DE102021129223B3

DE102021129223B3 - Lithographievorrichtung mit Strahlformungseinrichtung

Info

Publication number: DE102021129223B3
Application number: DE102021129223.9A
Authority: DE
Inventors: Matthias BLAICHER
Original assignee: Nanoscribe Holding GmbH
Current assignee: Nanoscribe Holding GmbH
Priority date: 2021-11-10
Filing date: 2021-11-10
Publication date: 2023-05-11
Anticipated expiration: 2041-11-11
Also published as: WO2023083586A1

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Lithographievorrichtung umfassend eine Strahlformungseinrichtung (10) zur variablen Einstellung einer Strahlform eines Lichtstrahls (12), umfassend eine Mehrzahl von Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5), welche jeweils dazu ausgebildet sind, eine Strahlform eines Eingangslichtstrahls (18) zu verändern, wobei zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken dazu eingerichtet sind, eine unterschiedliche Strahlform zu erzeugen, außerdem umfassend eine Strahlablenkeinrichtung (22), welche dazu eingerichtet ist, um einen in die Strahlformungseinrichtung eingestrahlten Lichtstrahl (12) wahlweise nur einer der Strahlformungsoptiken zuzuführen und für einen diese Strahlformungsoptik verlassenden Ausgangslichtstrahl (20) einen Ausgangsstrahlengang (40) zu definieren.

Description

Die Erfindung betrifft eine Lithographievorrichtung umfassend eine Strahlformungseinrichtung.
Bei den im vorliegenden Zusammenhang betrachteten Lithographie-Techniken erfolgt das Schreiben einer Struktur insbesondere dadurch, dass in einem Fokusbereich eines Lichtstrahls, insbesondere Laserstrahls, eine Belichtungsdosis in ein Lithographiematerial eingestrahlt wird und somit lokal ein Strukturbereich bzw. „Voxel“ definiert wird. Beispielsweise ist es denkbar, dass das Lithographiematerial in dem Fokusbereich lokal ausgehärtet oder polymerisiert wird. Um eine zwei- oder dreidimensionale Gesamtstruktur zu schreiben, wird der Fokusbereich innerhalb des Lithographiematerials verlagert (gescannt), sodass sequenziell eine Mehrzahl von Volumenelementen („Voxeln“) definiert werden, die sich insgesamt zu der Gesamtstruktur ergänzen.
Eine entsprechende Technik unter Ausnutzung des physikalischen Prinzips der Zwei-Photonen-Polymerisation oder allgemein der Multi-Photonen-Polymerisation ist beispielsweise in der DE 10 2017 110 241 A1 beschrieben. Derartige Techniken finden insbesondere Verwendung bei der Erzeugung von Mikro- oder Nanostrukturen in Bereichen, in welchen hohe Präzision und gleichzeitig Gestaltungsfreiheit für die zu erzeugende Struktur erwünscht sind.
Bei den beschriebenen Techniken ist es wünschenswert, eine Belichtungsdosis und/oder eine Voxelform, insbesondere eine Voxelgröße, in Abhängigkeit einer Scanposition des Fokusbereichs in dem Lithographiematerial verändern zu können. Zu diesem Zweck sind bspw. akustooptische Modulatoren bekannt, die es ermöglichen, eine Belichtungsdosis variabel zu verändern. Zudem ist es bekannt, eine Größe des Fokusbereiches zu verändern, indem eine Strahlform des Lichtstrahls und somit eine Ausleuchtung des Objektivs, welches den Lichtstrahl zu dem Fokusbereich fokussiert, mittels Blenden verändert wird. Ein solche Verfahren ist jedoch vergleichsweise ineffizient, da in Folge von Absorption durch die Blenden Lichtleistung verloren geht.
Aus der CN 1 11 708 173 A , DE 10 2017 200 170 A1 und der WO 2020/ 178 813 A1 sind verschiedene Vorrichtungen zur Veränderung einer Strahlform eines Lichtstrahls bekannt.
Die Erfindung beschäftigt sich mit der Aufgabe, eine Strahlform eines Lichtstrahls variabel, schnell und mit vergleichsweise geringem Verlust von Lichtleistung einstellen zu können.
Diese Aufgabe wird durch eine Lithographievorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Die Lithographievorrichtung ist zum Erzeugen einer dreidimensionalen Zielstruktur in einem Lithographiematerial ausgebildet. Die Lithographievorrichtung umfasst eine Lichtquelle zur Aussendung eines Lichtstrahls. Insbesondere kann die Lichtquelle als Laserlichtquelle zur Aussendung eines Laserstrahls ausgebildet sein. Die Lithographievorrichtung umfasst außerdem eine Strahlführungseinrichtung zur Definition eines Strahlengangs für den Lichtstrahl von der Lichtquelle zu dem Lithographiematerial. Beispielsweise kann die Strahlführungseinrichtung eine Mehrzahl von Optikelementen (z.B. Linsen, Spiegel, etc.) umfassen. Außerdem umfasst die Lithographievorrichtung eine Strahlformungseinrichtung zur variablen Einstellung einer Strahlform des Lichtstrahls. Darüber hinaus umfasst die Lithographievorrichtung eine Fokussieroptik zur Fokussierung des Lichtstrahls in einem Fokusbereich. Zur Verlagerung des Fokusbereiches des Lichtstrahls relativ zu dem Lithographiematerial, umfasst die Lithographievorrichtung außerdem eine Scan-Einrichtung. Die Scan-Einrichtung kann eine Ablenkeinrichtung (z.B. umfassend Ablenkspiegel) zur Veränderung einer Position des Fokusbereichs des Lichtstrahls in dem Lithographiematerial sein. Insbesondere ist die Scan-Einrichtung entlang einer Ausbreitungsrichtung des Lichtstrahls zwischen Strahlformungseinrichtung und Fokussieroptik angeordnet.
Die Strahlformungseinrichtung ist dazu ausgebildet, eine Strahlform eines Lichtstrahls variabel einzustellen, insbesondere einen Strahlquerschnitt, bspw. einen Strahldurchmesser, zu vergrößern oder zu verkleinern. Insofern kann die Strahlformungseinrichtung dazu eingerichtet sein, eine Strahlform eines aus der Strahlformungseinrichtung austretenden Ausgangsstrahls im Vergleich zu einem in die Strahlformungseinrichtung eingestrahlten Eingangsstrahls variabel einstellbar zu verändern. Insbesondere kann es sich bei dem Lichtstrahl um einen Laserstrahl handeln.
Die Strahlformungseinrichtung umfasst eine Mehrzahl von Strahlformungsoptiken. Die Strahlformungsoptiken sind jeweils dazu ausgebildet, eine Strahlform, insbesondere einen Strahlquerschnitt, eines in die Strahlformungsoptik eingestrahlten Eingangslichtstrahls symmetrisch oder asymmetrisch zu verändern. Insbesondere können die Strahlformungsoptiken dazu ausgebildet sein, den Lichtstrahl symmetrisch oder asymmetrisch aufzuweiten (d.h. einen Strahlquerschnitt zu vergrößern) oder zu verjüngen (d.h. einen Strahlquerschnitt zu verkleinern). Insofern sind die Strahlformungsoptiken derart ausgebildet, dass ein Lichtstrahl nach Durchlaufen einer Strahlformungsoptik eine andere Strahlform aufweist als davor, insbesondere einen anderen, vorzugsweise kleineren oder größeren, Strahlquerschnitt.
Zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken, insbesondere alle Strahlformungsoptiken, sind dazu eingerichtet, jeweils eine unterschiedliche Strahlform, insbesondere einen unterschiedlichen Strahlquerschnitt, zu erzeugen. Die Strahlformungseinrichtung umfasst insofern insbesondere eine Mehrzahl von Strahlformungsoptiken, wobei zumindest eine Teilmenge dieser Strahlformungsoptiken derart unterschiedlich ausgebildet ist, dass ein Lichtstrahl je nachdem, welche dieser Strahlformungsoptiken er durchlaufen hat, eine unterschiedliche Strahlform aufweist. Es ist denkbar, dass die Strahlformungseinrichtung ausschließlich solche Strahlformungsoptiken aufweist, die strahlaufweitend wirken. Es ist auch denkbar, dass die Strahlformungseinrichtung eine oder mehrere Strahlformungsoptiken aufweist, die strahlaufweitend wirken, und ein oder mehrere Strahlformungsoptiken, die strahlverjüngend wirken.
Die Strahlformungseinrichtung umfasst außerdem eine Strahlablenkeinrichtung. Die Strahlablenkeinrichtung ist dazu eingerichtet, um einen in die Strahlformungseinrichtung eingestrahlten Lichtstrahl wahlweise nur einer der Strahlformungsoptiken zuzuführen, also auf eine der Strahlformungsoptiken zu lenken. Die Strahlablenkeinrichtung ist insbesondere dazu ausgebildet, den Lichtstrahl zwischen den Strahlformungsoptiken hin und her zu verlagern (und somit die verschiedenen Strahlformungsoptiken durchzuschalten).
