DE102021121345A1 - Legierung und Verfahren zum Herstellen eines nanokristallinen Metallbandes - Google Patents

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    • H01F41/0226Manufacturing of magnetic circuits made from strip(s) or ribbon(s) from amorphous ribbons

Abstract

Eine Legierung wird bereitgestellt, die durch die FormelCO100-a-b-c-d-x-y-zFeaCubMcTdSixByZzbeschrieben ist, worin M eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Nb, Mo ist und Ta und T eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Mn, V, Cr und Ni ist und Z eines oder mehrere der Gruppe der Elemente C, P und Ge ist, wobei a, b, c, d, x, y, z in Atom-% angegeben sind, und a, b, c, d, w, y, z die folgenden Bedingungen erfüllen:1,5<a<150,1<b<1,51≤c<50≤d<512<x<185<y<80≤z<2und bis zu 1 at.-%, bevorzugt bis zu 0,5 at.-% an Verunreinigungen aufweist.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Legierung, insbesondere eine amorphe Co-basierte Legierung, und eine nanokristalline Co-basierte Legierung sowie ein Verfahren zum Herstellen eines nanokristallinen Metallbandes, insbesondere eines nanokristallinen Metallbandes aus einer Co-basierten Legierung.
  • Weichmagnetische, metallische Materialien werden aufgrund ihrer hohen magnetischen Flussdichte, hohen Permeabilität, geringen Kernverluste und somit damit verbundenem geringen Energieaufwand in elektronischen Bauelementen in unterschiedlichen Bereichen angewendet. Typische Anwendungen liegen dabei zum Beispiel im Bereich von Stromwandlern, Transformatoren und Drosseln.
  • Amorphe Co-Basis-Legierungen können für diese Anwendungen eingesetzt werden, die durch eine Rascherstarrungstechnolgie in Form eines Bandes hergestellt werden. Sie zeichneten sich durch hervorragend gute weichmagnetische Eigenschaften wie extrem geringe Koerzitivfeldstärke Hc und verschwindende Magnetostriktion λs aus. Hohe Permeabilitäten im Bereich von bis zu mehreren 100 000 werden auch erreicht. Um das amorphe Band in ein nanokristallines Band umzuwandeln, wird das Metallband kontinuierlich nachbehandelt, beispielsweise wärmebehandelt im Durchlauf unter Zugspannung. Ein geeignetes Verfahren und Fördersystem ist in der DE 10 2015 102 765 A1 sowie in der WO2103/156010 A1 offenbart.
  • Es besteht der Bedarf nach optimierten elektronischen Geräten mit höherer Effizienz bzw. niedrigerem Energieverbrauch, bei höheren Arbeitsfrequenzen und geringerem Bauvolumen. Um diese Ziele zu erreichen, sind verbesserte weichmagnetische Legierungen wünschenswert, die zuverlässig hergestellt werden können.
  • Aufgabe besteht somit darin, eine weichmagnetische Legierung bereitzustellen, die höhere Arbeitsfrequenzen in elektronischen Geräten ermöglicht und die zuverlässig hergestellt werden kann.
  • Erfindungsgemäß wird eine Legierung bereitgestellt, die durch die Formel Co100-a-b-c-d-x-y-zFeaCubMcTdSixByZz beschrieben ist, worin M eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Nb, Mo und Ta und T eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Mn, V, Cr und Ni ist und Z eines oder mehrere der Gruppe der Elemente C, P und Ge ist, wobei a, b, c, d, x, y, z in Atom-% angegeben sind, und a, b, c, d, w, y, z die folgenden Bedingungen erfüllen: 1,5 < a < 15
    Figure DE102021121345A1_0008
    0,1 < b < 1,5
    Figure DE102021121345A1_0009
    1 c < 5
    Figure DE102021121345A1_0010
    0 d < 5
    Figure DE102021121345A1_0011
    12 < x < 18
    Figure DE102021121345A1_0012
    5 < y < 8
    Figure DE102021121345A1_0013
    0 z < 2
    Figure DE102021121345A1_0014
  • Bis zu 1 at.-%, bevorzugt bis zu 0,5 at.-% an Verunreinigungen können in der Legierung vorhanden sein, wobei diese nicht durch die Formel abgedeckt sind.
  • Diese Legierung ist eine Co-Basis-Legierung, die mittels Rascherstarrungstechnologie und somit in der Form eines Bandes mit einer geringen Dicke hergestellt werden kann. Die Legierung in Form eines Bandes kann im Durchlauf unter Zugspannung wärmebehandelt werden, um ein nanokristallines Band mit einer niedrigen Permeabilität zu erzeugen. Da die erfindungsgemäße Legierung als Band mit einer geringen Dicke und niedrigen Permeabilität hergestellt werden kann, ist die Legierung geeignet, eine höhere Effizienz und niedrigeren Energieverbrauch bei höheren Arbeitsfrequenzen und geringerem Bauvolumen in deren Anwendungen wie Ringbandkernen zu gewährleisten und die Arbeitsfrequenz bei elektronischen Geräten zu erhöhen. Ferner kann die Zugspannung, bei der die niedrige Permeabilität erreicht wird, niedrig gehalten werden. Somit ist die Gefahr von Rissen reduziert, sodass das Band großtechnisch zuverlässig herstellt werden kann.
  • Die erfindungsgemäße Legierung hat einen Wert dHk/dσ (Zugspannungssensitivität) von größer als 1.0 A/cm/MPa, vorzugsweise von größer als 1.5 A/cm/MPa. Die Zugspannungssensitivität dHk/dσ beschriebt das Ansprechverhalten einer Legierung, auf eine angelegte Zugspannung eine induzierte Anisotropie auszuprägen. Der Begriff beschreibt die Änderung des induzierten Anisotropiefeldes Hk mit der bei der Wärmebehandlung angelegten Zugspannung σ. Umso größer der Wert der Zugspannungssensitivität dHk/dσ einer Legierung ist, desto weniger Zugkraft bzw. Zugspannung muss zum Erreichen des gewünschten Permeabilitätsniveaus bei der Durchlaufwärmebehandlung angelegt werden.
  • Es wird nur eine Zugspannungsdifferenz Δσ kleiner als 200 MPa, vorzugsweise kleiner als 100 MPa, auf Grund des hohen Wertes der Zugspannungssensitivität bei der erfindungsgemäßen Legierung benötigt, um eine Permeabilität von µ = 60 auszubilden. Folglich kann die Wärmebehandlung der erfindungsgemäßen Legierung als Durchlaufwärmebehandlung unter Zugspannung durchgeführt werden, wobei die notwendige Zugspannung legierungstechnisch über die hohe Zugspannungssensitivität dHk/dσ minimiert wird. Somit werden Brüche und Abrisse minimiert und die Wirtschaftlichkeit des gesamten Prozesses sichergestellt.
  • Die wirtschaftliche Herstellung von niederpermeablem Bandmaterial, beispielsweise mit einer Permeabilität von unter 200, mit weichmagnetischen Eigenschaften, die für die Produktion von Ringbandkernen geeignet sind, wird geschaffen, welche beispielsweise in Interphase Transformatoren, Isolationstransformatoren, Fly-Back Transformatoren, Speicher-Drosseln und PFC Drosseln Anwendung finden. Die starke Frequenzabhängigkeit der Permeabilität der erfindungsgemäßen Legierung wird hierin angewendet, um die Arbeitsfrequenz dieser Anwendungen zu erhöhen.
  • Die Erfindung basiert auf den folgenden Erkenntnissen. Der Wirbelstromtheorie folgend bleibt die intrinsische Permeabilität (µi) bis zum Erreichen der Wirbelstromgrenzfrequenz fg konstant. Innerhalb dieses Bereiches zeigt sich eine konstante Permeabilität für die Dimensionierung eines Bauelementes. Danach fällt die Permeabilität drastisch ab. Mit konstanten Permeabilitätseigenschaften kann also hier nicht mehr gerechnet werden. Für die hohen Permeabilitäten im Bereich von bis zu mehreren 100 000 limitiert sich die erreichbare Frequenz daher auf Wirbelstromgrenzfrequenzwerte unter 100kHz.
  • Um Bauelemente durch Erhöhung der Arbeitsfrequenz zu optimieren, muss die Wirbelstromgrenzfrequenz für die verwendeten Materialien erhöht werden. Aus der Berechnungsformel (1) für die Wirbelstromgrenzfrequenz fg erkennt man, dass es dafür mehrere Möglichkeiten gibt. ƒ g = 4 π ρ e l . μ 0 μ D C d 2
    Figure DE102021121345A1_0015
    wobei ρel. den spezifischen elektrischen Widerstand, µ0, µDC und d die Dicke des Materials bezeichnen.
  • Grundsätzlich könnte der spezifische elektrische Widerstand ρel. durch entsprechendes Legierungsdesign erhöht werden. Jedoch limitiert sich der Einsatz von nichtmetallischen Zusätzen, d.h. die Metallode wie B, Si, P und C, auf ca. 25 at% für den Fall, dass das Material als amorphes Band über einen Rascherstarrungsprozess hergestellt wird. Andererseits kann die Wirbelstromgrenzfrequenz fg durch die Reduktion der Dicke d des für einen Ringbandkern verwendeten Bandes sehr effizient (d2) zu höheren Werten hin verschoben werden. Die Banddicke für amorphe Bänder aus einem Rascherstarrungsprozess kann im Hinblick auf magnetische Anwendungen in einem Bereich von 10µm bis 25µm - also um gut einen Faktor 2 - variiert werden.
  • Der effizienteste Weg, die Wirbelstromgrenzfrequenz fg drastisch auf höhere Werte zu bringen, ist jedoch, die intrinsische Permeabilität (µi) des eingesetzten weichmagnetischen Bandmaterials zu verändern. Da die Permeabilität grundsätzlich um mehrere Größenordnungen variiert werden kann, sind Wirbelstromgrenzfrequenzwerte bis in den zweistelligen MHz-Bereich möglich. Dazu muss allerdings die Permeabilität des weichmagnetischen Materials auf Werte unter 100 abgesenkt werden. Für die nanokristallinen Fe-Basis- und amorphen Co-Basis-Legierungen muss somit die Permeabilität vom aktuellen Permeabilitätsniveau um 100 000 um mehrere Größenordnungen bis auf Werte unter 100 abgesenkt werden.
  • 1a zeigt die erreichbare Permeabilität µ für unterschiedliche Methoden einer Querfeld-Anisotropie, d.h. die Anisotropie quer zur Bandlängsachse des Bandes, aus dem der Ringbandkern gewickelt wurde, einzubringen als Funktion der Sättigungsinduktion Bs für unterschiedliche Legierungssysteme und Materialzustände. In einem ersten Ansatz wird die Anisotropie durch eine stationäre Wärmebehandlung in einem magnetischen Feld quer zur Längsachse des Bandstreifens, aus dem der Ringbandkern gewickelt wurde (gekennzeichnet mit - „Core: Transverse Field Annealing“), eingebracht.
