DE102022130959B3 - Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Vakuum - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000012636 effector Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 claims description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J21/00—Chambers provided with manipulation devices
- B25J21/005—Clean rooms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J9/00—Programme-controlled manipulators
- B25J9/10—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements
- B25J9/12—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements electric
- B25J9/123—Linear actuators
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J9/00—Programme-controlled manipulators
- B25J9/10—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements
- B25J9/14—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements fluid
- B25J9/144—Linear actuators
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/04—Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
- F16C32/0406—Magnetic bearings
- F16C32/044—Active magnetic bearings
- F16C32/0472—Active magnetic bearings for linear movement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67709—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C2300/00—Application independent of particular apparatuses
- F16C2300/40—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions
- F16C2300/62—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions low pressure, e.g. elements operating under vacuum conditions
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
Die Erfindung besteht aus einer Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Vakuum und umfasst eine Basis, einen Endeffektor mit Substrathalter, einen über einen Schlitten mit dem Endeffektor gekoppelten Linearantrieb, wahlweise einen an der Basis angreifenden Vertikal- oder Hubantrieb sowie eine Magnetlagerung für den Schlitten. Erfindungsgemäß ist der Linearantrieb als ein mit einem Fluid beaufschlagbarer, ansonsten geschlossener Zylinder mit einem doppelt wirkenden Kolben ausgebildet, wobei der Kolben mit einer Magnetanordnung versehen ist. Der Schlitten weist einen, den Zylinder mindestens abstandsweise außen umgreifenden magnetischen Ring auf, welcher den Zylinder berührungslos umgibt.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Vakuum, umfassend eine Basis, einen Endeffektor mit Substrathalter, einen über einen Schlitten mit dem Endeffektor gekoppelten Linearantrieb, einen an der Basis angreifenden Vertikal- oder Hubantrieb sowie eine Magnetlagerung für den Schlitten gemäß Anspruch 1.
- Beispielsweise bei der Bearbeitung von Substraten zur Fertigung von Halbleiterbauelementen kommen großflächige Substrate zum Einsatz, die diversen Oberflächenbehandlungsprozeduren unterzogen werden müssen.
- Beispielsweise muss hier eine Beschichtung vorgenommen werden, es sind Belichtungs- und Ätzschritte oder Diffusionsprozesse erforderlich.
- Ein Großteil der Oberflächenbehandlungsprozesse sind unter Reinraumbedingungen oder unter Vakuum durchzuführen.
- Aus Substraten für moderne Halbleiterbauelemente sind Strukturen bis in den Nanometerbereich auszubilden, was eine äußerst präzise Zuführung und Positionierung dieser Substrate erfordert.
- Weiterhin stellt die notwendige Partikelfreiheit der Substratumgebung hohe Anforderungen an entsprechend notwendige Manipulatoren.
- Aus diesem Grunde ist eine berührungsfreie Lagerung des Substrates und die Ausbildung eines entsprechenden Halte-, Bewegungs- oder Verfahrantriebes notwendig.
- Bekannt sind hier Luftlager für hochreine Fertigungsumgebungen, wobei diese durch Luftströmungen in der Nähe des Substrates ein Problem für auszuführende Behandlungsschritte darstellen.
- Bekannt sind auch magnetische Halte- oder Positioniervorrichtungen mit einer Basis und einem Objekt tragenden Träger.
- Zur berührungslosen Lagerung des Trägers an der Basis sind in vielen Fällen mehrere Magnetlager mit jeweils einem Abstandsensor und einem Regelkreis vorgesehen, die den Träger in einem vorgegebenen Abstand zur Basis in einem Schwebezustand halten.
- Ebenfalls bekannte Lösungen für eine berührungslose Lagerung eines entlang einer stationären Basis zu bewegenden Trägers zur Aufnahme eines Substrates können mehrere in einer Transportrichtung voneinander beabstandete einzelne bzw. diskrete Magnetlager aufweisen.