Die Strahlablenkeinrichtung ist außerdem dazu eingerichtet, für einen Ausgangslichtstrahl, der aus derjenigen Strahlformungsoptik austritt, welcher der Eingangslichtstrahl zugeführt wurde, einen Ausgangsstrahlengang zu definieren (z.B. zu einer nachgelagerten Fokussieroptik oder Scan-Einrichtung der Lithographievorrichtung). Vorzugsweise ist die Strahlformungseinrichtung derart ausgebildet, dass der Ausgangsstrahlengang unabhängig von der gewählten Strahlformungsoptik (also unabhängig davon, welcher Strahlformungsoptik der Eingangslichtstrahl zugeführt wurde) eine konstante Ausbreitungsrichtung aufweist.
Die vorgeschlagene Strahlformungseinrichtung ermöglicht es, auf einfache und schnelle Weise eine Strahlform eines Lichtstrahls variabel zu verändern, indem der Lichtstrahl mittels der Strahlablenkeinrichtung sequentiell auf unterschiedliche Strahlformungsoptiken gelenkt wird. Insbesondere ermöglicht es die Strahlformungseinrichtung, einen Strahlquerschnitt wahlweise zu vergrößern oder zu verkleinern, vorzugsweise in mehreren Stufen oder stufenlos. Im Vergleich zu einer Strahlformung mittels Blenden ist bei der vorgeschlagenen Strahlformung ein Verlust der Lichtleistung gering.
Die vorgeschlagene Strahlformungseinrichtung ermöglicht es nun, durch Verändern einer Strahlform des Lichtstrahls eine Ausleuchtung des Fokussierobjektivs variabel zu verändern und somit eine Voxelgröße und/oder eine Voxelform zu verändern (Ausleuchtung verändert numerische Apertur). Hierdurch können Prozesszeiten beim Schreiben von Strukturen erheblich reduziert werden. Beispielsweise kann es zur Reduzierung einer Schreibzeit vorteilhaft sein, das (strukturlose) Innere einer zu schreibenden Struktur mit „großen“ Voxeln zu schreiben und Randbereiche, in denen eine größere Strukturgenauigkeit gefordert ist, mit „kleinen“ Voxeln zu schreiben.
Im Konkreten wurde im Rahmen der Erfindung erkannt, dass dann, wenn eine Ausleuchtung des Fokussierobjektivs konzentrisch zur optischen Achse verändert wird, eine Voxelgröße in Einstrahlrichtung (Z-Länge) veränderbar ist. Zu diesem Zweck kann zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken dazu eingerichtet sein, einen Strahlquerschnitt, insbesondere einen Strahldurchmesser, des Lichtstrahls symmetrisch, insbesondere konzentrisch, zu verkleinern oder zu vergrößern. Es wurde auch erkannt, dass dann, wenn das Fokussierobjektiv mit einem Lichtstrahl asymmetrischer Strahlform beleuchtet wird, bspw. mit einem Lichtstrahl schlitzartiger Strahlform, eine Voxelgröße lateral zur Einstrahlungsrichtung verändert werden kann. Zu diesem Zweck kann zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken dazu eingerichtet sein, einen Strahlquerschnitt, insbesondere einen Strahldurchmesser, asymmetrisch zu verändern, insbesondere zu verkleinern oder zu vergrößern. Beispielsweise können eine oder mehrere Strahlformungsoptiken dazu eingerichtet sein, eine schlitzartige Strahlform zu erzeugen. Die vorgeschlagene Strahlformungseinrichtung ermöglicht es insbesondere, eine Strahlform vergleichsweise schnell zu verändern, sodass eine Voxelgröße während eines Schreibvorgangs, also während des Verlagerns des Fokusbereiches, („on-the-fly“) variabel einstellbar ist und somit für jede Scanposition eine definierte Voxelgröße erzeugt werden kann.
Die Lithographievorrichtung umfasst außerdem eine Steuereinrichtung zur Ansteuerung der Lithographievorrichtung. Die Steuereinrichtung ist dazu eingerichtet, die Strahlformungseinrichtung, insbesondere die Strahlablenkeinrichtung, derart anzusteuern, dass der von der Lichtquelle ausgesandte Lichtstrahl in Abhängigkeit einer Scanposition des Fokusbereichs einer vorbestimmten Strahlformungsoptik zugefügt wird. Insofern kann die Steuereinrichtung dazu ausgebildet sein, die Strahlformungseinrichtung derart anzusteuern, um in Abhängigkeit einer Scanposition die Strahlform des Lichtstrahls zu verändern. In vorteilhafter Weise kann die Steuereinrichtung außerdem dazu eingerichtet sein, in Abhängigkeit der Scanposition (und somit in Abhängigkeit der gewählten Strahlformungsoptik bzw. der Strahlform) eine Lichtleistung, insbesondere Laserleistung, zu verändern, vorzugsweise derart, dass eine in das Lithographiematerial eingestrahlte Lichtintensität konstant bleibt. Mit anderen Worten kann die Steuereinrichtung dazu eingerichtet sein, Strahlform und Lichtleistung in Abhängigkeit einer Scanposition zu synchronisieren. Zu diesem Zweck kann die Lithographievorrichtung bspw. einen von der Steuereinrichtung ansteuerbaren akusto-optischen Modulator umfassen, welcher dazu eingerichtet ist, eine Lichtleistung des von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahls zu verändern. Vorzugsweise kann die Steuereinrichtung derart eingerichtet sein, dass eine Lichtleistung proportional zu einer Voxelgröße verändert wird, insbesondere bei größerer Voxelgröße eine größere Lichtleistung eingestellt wird.
Insbesondere umfasst zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken, insbesondere alle Strahlformungsoptiken, jeweils wenigstens ein optisches Element (oder eine optische Wirkfläche), welches strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirkt. Beispielsweise kann das wenigstens eine optische Element ein reflektives, absorbierendes, oder refraktierendes optisches Element sein. Das wenigstens eine optische Element kann eine Linse oder ein Spiegel sein. Das wenigstens eine optische Element kann auch ein diffraktives Element sein, bspw. ein schaltbares digital mirror device (DMD). Dies ermöglicht es, die Amplitude und/oder die Phase des Lichtstrahls zu verändern. Das wenigstens eine optische Element kann auch ein akustooptisches Element sein. Das wenigstens eine optische Element kann ortsfest angeordnet sein. Es ist auch denkbar, dass das wenigstens eine optische Element relativ zum Strahlengang des Lichtstrahls translatorisch verlagerbar oder rotierbar angeordnet ist, insbesondere bei bestimmungsgemäßem Gebrauch der Strahlformungseinrichtung sich bewegt, vibriert, oder rotiert. Dies ermöglicht es, eine Strahlform und somit eine Voxelgröße besonders schnell zu verändern. Vorzugsweise umfassen die Strahlformungsoptiken jeweils wenigstens zwei optische Elemente (oder optische Wirkflächen), welche gemeinsam (also dann, wenn der Lichtstrahl mit den wenigstens zwei optischen Elementen, insbesondere sequenziell, wechselwirkt) strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirken. Das wenigstens eine optische Element oder die wenigstens zwei optischen Elemente können dazu ausgebildet sein, einen Strahlquerschnitt symmetrisch, insbesondere konzentrisch zu einer Hauptstrahlachse, oder asymmetrisch zu verändern, insbesondere zu vergrößern oder zu verkleinern. Um eine asymmetrische Strahlform zu erzielen, kann das wenigstens eine optische Element oder die wenigstens zwei optischen Elemente bspw. asymmetrische Spiegelflächen oder Zylinderlinsen umfassen.
Im Rahmen einer vorteilhaften Ausgestaltung können eine oder mehrere der Strahlformungsoptiken ein erstes optisches Element umfassen, welches als optisches Sammelelement ausgebildet ist, und ein zweites optisches Element, welches als optisches Zerstreuungselement ausgebildet ist. Bei dem optischen Sammelelement kann es sich bspw. um eine Sammellinse oder einen Sammelspiegel handeln. Bei dem optischen Zerstreuungselement kann es sich bspw. um eine Zerstreuungslinse oder einen Zerstreuungsspiegel handeln.
Im Rahmen einer alternativen vorteilhaften Ausgestaltung können eine oder mehrere der Strahlformungsoptiken ein erstes und ein zweites optisches Element aufweisen, wobei das erste und das zweite optische Element als optisches Sammelelement, insbesondere als Sammellinse oder Sammelspiegel, ausgebildet sind.