  • Für die Gruppe der amorphen Co-Basis-Legierungen kann die erreichbare Permeabilität in diesem Fall durch Variation der Zusammensetzung und durch Variation der Wärmebehandlungsbedingungen in einem Bereich von 200 000 bis knapp unter 1 000 eingestellt werden. Extrem geringe Permeabilität unter 100 kann in diesem System nicht erreicht werden. Ähnliches gilt für die Gruppe der nanokristallinen Fe-Basis-Legierungen. Die Standard VITROPERM® Legierung mit der Zusammensetzung Fe-Cu1Nb3Si15.5B6.5 (at%) zeigt eine Permeabilitätsvariation durch unterschiedliche Wärmebehandlungsbedingungen im Bereich von 200 000 bis 25 000. Andere VITROPERM®-ähnliche Legierungen, die allesamt bei ca. 1.2T bis 1.3T Sättigungsinduktion liegen und bei denen die Ausbildung einer höheren Anisotropie durch Fremdelemente wie Ni und Co begünstigt wurde, zeigen Permeabilitäten im Bereich von 12 000 bis 2 500. Somit kann weder mit den Co-Basis-Legierungen noch mit den nanokristallinen Fe-Basis-Legierungen der extrem geringe Permeabilitätsbereich unter 100 erreicht werden.
  • Ein weiterer Ansatz, eine hohe Quer-Anisotropie in ein weichmagnetisches Material einzubringen, bezieht sich auf die Wärmehandlung unter einer entlang der Bandachse angelegten Zugspannung (gekennzeichnet mit - „Strip: Stress Annealing). Bei diesem Verfahren, bei dem eine sogenannte zug- oder dehnungsinduzierte Anisotropie in das Band eingebracht wird, kann man die Permeabilität in den meisten Fällen um Größenordnungen senken. Für nanokristalline Fe-Basis-Legierungen kann sich die induzierte Anisotropie mit diesem Verfahren gezielt bis in den Bereich der magnetokristallinen Anisotropie von ca. 8 kJ/m3 erhöhen lassen. Damit erreicht man mit diesen nanokristallinen Fe-Basis-Legierungen im Sättigungsmagnetisierungsbereich Bs ca. 1.2T bis 1.3T Permeabilitäten von 2 000 bis 200 unter Fertigungsbedingungen, sowie Permeabilitäten bis 100 unter Laborbedingungen. Wegen der geringeren Zugspannungssensitivität dieser Legierungen benötigt man dafür vergleichsweise hohe Zugspannungen, was zu häufigen Abrissen führt, so dass man damit selbst unter größtem Aufwand und besten Bedingungen (Laborbedingungen) für relevante Produktionslängen nicht unter ein Permeabilitätsniveau von 100 kommen kann.
  • In der 1a ist auch eine weitere Materialklasse, die nanokristallinen Co-Basis-Legierungen mit einer Sättigungsmagnetisierung im Bereich von 0.8T bis 1.0T, aufgeführt. Über das Verfahren der Wärmbehandlung unter einer Zugspannung entlang der Bandachse gelangt man bei diesen nanokristallinen Co-Basis-Legierungen zu einer enorm hohen zugspannungsinduzierten Anisotropie und zu sehr niedriger Permeabilität weit unter 100. Diese Legierungen können großtechnisch nicht zuverlässig hergestellt werden.
  • 1b zeigt beispielsweise die 60Hz Permeabilität µ an Ringbandkernen für nanokristalline Fe-Basis- und für nanokristalline Co-Basis-Legierungen, die über das Verfahren der Wärmbehandlung unter einer Zugspannung entlang der Bandachse hergestellt wurden, als Funktion der Zugspannung die notwendig ist, um das gewünschte Permeabilitätsniveau zu erreichen. Im Normalfall besteht zwischen der zugspannungsinduzierten Anisotropie und der angelegten Zugspannung bei diesem Verfahren ein mehr oder weniger linearer, positiver Zusammenhang. Daher erreicht man mit höheren Zugspannungen niedrigere Permeabilität Die 1b zeigt auch eine Zuordnung zu verschiedenen elektronischen Bauelementanwendungen. Im Bereich einer 60Hz Permeabilität von 3 000 bis 1 000 findet sich die Anwendung DCtoleranter Stromwandler, im Permeabilitätsbereich von 400 bis 100 beispielsweise Fly-Back-Übertrager und im niedrigsten Permeabilitätsbereich unter 100 Speicherdrosseln sowie PFC Drosseln. Sehr niedrige Permeabilität bei moderater angelegter Zugspannung ist nach 1b daher nur mit nanokristallinen Co-Basis Legierungen zu erreichen.
  • Die Curie-Temperatur von amorphen Co-Basis Materialien liegt typischerweise unter 400°C und die weichmagnetischen Eigenschaften verschlechtern sich bei Annäherung an und über dieser Temperatur. Ausgehend von Fe-Basis nanokristallinen Legierungen, welche bereits eine Curie-Temperatur um 600°C aufweisen, wird durch Kobaltzugabe die Curie-Temperatur der amorphen Phase erhöht und somit der Bereich der Betriebs- oder Anwendungstemperatur erweitert.
  • Optimierte nanokristalline Bandkerne erschließen - bei hoher Sättigungsmagnetisierung und gleichzeitig sehr genau einstellbarer Permeabilität - einen vergleichsweise großen Permeabilitätsbereich. Dies macht sie für verschiedenste Anwendungen einsetzbar. Für Speicherdrosseln werden damit insbesondere auch Permeabilitätswerte oberhalb und unterhalb von ca. 100 zugänglich, was neue Möglichkeiten erschließt, Drosseln mit vergleichsweise niedrigeren Windungszahlen zu realisieren, um Kupferverluste zu reduzieren. Für hochlineare, DC-tolerante Stromwandler ist der Permeabilitätsbereich von mehreren hundert bis zu wenigen 1000 interessant, da die unter Zugspannung wärmebehandelten Bänder aussteuerungsunabhängig eine nahezu konstante Permeabilität bis hin zur Sättigung aufweisen (µ(H)=konstant) und diese Eigenschaft nun auch für den kompletten Kern erhalten werden kann.
  • Wie bereits erklärt, kann man eine sehr niedrige Permeabilität an weichmagnetischen Ringbandkernen nur mit nanokristallinen Fe-Basis- oder Co-Basis-Legierungen erreichen, wobei das für den Ringbandkern notwendige Bandmaterial in gestreckter Form und unter angelegter Zugspannung entlang der Bandachse wärmehandeltwird, um die amorphe Legierung in den nanokristallinen Zustand zu überführen. Ein Ringbandkern weist ein aufgewickeltes metallisches und weichmagnetisches Band mit minimal möglicher Banddicke auf. In beiden Fällen erfährt das Band während des Prozesses eine Transformation vom anfänglich amorphen Zustand in den nanokristallinen Zustand. Der nanokristalline Zustand unterscheidet sich unter anderem durch eine wesentlich höhere Sprödigkeit vom amorphen Zustand.
  • Um Zugspannungen in den metallischen Bändern einzustellen, verwendet man beispielsweise S-Rollensysteme, bzw. abgewandelte Fördersysteme, wie in der DE 10 2015 102 765 A1 beschrieben. Das Einbringen einer Zugspannung führt aber zu einer deutlichen Abrisshäufung bei diesem Wärmebehandlungsprozess. Nach dem Übergang in den nanokristallinen Zustand tritt im Bandmaterial eine thermische Relaxation auf, welche zu einer Versprödung des Materials insgesamt oder zu spröden Stellen entlang des metallischen Bandes führt. Der nanokristalline Zustand ist daher im Vergleich zum amorphen Zustand ein glasartig spröder Zustand. Das Material kann nicht mehr geknickt oder geschnitten werden. Bei zu starker Biegung oder nicht achsenparalleler Zugkrafteinbringung zerbricht das Band in kleine Bruchstücke. Lediglich bei gradgenauer Kraftführung entlang der Bandlängsachse kann das nanokristalline Bandmaterial sehr hohen Zugspannungen ausgesetzt werden.
  • Langjährige Versuche zeigten, dass nur eine Biegebelastung zu Brüchen und Abrissen im Bandmaterial führt, eine reine Zugbelastung entlang der Bandachse ist jedoch relativ unkritisch. Für einen kontinuierlichen Wärmebehandlungsprozess unter angelegter Zugspannung sind jedoch Umlenkungen und Biegungen des Materials notwendig. Ferner sind auch fertigungsbedingte Abweichungen von achsenparallelen Krafteinleitungen sowie nicht perfekter Geradeauslauf des Bandmaterials unvermeidbar. Daher wird es im Fertigungsbetrieb immer wieder zu Brüchen und Abrissen im Bandmaterial kommen. Eine kontinuierliche Wärmebehandlung unter Zugspannung an metallischen Bändern führt nur dann zu einem wirtschaftlichen Prozess, wenn die Anzahl der Abrisse des unter Zugspannung stehen Bandes, im gestreckten Zustand zwischen den Förderrollen und im Bereich der Förderrollen, minimiert werden kann.
  • Das Elastizitätsmodul liegt bei diesen Legierungen im nanokristallinen Zustand um 200GPa. Somit würden die, während einer Wärmebehandlung angelegten, maximalen Zugspannungen von kleiner 600MPa nur zu minimalen Dehnungen im elastischen Bereich des Materials führen und können somit als Ursache für das Abreißen oder den Bruch des Materials ausgeschlossen werden. Als Ursache für Bruch und Abrisse im nanokristallinen Zustand wird erfindungsgemäß die Oberflächen- und Randstruktur des über einen Rascherstarrungsprozess hergestellten Bandmaterials angesehen.
  • Bei der zur Herstellung von amorphen Folien nötigen Rascherstarrungstechnologie wird eine glasbildende Metall-Legierung in einem Tiegel, der typischerweise im Wesentlichen aus oxydischer Keramik und/oder Grafit besteht, erschmolzen. Der Schmelzvorgang kann, je nach Reaktivität der Schmelze, unter Luft, Vakuum oder einem Schutzgas wie beispielsweise Argon erfolgen. Nach dem Aufschmelzen der Legierung auf Temperaturen deutlich oberhalb des Liquidus-Punktes wird die Schmelze zu einem Gießtundisch transportiert und durch eine Gießdüse, welche in der Regel eine schlitzförmige Auslassöffnung hat, auf ein rotierendes Rad aus einer Kupferlegierung gespritzt. Die Gießdüse wird hierzu sehr nahe an die Oberfläche des rotierenden Rades, typischerweise eines Kupferrades, gebracht und hat zu diesem einen Abstand von etwa 50 - 500 µm. Die Schmelze, welche den Düsenauslass passiert und auf die bewegte Kupferoberfläche trifft, erstarrt dort mit Abkühlgeschwindigkeiten von etwa 106 K/s. Durch die Drehbewegung des Kupferrades wird die erstarrte Schmelze als kontinuierlicher Folienstreifen abtransportiert, von der Kühlwalze gelöst und auf einer Wickelvorrichtung als kontinuierlicher Folienstreifen bzw. Band aufgewickelt.