- Für die Bewegung des Trägers entlang einer Reihe von Magnetlagern ist es notwendig, dass in der Folge der Transportbewegung des Trägers die stationär an der Basis angeordneten Magnetlager je nach momentaner Position des Trägers mit dem Träger mechanisch wechselwirken.
- Für die berührungslose Lagerung und für den berührungslosen Transport eines Trägers entlang einer von der Basis vorgegebenen Verfahrstrecke sind auch seitliche oder transversale Führungsmittel vorzusehen. Diese können mittels entsprechend konfigurierter Magnetlager realisiert sein.
- Für den berührungslosen Transport und für eine dementsprechende Bewegung des Trägers entlang der Basis sind als Antrieb Linearmotoren oder Linearaktoren bekannt.
- Ein solcher Linearantrieb ist Gegenstand der
DE 10 2010 045 437 A1 . Der Linearantrieb besteht aus einem Gehäuse mit einer Endplatte und einer Stirnplatte und einem im Inneren des Gehäuses beweglich angeordneten und mit einer Kolbenstange geführten Kolben. Die mit dem Gehäuse fest verbundene Endplatte weist eine zentrale Führung für ein erstes Medium auf, welches in das Innere des Gehäuses hineinreicht. Die Endplatte oder das Gehäuse weisen ein Mittel zur Abführung für das erste fluide Medium und Mittel zur Zu- und Abführung für ein zweites fluides Medium auf. - Die
EP 2 346 148 A1 offenbart einen Linearantrieb für einen Dreh-Hub-Motor. Ein derartiger Antrieb umfasst ein Wicklungssystem mit mehreren gewickelten Spulen, die koaxial zueinander und in axialer Richtung aufeinander folgend angeordnet sind. In axialer Richtung relativ zum Wicklungssystem ist ein bewegliches Magnetsystem mit mehreren axial aufeinander folgenden Permanentmagneten ausgebildet. Das Wicklungssystem wird von einem geregelten Umrichter gespeist. - Die
DE 10 2016 121 674 A1 setzt sich mit dem Problem auseinander, dass bei innerhalb von Prozesskammern verlaufenden Leitungen unter Vakuum Ausgasungen auftreten können. Hierdurch kommt es zu einer Fremdmaterialkontamination und/oder zu einer Partikelkontamination des Vakuums und somit zu einer Verschlechterung der Vakuumqualität, was sich auf Bearbeitungsergebnisse eines entsprechenden Bauteiles auswirken kann. Zur Vermeidung von Problemen der geschilderten Art ist dort vorgeschlagen, eine erste Transaktion-Permanentmagneteinrichtung, die an einem Rahmen angebracht ist mit einer Rotation-Permanentmagneteinrichtung, die an einem Drehgestell vorgesehen ist, zu kombinieren. Weiterhin sind Längsführungsmittel vorhanden. - Eine Vorrichtung zum Halten, Positionieren und Bewegen eines Objektes mittels Magnetlager und Linearmotor ist in der
DE 10 2015 004 582 A1 geschildert. Der dortige Antrieb besteht aus einem Linearmotor mit zumindestens einem Stator und einem Läufer, die an einer dortigen Basis und an einem Träger angeordnet sind. Der Linearmotor zum Bewegen des Trägers entlang der Basis erzeugt nicht nur eine Verschiebekraft in Bewegungsrichtung oder Transportrichtung, sondern zusätzlich auch noch eine Gegenkraft, welche eine dort vorhandene Magnetlage entgegenwirkt. Das Magnetlager ist als vertikales Magnetlager zur Gewichtskompensation und zum schwebenden berührungslosen Halten des Trägers ausgestaltet, sodass eine verbesserte Querstabilisierung für den Träger erreichbar ist. - Den bekannten Lösungen ist gemeinsam, dass dort nach wie vor Berührungs- und Kontaktpunkte von beweglichen Verbindungslagern und Maschinenelementen oder entsprechenden Gelenken vorhanden sind. Damit führen sämtliche Vakuum berührende Oberflächen zu einer nicht zu vermeidenden Partikelbelastung sowie zu Ausgasungseffekten.