In vorteilhafter Weise können die Strahlformungsoptiken jeweils ein Reflexionsflächenpaar mit einer ersten Reflexionsfläche und einer zweiten Reflexionsfläche umfassen oder daraus bestehen. Die erste und zweite Reflexionsfläche eines Reflexionsflächenpaars sind vorzugsweise derart angeordnet, dass ein in die Strahlformungseinrichtung eingestrahlter Eingangslichtstrahl zuerst auf die erste Reflexionsfläche und dann auf die zweite Reflexionsfläche trifft. Insofern kann die Strahlablenkeinrichtung dazu ausgebildet sein, einen in die Strahlformungseinrichtung eingestrahlten Eingangslichtstrahl auf die erste Reflexionsfläche einer der Strahlformungsoptiken zu lenken. Die erste und die zweite Reflexionsfläche eines Reflexionsflächenpaars sind insbesondere derart ausgebildet und angeordnet, dass ein auf die erste Reflexionsfläche des Reflexionsflächenpaars treffender Lichtstrahl von der ersten Reflexionsfläche entlang eines Strahlungswegs auf die zweite Reflexionsfläche dieses Reflexionsflächenpaars umgelenkt wird. Vorzugsweise ist die zweite Reflexionsfläche dazu ausgebildet, den Lichtstrahl wieder auf die Strahlablenkeinrichtung zu lenken. Die Reflexionsflächen können beispielsweise durch Spiegelflächen oder Spiegelflächenabschnitte bereitgestellt sein. Vorzugsweise sind die erste und zweite Reflexionsfläche feststehend, also insbesondere nicht verschwenkbar, ausgebildet.
Im Rahmen einer vorteilhaften Weiterbildung können in einem Strahlengang zwischen der ersten und der zweiten Reflexionsfläche das vorstehend erwähnte wenigstens eine strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirkende optische Element oder die gemeinsam strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirkenden wenigstens zwei optischen Elemente angeordnet sein. Dann ist es möglich, dass die erste und die zweite Reflexionsfläche selbst nicht strahlaufweitend oder strahlverringernd wirken. Beispielsweise können die erste und/oder die zweite Reflexionsfläche jeweils durch einen ebenen Spiegel bereitgestellt sein.
Im Konkreten kann in einem Strahlengang von der ersten Reflexionsfläche zu der zweiten Reflexionsfläche zuerst ein optisches Zerstreuungselement und dann ein optisches Sammelelement angeordnet sein. Vorzugsweise ist das optische Zerstreuungselement innerhalb einer Brennweite des optischen Sammelelements angeordnet (umgekehrte Galilei Anordnung). Eine solche Anordnung wirkt strahlaufweitend. Es ist auch denkbar, dass zuerst das optische Sammelelement und dann das optische Zerstreuungselement angeordnet ist. Eine solche Ausgestaltung wirkt strahlverjüngend.
Im Rahmen einer weiteren Ausgestaltung kann in einem Strahlengang von der ersten Reflexionsfläche zu der zweiten Reflexionsfläche zuerst ein erstes optisches Sammelelement und dann ein zweites optisches Sammelelement angeordnet sein. Vorzugsweise sind das erste optische Sammelelement und das zweite optisches Sammelelement in einem Abstand zueinander angeordnet, welcher der Summe einer Brennweite des ersten optischen Sammelelements und einer Brennweite des zweiten optischen Sammelelements entspricht (Kepler-Anordnung). In Abhängigkeit der Brennweiten des ersten und des zweiten optischen Sammelelements kann eine solche Ausgestaltung strahlaufweitend (Brennweite des ersten optischen Sammelelements kleiner als Brennweite des zweiten optischen Sammelelements) oder strahlverjüngend (Brennweite des ersten optischen Sammelelements größer als Brennweite des zweiten optischen Sammelelements) wirken.
Es ist auch möglich, dass die erste und die zweite Reflexionsfläche derart ausgebildet sind, dass durch sequenzielles Wechselwirken des Lichtstrahls mit der ersten und der zweiten Reflexionsfläche eine Strahlform des Lichtstrahls symmetrisch oder asymmetrisch veränderbar ist, insbesondere ein Strahlquerschnitt vergrößerbar oder verkleinerbar ist. Insofern kann die erste Reflexionsfläche eine erste optische Wirkfläche und die zweite Reflexionsfläche eine zweite optische Wirkfläche bilden, welche gemeinsam strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirken. Bei einer solchen Ausgestaltung sind dann insbesondere keine weiteren strahlaufweitend oder strahlverjüngende wirkenden optischen Elemente zwischen der ersten und der zweiten Reflexionsfläche erforderlich oder vorgesehen. Insbesondere können die erste und/oder die zweite Reflexionsfläche gekrümmt verlaufend, paraboloid-förmig, asphärisch oder als Freiformfläche ausgebildet sein.
Im Rahmen einer vorteilhaften Ausgestaltung können die erste und die zweite Reflexionsfläche einer jeweiligen Strahlformungsoptik gekrümmt, insbesondere paraboloid-förmig, ausgebildet sein, wobei die erste Reflexionsfläche konvex und die zweite Reflexionsfläche konkav ausgebildet ist (dann wirkt Strahlformungsoptik strahlaufweitend) oder wobei die erste Reflexionsfläche konkav und die zweite Reflexionsfläche konvex ausgebildet ist (dann wirkt Strahlformungsoptik strahlverjüngend).
Im Rahmen einer weiteren Ausgestaltung kann eine Strahlaufweitung oder -verjüngung dadurch erreicht werden, dass die erste und die zweite Reflexionsfläche paraboloid-förmig ausgebildet sind, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche durch unterschiedliche Paraboloid-Funktionen definiert sind. Insofern können die erste und die zweite Reflexionsfläche durch Funktionen mit unterschiedlichen Paraboloidparametern und/oder unterschiedlichen Exponenten definiert sein. Insbesondere können die erste und die zweite Reflexionsfläche unterschiedliche Brennweiten aufweisen. Vorzugsweise sind die erste und die zweite Reflexionsfläche derart relativ zueinander angeordnet, dass ein Brennpunkt der ersten Reflexionsfläche und ein Brennpunkt der zweiten Reflexionsfläche örtlich zusammenfallen. Ist bspw. eine Brennweite der ersten paraboloid-förmigen Reflexionsfläche kleiner/größer als eine Brennweite der zweiten paraboloid-förmigen Reflexionsfläche kann eine Strahlaufweitung/Strahlverjüngung erzielt werden.
In zweckmäßiger Weise kann die erste Reflexionsfläche durch einen ersten Parabolspiegel bereitgestellt sein und die zweite Reflexionsfläche kann durch einen zweiten Parabolspiegel bereitgestellt sein. Dann kann der erste Parabolspiegel insofern ein erstes optisches Element und der zweite Parabolspiegel ein zweites optisches Element bilden, welche gemeinsam strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirken.
Es ist auch denkbar, dass die erste Reflexionsfläche und/oder die zweite Reflexionsfläche als Freiformfläche ausgebildet sind. Es ist auch denkbar, dass eine der Reflexionsflächen durch einen Parabolspiegel bereitgestellt ist und die andere Reflexionsfläche durch eine Freiformfläche bereitgestellt ist.
Um zwischen den einzelnen Strahlformungsoptiken hin und her wechseln zu können und somit eine Strahlform variabel einstellen zu können, kann es vorteilhaft sein, wenn die Strahlablenkeinrichtung dazu eingerichtet ist, den Eingangslichtstrahl entlang eines Scanweges zu verlagern. Insofern kann die Strahlablenkeinrichtung dazu ausgebildet sein, eine Ausbreitungsrichtung des Eingangslichtstrahls derart zu verändern, dass der Eingangslichtstrahl einem Scanweg folgt. Dann können die Strahlformungsoptiken, insbesondere die ersten und/oder zweiten Reflexionsflächen (bspw. die Parabolspiegel), sequenziell entlang dieses Scanweges angeordnet sein. Durch Verlagern des Eingangslichtstrahls entlang des Scanweges kann dann ausgewählt werden, welche Strahlformungsoptik beleuchtet wird und somit, welche Strahlform erzeugt werden soll. Der Scanweg kann bspw. linear, gekrümmt, kreisförmig oder kreisabschnittsförmig verlaufen. Es ist denkbar, dass die Strahlformungsoptiken durch voneinander separat ausgebildete Baugruppen bereitgestellt sind. Insofern können die Strahlformungsoptiken segmentartig entlang des Scanweges angeordnet sein. Bspw. ist es denkbar, dass die Strahlformungsoptiken jeweils durch ein, insbesondere einstückiges, Spiegelbauteil bereitgestellt ist, welches die erste und die zweite Reflexionsfläche bereitstellt.
Es kann auch vorteilhaft sein, wenn die ersten Reflexionsflächen durch erste Flächenabschnitte einer ersten Freiformfläche bereitgestellt sind und oder die zweiten Reflexionsflächen durch zweite Flächenabschnitte einer zweiten Freiformfläche bereitgestellt sind. Es ist denkbar, dass die erste Freiformfläche und die zweite Freiformfläche durch voneinander separate Bauteile bereitgestellt sind. Es ist auch denkbar, dass die erste und die zweite Freiformfläche durch eine gemeinsame Freiformfläche bereitgestellt sind. Insofern können die ersten bzw. zweiten Reflexionsflächen durch ein zusammenhängendes Bauteil ausgebildet sein. Eine solche Strahlformungseinrichtung ist kompakt aufgebaut und zudem robust gegenüber mechanischen Erschütterungen. Vorzugsweise kann sich die erste und/oder die zweite Freiformfläche entlang des Scanweges der Strahlablenkeinrichtung erstrecken, insbesondere unterbrechungsfrei durchgehend. Insofern kann die Strahlablenkeinrichtung dazu ausgebildet sein, den Eingangslichtstrahl entlang der ersten Freiformfläche zu verlagern. Besonders vorteilhaft kann es sein, wenn diejenigen Flächenabschnitte, welche die ersten Reflexionsflächen bereitstellen, kontinuierlich, vorzugsweise entlang des Scanweges, ineinander übergehen, und/oder wenn diejenigen Flächenabschnitte, welche die zweiten Reflexionsflächen bereitstellen, kontinuierlich, vorzugsweise entlang des Scanweges, ineinander übergehen. Eine solche Ausgestaltung ermöglicht es, eine Strahlform kontinuierlich, insbesondere stufenlos, zu verändern, beispielsweise einen Strahlquerschnitt stufenlos zu vergrößern oder zu verkleinern.