  • Verschleiß der Gießradoberfläche während des Gießprozesses führt zu einer erhöhten Rauigkeit der Radoberfläche. Dies führt im Anschluss wieder dazu, dass Kavitäten oder ähnliche Strukturen entstehen, die zum einen Prozessgas unter den Schmelztropfen transportieren oder zu größeren Gasblasen im Kontaktbereich des Schmelztropfens zum Gießrad führen. Bei der Erstarrung der Schmelze werden diese Gasblasen im amorphen Band eingefroren und können einerseits zu lochartigen Defekten des Bandes führen. Zum anderen führt der erhöhte Verschleiß des Gießrades über einen Prägeeffekt zu Unebenheiten und erhöhter Rauigkeit auf den beiden Oberflächen des erstarrten Bandes. Somit muss man bei metallischen amorphen Folien, welche über einen Rascherstarrungsprozess hergestellt wurden, im Allgemeinen immer mit den oben beschriebenen Oberflächen- und Randstrukturen rechnen. Im Speziellen gilt das dann auch für alle verwendeten Bänder der oben genannten Wärmebehandlungsprozesse unter angelegter Zugspannung entlang der Bandachse. Die Bänder werden immer Fehlstellen aufweisen, welche dann als Ursache für Bruch und Abriss angesehen werden können.
  • Wie die 1 und 2 zeigen, werden für moderne, optimierte Anwendungen extrem niederpermeable, weichmagnetische bandförmige Materialien zur Herstellung von Ringbandkernen benötigt, welche sich mit nanokristallinen Fe-Basis- bzw. nanokristallinen Co-Basis-Legierungen über einen Wärmebehandlungsprozess unter angelegter Zugspannung herstellen lassen. Das Problem dabei liegt darin, dass man für niedrige Permeabilität hohe Zugspannungen benötigt, währenddessen das Material im nanokristallinen Zustand aber sehr spröde ist und vermehrt bei hoher Zugspannung bei Biegung und Umlenkung bricht und reißt. Dies führt unter Fertigungsbedingungen zu einem nicht mehr wirtschaftlichen Prozess mit zu hohem Material- und Personalaufwand und letztlich zu übermäßig hohen Produktionskosten.
  • Erfindungsgemäß wird dieses Problem dadurch gelöst, indem eine Minimierung der notwendigen Zugspannung angestrebt wird. Umso geringer die notwendige Zugspannung zum Erreichen des gewünschten Permeabilitätsniveaus während des kontinuierlichen Wärmebehandlungsprozesses gehalten werden kann, desto weniger wird das nanokristalline Band mechanisch belastet und desto weniger Brüche oder Abrisse werden erfolgen. Damit kann ein kontinuierlich ablaufender Prozess erreicht werden. Infolgedessen sollte die Wirtschaftlichkeit des Prozesses steigen bzw. der Personalaufwand und die Produktkosten minimiert werden.
  • Ein Legierungssystem wird somit erfindungsgemäß bereitgestellt, bei dem man mit minimaler Zugspannung maximale Anisotropie induzieren kann und dabei aber auch einen breiten Anisotropiebereich bzw. Permeabilitätsbereich abdeckt, um den Anforderungen unterschiedlicher Bauelementanwendungen gerecht zu werden. Wobei als Randbedingung natürlich die gute Gießbarkeit des amorphen Ausgangsmaterials und das weichmagnetische Verhalten der Legierung wie geringstes Koerzitivfeld Hc, minimale Magnetostriktion λs, minimales Remanenzverhältnis Br/Bmax und geringste Nichtlinearität der Hystereseschleife nlin nach der Wärmebehandlung eingehalten werden muss.
  • Die NichtLinearität der Hystereseschleife nlin beschreibt die Linearität des zentralen Teils der Hystereseschleife, der zwischen den Anisotropiefeldstärkepunkten liegt, die den Übergang in die Sättigung kennzeichnen. Ein linearer Teil dieses zentralen Teils der Hystereseschleife wird hierin durch einen Nichtlinearitätsfaktor nlin oder auch NL definiert, wobei der Nichtlinearitätsfaktor NL durch die Formel N L ( % ) = 100 2 ( δ B a u f + δ B a b ) / B s
    Figure DE102021121345A1_0016
    berechnet und beschrieben werden kann.
  • Dabei bezeichnen 5Bauf bzw. δBab die Standardabweichung der magnetischen Polarisation von einer Ausgleichsgeraden durch den auf- bzw. absteigenden Ast der Hystereseschleife zwischen Polarisationswerten von ±75% der Sättigungspolarisation Bs. Die Schleife ist also umso linearer, je kleiner NL ist. Die erfindungsgemäßen Legierungen weisen einen NL-Wert von weniger als 0,8% auf.
  • Weichmagnetische Co-Basis-Legierungen werden erfindungsgemäß bereitgestellt, die als amorphes Band über einen Rascherstarrungsprozess hergestellt werden können und danach über eine Wärmebehandlung unter minimaler, axial angelegter Zugspannung in einen amorph-nanokristallinen Mischzustand überführt werden können und danach einen gewünschten niederpermeablen und angemessen weichmagnetischen Zustand aufweisen. Das aus diesem Vorgang erhaltene bandförmige Material wird im Anschluss zu Ringbandkernen verarbeitet und bei Transformatoren oder Drahtspulen Einsatz finden.
  • In manchen Ausführungsbeispielen wird die Zusammensetzung weiter definiert, wobei der Eisengehalt a 4,0 ≤ a ≤ 15,0, vorzugsweise 4,6 ≤ a ≤ 14,6,0 und/oder der Kupfergehalt 0,1 < b < 0,9, vorzugsweise 0,7 < b < 0,9 ist.
  • In manchen Ausführungsbeispielen ist das Element M ausschließlich Nb und 2 ≤ c ≤ 4, vorzugsweise 2 ≤ c ≤ 3.
  • In manchen Ausführungsbeispielen ist das Element T ausschließlich Mn und 0 ≤ d < ≤ 2,5.
  • In manchen Ausführungsbeispielen wird der Gehalt an Metalloiden oder glasbildenden Elementen weiter definiert. In manchen Ausführungsbeispielen gilt 14 ≤ x ≤ 16 für den Siliziumgehalt und/oder 5 ≤ y ≤ 7 für den Borgehalt.
  • In manchen Ausführungsbeispielen ist die Summe an Metalloiden näher definiert, wobei 20 ≤ (x + y + z) ≤ 25.
  • Die Legierung kann in Form eines Bandes bereitgestellt werden und weist eine Dicke von 10 µm bis 25 µm, vorzugsweise 12 µm bis 20 µm und/oder eine Breite von 2 mm bis zu 300 mm, vorzugsweise 40 mm bis 300 mm, und/oder als gegossenes Band eine zusammenhängende Länge von mindestens 2 km, oder mindestens 8 km auf.
  • In manchen Ausführungsbeispielen weist die Legierung nach einer Wärmebehandlung ein nanokristallines Gefüge auf, bei der zumindest 90 Vol.-% der Körner eine mittlere Größe kleiner als 25 nm aufweisen.
  • Im nanokristallinen Zustand kann die Legierung
    • eine Permeabilität von 20 bis 130, vorzugsweise maximal 100, vorzugsweise maximal 60 und/oder
    • eine Sättigungsmagnetisierung Bs nano von = 0.75 bis 1.05T und/oder
    • eine Sättigungsmagnetostriktion |λs nano| von < 8ppm, bevorzugt < 2ppm und/oder
    • ein Remanenzverhältnis Br/Bmax < 0.1, bevorzugt < 0.05 und/oder
    • eine Koerzitivfeldstärke (f = 60Hz) Hc von < 2A/cm, bevorzugt < 1.5A/cm und/oder ein Verhältnis von Hc zu dem induzierten Anisotropiefeld Hk, Hc/Hk, < 0.05, bevorzugt Hc/Hk < 0.01 und/oder
    • eine Nicht-Linearität der Hystereseschleife von < 1%, bevorzugt < 0.5% aufweisen.
  • Im nanokristallinen Zustand kann die Legierung eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ von größer als 1.0 A/cm/MPa, vorzugsweise von größer als 1.5 A/cm/MPa aufweisen, wobei Hk induziertes Anisotropiefeld und σ Zugspannung bezeichnet. Diese Zugspannungssensitivität hat den Vorteil, dass eine niedrigere Permeabilität, vorzugsweise von 20 bis 130, vorzugsweise maximal 100, vorzugsweise maximal 60 unter Verwendung einer kleinen Zugspannung in einer Wärmebehandlung im Durchlauf erzeugt werden kann, um Risse im Band während des Wärmebehandlungsprozesses zu vermeiden.
  • In manchen Ausführungsbeispielen ist die Legierung zumindest 80 Vol.-% amorph. Diese Legierung kann im gegossenen Zustand sein und kann als Anfangslegierung für die Herstellung einer nanokristallinen Legierung dienen.
  • Ein Verfahren zum Herstellen eines nanokristallinen Metallbandes wird auch bereitgestellt. Ein amorphes Metallband aus einer Legierung nach einem der vorhergehenden Ausführungsbeispielen wird bereitgestellt und im Durchlauf unter Zugspannung σ von 1 MPa bis 300 MPa bei einer Temperatur Ta, wobei 450°C ≤ Ta ≤ 750°C beträgt, wärmebehandelt, um ein nanokristallines Metallband zu erzeugen, bei dem zumindest 90 Vol.-% der Körner eine mittlere Größe kleiner als 25 nm aufweisen.
  • In manchen Durchführungsformen wird die Zugspannung während des Wärmebehandelns im Durchlauf variiert. Somit kann die Gleichmäßigkeit der magnetischen Eigenschaften über die Länge des Metallbandes verbessert werden.
  • In manchen Ausführungsformen weist das nanokristalline Metallband eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ von größer als 1.0 A/cm/MPa, vorzugsweise von größer als 1.5 A/cm/MPa auf. Dies kann durch eine entsprechende Auswahl der Zusammensetzung erreicht und dazu verwendet werden, eine niedrigere Permeabilität bei einer niedrigeren Zugspannung zu erreichen.
  • In manchen Ausführungsbeispielen weist das nanokristalline Metallband nach der Wärmebehandlung
    • eine Permeabilität von 20 bis 130, vorzugsweise maximal 100, vorzugsweise maximal 60 und/oder
    • eine Sättigungsmagnetisierung Bs nano von = 0.75 bis 1. 05T und/oder
    • eine Sättigungsmagnetostriktion |λs nano| von < 8ppm, bevorzugt < 2ppm und/oder
    • ein Remanenzverhältnis Br/Bmax < 0.1, bevorzugt < 0.05 und/oder
    • eine Koerzitivfeldstärke (f = 60Hz) Hc von < 2A/cm, bevorzugt < 1.5A/cm und/oder ein Verhältnis von Hc zu dem induzierten Anisotropiefeld Hk, Hc/Hk, Hc/Hk < 0.05, bevorzugt Hc/Hk < 0.01 und/oder
    • eine nicht-Linearität der Hystereseschleife von < 1%, bevorzugt < 0.5% auf.
  • In manchen Durchführungsformen wird das Metallband mit einer Geschwindigkeit s im Durchlauf durch einen Durchlaufofen mit einer Heizzone mit einer Länge von 30 cm bis 3 m gezogen, sodass eine Verweildauer der Folie in einer Temperaturzone des Durchlaufofens mit der Temperatur Ta zwischen 2 Sekunden und 10 Minuten liegt.
  • In manchen Durchführungsformen wird nach dem Wärmebehandeln im Durchlauf das Metallband zu einem Ringbandkern gewickelt. Das Metallband kann nach dem Wärmebehandeln im Durchlauf direkt an einer Aufnahmespule zu einem Ringbandkern gewickelt werden.