- Aus dem Vorgenannten ist es daher Aufgabe der Erfindung, eine weiterentwickelte Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Prozessvakuum anzugeben, welche auf der Vakuumseite eine Partikelgeneration vermeidet bzw. minimiert.
- Die Lösung der Aufgabe der Erfindung erfolgt gemäß der Vorrichtung in der Merkmalskombination nach Patentanspruch 1, wobei die Unteransprüche zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen darstellen.
- Es wird demnach von einer Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes, z.B. eines Halbleitersubstrates in einem Prozessvakuum ausgegangen.
- Die Vorrichtung umfasst eine Basis, einen Endeffektor mit Substrathalter und einen über einen Schlitten mit dem Endeffektor gekoppelten Linearantrieb.
- Weiterhin ist an der Basis ein dort angreifender Vertikal- oder Hubantrieb vorhanden. Darüber hinaus wird eine Magnetlagerung für den vorerwähnten Schlitten eingesetzt.
- Erfindungsgemäß ist der Linearantrieb als ein mit einem Fluid, insbesondere einem Gas beaufschlagbarer, ansonsten geschlossener Zylinder mit einem im Zylinder beweglich angeordneten, doppeltwirkenden Kolben ausgebildet.
- Der Kolben ist mit einer Magnetanordnung versehen.
- Weiterhin weist der Schlitten einen mit dem Zylinder, mindestens absatzweise, außen umgreifenden magnetischen Ring auf, welcher den Zylinder berührungslos umgibt.
- Der Schlitten ist gegenüber der Basis berührungslos translatorisch bewegbar und gegen rotatorische Verkippung gesichert ebenfalls magnetisch geführt.
- Ausgestaltend steht die Basis mit Linearantrieb und Endeffektor mit einem Hub-Antrieb in Verbindung. Hierfür ist eine mit der Basis verbundene Welle mit Lagerung vorgesehen.
- Die Welle ist mittels magnetischer Rotationskupplung um ihre Achse drehbar und bezogen auf den Dreh- oder Verschwenkwinkel feststellbar.
- Die vorerwähnte Welle ist bevorzugt als Hohlwelle ausgeführt. Über entsprechende Kanäle in der Welle ist eine Zu- und Abführung des Fluides zur Bewegung des Kolbens im Zylinder des Linearantriebes realisierbar.
- Mindestens die Basis mit Endeffektor und Substrathalter, Linearantrieb und Magnetführung befinden sich im Prozessvakuum, wobei eine Partikelgenerierung unter einer Oberflächenreinheitsklasse von 10.000, eine akkumulierte molekulare Kontamination von schweren Kohlenwasserstoffen von kleiner 10 µg/cm2 sowie eine Ausgasrate von kleiner 2E-9 mbar . I / (s · cm2) eingehalten ist.
- Der Schlitten und der magnetische Ring können monolithisch oder einstückig ausgebildet werden. Zusätzlich ist gegen rotatorische Verkippung eine lineare Magnetzwangsführung vorhanden.
- In einer Ausgestaltung der Erfindung ist am, dem Substrathalter gegenüberliegenden Ende, ein Ausgleichsgewichtskörper angeordnet.
- Der Hub-Antrieb befindet sich auf der dem Prozessvakuum abgewandten, atmosphärischen Seite.
- Der magnetische Ring kann als Ringzylinder mit mehreren magnetischen Abschnitten ausgebildet werden.
- Der Kolben ist gegenüber dem Zylinderinneren bzw. Zylinderinnenwandung mittels in Ringnuten befindlichen elastischen Elementen abgedichtet.
- Insbesondere durch die kolbenstangenlose Zylinderausbildung nebst Kolben, welcher Fluid beaufschlagt wird und dem erwähnten Magnetschlitten ist eine unerwünschte Partikelgenerierung auf ein Mindestmaß reduziert. Durch den Magnetschlitten ist die gewünschte translatorische Verschiebung des Substrathalters möglich, wobei eine rotatorische Verkippung durch eine zusätzliche lineare Magnetzwangsführung vermieden wird.