Im Rahmen einer vorteilhaften Ausgestaltung kann die Strahlablenkeinrichtung wenigstens einen um eine Schwenkachse schwenkbaren Spiegel, insbesondere Galvanometerspiegel, umfassen. Im Konkreten kann die Strahlablenkeinrichtung eine erste Strahlablenkfläche und eine zweite Strahlablenkfläche aufweisen. Die erste und/oder die zweite Strahlablenkfläche können insbesondere durch einen Spiegel, vorzugsweise einen Galvanometerspiegel, bereitgestellt sein. Die erste Strahlablenkfläche kann dazu eingerichtet sein, einen auf sie auftreffenden Eingangslichtstrahl, insbesondere unmittelbar, auf die erste Reflexionsfläche einer der Strahlformungsoptiken umzulenken. Die zweite Strahlablenkfläche kann dazu eingerichtet sein, um für einen von der zweiten Reflexionsfläche dieser Strahlformungsoptik abgelenkten Ausgangslichtstrahl einen Ausgangsstrahlengang zu definieren. Insofern können die Strahlablenkflächen und die Reflexionsflächen derart angeordnet sein, dass ein auf die erste Strahlablenkfläche treffender Eingangslichtstrahl auf die erste Reflexionsfläche einer der Strahlformungsoptiken umgelenkt wird, der Lichtstrahl von der ersten Reflexionsfläche auf die zweite Reflexionsfläche umgelenkt wird und schließlich von der zweiten Reflexionsfläche auf die zweite Strahlablenkfläche umgelenkt wird.
Um zwischen den Strahlformungsoptiken durchzuschalten, kann die erste Strahlablenkfläche, insbesondere der erste Spiegel oder Galvanometerspiegel, derart um eine erste Schwenkachse schwenkbar sein, dass durch Verschwenken der ersten Strahlablenkfläche um die erste Schwenkachse der Eingangslichtstrahl wahlweise auf eine der ersten Reflexionsflächen der Strahlformungsoptiken umlenkbar ist. Insofern kann die Strahlablenkeinrichtung einen ersten Spiegel, insbesondere Galvanometerspiegel, umfassen, welcher zum Durchschalten der Strahlformungsoptiken um eine erste Schwenkachse schwenkbar ist und die erste Strahlablenkfläche bereitstellt. Eine solche Strahlablenkeinrichtung ermöglicht es, besonders schnell zwischen den Strahlformungsoptiken hin und her zu wechseln und somit schnell eine Strahlform zu verändern.
In vorteilhafter Weise kann auch die zweite Strahlablenkfläche, insbesondere der zweite Spiegel bzw. zweite Galvanometerspiegel, um eine zweite Schwenkachse schwenkbar sein. Insofern kann die Strahlablenkeinrichtung einen zweiten Spiegel, insbesondere Galvanometerspiegel, umfassen, welcher um eine zweite Schwenkachse schwenkbar ist und die zweite Strahlablenkfläche bereitstellt. Dies ermöglicht es, den Ausgangsstrahlengang variabel zu verändern oder aber die zweite Strahlablenkfläche, bspw. in Abhängigkeit einer ausgewählten Strahlformungsoptik, derart auszurichten, dass der Ausgangsstrahlengang bzw. eine Ausbreitungsrichtung des Ausgangsstrahls von der zweiten Strahlablenkfläche weg konstant bleibt. Insbesondere sind die erste und die zweite Schwenkachse kollinear, vorzugsweise identisch.
Es ist denkbar, dass der erste und der zweite Spiegel voneinander unabhängig schwenkbar sind. Beispielsweise ist es denkbar, dass eine Schwenkbewegung des ersten Spiegels und eine Schwenkbewegung des zweiten Spiegels jeweils durch eine eigene Antriebseinrichtung, insbesondere motorisch, antreibbar sind. Es kann jedoch auch vorteilhaft sein, wenn eine Schwenkbewegung der ersten Strahlablenkfläche und eine Schwenkbewegung der zweiten Strahlablenkfläche synchronisiert sind. Dies ermöglicht es, die erste und die zweite Strahlablenkfläche stets in konstanter Ausrichtung relativ zueinander zu halten und somit - unabhängig davon, welche Strahlformungsoptik ausgewählt ist - den Ausgangsstrahlengang konstant zu halten.
Vorzugsweise können eine Schwenkbewegung der ersten Strahlablenkfläche und eine Schwenkbewegung der zweiten Strahlablenkfläche zwangsgekoppelt sein. Beispielsweise ist es denkbar, dass die erste Strahlablenkfläche durch einen ersten Spiegel bereitgestellt ist und die zweite Strahlablenkfläche durch einen zweiten Spiegel bereitgestellt ist, wobei beide Spiegel durch eine gemeinsame Antriebseinrichtung schwenkbar sind. Es ist auch denkbar, dass die erste und die zweite Strahlablenkfläche durch einen gemeinsamen Spiegel bereitgestellt sind, welcher um eine Spiegel-Schwenkachse schwenkbar ist. Insbesondere können die erste und die zweite Strahlablenkfläche durch eine, vorzugsweise unterbrechungsfrei durchgehende, Spiegelfläche des gemeinsamen Spiegels bereitgestellt sein. Eine solche Ausgestaltung ist konstruktiv einfach aufgebaut und robust.
Bei einer Ausgestaltung mit schwenkbaren Spiegeln kann es insbesondere vorteilhaft sein, wenn die Strahlformungsoptiken, insbesondere die Reflexionsflächenpaare oder die Parabolspiegelpaare, entlang eines Umfangs um die erste Schwenkachse oder die Spiegel-Schwenkachse angeordnet sind.
Insbesondere sind die erste und die zweite Schwenkachse oder die Spiegel-Schwenkachse zu einer jeweiligen Krümmungsachse der ersten und/oder zweiten Reflexionsfläche, insbesondere einer Krümmungsachse des ersten und/oder zweiten Parabolspiegels, orthogonal orientiert. Durch Verschwenken der Spiegel wird der Lichtstrahl also nicht entlang einer Krümmung der Reflexionsfläche verlagert, sondern orthogonal hierzu.
Im Rahmen einer bevorzugten Ausgestaltung können die Strahlformungsoptiken, insbesondere die erste und die zweite Reflexionsfläche eines Reflexionsflächenpaars, derart ausgebildet sein, dass eine Ausgangsstrahlrichtung eines von der zweiten Reflexionsfläche reflektierten Ausgangslichtstrahls parallel zu einer Eingangsstrahlrichtung eines auf die erste Reflexionsfläche treffenden Eingangsstrahls verläuft. Vorzugsweise liegen die Ausgangsstrahlrichtung und die Eingangsstrahlrichtung innerhalb einer Ebene, welche die erste und die zweite Schwenkachse oder die Spiegel-Schwenkachse enthält (telezentrische Anordnung). Insofern kann die Strahlformungseinrichtung derart ausgebildet sein, dass - unabhängig davon, welche der Strahlformungsoptik ausgewählt ist - ein zwischen zweiter Reflexionsfläche und zweiter Strahlablenkfläche verlaufender Strahlabschnitt und ein zwischen erster Strahlablenkfläche und erster Reflexionsfläche verlaufender Strahlabschnitt zueinander parallel verlaufen und innerhalb einer Ebene angeordnet sind, welche die erste und die zweite Schwenkachse oder die Spiegel-Schwenkachse enthält.
Wie vorstehend erwähnt, kann bei einer solchen Lithographievorrichtung mit Strahlformungseinrichtung eine Ausleuchtung der Fokussieroptik variabel angepasst werden und somit eine Voxelform und/oder Voxelgröße verändert werden, insbesondere in Abhängigkeit einer Scanposition des Fokusbereichs.
Die Lithographievorrichtung kann außerdem eine Positioniereinrichtung zum Verlagern und Positionieren eines Substrats umfassen. Insbesondere ist die Positioniereinrichtung dazu ausgebildet, das Substrat in allen drei Raumrichtungen (X, Y, Z) zu verlagern, vorzugsweise zusätzlich auch um wenigstens eine zur X-Y-Ebene parallele Neigungsachse zu neigen (tilt).