  • Das amorphe Metallband kann vor der Wärmebehandlung mit einer elektrischen Isolationsschicht beschichtet werden. Dies ist von Vorteil, wenn das Metallband nach dem Wärmebehandeln im Durchlauf direkt an einer Aufnahmespule, die stromabwärts des Ofens, in dem die Durchlaufwärmebehandlung durchgeführt wird, angeordnet ist, zu einem Ringbandkern gewickelt wird.
  • In manchen Durchführungsformen wird während des Verfahrens und im Durchlauf ein gewünschter Wert der Permeabilität µ und/oder des Anisotropiefeldes Hk und/oder ein magnetischer Bandquerschnitt AFe sowie ein erlaubter Abweichungsbereich inline gemessen, indem magnetische Eigenschaften des Metallbandes beim Verlassen des Durchlaufofens laufend gemessen werden, während das Metallband nicht mehr unter Zugspannung steht. Wenn Abweichungen von den erlaubten Abweichungsbereichen der magnetischen Eigenschaften festgestellt werden, wird die Zugspannung σ an dem Metallband entsprechend nachgeregelt, um die gemessenen Werte der magnetischen Eigenschaften in den Bereich innerhalb der erlaubten Abweichungsbereiche zurückzubringen.
  • In manchen Durchführungsformen wird ein vorbestimmter aktiver Materialquerschnitt Kern-AFe für den hergestellten Ringbandkern bereitgestellt.
  • In manchen Durchführungsformen werden, um einen vorbestimmten aktiven Materialquerschnitt eines Ringbandkerns Kern-AFe bereitzustellen, beim Verlassen des Durchlaufofens der magnetische Bandquerschnitt AFe am Metallband lokal und laufend ermittelt, die Anzahl der Bandlagen des Ringbandkerns aufgrund der ermittelten Werten des magnetischen Bandquerschnitts AFe berechnet und der Ringbandkern mit der berechneten Anzahl von Bandlagen gewickelt.
  • Das amorphe Metallband kann mit einer Rascherstarrungstechnologie hergestellt werden, wobei eine Schmelze auf eine sich bewegende Außenoberfläche eines sich bewegenden Kühlkörpers gegossen wird, wobei die Schmelze auf der Außenoberfläche erstarrt und das amorphe Metallband geformt wird.
  • In manchen Durchführungsformen wird die Außenoberfläche des Kühlkörpers kontinuierlich bearbeitet, um die Außenoberfläche des Kühlkörpers zu glätten, während die Schmelze auf die sich bewegende Außenoberfläche des Kühlkörpers gegossen wird.
  • Die Oberflächenbearbeitungsmittel können verwendet werden, um die Außenoberfläche abtragend oder umformend zu bearbeiten.
  • Als umformendes Oberflächenbearbeitungsmittel kann eine Walzvorrichtung vorgesehen werden, die auf die Außenoberfläche des Gießrades angepresst wird, während sich das Gießrad dreht. In diesem Zusammenhang wird „umgeformt“ und „umformende“ so verstanden, dass es die Umverteilung von Material bezeichnet. Das Entfernen von Material von der Außenoberfläche, wie dies mit einer Bürste durchgeführt werden kann, ist nicht Ziel der Verwendung der Walzvorrichtung. Es entstehen somit keine Späne, nahezu kein Abrieb und Staub, welche den Herstellprozess des Metallbandes negativ beeinflussen könnten.
  • Als abtragende Oberflächenbearbeitungsmittel kann eine Poliervorrichtung, die auf die Außenoberfläche des Gießrades angepresst wird, während sich das Gießrad dreht, und/oder eine Schleifvorrichtung, die auf die Außenoberfläche des Gießrades angepresst wird, während sich das Gießrad dreht, und/oder eine oder mehrere Bürsten auf die Außenoberfläche des Gießrades angepresst werden, während sich das Gießrad dreht, vorgesehen werden.
  • Die Bürsten können auch einen reinigenden Effekt haben und die Außenoberfläche selbst weder abtragen, noch umformen.
  • In einem Ausführungsbeispiel wird das Oberflächenbearbeitungsmittel so an die Außenoberfläche des Gießrades angepresst, dass es kontinuierlich die Außenoberfläche des Gießrades glättet, während die Schmelze auf die Außenoberfläche des Gießrades gegossen wird. Dieses Ausführungsbeispiel kann für die Walzvorrichtung verwendet werden.
  • Die Legierung nach einem der vorhergehenden Ausführungsbeispiele kann bei einem DC-toleranten Stromwandler oder einem Interphasen Transformator oder einem Isolationstransformator oder einem Fly-Back Transformator oder einem Fly-Back Wandler oder einer Speicher-Drossel oder einer PFC Drosseln für Industrie- und Automobilanwendungen oder einem elektronischen Steuergerät wie einem DC/DC-Wandler oder einer Speicherdrossel oder einem Speicherüberträger oder einer Filterdrossel mit niederpermeablen Kernmaterialien oder einem induktiven Energiespeicher verwendet werden.
  • Bei diesen Anwendungen ist eine hohe Arbeitsfrequenz von Vorteil und kann durch die hierin beschriebene Legierung mit einer niedrigeren Permeabilität erreicht werden.
  • Ein Ringbandkern, der ein gewickeltes Band aus einer Legierung nach einem der vorhergehenden Ausführungsbeispiele aufweist, wird auch bereitgestellt. Der Ringbandkern kann ferner eine elektrische Isolationsbeschichtung umfassen.
  • Ausführungsbeispiele werden nun anhand der Zeichnungen erläutert.
    • 1a zeigt die erreichbare Permeabilität µ für unterschiedliche Methoden einer Querfeld-Anisotropie, einzubringen als Funktion der Sättigungsinduktion Bs für unterschiedliche Legierungssysteme und Materialzustände.
    • 1b zeigt die 60Hz Permeabilität µ an Ringbandkernen für nanokristalline Fe-Basis- und für nanokristalline Co-Basis-Legierungen.
    • 2 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zum Nachbehandeln eines Bandes aus einer Co-Basis-Legierung.
    • 3 zeigt den Wert der Zugspannungssensitivität dHk/dσ für unterschiedliche nanokristalline Fe-Basis- und nanokristalline Co-Basis-Legierungen.
    • 4 zeigt die notwendige Zugspannung zum Erreichen des Permeabilitätsniveaus µ = 60 für unterschiedliche nanokristalline Fe-Basis- und nanokristalline Co-Basis-Legierungen.
    • 5 zeigt ein Beispiel einer flachen Hystereseschleife mit hohen Linearitätseigenschaften und Definitionen.
    • 6 zeigt den Verlauf das Anisotropiefeld Hk nach einer Durchlaufwärmebehandlung unter einer konstanten Zugspannung von 60MPa als Funktion der Wärmebehandlungstemperatur Ta für Legierungen aus der Tabelle 1.
    • 7 zeigt das XRD Spektrum (Cu-Ka) an einer Probe nach einer Wärmebehandlung bei Ta = 590°C für die Legierung Nr. 21 (Co65 Fe9.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.6).
    • 8 zeigt den Verlauf des Koerzitivfeldes Hc nach der Wärmebehandlung bei Temperaturen im Bereich 400°C bis 800°C für die in Tabelle 1 aufgeführten Legierungen.
    • 9 zeigt den funktionellen Zusammenhang zwischen Hc und der Wärmebehandlungstemperatur Ta.
    • 10 zeigt den Verlauf des Remanenzverhältnises Br/Bmax nach der Wärmebehandlung.
    • 11 zeigt Einzelmagnetostriktionsmesswerte an Proben verschiedener nanokristalliner Fe-Basis- und erfindungsgemäßer nanokristalliner Co-Basis-Legierungen.
    • 12 zeigt die Veränderungen von Magnetisierung und Magnetostriktion im amorphen Zustand sowie im nanokristallinen Zustand bei der Erhöhung des Co-Gehaltes von 0 auf 70at%.
    • 13 zeigt das Anisotropiefeld Hk der flachen Hystereseschleife nach einer Wärmebehandlung bei optimaler Wärmebehandlungstemperatur Ta als Funktion der angelegten Zugspannung für Fe-Basis- und Co-Basis-Legierungen aus Tabelle 1.
    • 14 zeigt Messungen der Hystereseschleife an wärmebehandelten Proben, bei denen unterschiedliche zugspannungsinduzierte Anisotropien eingebracht wurden.
    • 15 zeigt Messungen der Hystereseschleife an wärmebehandelten Proben, bei denen eine unterschiedliche zugspannungsinduzierte Anisotropie eingebracht wurde.
  • Ein amorphes Band aus einer Co-Basis-Legierung wird mittels Rascherstarrungstechnologie hergestellt. Die Co-Basis-Legierung wird in einem Tiegel, der typischerweise im Wesentlichen aus oxydischer Keramik und/oder Grafit besteht, erschmolzen. Der Schmelzvorgang kann, je nach Reaktivität der Schmelze, unter Luft, Vakuum oder einem Schutzgas wie beispielsweise Argon erfolgen. Nach dem Aufschmelzen der Legierung auf Temperaturen deutlich oberhalb des Liquidus-Punktes wird die Schmelze zu einem Gießtundisch transportiert und durch eine Gießdüse, welche in der Regel eine schlitzförmige Auslassöffnung hat, auf ein rotierendes Rad aus einer Kupferlegierung gespritzt. Die Gießdüse wird hierzu sehr nahe an die Oberfläche des rotierenden Rades, typischerweise eines Kupferrades, gebracht und hat zu dieser einen Abstand von etwa 50 - 500 µm. Die Schmelze, welche den Düsenauslass passiert und auf die bewegte Kupferoberfläche trifft, erstarrt dort mit Abkühlgeschwindigkeiten von etwa 106 K/s. Durch die Drehbewegung des Kupferrades wird die erstarrte Schmelze als kontinuierlicher Folienstreifen abtransportiert, von der Kühlwalze gelöst und auf einer Wickelvorrichtung als kontinuierliches Band aufgewickelt.
  • Die Oberfläche des Gießrads wird während des Gießverfahrens geglättet, um den Verschleiß der Gießradoberfläche während des Gießprozesses, welcher zu einer erhöhten Rauigkeit der Radoberfläche führen würde, zu reduzieren.
  • Erfindungsgemäß hat die Co-Basis-Legierung eine Zusammensetzung, die durch die Formel Co100-a-b-c-d-x-y-zFeaCubMcTdSixByZz beschrieben ist, worin M eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Nb, Mo und Ta und T eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Mn, V, Cr und Ni ist und Z eines oder mehrere der Gruppe der Elemente C, P und Ge ist, wobei a, b, c, d, x, y, z in Atom-% angegeben sind, und a, b, c, d, w, y, z die folgenden Bedingungen erfüllen: 1,5 < a < 15
    Figure DE102021121345A1_0017
    0,1 < b < 1,5
    Figure DE102021121345A1_0018
    1 c < 5
    Figure DE102021121345A1_0019
    0 d < 5
    Figure DE102021121345A1_0020
    12 < x < 18
    Figure DE102021121345A1_0021
    5 < y < 8
    Figure DE102021121345A1_0022
    0 z < 2
    Figure DE102021121345A1_0023
  • Bis zu 1 at.-%, bevorzugt bis zu 0,5 at.-% an Verunreinigungen können vorhanden sein, wobei diese nicht durch die Formel abgedeckt sind.