- Im Vergleich zum Stand der Technik liegt einer der Grundgedanken der vorliegenden Erfindung darin, einen, mit einem Fluid angetriebenen doppeltwirkenden Kolben in einem allseitig geschlossenen und mittels des Fluides beaufschlagten Zylinder zu bewegen, wobei dessen Bewegung über eine magnetische Kraftkopplung auf einen, den Zylinder äußerlich berührungslos umgebenden Ring zum Zweck des Erzeugens der linearen Bewegung übertragen wird.
- Die Erfindung soll nachstehend anhand eines Ausführungsbeispieles sowie unter Zuhilfenahme von Figuren näher erläutert werden.
- Hierbei zeigen:
-
1 eine seitliche Schnittdarstellung durch die erfindungsgemäße Vorrichtung mit Substrathalter bzw. Endeffektor, den pneumatischen Zylinder nebst Kolben und Magnet sowie erkennbarer magnetischer Führung und der Hubvorrichtung zum Erzeugen einer vertikalen Bewegung; -
2 eine perspektivische Darstellung (Teil weggeschnitten) der erfindungsgemäßen Vorrichtung analog1 mit Details im Hinblick auf die magnetische Führung des Linearantriebes und der magnetischen Rotationskupplung (rechter Bildteil gemäß2 ) und -
3 eine Schnittdarstellung durch den Zylinder und Kolben des Linearantriebes mit den Elementen der magnetischen Führung. - Die Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes z.B. eines Substrates, in einem Prozessvakuum geht von einer Basis 4 aus, die in ihrem Inneren mittels der magnetischen Führung 40 aufweist.
- Ein Endeffektor 10 mit einem Substrathalter 1 an einem seiner Enden ist translatorisch und rotatorisch bewegbar und in der Basis 4 geführt.
- An dem Objektträger oder Substrathalter 1 gegenüberliegenden Ende ist ein Gegengewichtskörper 5 vorhanden.
- Der eigentliche Linearantrieb umfasst einen pneumatischen Zylinder 2 innerhalb der Basis 4 mit magnetischer Führung 40.
- Der pneumatische Zylinder 2 weist in seinem Inneren einen doppelt wirkenden, beweglichen Kolben 3 auf, welcher Magneten 30 im Kolben 3 umfasst.
- Wie insbesondere in der
3 ersichtlich, ist außenseitig des Zylinders 2 ein Schlitten, ausgebildet als Magnetschlitten 11 vorhanden. - Der Schlitten 11 ist mit dem Endeffektor und damit mit dem Substrathalter 1 gekoppelt.
- Über die Wechselwirkung der Magneten 30 im Kolben 3 mit den Magneten 41 des Schlittens 11 wird die Bewegung des Kolbens 3 auf den Schlitten 11 berührungslos übertragen.
- Die weitere Führung und die Sicherung gegen ein rotatorisches Verkippen wird über die Magnetanordnung 40 an der Basis 4 und 41 im Bereich des Schlittens erreicht.
- Zum Erzeugen einer vertikalen Bewegung der Basis mitsamt des Linearantriebes ist eine Hubvorrichtung 6 vorhanden, die sich außerhalb des Prozessvakuums auf der atmosphärischen Seite befindet.
- Ein Teil einer Vakuumkammer ist mit dem Bezugszeichen 9 angedeutet.
- Die Verbindung zwischen Linearantrieb und Hubvorrichtung 6 erfolgt über eine Welle 12.
- Die Welle 12 ist, wie aus den
1 und2 sowie der Detaildarstellung gemäß2 als Hohlwelle ausgebildet und besitzt Kanäle zur Zu- und Abführung des Fluides zur Bewegung des Kolbens über einen Gasein- bzw. Gasauslass. - Eine Rotationskupplung (siehe
2 /Detaildarstellung) ermöglicht eine Drehung bzw. ein Verschwenken gemäß der diesbezüglichen Pfeildarstellung in2 . - Ein Balg 7, welcher in seiner Länge veränderbar ist, umschließt die Welle 12 außenseitig.
