DE102021202769A1 - Optische Baugruppe sowie Verfahren zu deren Herstellung, Verfahren zur Deformation eines optischen Elements und Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Optische Baugruppe sowie Verfahren zu deren Herstellung, Verfahren zur Deformation eines optischen Elements und Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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Axel Witt
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
US7692838B2 (en) 2005-08-08 2010-04-06 Lawrence Livermore National Security, Llc Nanolaminate deformable mirrors
DE102016209847A1 (de) 2016-06-03 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit optischer Korrekturenanordnung und Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0046873A1 (en) * 1980-09-02 1982-03-10 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror light modulator
US5526172A (en) * 1993-07-27 1996-06-11 Texas Instruments Incorporated Microminiature, monolithic, variable electrical signal processor and apparatus including same
JP4576058B2 (ja) * 2001-01-31 2010-11-04 オリンパス株式会社 変位検出機能を備えた可変形状鏡
TWI412843B (zh) * 2005-03-17 2013-10-21 Fujifilm Corp 光學補償膜、偏光板及液晶顯示裝置
EP1816493A1 (en) * 2006-02-07 2007-08-08 ETH Zürich Tunable diffraction grating
JP7022127B2 (ja) * 2016-11-21 2022-02-17 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 光ビーム処理デバイス
US10951134B2 (en) * 2018-01-17 2021-03-16 The Regents Of The University Of California Repulsive-force electrostatic actuator
US11233189B2 (en) * 2018-12-11 2022-01-25 Facebook Technologies, Llc Nanovoided tunable birefringence
US11867973B2 (en) * 2019-09-17 2024-01-09 Meta Platforms Technologies, Llc High reliability varifocal electrostatic lens

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
EP1614008B1 (de) 2003-04-17 2009-12-02 Carl Zeiss SMT AG Optisches element für ein beleuchtungssystem
US7692838B2 (en) 2005-08-08 2010-04-06 Lawrence Livermore National Security, Llc Nanolaminate deformable mirrors
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102016209847A1 (de) 2016-06-03 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit optischer Korrekturenanordnung und Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage

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