  • Das Band wird in einem amorphen Zustand auf Grund der hohen Abkühlrate hergestellt und kann zumindest 90 Vol.-% amorph sein. Das amorphe Band wird dann wärmebehandelt, um einen nanokristallinen Zustand zu erzeugen, bei dem zumindest 90 Vol.-% der Körner eine mittlere Größe kleiner als 25 nm aufweisen.
  • 2 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung 20 zum Wärmebehandeln eines Bandes 21 aus einer Co-Basis-Legierung unter Zugspannung. Die Vorrichtung 20 weist einen Durchlaufofen 22 mit einer Temperaturzone 23 auf, wobei diese Temperaturzone 23 so eingestellt ist, dass die Temperatur im Ofen in dieser Zone innerhalb +/- 5°C von der Anlasstemperatur Ta ist. Die Vorrichtung 20 weist ferner eine Spule 24 am Anfang des Ofens 22, auf der das Band 21 aus der Legierung im amorphen Zustand aufgewickelt ist, und eine Aufnahmespule 26 am Ende des Ofens 22 auf, auf der das wärmebehandelte nanokristalline Band 27 aufgenommen wird. Das Band 21 wird mit einer Geschwindigkeit s von der Spule 24 durch den Durchlaufofen 22 bis zur Aufnahmespule 26 gezogen. In manchen Ausführungsbeispielen wird das Band 21 auf der Aufnahmespule 26 zu einem Magnetkern gewickelt.
  • Die Zugspannung kann mithilfe einer Spannanordnung 27 mit einem Rollenpaar 28 am Anfang des Ofens 22 und einer Spannrollenanordnung 29 mit einem Rollenpaar 30 am Ende des Ofens 22 auf das Band 21 ausgeübt werden, so dass das Band 21 unter vorgegebener Zugspannung kontinuierlich durch den Ofen 22 gefördert wird.
  • Die Spannrollenanordnung 29 weist eine einzelne Antriebsrolle 31 und eine frei drehende Andruckrolle 21 auf und kann eine Bremsfunktion aufweisen. Die Spannanordnung 27 weist eine einzelne Antriebsrolle 33 und eine frei drehende Andruckrolle 34 auf. Die Antriebsrolle 31 bzw. 33 jedes S-Rollenpaares 28 bzw. 30 wird über einen Motor mit Getriebe angetrieben.
  • Während das Rollenpaar 28 der Spannanordnung 27 am Anfang des Ofens 22 eine Bremsfunktion mit einer Bremskraft FB auf das nachzubehandelnde Band 21 ausübt, erzeugt das Rollenpaar 30 der Spannrollenanordnung 29 am Ende des Ofens 22 eine Antriebskraft FD, die in einer Anfahr- bzw. Beschleunigungsphase zu Beginn der Förderung größer ist als während der Nachbehandlungsphase, bei der mit konstanter Geschwindigkeit in Durchlaufrichtung das Band 21 die Rollenpaare 28 und 30 unter einer Zugkraft Fz = FD = FB passiert.
  • In einem Bereich zwischen den beiden Rollenpaaren 28 und 30 wird somit das Metallband 21 einer einstellbaren Zugspannung σ entlang der Bandachse ausgesetzt. In den Bereichen außerhalb der S-Rollenpaare 28 und 28 herrscht in dem Band 21 nahezu keine oder eine signifikant geringe Zugspannung vor. Somit wird mit einem S-Rollensystem ein Fördersystem 5 bereitgestellt, bei dem eine kontinuierliche Nachbehandlung von Bändern 21 unter Zugspannungen möglich ist.
  • Durch eine Wärmebehandlung unter Zugspannung entlang der Bandachse lassen sich Legierungen auf Co-Basis mit einer deutlich höheren Anisotropie induzieren. Die Stärke der induzierten Anisotropie Ku und somit die erreichbare Permeabilität am Band 21 bzw. an einem daraus gefertigten Ringbandkern hängt direkt von der Zugspannung σ im Band 21 ab. Das amorphe Band 21 wird entlang der Bandachse unter Zugspannung gesetzt und geht beim Durchgang durch den Ofen 22 in den nanokristallinen Zustand über. Die Wärmebehandlung unter Zugspannung führt zu einer hohen zugspannungsinduzierten Anisotropie mit einer magnetisch leichten Ebene quer zur Bandlängsrichtung und somit zu magnetisch niederpermeablem Verhalten. Das nun nanokristalline Band 21 wird unmittelbar danach in einem Wickelprozess zu einem Ringbandkern weiterverarbeitet. Der Wickelprozess zu einem Ringbandkern kann aber auch in einem separaten Prozess erfolgen.
  • Die Herstellung von nanokristallinen Ringbandkernen besteht daher aus zwei Prozessteilen. Der erste Prozess stellt eine Wärmebehandlung am gesteckten Bandstreifen dar und legt die magnetischen Eigenschaften im Material fest. Eingangsseitig wird ein auf Endbreite geschnittenes, amorphes und zu einem Coil aufgewickeltes Band 21 aus einer Co-Basis-Legierung, welche das Potential hat, in den nanokristallinen Zustand überführt werden zu können, verwendet. Das Band 21 wird von diesem Coil 24 abgewickelt und in gestreckter Form durch einen röhrenförmigen Wärmebehandlungsofen 22 gezogen. Mit Hilfe einer variabel belastbaren Schwinge wird der Bandstreifen unter eine Zugspannung entlang der Bandachse gesetzt. Bei Glühtemperaturen Ta, über der Kristallisationstemperatur geht das anfänglich amorphe Material in der Wärmebehandlungszone Ta des Ofens 22 in einen nanokristallinen Zustand über. Typische Vorrichtung ist ein Durchlaufofen 22 mit einem Ofentemperaturprofil mit 5 Heizzonen, bei dem Temperaturen bis 800°C möglich sind. Die Länge des WB-Ofens kann 30 cm bis 40 cm bei Laboröfen und bis zu 3 m bei Fertigungsöfen sein.
  • Über die anliegende Zugspannung wird eine Anisotropie im Band 21 induziert, so dass das auslaufende weichmagnetische Band 21 eine ausgeprägte, flache Hystereseschleife mit definierter Permeabilität µ aufweist, wobei die Permeabilität entlang der Bandachse gemessen ist. Dabei sind das erreichbare Permeabilitätsniveau µ bzw. die induzierte Anisotropie Ku der angelegten Zugspannung im Band proportional.
  • Im Anschluss wird der nun nicht mehr unter Zugspannung stehende Bandstreifen durch ein Messsystem 35 geführt, welches in Echtzeit alle für die magnetische Charakterisierung relevanten Messgrößen ermittelt, wie magnetischen Sättigungsfluss, magnetische Bandquerschnittsfläche, Anisotropiefeld, Permeabilität, Koerzitivfeld, Remanenzverhältnis, Verluste usw. Der kontinuierlich ablaufende Prozess und die permanente Messung der Magneteigenschaften nach dem Glühvorgang erlauben nun eine Regelung des Gesamtvorganges, d.h. eine Einstellung auf die gewünschte Zielgröße, die in 2 mit den Pfeilen 36, 37, 38 schematisch dargestellt ist. Wie oben ausgeführt, wird in dem durchlaufenden Material für eine vorgegebene, konstante Zugspannung im Band eine entsprechende Anisotropie Ku induziert.
  • Mit Hilfe einer Zugregelung, also einer im Prozess variabel einstellbaren Kraft entlang der Bandachse, lässt sich die induzierte Anisotropie Ku und somit die Permeabilität µ=Bs 2/(2 µ0 Ku) über die gesamte Bandlänge konstant halten. Dies stellt den ersten großen Vorteil der Methode dar. Zur Realisierung muss die Kraft im Band 21 in kleinen Schritten um einen Sollzugspannungswert variiert werden, um lokale Einflüsse wie Banddickenfluktuationen, Kontakttemperaturunterschiede und geringfügige Abweichungen der Durchlaufgeschwindigkeit auszugleichen. Ein weiterer Vorteil liegt darin, dass die induzierte Anisotropie Ku in einem sehr weiten Bereich gezielt eingestellt werden kann. In Anhängigkeit von der gewählten Legierung und unter der Annahme, dass die Zugkraft im Band 21 entsprechend weiträumig veränderbar ist, werden Permeabilitäten µ im Bereich von 2 000 bis unter 100 erreicht. Die Kombination der beiden Vorteile, also sowohl eine gewünschte Anisotropie anzufahren als auch diese dann konstant zu halten, ist vorteilhaft. So reicht es beispielsweise nicht aus, nur eine hohe Zugkraft in das Band 21 einzubringen, um eine niedrige Permeabilität zu erreichen - die Zielpermeabilität wäre danach nur für einen kurzen Längenabschnitt des Ausgangsmaterials exakt eingestellt. Der Grund dafür ist die relativ starke Banddickenvariation amorpher Bänder, die über einen Rascherstarrungsprozess hergestellt werden. Diese Banddickenvariation kann bis zu 10% über die Länge des Gießradumfanges sein. Daher müssen zusätzliche, extrem feine und nicht ruckartige Zugkraftanpassungen ausgeführt werden können. Die Informationen über die notwendigen Zugkraftvariationen werden vom Messsystem 35 zur Verfügung gestellt.
  • Im zweiten Prozessschritt wird das Bandmaterial mit bereits voreingestellten Magneteigenschaften zu Ringbandkernen mit definierter Induktivität weiterverarbeitet. Die oben beschriebene Technologie stellt im kontinuierlichen Verfahren weichmagnetisches Bandmaterial eines bestimmten Permeabilitätsniveaus mit extrem geringen µ-Abweichungen über die gesamte Bandlänge zur Verfügung.
  • Zur Herstellung von Ringbandkernen mit definierter Induktivität ist es vorteilhaft, neben der Permeabilität auch den aktiven Materialquerschnitt (Kern-AFe) am Kern konstant zu halten. Die dafür notwendige Information (magnetischer Bandquerschnitt, lokales AFe des Bandes) wird ebenfalls vom Messsystem35 ermittelt. Mit der Kenntnis des lokalen AFe am durchlaufenden Band 21 kann somit die Anzahl der Bandlagen berechnet werden, welche notwendig sind, um den vorgegebenen aktiven Materialquerschnitt am Kern zu erreichen (Kern-AFe). Eine Variation der Banddicke, verursacht beispielsweise durch den Rascherstarrungsprozess an sich, kann somit ausgeglichen werden und die Abweichungen des aktiven Materialquerschnitts von Kern zu Kern werden somit minimiert. Kombiniert man nun die beiden Teilprozesse, so ergibt sich ein Gesamtprozess, der zu Ringbandkernen mit sehr genau eingestelltem Permeabilitätswert µ und sehr genau eingestelltem aktivem Materialquerschnitt (Kern-AFe) führt. Der Mittelungsprozess beim Aufwickeln des Bandes 21 zu einem Ringbandkern wirkt sich ebenfalls sehr positiv auf das Einhalten enger Toleranzen aus. Dabei kompensieren sich beim Aufwickeln über mehrere Meter hinweg die jeweils positiven und negativen Abweichungen von den Zielwerten. Aufgrund des aktiven, kontinuierlichen Regelprozesses erwartet man daher auch für hohe Kernstückzahlen sehr geringe Exemplar-Streuungen bezüglich µ und Kern-AFe.
