kontakt mit der zweiten Elektrode E2, so dass eine gemeinsame Spannung über die Metallschicht ML an die zweite Elektrode E2 angelegt wird.
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7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Anzeigevorrichtung DSP entlang der Linie VII-VII in 6. In dieser Zeichnung sind die Schichten unterhalb der Rippe 14 und oberhalb der ersten anorganischen Schicht IL1 weggelassen.
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Der Verbindungsteil CP ist zwischen der oberen Fläche 14a der Rippe 14 und dem zweiten Teil P2 der Trennwand PT1 positioniert. Der Verbindungsteil CP ist mit den ersten Linienteilen LN1, die auf den paarweisen Seitenflächen SF2 des zweiten Teils P2 jeweils angeordnet sind, einstückig gebildet. In einem von 7 unterschiedlichen Schnitt ist der Verbindungsteil CP auch mit dem zweiten Linienteil LN2 verbunden.
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Hier wird ein Beispiel für das Herstellungsverfahren der Anzeigevorrichtung DSP erläutert.
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Die 8 bis 12 sind Ansichten, die den Herstellungsprozess zum Erhalten der Trennwand PT und der Metallschicht ML zeigen. In 8 sind die erste Schicht L1, die die Rippe 14 und die erste Elektrode E1 bedeckt, und eine zweite Schicht L2 gebildet, die die erste Schicht L1 bedeckt.
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Die erste Schicht L1 besteht aus dem gleichen metallischen Material wie die Metallschicht ML. Die zweite Schicht L2 besteht aus einem metallischen Material, das weniger beständig gegen Nassätzen ist (dessen Ätzrate höher ist) als die erste Schicht L1.
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In einem Beispiel kann die erste Schicht L1 bspw. aus Aluminium und die zweite Schicht L2 aus einer Molybdän-Wolfram-Legierung bestehen.
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Oberhalb der Rippe 14 ist eine Rille GR in der ersten Schicht L1 und der zweiten Schicht L2 vorgesehen. In der Draufsicht weist die Rille GR die gleiche Gitterform wie die in 2 gezeigten Trennwände PT1, PT2. Im Schnitt von 8 durchdringt die Rille GR bis zur oberen Fläche 14a der Rippe 14.
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Nachdem die erste Schicht L1 und die zweite Schicht L2 gebildet wurden, wird eine anorganische Schicht, die als Basis der Trennwände PT1 und PT2 dient, auf der zweiten Schicht L2 gebildet. Die anorganische Schicht füllt die Rille GR aus. Durch Strukturierung der anorganischen Schicht wird die Trennwand PT1 erhalten, wie in 9 dargestellt. Der erste Teil P1 entspricht einem Teil der strukturierten anorganischen Schicht, der außerhalb der Rille GR positioniert ist. Der zweite Teil P2 entspricht einem Teil der strukturierten anorganischen Schicht, der innerhalb der Rille GR positioniert ist. Durch die Strukturierung wird auch die Trennwand PT2 gebildet.
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Nachdem die Trennwände PT1, PT2 gebildet wurden, wird ein Nassätzen vorgenommen, um die erste Schicht L1 und die zweite Schicht L2 zu beseitigen. Die zweite Schicht L2 ist weniger beständig gegen Nassätzen und wird daher ganzflächig beseitigt, und die Seitenfläche SF2 des zweiten Teils P2, die mit der zweiten Schicht L2 in der Rille GR in Kontakt steht, wird freigelegt.
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Demgegenüber wird die erste Schicht L1 nicht vollständig beseitigt und, wie in 10 gezeigt, zumindest der Teil, der mit der Seitenfläche SF2 in Kontakt steht, bleibt übrig. Dieser verbleibende Teil entspricht dem ersten Linienteil LN1 der Metallschicht ML. Auch in der Nähe der Trennwand PT2 wird ebenfalls der zweite Linienteil LN2 der Metallschicht ML durch das Nassätzen gebildet.
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An der Stelle, an der der Verbindungsteil CP der Metallschicht ML vorgesehen ist, wie in 11 gezeigt, wird die Rille GR derart gebildet, dass diese die erste Schicht L1 nicht durchdringt. Wenn die Trennwände PT1, PT2 für diese Rille GR gebildet werden, ist die erste Schicht L1 zwischen dem zweiten Teil P2 und der oberen Fläche 14a der Rippe 14 vorgesehen. Wenn die erste Schicht L1 und die zweite Schicht L2 nass geätzt werden, wie in 12 gezeigt, wird unterhalb des zweiten Teils P2 der Verbindungsteil CP gebildet.
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Anschließend wird ein Beispiel der Effekte der vorliegenden Ausführungsform erläutert.
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13 zeigt eine schematische Schnittansicht, die den Nahbereich der Trennwand PT1 vergrößert zeigt. Die erste anorganische Schicht IL1 wird nach der Bildung der zweiten Elektrode E2 gebildet, durch Abscheidung wie z. B. eine chemische Gasphasenabscheidung (CVD) usw. gebildet. Wenn die erste anorganische Schicht IL1 durch Abscheidung gebildet wird, wachsen die anorganischen Schichten im Nahbereich einer Ecke mit zwei Flächen, die einen großen Winkel einnehmen, sowohl von einer als auch von der anderen Fläche aus. Wenn sich diese anorganischen Schichten nähern, wird der Gasfluss in den Bereich zwischen ihnen unterdrückt, und können spaltenartige Hohlräume (Lücken) oder Nähte gebildet werden. Da die Harzschicht RL nur schwer in die Hohlräume eindringen kann, kann die Atmosphäre in den Hohlräumen verbleiben.