Es kann vorkommen, dass eine Position des Fokusmittelpunktes des Fokusbereichs (Fokusposition) sich in Abhängigkeit einer gewählten Strahlformungseinrichtung leicht verändert. Beispielsweise kann es in Folge von Aberrationseffekten zu einer axialen Verschiebung des Fokusmittelpunkts entlang der optischen Achse des Lichtstrahls (z-Achse) kommen. Um solche Verschiebungen auszugleichen, kann die Lithographievorrichtung eine Einstelleinrichtung umfassen, welche dazu ausgebildet ist, eine Fokusposition des Fokusbereichs entlang der optischen Achse des Lichtstrahls (z-Achse bzw. Höhenachse) einzustellen, insbesondere in Abhängigkeit einer gewählten Strahlformungsoptik. Insofern kann die Einstelleinrichtung dazu eingerichtet sein, eine Relativposition von Fokusbereich und Substrat entlang der optischen Achse des Lichtstrahls einzustellen. Vorzugsweise ist die Einstelleinrichtung mit der Strahlablenkeinrichtung derart synchronisiert, dass in Abhängigkeit einer ausgewählten Strahlformungsoptik eine vorgegebene Fokusposition eingestellt wird, insbesondere in Abhängigkeit einer Schwenklage des ersten Spiegels oder des gemeinsamen Spiegels der Strahlablenkeinrichtung um die jeweilige Schwenkachse. Beispielsweise kann die Einstelleinrichtung einen schnellen Membranspiegel oder einen akusto-optischen Deflektor zur Veränderung einer Fokusposition umfassen. Es ist auch denkbar, dass die Einstelleinrichtung einen schnellen z-Antrieb zur Verlagerung der Fokussieroptik, insbesondere des Fokussierobjektivs, umfasst, z.B. in Form einer Schwingspule (Voice-Coil-Aktor). Alternativ oder ergänzend ist es grundsätzlich auch denkbar, dass die Einstelleinrichtung eine Verfahreinrichtung zur Veränderung einer z-Position des Substrats bzw. Lithographiematerials umfasst.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand der Figuren näher erläutert. Es zeigen:

1 skizzierte Darstellung einer Ausgestaltung einer Strahlformungseinrichtung;
2 skizzierte Darstellung einer weiteren Ausgestaltung einer Strahlformungseinrichtung;
3-7 schematische Darstellungen zur Erläuterung verschiedener Ausgestaltungen einer Strahlformungsoptik der Strahlformungseinrichtung;
8 vereinfachte schematische Darstellung einer weiteren Ausgestaltung der Strahlformungseinrichtung; und
9 vereinfachte schematische Darstellung einer Lithographievorrichtung.

In der nachfolgenden Beschreibung sowie in den Figuren sind für identische oder einander entsprechende Merkmale jeweils dieselben Bezugszeichen verwendet.
Die 1 zeigt eine Ausgestaltung einer Strahlformungseinrichtung, welche insgesamt mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnet ist. Die Strahlformungseinrichtung 10 ist dazu ausgebildet, eine Strahlform, insbesondere einen Strahlquerschnitt, eines in seiner Gesamtheit mit Bezugszeichen 12 bezeichneten Lichtstrahls variabel einzustellen.
Die Strahlformungseinrichtung 10 umfasst eine Mehrzahl, in dem dargestellten Beispiel fünf, Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5. Die Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 sind jeweils dazu ausgebildet, eine Strahlform eines entlang einer Einstrahlrichtung 16 in die Strahlformungseinrichtung 10 eingestrahlten Eingangslichtstrahls 18 symmetrisch oder asymmetrisch zu verändern, insbesondere den Lichtstrahl 18 aufzuweiten oder zu verjüngen (nachfolgend noch im Detail erläutert). Beispielhaft und bevorzugt sind die Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 dazu eingerichtet, jeweils eine unterschiedliche Strahlform, insbesondere einen unterschiedlichen Strahlquerschnitt, zu erzeugen. Insofern kann eine Strahlform eines die Strahlformungseinrichtung 10 verlassenden Ausgangslichtstrahls 20 unterschiedlich sein, je nachdem, welche der Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 der Lichtstrahl 12 durchlaufen hat.
Um zwischen den Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 hin und her wechseln zu können, umfasst die Strahlformungseinrichtung 10 außerdem eine Strahlablenkeinrichtung 22, welche dazu ausgebildet ist, den Eingangslichtstrahl 18 wahlweise nur einer der Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 zuzuführen.
Die Strahlablenkeinrichtung 22 umfasst bei dem in 1 dargestellten Beispiel einen ersten Spiegel 24, insbesondere in Form eines Galvanometerspiegels 24, welcher eine erste Strahlablenkfläche 26 (vgl. 3) bereitstellt, und einen zweiten Spiegel 28, insbesondere in Form eines Galvanometerspiegels 28, welcher eine zweite Strahlablenkfläche 30 (vgl. 3) bereitstellt. Der erste Spiegel 24 ist mittels eines ersten Antriebs 32 um eine erste Schwenkachse 34 schwenkbar. Der zweite Spiegel 28 ist mittels eines zweiten Antriebs 36 um eine zweite Schwenkachse 38 schwenkbar. Wie aus 1 ersichtlich, sind die erste Schwenkachse 34 und die zweite Schwenkachse 38 kollinear angeordnet.
Der erste Spiegel 24 ist dazu ausgebildet, um den Eingangslichtstrahl 18 auf eine der Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 umzulenken. Der zweite Spiegel 28 ist dazu ausgebildet, um den diese Strahlformungsoptik 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 verlassenden Ausgangslichtstrahl 20 umzulenken und für diesen Ausgangslichtstrahl 20 einen Ausgangsstrahlengang 40 zu definieren (vgl. 1). Der zweite Spiegel 28 dient insofern dazu, den Ausgangslichtstrahl 20 in eine vorbestimmte Ausstrahlrichtung 42 umzulenken. Beispielhaft und bevorzugt ist die Strahlformungseinrichtung 10 derart ausgebildet, dass die Ausstrahlrichtung 42 parallel zu der Einstrahlrichtung 16 verläuft (vgl. 1).
Durch Verschwenken des ersten Spiegels 24 um die erste Schwenkachse 34 kann der Eingangslichtstrahl 18 entlang eines Scanweges 44 verlagert werden (im Beispiel entlang eines Umfangs um die Schwenkachse 34). Wie aus 1 ersichtlich, sind die Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 entlang dieses Scanweges 44 angeordnet (also entlang eines Umfangs um die erste Schwenkachse 34), sodass durch Verschwenken des ersten Spiegels 34 der Eingangslichtstrahl 18 zwischen den Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 hin- und her verlagert werden kann.
Wie nachfolgend noch im Detail beschrieben, weisen die Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 jeweils eine erste Reflexionsfläche 46 und eine zweite Reflexionsfläche 48 auf, welche gemeinsam ein Reflexionsflächenpaar 50 bilden. Die Reflexionsflächen 46, 48 sind derart ausgebildet, dass ein auf die erste Reflexionsfläche 46 treffender Lichtstrahl 12 auf die zweite Reflexionsfläche 48 umgelenkt wird.
Die 1 zeigt die Strahlformungseinrichtung 10 in einer beispielhaften Konfiguration, in welcher der erste Spiegel 24 derart um die Schwenkachse 34 verschwenkt ist, dass der Eingangslichtstrahl 18 auf die erste Strahlformungsoptik 14-1 trifft. Anhand dieser Konfiguration wird im Folgenden ein Strahlengang des Lichtstrahls 12 in der Strahlformungseinrichtung 10 erläutert.
Wie aus 1 ersichtlich, wird der auf den ersten Spiegel 24 eintreffende Eingangslichtstrahl 18 durch den ersten Spiegel 24 auf die erste Reflexionsfläche 46 der Strahlformungsoptik 14-1 gelenkt, welche den Lichtstrahl 12 wiederum auf die zweite Reflexionsfläche 48 umlenkt. Im gezeigten Beispiel wird der Lichtstrahl 12 dabei aufgeweitet, also ein Strahlquerschnitt vergrößert (nachfolgend näher erläutert). Die zweite Reflexionsfläche 48 lenkt den Lichtstrahl 12 (Ausgangslichtstrahl 20) sodann auf den zweiten Spiegel 28, welcher den Lichtstrahl 12 in die Ausstrahlrichtung 42 umlenkt.
Die Reflexionsflächen 46, 48 sind insbesondere derart ausgebildet, dass eine Ausgangsstrahlrichtung 49 des von der zweiten Reflexionsfläche 48 reflektierten Ausgangslichtstrahls 20 parallel zu einer Eingangsstrahlrichtung 47 des auf die erste Reflexionsfläche 46 eingestrahlten Eingangslichtstrahls 18 ist (vgl. auch 3 bis 7). Beispielhaft und bevorzugt liegen die Ausgangsstrahlrichtung 49 und die Eingangsstrahlrichtung 47 in einer Ebene (in den 3 bis 7 der Zeichenebene entsprechend), welche auch die erste Schwenkachse 34 und die zweite Schwenkachse 38 enthält (telezentrische Anordnung).