  • Das Ansprechverhalten einer Legierung, auf eine angelegte Zugspannung eine induzierte Anisotropie auszuprägen, wird mit dem Wert Zugspannungssensitivität dHk/dσ beschrieben. Der Begriff Zugspannungssensitivität dHk/dσ beschreibt die Änderung des induzierten Anisotropiefeldes Hk mit der bei der Wärmebehandlung angelegten Zugspannung σ. Je größer der Wert der Zugspannungssensitivität dHk/dσ einer Legierung ist, umso weniger Zugkraft bzw. Zugspannung muss zum Erreichen des gewünschten Permeabilitätsniveaus bei der Durchlaufwärmebehandlung angelegt werden. Daher wurde die Zugspannungssensitivität dHk/dσ für unterschiedlichen Legierungen und Legierungssysteme gemessen.
  • Typische Wärmebehandlungsbedingungen sind eine Zugspannung σ von 1 MPa bis 300 MPa bei einer Temperatur Ta, wobei 450°C ≤ Ta ≤ 750°C beträgt, um ein nanokristallines Metallband zu erzeugen. Der Durchlaufofen 22 kann eine Heizzone mit einer Länge von 30 cm bis 3 m aufweisen und das Metallband 21 eine Geschwindigkeit s im Durchlauf durch den Durchlaufofen 22, sodass eine Verweildauer des Bandes in der Temperaturzone des Durchlaufofens mit der Temperatur Ta zwischen 2 Sekunden und 10 Minuten liegt.
  • 3 zeigt das Ergebnis der Untersuchungen. Es wird der Wert der Zugspannungssensitivität dHk/dσ für unterschiedliche nanokristalline Fe-Basis- und nanokristalline Co-Basis-Legierungen, im Speziellen aber für das Legierungssystem Cox Fe74.6-x Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 (at%), wobei x im Bereich 0 bis 80% variiert wurde, gezeigt. Die Interpretation des Wertes dHk/dσ ist die Folgende: Beispielsweise beträgt der Wert dHk/dσ für eine reine nanokristalline Fe-Basis-Legierung, also mit x = 0%, ca. 0.2 A/cm/MPa. Das heißt, man benötig eine Zugspannungsdifferenz von Δσ = 5MPa, um eine Anisotropiefeldstärke von (einem) 1A/cm zu induzieren. Wünschenswert ist es jedoch, so wenig wie möglich Zugspannungsdifferenz aufbringen zu müssen, um eine Anisotropiefeldstärke von (einem) 1A/cm zu induzieren. Betrachtet man allerdings nanokristalline Co-Basis-Legierungen aus dem erfindungsgemäßen Bereich, wie beispielsweise die Legierung mit x = 67.5%, so ergibt sich eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ von ca. 2.3 bis 2.4 A/cm/MPa, und damit benötigt man nur ca. 0.4MPa, um eine Anisotropiefeldstärke von (einem) 1A/cm zu induzieren. Dies entspricht einer Verbesserung um den Faktor 12.
  • In 4 wird für unterschiedliche nanokristalline Fe-Basis- und nanokristalline Co-Basis-Legierungen, aber im Speziellen für das Legierungssystem Cox Fe74.6-x Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 (at%), wobei x im Bereich 0 bis 80% variiert wurde, die notwendige Zugspannung zum Erreichen des Permeabilitätsniveaus µ = 60 dargestellt. Während für nanokristalline Fe-Basis-Legierungen Zugspannungen von 1000MPa oder mehr notwendig sind, um eine Permeabilität von µ = 60 zu erreichen, reichen für erfindungsgemäße Legierungen auf Co-Basis Zugspannungen unter 50MPa völlig aus. Somit grenzen sich die erfindungsgemäßen Legierungen nicht nur durch die chemische Zusammensetzung und das Einhalten bestimmter weichmagnetischer Eigenschaften, sondern auch durch Eigenschaft, eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ über einem bestimmten Mindestmaß zu haben, ab. Nur diese Legierungen bleiben dann unter bestimmten Grenzzugspannung, um beispielsweise µ = 60 zu erreichen.
  • 5 zeigt ein Beispiel einer flachen Hystereseschleife mit hohen Linearitätseigenschaften und es werden die Begriffe Remanenzverhältnis Br/Bmax, Koerzitivfeldstärke Hc, Anisotropiefeld Hk, sowie die Permeabilität µ erklärt. Ein Maß für die Linearität der Hystereseschleife ist durch das Nichtlinearitätsverhältnis nlin beschrieben, welches aus der angegebenen Formel errechnet wird. Dabei bezeichnen δBauf bzw. δBab die Standardabweichung der Magnetisierung von einer Ausgleichsgeraden durch den auf- bzw. absteigenden Ast der Hystereseschleife zwischen Magnetisierungswerten von ±75% der Sättigungsmagnetisierung Bs. Die Schleife ist also umso linearer, je kleiner der Wert nlin ist.
  • Im Folgenden wird eine Zusammensetzung für eine Legierung festgestellt, mit der eine niedrigere Permeabilität bei einer Zugspannung, die nicht zu hoch ist, damit Risse vermieden werden können, erreicht werden kann und mit der die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens erhöht werden kann.
  • Die Tabelle 1 zeigt eine Zusammenfassung der Ergebnisse aller untersuchten Legierungsvarianten. Angegeben sind dabei die Nominalzusammensetzung der Legierungen in at%, die Dichte und die Sättigungsmagnetisierung Bs im amorphen sowie im nanokristallinen Zustand. Alle angegebenen Legierungen wurden über ein Rascherstarrungsverfahren als amorphe Bänder der Dicke von ca. 20µm hergestellt. Die Tabelle 1 zeigt auch die Kristallisationstemperaturen (o-onset, p-peak) der ersten Tx1 und der zweiten Kristallisationsphase Tx2, bestimmt aus einer DSC-Messung bei einer Aufheizgeschwindigkeit von 10K/min. In der Tabelle 1 sind auch die erfindungsgemäßen Legierungen bezeichnet.
  • Die Tabelle 2 zeigt die chemische Analyse (GDOES Methode) der hergestellten amorphen Bänder, zuerst in Gewichtsprozent (wt%) und darunter umgerechnet in Atomprozent (at%). Der Vergleich der analysierten at%-Werte mit der Nominalzusammensetzung in at% legt nahe, dass die angestrebten Legierungszusammensetzungen mit einer Genauigkeit von besser als 1% getroffen wurden.
  • Um die Zugspannungssensitivität (dHk/dσ) der Legierungen zu ermitteln, wird mit den in Tabelle 1 gezeigten Co-Basis-Legierungen eine kontinuierliche Durchlaufglühung unter konstanter Zugspannung (60MPa) mit konstant ansteigender Wärmebehandlungstemperatur im Bereich von 400°C bis 800°C durchgeführt. Der Anstieg der Wärmebehandlungstemperatur (ca. 1 °C bis 2°C pro Minute) war allerdings so gering, dass das Band während der Ofenpassage (Länge ca. 40cm) mit einer Geschwindigkeit von 1 ,6m/min praktisch bei jeder Temperatur im Bereich von 400°C bis 800°C im thermischen Gleichgewicht war.
  • Die magnetischen Eigenschaften, Sättigungsfluss Fs, Anisotropiefeld Hk, Koerzitivfeld Hc, Remanenzverhältnis Br/Bmax und die Nichtlinearität nlin werden im Rahmen der kontinuierlichen Durchlaufglühung nach dem Verlassen des Rohrofens am Band in einem Messsystem gemessen. 6 zeigt den Verlauf der Anisotropiefeldes Hk nach einer Durchlaufwärmebehandlung unter einer konstanten Zugspannung von 60MPa als Funktion der Wärmebehandlungstemperatur Ta für Legierungen aus der Tabelle 1. Es werden sowohl erfindungsgemäße Legierungen als auch andere Vergleichsbeispiele gezeigt. Eine Reihenfolge ist im Ansprechverhalten auf eine angelegte Zugspannung in Bezug auf die Ausbildung einer Anisotropie ersichtlich. Während die nanokristallinen Fe-Basis-Legierungen wie VP800® und VP712® bei sehr geringen Anisotropiefeldstärken liegen und bei Zulegieren von 3at% bis 9at% Co noch weiter bezüglich des Anisotropiefeldes abfallen, ergeben sich ab 60at% Co-Anteil immer höhere Anisotropiefeldstärken bei gleichbleibender Zugspannung.
  • Aus der Kenntnis des Verlaufes der Anisotropiefeldstärke als Funktion der Wärmebehandlungstemperatur wurde die optimale Wärmebehandlungstemperatur für jede Legierung festgelegt, bei der dann eine Variation der angelegten Zugspannung durchgeführt wurde, um daraus schlussendlich die Zugspannungssensitivität dHk/dσ für jede Legierung zu bestimmen. Beispielsweise wurde für die Legierung Nr. 21 (Co65 Fe9.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.6) eine optimale Wärmebehandlungstemperatur Ta von 590°C festgelegt.
  • An Bandproben wurde der nanokristalline Zustand der Co-Basis-Legierung bei unterschiedlichen Wärmebehandlungstemperaturen Ta untersucht. 7 zeigt das XRD Spektrum (Cu-Ka) an einer Probe nach einer Wärmebehandlung bei Ta = 590°C für die Legierung Nr. 21 (Co65 Fe9.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.6). Das Spektrum zeigt eindeutige kristalline (bcc) Strukturen auf, woraus eindeutig auf einen nanokristallinen Zustand geschlossen werden kann. Die Auswertung der „Peak“-Breiten ergab eine nanokristalline Korngröße von ca. 14nm bis 18nm.
  • In den 8, 9 und 10 wird das Schaubild magnetischer Parameter für die Wärmebehandlungen bei Temperaturen im Bereich 400°C bis 800°C für die in Tabelle 1 aufgeführten Legierungen vervollständigt. Die 8 zeigt den Verlauf des Koerzitivfeldes Hc nach der Wärmebehandlung. Nach dem Übergang in den nanokristallinen Zustand bleibt das Koerzitivfeld generell noch niedrig, erst nach Überschreiten einer Temperatur in der Nähe des zweiten Kristallisations-Peaks und Ausbildung von weniger weichmagnetischen Phasen steigt Hc steil an. In der 8 ist der weichmagnetische Bereich von Interesse mit einem Rechteck markiert. Dieser Ausschnitt des funktionellen Zusammenhanges zwischen Hc und der Wärmebehandlungstemperatur Ta ist in 9 als Detailbild dargestellt. Die erfindungsgemäßen Legierungen weisen bei diesen Wärmebehandlungstemperaturen ein Koerzitivfeld Hc im Bereich von 1A/cm auf.