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Im Beispiel von 13 sind die Hohlräume V in der Nähe der Ecke der Seitenfläche SF2 und der unteren Fläche BF gebildet. Anstelle dieses Hohlraums V kann eine Naht in der Nähe der Ecke der Seitenfläche SF2 und der unteren Fläche BF gebildet werden. Wenn solche Hohlräume V und Nähte gebildet werden, kann das Eindringen von Feuchtigkeit in das Anzeigeelement 20 eventuell nicht ausreichend unterdrückt werden.
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D. h., mit der Annahme, dass die Metallschicht ML auf der gesamten Seitenfläche SF2 gebildet ist, kann die Feuchtigkeit, dir durch die Hohlräume V und die Nähte ins Innere der ersten anorganischen Schicht IL1 eindringt, entlang der Grenze zwischen der Metallschicht ML und der Seitenfläche SF2 oder der Grenze zwischen der Metallschicht ML und der ersten anorganischen Schicht IL1 in das Anzeigeelement 20 gelangen. Gelangt Feuchtigkeit in das Anzeigeelement 20, insbesondere in die organische Schicht OR, so kann diese zu Anzeigefehlern wie reduzierter Leuchtdichte (Auftreten von dunklen Flecken) des Anzeigeelements 20 führen.
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Im Gegensatz dazu ist bei der vorliegenden Ausführungsform der erste Bereich A1 der Seitenfläche SF2 von der Metallschicht ML und der zweite Bereich A2 oberhalb des ersten Bereichs A1 von der ersten anorganischen Schicht IL1 bedeckt. Mit dieser Ausbildung stehen die erste anorganische Schicht IL1 und die Seitenfläche SF2 zwischen dem Hohlraum V oder der Naht und der Metallschicht ML in Kontakt und kann der Weg für das Eindringen von Feuchtigkeit, der in die Metallschicht ML und ins Anzeigeelement 20 gelangt, gesperrt werden. Als Folge kann die Anzeigequalität der Anzeigevorrichtung DSP verbessert werden.
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Darüber hinaus bestehen die erste anorganische Schicht IL1 und die Trennwand PT1 aus einem anorganischen Material, so dass die erste anorganische Schicht IL1 und die Seitenfläche SF2 eine gute Adhäsion entfalten. Hierdurch kann das Eindringen von Feuchtigkeit in die Metallschicht ML und das Anzeigeelement 20 angemessener unterdrückt werden. In 13 ist die Schnittstruktur einschließlich der Trennwand PT1 und des ersten Linienteils LN1 dargestellt, jedoch kann der gleiche Effekt auch in einer Schnittstruktur einschließlich der Trennwand PT2 und des zweiten Linienteil LN2 erzielt werden.
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Wie oben beschrieben, wenn die Metallschicht ML als Versorgungsleitung FL zur zweiten Elektrode E2 verwendet wird, muss eine separate Versorgungsleitung FL nicht gebildet werden. In diesem Fall, wenn die Metallschicht ML eine Form annimmt, dass diese das Anzeigeelement 20 umgibt, wie in 6 gezeigt, kann der Strom effizient aus der Umgebung der zweiten Elektrode E2 gespeist werden.
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In den 5 und 7 ist die Ausbildung dargestellt, in der die Metallschicht ML und die zweite Elektrode E2 in Kontakt stehen, jedoch, wenn die Metallschicht ML nicht als Versorgungsleitung FL verwendet wird, können die zweite Elektrode E2 und die Metallschicht ML beabstandet sein.
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Ausgehend von der als Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung erläuterten Anzeigevorrichtung gehören auch alle Anzeigevorrichtungen, die von dem Fachmann den Umständen entsprechend in Konstruktion geändert werden können, zum Umfang der vorliegenden Erfindung, solange diese den Kern der vorliegenden Erfindung umfassen.
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Im Rahmen des Gedankens der vorliegenden Erfindung kann der Fachmann verschiedene Abwandlungsbeispiele herleiten und auch diese Abwandlungsbeispiele werden als zum Umfang der vorliegenden Erfindung gehörend verstanden. Die Gegenstände, bei denen der Fachmann zu den oben genannten Ausführungsformen z. B. Bestandteile hinzufügt, streicht oder deren Konstruktion ändert, oder den Prozess hinzufügt, weglässt oder Bedingungen ändert, sind ebenfalls vom Umfang der vorliegenden Erfindung umfasst, solange der Kern der Erfindung erhalten bleibt.
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Es versteht sich auch, dass andere Effekte, die durch die in den oben genannten Ausführungsformen erläuterten Aspekten herbeigeführt werden, selbstverständlich durch die vorliegende Erfindung herbeigeführt werden, wenn diese aus den Angaben der vorliegenden Beschreibung ersichtlich sind oder von dem Fachmann den Umständen entsprechend hergeleitet werden können.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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