Beispielhaft und bevorzugt ist eine Schwenkbewegung des ersten Spiegels 24 um die erste Schwenkachse 34 mit einer Schwenkbewegung des zweiten Spiegels 28 um die zweite Schwenkachse 38 synchronisiert, sodass eine Position des ersten Spiegels 34 und des zweiten Spiegels 38 relativ zueinander gleich bleibt. Insofern kann unabhängig davon, welche der Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 ausgewählt ist, die Ausstrahlrichtung 42 konstant gehalten werden (Einfallswinkel gleich Ausfallswinkel).
Es ist auch möglich, dass die erste Strahlablenkfläche 26 und die zweite Strahlablenkfläche 30 durch einen gemeinsamen Spiegel 52 bereitgestellt sind, welcher mittels einer Antriebseinrichtung 54 um eine Spiegel-Schwenkachse 56 schwenkbar ist. Eine solche Ausgestaltung ist in 2 dargestellt. Im Übrigen entspricht die Ausgestaltung gemäß 2 der Ausgestaltung gemäß 1.
Die Strahlformungsoptiken 14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5 können grundsätzlich unterschiedlich aufgebaut sein. Nachfolgend werden in Bezug auf die 3 bis 6 verschiedene beispielhafte Ausgestaltungen (Gattungen) von Strahlformungsoptiken 14 beschrieben. Es ist denkbar, dass die Strahlformungseinrichtung 10 ausschließlich Strahlformungsoptiken 14 der gleichen Gattung aufweist, welche lediglich in ihrer konkreten Ausgestaltung abweichen. Es ist auch denkbar, dass die Strahlformungseinrichtung 10 Strahlformungsoptiken 14 unterschiedlicher Gattungen aufweist.
Die 3 zeigt eine schematische Darstellung zur Erläuterung einer ersten Ausgestaltung der Strahlformungsoptik 14 (in 3 durch Strichlinien umrahmt). Die Strahlformungsoptik 14 ist im Beispiel dazu ausgebildet, den Lichtstrahl 12 aufzuweiten, also einen Strahlquerschnitt (in 3 durch den Doppelpfeil 58 angedeutet) des Eingangslichtstrahls 18 zu vergrößern. Insofern ist ein Strahlquerschnitt (in 3 durch den Doppelpfeil 60 angedeutet) des aus der Strahlformungsoptik 14 austretenden Ausgangslichtstrahls 20 größer als der Strahlquerschnitt 58 des Eingangslichtstrahls 18.
Im Beispiel sind die erste Reflexionsfläche 46 und die zweite Reflexionsfläche 48 paraboloid-förmig ausgebildet. Beispielhaft und bevorzugt ist die erste Reflexionsfläche 46 durch einen ersten Parabolspiegel 62 bereitgestellt und die zweite Reflexionsfläche 48 ist durch einen zweiten Parabolspiegel 64 bereitgestellt. Der erste Parabolspiegel 62 weist eine erste Brennweite f₁ mit einem ersten Brennpunkt 66 auf und der zweite Parabolspiegel 64 weist einen zweite Brennweite f₁ mit einem zweiten Brennpunkt 68 auf.
Die Parabolspiegel 62,64 sind durch unterschiedliche Paraboloid-Funktionen definiert. Im Konkreten weist der erste Parabolspiegel 62 eine kleinere Brennweite f₁ auf als der zweite Parabolspiegel 64. Wie aus 3 ersichtlich, sind die Parabolspiegel 62, 64 derart angeordnet, dass die Brennpunkte 66, 68 in einem gemeinsamen Punkt zusammenfallen.
Bei einer solchen Anordnung wird der Eingangslichtstrahl 18 durch die erste Strahlablenkfläche 26 auf die erste Reflexionsfläche 46 (erster Parabolspiegel 62) umgelenkt. Der Lichtstrahl 12 wird dann von der ersten Reflexionsfläche 46 auf die zweite Reflexionsfläche 48 (zweiter Parabolspiegel 64) umgelenkt und dabei aufgeweitet. Die zweite Reflexionsfläche 48 lenkt den Lichtstrahl 12 dann auf die zweite Strahlablenkfläche 30 um, welche den Lichtstrahl 12 schließlich in die Ausstrahlrichtung 42 umlenkt. Bei nicht dargestellten Ausgestaltungen ist es auch möglich, dass der erste Parabolspiegel 62 eine größere Brennweite f₁ als der zweite Parabolspiegel 64 aufweist. Bei einer solchen Ausgestaltung wird dann ein Strahlquerschnitt des Lichtstrahl 12 beim Durchlaufen der Strahlformungsoptik 14 verringert.
Wie aus 3 ersichtlich, sind die erste und die zweite Reflexionsfläche 46, 48 derart ausgebildet, dass ein zwischen der ersten Strahlablenkfläche 26 und der ersten Reflexionsfläche 46 verlaufender erster Strahlabschnitt 70 des Lichtstrahls 12 und ein zwischen der zweiten Reflexionsfläche 48 und der zweiten Strahlablenkfläche 30 verlaufender zweiter Strahlabschnitt 72 zueinander parallel verlaufen und in der Ebene liegen. Die erste und die zweite Schwenkachse 34, 38 verlaufen orthogonal zu einer jeweiligen Krümmungsachse (in 3 orthogonal zur Zeichenebene) der ersten bzw. zweiten Reflexionsfläche 46, 48.
Die 4 zeigt eine weitere Ausgestaltung der Strahlformungsoptik 14, bei der die erste Reflexionsfläche 46 in Bezug auf den Lichtstrahl 12 konvex gekrümmt verläuft und die zweite Reflexionsfläche 48 konkav gekrümmt verläuft. Beispielhaft und bevorzugt sind die erste und die zweite Reflexionsfläche 46, 48 durch entsprechende Spiegel 74, 76 bereitgestellt. Wie aus 4 ersichtlich, wird der Lichtstrahl 12 beim Durchlaufen der Strahlformungsoptik 14 aufgeweitet. Im Übrigen entspricht die Ausgestaltung gemäß 4 der Ausgestaltung gemäß 3. Bei nicht dargestellten Ausgestaltungen ist es auch möglich, dass die erste Reflexionsfläche 46 konkav gekrümmt verläuft und die zweite Reflexionsfläche 48 konvex gekrümmt. Dann wird der Lichtstrahl 12 bei Durchlaufen der Strahlformungsoptik 14 verjüngt.
Bei den in den 3 und 4 dargestellten Ausgestaltungen bilden insofern die erste Reflexionsfläche 46 bzw. der erste Parabolspiegel 62 oder der Spiegel 74 ein erstes optisches Element 78 und die zweite Reflexionsfläche 48 bzw. der zweite Parabolspiegel 64 oder der Spiegel 76 bilden ein zweites optisches Element 80, welche gemeinsam strahlaufweitend wirken.
Bei den in den 5 bis 7 dargestellten Ausgestaltungen, sind die erste Reflexionsfläche 46 durch einen ersten ebenen Spiegel 82 und die zweite Reflexionsfläche 48 durch einen zweiten ebenen Spiegel 84 bereitgestellt. Bei einer solchen Anordnung wird der Lichtstrahl 12 durch die erste Strahlablenkfläche 26 auf den ersten ebenen Spiegel 82 umgelenkt, welcher den Lichtstrahl 12 auf den zweiten ebenen Spiegel 84 umgelenkt. Der zweite ebene Spiegel 84 lenkt den Lichtstrahl 12 dann auf die zweite Strahlablenkfläche 30 (Spiegel 28).
Die ebenen Spiegel 82, 84 wirken im Beispiel selbst nicht strahlaufweitend oder strahlverjüngend. Stattdessen sind bei den Ausgestaltungen gemäß 5 bis 7 weitere optische Elemente in einem Strahlengang 86 zwischen erster Reflexionsfläche 46 und zweiter Reflexionsfläche 48 angeordnet. Beispielhaft sind die ebenen Spiegel 82, 84 feststehend angeordnet.
Bei der in 5 dargestellten Ausgestaltung ist in dem Strahlengang 86 zwischen erster und zweiter Reflexionsfläche 46, 48 ein einzelnes optisches Element 88 angeordnet, welches strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirkt. Beispielsweise kann das optische Element 88 ein diffraktives, reflektives, absorbierendes, oder refraktierendes optisches Element sein.
Bei der in 6 dargestellten Ausgestaltung wird eine Strahlaufweitung durch Zusammenwirken eines optischen Zerstreuungselements 90 (erstes optisches Element 78), bspw. in Form einer Zerstreuungslinse 92, und eines optischen Sammelelements 94 (zweites optisches Element 80), bspw. in Form einer optische Sammellinse 96, erzielt. Wie in 6 dargestellt, ist in dem Strahlengang 86 von der ersten Reflexionsfläche 46 zu der zweiten Reflexionsfläche 48 zuerst das Zerstreuungselement 90 angeordnet und dann das Sammelelement 94. Das Zerstreuungselement 90 ist dabei innerhalb einer Brennweite f des Sammelelements 94 angeordnet. Bei dieser Ausgestaltung wird der Lichtstrahl 12 beim Durchlaufen der Strahlformungsoptik 14 aufgeweitet. Es ist auch möglich, dass das Zerstreuungselement 90 und das Sammelelement 94 vertauscht sind, sodass im Strahlengang 86 von der ersten Reflexionsfläche 46 zu der zweiten Reflexionsfläche 48 zuerst das Sammelelement 94 und dann das Zerstreuungselement 90 angeordnet ist. Dann wirkt die Strahlformungsoptik 14 strahlverjüngend.