  • 10 zeigt den Verlauf des Remanenzverhältnises Br/Bmax nach der Wärmebehandlung. Nach dem Übergang in den nanokristallinen Zustand sinkt das Remanenzverhältnis Br/Bmax für die gewählten Legierungen vom Maximalwert 1 aus kommend Richtung Null ab. Dies zeigt, dass die Hystereseschleife von anfänglich „runder“ Form in eine „flache“ Hystereseschleife mit hoher induzierter Anisotropie überwechselt. Aus der 10 kann wieder der optimale Wärmebehandlungsbereich ermittelt werden. Im optimalen Wärmebehandlungsbereich liegen immer „flache“ Hystereseschleifen mit sehr geringem Remanenzverhältnis Br/Bmax vor. Ein weiterer und wichtiger, die Hysterese beschreibender, Parameter, die Nichtlinearität nlin, kann ebenfalls im Rahmen der kontinuierlichen Durchlaufglühung nach dem Verlassen des Rohrofens am Band gemessen und in ähnlich Weise wie Hc und Br/Bmax als Funktion der Wärmebehandlungstemperatur Ta dargestellt werden.
  • Der letzte, für einen optimalen weichmagnetischen Zustand relevante, Parameter ist die Sättigungsmagnetostriktion λs im nanokristallinen Zustand der jeweiligen Legierungen. Die Magnetostriktion λs kann nicht „online“ während des Durchlaufglühverfahrens bestimmt werden, daher gibt es für diese Größe keine kontinuierlichen Messdaten über den gesamten Wärmebehandlungsbereich. 11 zeigt jedoch Einzelmagnetostriktionsmesswerte sowohl an Proben verschiedener nanokristalliner Fe-Basis als auch erfindungsgemäßer nanokristalliner Co-Basis-Legierungen, die dem kontinuierlichen Durchlaufglühprozess bei konstanter Zugspannung von 60MPa bei den jeweiligen Wärmebehandlungstemperaturen Ta entnommen wurden. Im linken Teil der 11 sind die Magnetostriktionswerte am amorphen Ausgangszustand der Legierungen ersichtlich - für Fe-Basis-Legierungen liegt die Magnetostriktion λs bei +20ppm, für Co-Basis-Legierungen im Bereich unter +7ppm. Um einen brauchbaren weichmagnetischen Zustand für optimierte Anwendungen zu erreichen, muss die Magnetostriktion nach der Wärmebehandlung so gering wie möglich sein. 11 zeigt, dass dieses Ziel für Fe-Basis-Legierungen und eben auch für die erfindungsgemäßen nanokristallinen Co-Basis-Legierungen erreicht wird.
  • Um aus allen möglichen Legierungsbereichen solche nanokristallinen Co-Basis-Legierung herauszuarbeiten, welche die höchste Zugspannungssensitivität dHk/dσ bzw. welche die kleinste Zugspannungsdifferenz Δσ benötigt, um eine Permeabilität von µ = 60 auszubilden und gleichzeitig alle Bedingungen für optimales weichmagnetisches Verhalten einhalten, wird nun näher auf das Verhalten der Sättigungsmagnetisierung Bs und der Sättigungsmagnetostriktion λs als Funktion des Co-Gehalts (Cox) im System Cox Fe74.6-x Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.6 eingegangen. Die 12 zeigt dazu die Veränderungen von Magnetisierung (Symbol: Rechteck) und Magnetostriktion (Symbol: Kreis) im amorphen Zustand (geschlossene Symbole: ■,•) sowie im nanokristallinen Zustand (offene Symbole: □,○) für Proben aus dem Legierungssystem bei Erhöhung des Co-Gehaltes von 0 auf 70 Atom-%. Das Detailbild in der 12 zeigt die Werte für Magnetisierung und Magnetostriktion für den erfindungsgemäßen Legierungsbereich von x = 60 Atom-% bis x = 70 Atom-%. Für Legierungen aus diesem Bereich konnte gezeigt werden, dass höchste Zugspannungssensitivität dHk/dσ bzw. kleinste Zugspannungsdifferenz Δσ erreicht werden können, wobei die Sättigungsmagnetisierung Bs im nanokristallinen Zustand im Bereich von 0.75T bis 1.05T, und eine Sättigungsmagnetostriktion λs im nanokristallinen Zustand im Bereich |λs na-no| < 8ppm, bevorzugt < 2ppm liegt, wie aus dem Detailbild von 12 ersichtlich ist. Die Magnetostriktion λs zeigt legierungsabhängig einen Nulldurchgang und hat sowohl positive als auch negative Werte.
  • Im Folgenden wird erklärt, wie der Parameter Zugspannungssensitivität dHk/dσ bestimmt wurde. Die bisher gezeigten 6, 8, 9, 10 und 11 geben einen Überblick, wie sich die magnetischen Materialeigenschaften mit der Wärmebehandlungstemperatur Ta entwickeln. Man kann daher eine optimale Wärmebehandlungstemperatur Ta für jede Legierung festlegen, bei der dann eine weitere gezielte Durchlaufwärmebehandlung bei konstanter Temperatur Ta durchgeführt wird. Bei dieser Durchlaufwärmebehandlung wird aber die angelegte Zugspannung σ diskret erhöht, wobei der Prozess nach jeder Erhöhung der Zugspannung dann wieder lange genug bei konstanter Zugspannung läuft, bis sich ein Gleichgewichtszustand einstellt. In diesem Zustand bzw. an diesen Proben werden danach alle magnetischen Kenngrö-ßen wie Sättigungsfluss Φs, Sättigungsmagnetisierung Bs, Sättigungsmagnetostriktion λs, Anisotropiefeld Hk, Koerzitivfeld Hc, Remanenzverhältnis Br/Bmax und die Nichtlinearität nlin bestimmt.
  • 13 zeigt das Anisotropiefeld Hk der flachen Hystereseschleife nach einer Wärmebehandlung bei optimaler Wärmebehandlungstemperatur Ta als Funktion der angelegten Zugspannung σ für Fe-Basis- und Co-Basis-Legierungen aus Tabelle 1. Aus der Linearisierung der aufgenommenen Messwerte für das Anisotropiefeld Hk und für die Zugspannung σ der einzelnen Legierungen wurde die Zugspannungssensitivität dHk/dσ bestimmt. Für Fe-Basis-Legierungen mit geringen Co-Zusätzen bis 9at% ergeben sich sehr geringe Steigungen dHk/dσ, im erfindungsgemäßen Legierungsbereich mit 60 Atom-% bis 70 Atom-% Co beobachtet man dagegen sehr hohe Steigungen dHk/dσ.
  • Tabelle 3 zeigt eine Zusammenfassung aller relevanten magnetischen Eigenschaften für die erfindungsgemäßen Legierungen sowie zu Vergleichszwecken die magnetischen Eigenschaften, im amorphen sowie für den nanokristallinen Zustand für ausgesuchte Fe-Basis-Legierungen. Aus der Tabelle 3 ist ersichtlich, dass mit den erfindungsgemäßen Legierungen im besten Fall eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ über 3 A/cm/MPa erreicht werden kann bzw. dass nur mehr ca. 30 MPa Zugspannungsdifferenz zur Einstellung eines Permeabilitätsniveaus von µ = 60 benötigt wird.
  • Damit die Legierung geeignet ist, die Arbeitsfrequenz zu erhöhen, werden nicht nur die Zugspannungssensitivität dHk/dσ maximiert, sondern auch weichmagnetische Eigenschaften innerhalb der gewünschten Grenzen gehalten. Die gewünschten Eingenschaften sind ein Remanenzverhältnis Br/Bmax < 0.1, bevorzugt < 0.05, eine Koerzitivfeldstärke (f = 60Hz) Hc < 2A/cm, bevorzugt < 1.5A/cm und ein Verhältnis Hc/Hk < 0.05, bevorzugt Hc/Hk < 0.01.
  • Dazu zeigen die Tabellen 4 bis 12 in Ergänzung zur Tabelle 3 die detaillierten Messwerte von Anisotropiefeld Hk, Koerzitivfeld Hc, Remanenzverhältnis Br/Bmax, Nichtlinearität nlin und die erreichbare Permeabilität µ in Abhängigkeit der bei der Wärmebehandlung angelegten Zugspannung σ. Die Tabellen 4 bis 7 zeigen zu Vergleichszwecken Ergebnisse zu nanokristallinen Fe-Basis-Legierungen mit Co-Zusätzen bis 9 at%, während die Tabellen 8 bis 12 die Ergebnisse der erfindungsgemäßen Legierungen enthalten.
  • Einige der Beispiele von nanokristallinen Co-Basis-Legierungen weisen die definierten weichmagnetischen Eigenschaften im nanokristallinen Zustand nach der Wärmebehandlung unter Zugspannung nicht auf, obwohl die Zugspannungssensitivität dHk/dσ relativ hoch liegt, siehe die Legierungen 1, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 24, 25 und 26 der Tabelle 1. Das heißt, dass nur bestimmte Legierungssysteme die Kombination von maximierter Zugspannungssensitivität dHk/dσ und speziell definierten weichmagnetischen Eigenschaften erfüllen können.
  • Ein Legierungsbeispiel, bei dem die definierten weichmagnetischen Eigenschaften nicht eingehalten werden, ist die Legierung aus der Tabelle 1 mit der Nr.1 mit der chemischen Zusammensetzung Co75.9 Fe2.3 Mn2.3 Nb4 Si2 B13.5. Die 14 zeigt Messungen der Hystereseschleife an wärmebehandelten Proben dieser Legierung, bei denen unterschiedliche zugspannungsinduzierte Anisotropien mithilfe des oben beschriebenen Durchlaufglühprozesses eingebracht wurden. Wie bei den erfindungsgemäßen Legierungen werden auch bei dieser Legierung sehr niedrige Permeabilitäten im Bereich von µ = 130 bis µ = 22 mit Erhöhung der Zugspannung σ während der Wärmebehandlung erreicht, was auf eine hohe Zugspannungssensitivität schließen lässt. Jedoch ergibt die Berechnung der Zugspannungssensitivität dHk/dσ einen Wert von 0.97 bis 1.08A/cm/MPa und ist somit unter bzw. an der Grenze des geforderten Limits von 1.0A/cm/MPa. Des Weiteren muss man die weichmagnetischen Eigenschaften wie Hc und Br/Bmax dieser Proben bewerten. Das Detailbild in der 14 zeigt einen Ausschnitt um den Ursprung der Hysterese. Man erkennt deutlich das erhöhte Koerzitivfeld Hc und die Vergrößerung des Remanenzverhältnisses Br/Bmax, im Speziellen bei niedriger zugspannungsinduzierter Anisotropie. Die genauen Messungen ergaben ein Remanenzverhältnis Br/Bmax= 0.05, ein Koerzitivfeld Hc = 4.9A/cm und ein Verhältnis von Hc/Hk= 0.07. Diese Werte entsprechen aber nicht den oben definierten weichmagnetischen Eigenschaften.