- Endseitig ist die Welle geführt und es ist eine Abdichtung 13 ausgebildet.
Claims (10)
- Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Vakuum, umfassend eine Basis (4) mit einem Endeffektor (10) mit Substrathalter (1), einen über einen Schlitten (11) mit dem Endeffektor (10) gekoppelten Linearantrieb sowie eine Magnetlagerung für den Schlitten (11), wobei der Linearantrieb als ein mit einem Fluid beaufschlagbarer, ansonsten geschlossener Zylinder (2) mit einem doppelt wirkendem Kolben (3) ausgebildet ist, wobei der Kolben (3) mit einer Magnetanordnung (30) versehen ist, weiterhin der Schlitten (11) einen den Zylinder (2), mindestens abschnittsweise außen umgreifenden magnetischen Ring (14) aufweist, welcher den Zylinder (2) berührungslos umgibt und der Schlitten (11) gegenüber der Basis (4) berührungslos translatorisch bewegbar und gegen rotatorische Verkippung gesichert und magnetisch (40; 41) geführt ist.
- Vorrichtung nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Basis (4) mit Linearantrieb und Endeffektor (10) mit einem Vertikal- oder Hubantrieb, insbesondere einem Hub-Antrieb (6) in Verbindung steht und hierfür eine, mit der Basis (4) verbundene Welle (12) mit Dichtung (13) ausgebildet ist. - Vorrichtung nach
Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, dass die Basis (4) über die Welle (12) mittels magnetischer Rotationskupplung (8) um die Achse der Welle (12) drehbar und feststellbar ist. - Vorrichtung nach
Anspruch 2 oder3 , dadurch gekennzeichnet, dass die Welle (12) als Hohlwelle ausgeführt ist und über Kanäle zur Zu- und Abführung des Fluides zur Bewegung des Kolbens (3) im Zylinder (2) des Linearantriebes verfügt. - Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich mindestens die Basis (4) mit Endeffektor (10) und Substrathalter (1), Linearantrieb und Magnetführung im Prozessvakuum befinden, wobei eine Partikelgenerierung unter einer Oberflächenreinheitsklasse von 10.000 , eine akkumulierte molekulare Kontamination von schweren Kohlenwasserstoffen von kleiner 10 µg/cm2 sowie eine Ausgasrate von kleiner 2E-9 mbar · l/(s· cm2) eingehalten ist.
- Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schlitten (11) und der magnetische Ring (14) einstückig ausgebildet und zusätzlich gegen eine rotatorische Verkippung mittels linearer Magnetzwangsführung gesichert sind.
- Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass am, dem Substrathalter (1) gegenüberliegenden Ende ein Ausgleichsgewichtskörper (5) angeordenbar ist.
- Vorrichtung nach
Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, dass der Hubantrieb (6) wahlweise auf der dem Vakuum abgewandten atmosphärischen Seite befindlich ist. - Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der magnetische Ring (14) als Ringzylinder mit mehreren magnetischen Abschnitten ausgebildet ist.
- Vorrichtung nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Kolben (3) gegenüber der Zylinderinnenwandung mittels in Ringnuten befindlichen elastischen Elementen abgedichtet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2023/078033 WO2024079111A1 (de) | 2022-10-12 | 2023-10-10 | Vorrichtung zum halten, positionieren und/oder bewegen eines objektes in einem vakuum |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102022126599.4 | 2022-10-12 | ||
DE102022126599 | 2022-10-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102022130959B3 true DE102022130959B3 (de) | 2023-08-24 |
Family
ID=87518360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102022130959.2A Active DE102022130959B3 (de) | 2022-10-12 | 2022-11-23 | Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objektes in einem Vakuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102022130959B3 (de) |
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- 2022-11-23 DE DE102022130959.2A patent/DE102022130959B3/de active Active
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