Die 7 zeigt eine weitere Ausgestaltung der Strahlformungsoptik 14, bei der in dem Strahlengang 86 zwischen erster und zweiter Reflexionsfläche 46, 48 ein erstes Sammelelement 98 (erstes optisches Element 78), bspw. in Form einer Sammellinse 96, und ein zweites Sammelelement 100 (zweites optisches Element 80), bspw. in Form einer Sammellinse 96, angeordnet sind. Das erste Sammelelement 98 weist eine erste Brennweite f'₁ auf und das zweite Sammelelement 100 weist eine zweite Brennweite f'₂ auf. Wie aus 7 ersichtlich, sind das erste und zweite Sammelelement 98, 100 in einem Abstand d voneinander angeordnet, welcher der Summe der ersten und zweiten Brennweite f'₁, f'₂ entspricht. Im Beispiel ist die Brennweite f'₁ des ersten Sammelelements 98 kleiner als die Brennweite f'₂ des zweiten Sammelelements 100. Insofern wird der Lichtstrahl 12 beim Durchlaufen der Strahlformungsoptik 14 aufgeweitet. Bei nicht dargestellten Ausgestaltungen ist es auch denkbar, dass die Brennweite f'₁ des ersten Sammelelements 98 größer ist als die Brennweite f'₂ des zweiten Sammelelements 100. Eine solche Strahlformungsoptik 14 wirkt dann strahlverjüngend.
Die 8 zeigt in schematischer Darstellung eine weitere Ausgestaltung der Strahlformungseinrichtung 10, bei der die Mehrzahl von Strahlformungsoptiken 14 durch eine Freiformfläche 102 bereitgestellt ist, welche sich entlang eines Scanweges 44 der Strahlablenkeinrichtung 22 erstreckt. Bei dieser Ausgestaltung sind die ersten Reflexionsflächen 46 durch entlang des Scanweges 44 hintereinander angeordnete Flächenabschnitte 104 der Freiformfläche 102 gebildet. Die zweiten Reflexionsflächen 48 sind entsprechend durch entlang des Scanweges 44 hintereinander angeordnete zweite Flächenabschnitte 106 der Freiformfläche 102 bereitgestellt. Beispielhaft und bevorzugt gehen die ersten Reflexionsflächen 46 bzw. ersten Flächenabschnitte 104 entlang des Scanweges 44 kontinuierlich ineinander über. Beispielhaft und bevorzugt gehen ebenso die zweiten Reflexionsflächen 48 bzw. zweiten Flächenabschnitte 106 entlang des Scanweges 44 kontinuierlich ineinander über. Bei nicht dargestellten Ausgestaltungen ist es auch möglich, dass die ersten Reflexionsflächen 46 durch Flächenabschnitte einer ersten Freiformfläche bereitgestellt sind und die zweiten Reflexionsflächen 48 durch Flächenabschnitte einer, insbesondere von der ersten Freiformfläche separat bereitgestellten zweiten Freiformfläche bereitgestellt sind.
Die 9 zeigt in schematischer Darstellung eine Lithographievorrichtung, welche insgesamt mit dem Bezugszeichen 108 bezeichnet ist. Die Lithographievorrichtung ist zum Schreiben einer Struktur 110 in einem Lithographiematerial 112 ausgebildet. Die Lithographievorrichtung 108 umfasst eine Lichtquelle 114 zur Aussendung eines Lichtstrahls 12, insbesondere Laserstrahls 12. Die Lithographievorrichtung 10 umfasst außerdem eine insgesamt mit dem Bezugszeichen 116 bezeichnete und in 9 lediglich angedeutete Strahlführungseinrichtung zur Definition eines Strahlengangs 117 für den Lichtstrahl 12 von der Lichtquelle 114 zu dem zu strukturierenden Lithographiematerial 112. Die Strahlführungseinrichtung 116 kann beispielsweise mehrere Module (nicht dargestellt) umfassen, welche optische und/oder mechanische Funktionen erfüllen. Die Lithographievorrichtung 108 umfasst außerdem eine Fokussieroptik 118 zur Fokussierung des Lichtstrahls 12 in einem Fokusbereich 120. Die Fokussieroptik 114 umfasst beispielhaft ein Fokussierobjektiv 122, durch welches der Lichtstrahl 12 in das Lithographiematerial 110 eingestrahlt wird. Die Lithographievorrichtung 108 umfasst außerdem eine vorstehend beschriebene Strahlformungseinrichtung 10.
Darüber hinaus umfasst die Lithographievorrichtung eine Scan-Einrichtung 124, mittels derer der Fokusbereich 120 des Lichtstrahls 12 innerhalb eines Schreibbereichs 126 mit einer zur Strukturierung erforderlichen Präzision relativ zu dem Lithographiematerial 120 verlagert werden kann. In dem dargestellten Beispiel ist die Scan-Einrichtung 124 in Ausbreitungsrichtung 128 des Lichtstrahls 12 zwischen Strahlformungseinrichtung 10 und Fokussieroptik 118 angeordnet. Die Scan-Einrichtung 124 kann bspw. eine Galvanometer-Scanner-Einheit zur kontrollierten Auslenkung des Lichtstrahls 12 umfassen.
Wie in 9 skizziert dargestellt, ist das Lithographiematerial 112 auf einer Substratoberfläche 130 eines Substrats 132 bereitgestellt. Das Substrat 132 ist beispielhaft und bevorzugt mittels einer Positioniereinrichtung 134 relativ zu dem Fokusbereich 120 des Lichtstrahls 12 positionsgenau verlagerbar.
Die Lithographievorrichtung 108 umfasst außerdem eine Steuereinrichtung (nicht dargestellt), welche dazu eingerichtet ist, die Lithographievorrichtung 108 anzusteuern. Vorzugweise ist die Steuereinrichtung dazu eingerichtet, die Strahlformungseinrichtung 10 derart anzusteuern, dass der Lichtstrahl 12 in Abhängigkeit einer Scanposition des Fokusbereiches 126 innerhalb der Scanfläche einer vorbestimmten Strahlformungsoptik 14 zugeführt wird. Die Steuereinrichtung ist beispielhaft außerdem dazu eingerichtet, in Abhängigkeit der Scanposition des Fokusbereichs 116 eine Lichtleistung zu verändern. Beispielsweise ist es denkbar, dass die Lithographievorrichtung 108 einen von der Steuereinrichtung ansteuerbaren akusto-optischen Modulator (nicht dargestellt) umfasst, welcher dazu eingerichtet ist, eine Lichtleistung des von der Lichtquelle 114 ausgesandten Lichtstrahls 12 zu verändern.

Claims

Lithographievorrichtung (108) zur Erzeugung einer Struktur (110) in einem Lithographiematerial (112), umfassend - eine Lichtquelle (114) zur Aussendung eines Lichtstrahls (12); - eine Strahlführungseinrichtung (116) zur Definition eines Strahlengangs (117) für den Lichtstrahl (12) von der Lichtquelle (114) zu dem Lithographiematerial (112) ; - eine Strahlformungseinrichtung (10) zur variablen Einstellung einer Strahlform des Lichtstrahls (12), umfassend eine Mehrzahl von Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5), welche jeweils dazu ausgebildet sind, eine Strahlform eines Eingangslichtstrahls (18) zu verändern, wobei zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) dazu eingerichtet ist, eine unterschiedliche Strahlform zu erzeugen, und eine Strahlablenkeinrichtung (22), welche dazu eingerichtet ist, um einen in die Strahlformungseinrichtung (10) eingestrahlten Lichtstrahl (12) wahlweise nur einer der Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) zuzuführen und für einen diese Strahlformungsoptik (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) verlassenden Ausgangslichtstrahl (20) einen Ausgangsstrahlengang (40) zu definieren; - eine Fokussieroptik (118) zur Fokussierung des Lichtstrahls (12) in einem Fokusbereich (120); - eine Scan-Einrichtung (124) zur Verlagerung des Fokusbereichs (126) des Lichtstrahls (12) innerhalb einer Scanfläche; und - eine Steuereinrichtung zur Ansteuerung der Lithographievorrichtung (108), wobei die Steuereinrichtung dazu eingerichtet ist, die Strahlformungseinrichtung (10) derart anzusteuern, dass der Lichtstrahl (12) in Abhängigkeit einer Scanposition des Fokusbereichs (120) innerhalb der Scanfläche einer vorbestimmten Strahlformungsoptik (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) zugeführt wird.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 1, wobei zumindest eine Teilmenge der Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) dazu eingerichtet ist, eine asymmetrische und/oder schlitzförmige Strahlform zu erzeugen.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei die Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) jeweils wenigstens ein optisches Element (88), welches strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirkt, oder wenigstens zwei optische Elemente (78, 80), welche gemeinsam strahlaufweitend oder strahlverjüngend wirken, aufweisen.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 3, wobei das wenigstens eine optische Element (88) a. ein diffraktives, reflektives, absorbierendes, refraktierendes oder akustooptisches optisches Element ist und/oder b. translatorisch verlagerbar oder rotierbar angeordnet ist, insbesondere vibrierend.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 3, wobei a. ein erstes optisches Element (78) ein optisches Zerstreuungselement (90), insbesondere eine Zerstreuungslinse (92) oder ein Zerstreuungsspiegel (74), ist und wobei ein zweites optisches Element (80) ein optisches Sammelelement (94), insbesondere eine Sammellinse (96) oder ein Sammelspiegel (76), oder b. ein erstes und ein zweites optisches Element (78, 80) jeweils ein optisches Sammelelement (90, 94), insbesondere eine Sammellinse (92) oder ein Sammelspiegel, sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) jeweils ein Reflexionsflächenpaar (50) mit einer ersten Reflexionsfläche (46) und einer zweiten Reflexionsfläche (48) umfassen, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) eines Reflexionsflächenpaars (50) derart ausgebildet und angeordnet sind, dass ein auf die erste Reflexionsfläche (46) treffender Lichtstrahl (12) von der ersten Reflexionsfläche (46) auf die zweite Reflexionsfläche (48) umgelenkt wird.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 6 bei Rückbezug auf einen der Ansprüche 3 bis 5, wobei in einem Strahlengang (86) zwischen erster und zweiter Reflexionsfläche (46, 48) das wenigstens eine optische Element (88) oder die wenigstens zwei optischen Elemente (78, 80) angeordnet sind, insbesondere wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) eben sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 oder 7, wobei in einem Strahlengang (86) von der ersten Reflexionsfläche (46) zu der zweiten Reflexionsfläche (48) a. zuerst ein optisches Zerstreuungselement (90) und dann ein optisches Sammelelement (94) angeordnet ist oder umgekehrt, wobei das optische Zerstreuungselement (90) innerhalb einer Brennweite (f) des optischen Sammelelements (94) angeordnet ist oder b. zuerst ein erstes optisches Sammelelement (98) und dann ein zweites optisches Sammelelement (100) angeordnet ist, wobei das erste optische Sammelelement (98) und das zweite optische Sammelelement (10) in einem Abstand (d) zueinander angeordnet sind, welcher der Summe der Brennweite (f'₁) des ersten optischen Sammelelements (98) und der Brennweite (f'₂) des zweiten optischen Sammelelements (100) entspricht.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 6, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) derart ausgebildet sind, dass durch sequentielles Wechselwirken des Lichtstrahls (12) mit der ersten und der zweiten Reflexionsfläche (46, 48) eine Strahlform des Lichtstrahls (12) symmetrisch oder asymmetrisch veränderbar ist, insbesondere ein Strahlquerschnitt (58) vergrößerbar oder verkleinerbar ist.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 oder 9, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) gekrümmt, insbesondere paraboloid-förmig, ausgebildet sind, wobei eine der beiden Reflexionsflächen (46) konvex ausgebildet ist und wobei die andere Reflexionsfläche (48) konkav ausgebildet ist.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 oder 9, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) paraboloid-förmig ausgebildet sind, insbesondere durch Parabolspiegel (62, 64) bereitgestellt sind, wobei die erste Reflexionsfläche (46) und die zweite Reflexionsfläche (48) durch unterschiedliche Paraboloid-Funktionen definiert sind, wobei die erste Reflexionsfläche (46) einen ersten Brennpunkt (f₁) und die zweite Reflexionsfläche (48) einen zweiten Brennpunkt (f₂) aufweist, wobei die erste und die zweite Reflexionsfläche (46, 48) derart relativ zueinander angeordnet sind, dass der erste und der zweite Brennpunkt (f₁, f₂) zusammenfallen.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 bis 11, wobei die erste Reflexionsfläche (46) und/oder die zweite Reflexionsfläche (48) als Freiformfläche (102) ausgebildet sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Strahlablenkeinrichtung (22) dazu eingerichtet ist, den Eingangslichtstrahl (18) entlang eines Scanweges (44) zu verlagern, wobei die Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5), insbesondere die ersten Reflexionsflächen (46) und/oder die zweiten Reflexionsflächen (48), sequentiell entlang des Scanweges (44) angeordnet sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 bis 12 oder nach Anspruch 13 bei Rückbezug auf Anspruch 6, wobei die ersten Reflexionsflächen (46) durch, insbesondere kontinuierlich ineinander übergehende, erste Flächenabschnitte (104) einer, insbesondere entlang des Scanweges (44) erstreckten, vorzugsweise durchgehenden, ersten Freiformfläche (102) bereitgestellt sind und/oder wobei die zweiten Reflexionsflächen (48) durch, insbesondere kontinuierlich ineinander übergehende, zweite Flächenabschnitte (106) einer, insbesondere entlang des Scanweges (44) erstreckten, vorzugsweise durchgehenden, zweiten Freiformfläche (102) bereitgestellt sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 6 bis 12 oder nach einem der Ansprüche 13 oder 14 bei Rückbezug auf Anspruch 6, wobei die Strahlablenkeinrichtung (22) eine erste Strahlablenkfläche (26), insbesondere einen ersten Spiegel (24), weiter insbesondere einen ersten Galvanometerspiegel (24), und eine zweite Strahlablenkfläche (30), insbesondere einen zweiten Spiegel (28), weiter insbesondere einen zweiten Galvanometerspiegel (28), aufweist, wobei die erste Strahlablenkfläche (26) dazu eingerichtet ist, einen auf sie auftreffenden Eingangslichtstrahl (18), insbesondere unmittelbar, auf die erste Reflexionsfläche (46) einer der Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) umzulenken, und wobei die zweite Strahlablenkfläche (48) dazu eingerichtet ist, um für einen von der zweiten Reflexionsfläche (48) dieser Strahlformungsoptik (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) abgelenkten Ausgangslichtstrahl (20) einen Ausgangsstrahlengang (40) zu definieren.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 15, wobei die erste Strahlablenkfläche (26) derart um eine erste Schwenkachse (34) schwenkbar ist, dass durch Verschwenken der ersten Strahlablenkfläche (26) um die erste Schwenkachse (34) der Eingangslichtstrahl (18) wahlweise auf eine der ersten Reflexionsflächen (46) der Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) umlenkbar ist und/oder wobei die zweite Strahlablenkfläche (48) um eine zweite Schwenkachse (38) schwenkbar ist, insbesondere wobei die erste und die zweite Schwenkachse (34, 38) kollinear sind.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 16, wobei eine Schwenkbewegung der ersten Strahlablenkfläche (26) um die erste Schwenkachse (34) und eine Schwenkbewegung der zweiten Strahlablenkfläche (30) um die zweite Schwenkachse (38) synchronisiert, insbesondere zwangsgekoppelt, sind.
Lithographievorrichtung (108) nach Anspruch 15, wobei die erste und die zweite Strahlablenkfläche (26, 28) durch einen gemeinsamen Spiegel (52), insbesondere durch eine, vorzugsweise durchgehende, Spiegelfläche dieses Spiegels (52), bereitgestellt sind, wobei der Spiegel (52) um eine Spiegel-Schwenkachse (56) schwenkbar ist.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 16 bis 18, wobei die Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5), insbesondere die Reflexionsflächenpaare (50), entlang eines Umfangs um die erste Schwenkachse (34) oder die Spiegel-Schwenkachse (56) angeordnet sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 16 bis 19, wobei die erste und die zweite Schwenkachse (34, 38) oder die Spiegel-Schwenkachse (56) zu einer jeweiligen Krümmungsachse der ersten und/oder zweiten Reflexionsfläche (46, 48), insbesondere einer Krümmungsachse des ersten und/oder zweiten Parabolspiegels (62, 64), orthogonal orientiert sind.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der Ansprüche 16 bis 20, wobei die Strahlformungsoptiken (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5) derart ausgebildet sind, dass eine Ausgangsstrahlrichtung (49) eines von der zweiten Reflexionsfläche (48) reflektierten Ausgangslichtstrahls (20) parallel zu einer Eingangsstrahlrichtung (47) des auf die erste Reflexionsfläche (46) eingestrahlten Eingangsstrahls (18) verläuft und dass die Ausgangsstrahlrichtung (49) und die Eingangsstrahlrichtung (47) innerhalb einer Ebene liegen, welche die erste und die zweite Schwenkachse (34, 38) oder die Spiegel-Schwenkachse (56) enthält.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Steuereinrichtung außerdem dazu eingerichtet ist, in Abhängigkeit der Scanposition eine Lichtleistung, insbesondere Laserleistung, zu verändern.
Lithographievorrichtung (108) nach einem der vorherigen Ansprüche, außerdem umfassend eine Einstelleinrichtung zur Einstellung einer Fokusposition des Fokusbereichs (120) entlang der optischen Achse (z) des Lichtstrahls (12), insbesondere in Abhängigkeit einer gewählten Strahlformungsoptik (14-1, 14-2, 14-3, 14-4, 14-5).