  • Dagegen kann als erfindungsgemäßes Beispiel die Legierung Nr.2 aus der Tabelle 1 mit der chemischen Zusammensetzung Co66 Fe8.3 Cu0.6 Nb26 Si16 B6.5 herangezogen werden. Die 15 zeigt Messungen der Hystereseschleife an wärmebehandelten Proben dieser Legierung, bei denen eine unterschiedliche zugspannungsinduzierte Anisotropie mit Hilfe des oben beschriebenen Durchlaufglühprozesses eingebracht wurde. Durch die Variation der beim Wärmebehandlungsvorgang angelegten Zugspannung im Bereich von 20MPa bis 300MPa erreicht man Permeabilitäten µ im Bereich von 110 bis 10 bei geleichzeitig optimierten weichmagnetischen Eigenschaften wie hohe Linearität der Hystereseschleife (nlin), geringes Koerzitivfeld Hc sowie geringes Remanenzverhältnis Br/Bmax in allen Permeabilitätsbereichen. Die Berechnung der Zugspannungssensitivität dHk/dσ ergibt einen Wert von 2.83A/cm/MPa und ist somit weit über dem geforderten Limit von 1.0A/cm/MPa. Man erkennt deutlich das geringe Koerzitivfeld Hc sowie das geringe Remanenzverhältnis Br/Bmax im gesamten Bereich der zugspannungsinduzierten Anisotropie. Die genauen Messungen ergaben ein Remanenzverhältnis Br/Bmax< 0.01, ein Koerzitivfeld Hc < 1.5A/cm und ein Verhältnis von Hc/Hk < 0.01, wie es bei den oben definierten weichmagnetischen Eigenschaften gefordert ist.
  • Folglich hat die erfindungsgemäße Legierung auf Co-Basis eine Zusammensetzung, die durch die Formel Co100-a-b-c-d-x-y-zFeaCubMcTdSixByZz beschrieben ist,
    worin M eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Nb, Mo und Ta und T eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Mn, V, Cr und Ni ist und Z eines oder mehrere der Gruppe der Elemente C, P und Ge ist, wobei a, b, c, d, x, y, z in Atom-% angegeben sind, und a, b, c, d, w, y, z die folgenden Bedingungen erfüllen: 1,5 < a < 15
    Figure DE102021121345A1_0024
    0,1 < b < 1,5
    Figure DE102021121345A1_0025
    1 c < 5
    Figure DE102021121345A1_0026
    0 d < 5
    Figure DE102021121345A1_0027
    12 < x < 18
    Figure DE102021121345A1_0028
    5 < y < 8
    Figure DE102021121345A1_0029
    0 z < 2
    Figure DE102021121345A1_0030
  • Bis zu 1 at.-%, bevorzugt bis zu 0,5 at.-% an Verunreinigungen können vorhanden sein, wobei diese nicht durch die Formel abgedeckt sind.
    Figure DE102021121345A1_0031
    Figure DE102021121345A1_0032
    Tabelle 2
    Analyse - Zusammensetzung [wt%]
    Nr.: Ch. Nr. Nominal [at%] Co Fe Ni Mn Mo Cu Nb Ta Si B C S
    1 220-5508 Co75.9 Fe2.3 Mn2.3 Nb4 Si2 B13.5 84.24 2.43 - 2.31 - - 6.51 0.54 1.10 2.86 0.006 0.001
    2 220-5167 Co66 Fe8.3 Cu0.6 Nb2.6 Si16 B6.5 75.21 9.30 - 0.02 - 0.74 4.32 0.32 8.71 1.37 0.009 0.001
    3 220-5168 Co74.3 Cu0.6 Nb2.6 Si16 B6.5 84.44 - - - - 0.74 4.32 0.33 8.77 1.39 0.010 0.001
    4 220-5170 Co78.8 Cu0.6 Nb2.6 Si9 B9 88.05 - - - - 0.73 4.23 0.32 4.81 1.85 0.012 0.001
    5 220-5166 Co61.3 Ni17 Mn4 Si5.7 B12 70.48 - 19.45 4.26 - - - - 3.25 2.55 0.009 0.003
    6 220-5169 Co70 Fe8.8 Cu0.6 Nb2.6 Si9 B9 78.72 9.30 - - - 0.74 4.25 0.32 4.79 1.87 0.014 0.001
    7 220-5165 Co56.5 Fe4.8 Ni17 Mn4 Si5.7 B12 65.30 5.20 19.47 4.25 - - - - 3.26 2.51 0.011 0.001
    8 220-5164 Co74.6 Mn4 Mo1.5 Nb0.1 Si3 B16.8 87.35 - 0.02 4.31 2.84 - 0.17 - 1.69 3.61 0.016 0.002
    9 220-5163 Co73.1 Fe1.5 Mn4 Mo1.5 Nb0.1 Si3 B16.8 85.76 1.62 0.02 4.32 2.82 - 0.17 - 1.68 3.59 0.020 0.001
    10 220-5162 Co74.2 Mn4 Si4.8 B17 89.13 - 0.01 4.45 - - - - 2.72 3.67 0.013 0.002
    11 220-5161 Co72.7 Fe1.5 Mn4 Si4.8 B18 87.34 1.69 0.01 4.44 - - - - 2.76 3.74 0.016 0.002
    12 VP 800® Fe73.9 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 0.01 83.02 - 0.07 0.01 1.25 5.38 0.01 8.76 1.46 0.032 0.001
    13 VP 712® Fe71.9 Ni1 Co1.5 Cu0.8 Nb2.8 Si15.5 B6.5 1.77 80.82 1.18 0.04 0.01 1.02 5.01 0.01 8.67 1.44 0.031 0.001
    14 220-4555 Co3 Fe71 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 3.48 79.99 - - - 1.33 5.37 0.03 8.48 1.32 0.016 0.002
    15 220-4554 Co9 Fe65 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 10.45 72.33 - - - 1.32 5.41 0.04 9.12 1.33 0.020 0.003
    16 220-5506 Co10 Fe64 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 11.82 71.28 - - - 1.26 5.14 0.41 8.64 1.45 0.013 0.001
    17 220-5534 Co20 Fe54.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 68.52 15.73 - - - 0.96 4.37 0.36 8.50 1.40 0.025 0.005
    18 220-5533 Co40 Fe34.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 46.43 37.95 - - - 0.98 4.43 0.36 8.57 1.37 0.037 0.004
    19 220-5532 Co60 Fe14.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 23.54 60.63 - - - 1.01 4.50 0.37 8.72 1.41 0.037 0.006
    20 220-5536 Co70 Fe4.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 79.48 4.97 - - - 0.99 4.32 0.36 8.46 1.41 0.012 0.003
    21 220-5537 Co65 Fe9.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 74.24 10.37 - - - 0.98 4.28 0.36 8.36 1.40 0.011 0.001
    22 220-5538 Co62.5 Fe12.1 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 71.37 13.02 - - - 0.97 4.37 0.36 8.47 1.40 0.041 0.001
    23 220-5539 Co67.5 Fe7.1 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 76.92 7.62 - - - 0.95 4.32 0.36 8.39 1.37 0.064 0.003
    24 220-5540 Co76 Fe2.5 Mn2.5 Nb3 Si2.5 B13.5 85.33 2.65 - 2.58 - 0.01 4.87 0.40 1.34 2.77 0.035 0.002
    25 220-5541 Co76.5 Fe2 Mn2 Nb4 Si2 B13.5 84.97 2.10 - 2.00 - 0.01 6.55 0.50 1.06 2.75 0.037 0.003
    26 220-5542 Co75 Fe3 Mn2 Nb3 Si3 B14 84.99 3.21 - 2.04 - 0.00 4.87 0.40 1.56 2.88 0.030 0.003
    Analyse - Zusammensetzung [at%]
    Nr.: Ch. Nr. Nominal [at%] Co Fe Ni Mn Mo Cu Nb Ta Si B C
    1 220-5508 Co75.9 Fe2.3 Mn2.3 Nb4 Si2 B13.5 76.43 2.30 - 2.13 - - 3.55 0.15 1.99 13.42 0.03
    2 220-5167 Co66 Fe8.3 Cu0.6 Nb2.6 Si16 B6.5 66.35 8.90 - 0.02 - 0.58 2.31 0.09 15.42 6.30 0.04
    3 220-5168 Co74.3 Cu0.6 Nb2.6 Si16 B6.5 75.09 - - - - 0.58 2.31 0.09 15.51 6.38 0.04
    4 220-5170 Co78.8 Cu0.6 Nb2.6 Si9 B9 79.68 - - - - 0.58 2.30 0.09 8.65 8.65 0.05
    5 220-5166 Co61.3 Ni17 Mn4 Si5.7 B12 61.11 - 16.93 3.96 - - - - 5.91 12.05 0.04
    6 220-5169 Co70 Fe8.8 Cu0.6 Nb2.6 Si9 B9 70.80 8.80 - - - 0.59 2.31 0.09 8.61 8.74 0.06
    7 220-5165 Co56.5 Fe4.8 Ni17 Mn4 Si5.7 B12 56.66 4.65 16.93 3.95 - - - - 5.92 11.85 0.05
    8 220-5164 Co74.6 Mn4 Mo1.5 Nb0.1 Si3 B16.8 74.58 - 0.01 3.94 1.49 - 0.09 - 3.03 16.79 0.07
    9 220-5163 Co73.1 Fe1.5 Mn4 Mo1.5 Nb0.1 Si3 B16.8 73.25 1.39 0.01 3.96 1.48 - 0.09 - 3.01 16.72 0.08
    10 220-5162 Co74.2 Mn4 Si4.8 B17 74.47 - 0.01 3.99 - - - - 4.77 16.71 0.05
    11 220-5161 Co72.7 Fe1.5 Mn4 Si4.8 B18 72.74 1.44 - 3.96 - - - - 4.82 16.97 0.07
    12 VP 800® Fe73.9 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 0.01 73.76 - 0.06 0.01 0.97 2.87 0.00 15.48 6.70 0.13
    13 VP 712® Fe71.9 Ni1 Co1.5 Cu0.8 Nb2.8 Si15.5 B6.5 1.49 71.90 1.00 0.04 0.01 0.80 2.68 0.00 15.34 6.62 0.13
    14 220-4555 Co3 Fe71 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 2.96 71.84 - - - 1.05 2.90 0.01 15.13 6.12 0.07
    15 220-4554 Co9 Fe65 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 8.86 64.80 - - - 1.04 2.91 0.01 16.23 6.15 0.08
    16 220-5506 Co10 Fe64 Cu1 Nb3 Si15.5 B6.5 10.04 63.96 - - - 0.99 2.77 0.11 15.40 6.72 0.05
    17 220-5534 Co20 Fe54.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 59.90 14.50 - - - 0.78 2.48 0.10 15.58 6.67 0.09
    18 220-5533 Co40 Fe34.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 39.96 34.62 - - - 0.88 2.43 0.10 15.55 6.46 0.13
    19 220-5532 Co60 Fe14.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 19.93 54.57 - - - 0.80 2.43 0.10 15.61 6.56 0.13
    20 220-5536 Co70 Fe4.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 69.71 4.60 - - - 0.81 2.40 0.10 15.58 6.75 0.06
    21 220-5537 Co65 Fe9.6 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 65.02 9.59 - - - 0.80 2.38 0.10 15.37 6.69 0.05
    22 220-5538 Co62.5 Fe12.1 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 62.08 12.18 - - - 0.79 2.48 0.10 15.55 6.68 0.14
    23 220-5539 Co67.5 Fe7.1 Cu0.8 Nb2.6 Si15.5 B6.5 67.48 7.06 - - - 0.77 2.41 0.10 15.46 6.56 0.16
    24 220-5540 Co76 Fe2.5 Mn2.5 Nb3 Si2.5 B13.5 76.05 2.49 - 2.47 - 0.00 2.75 0.12 2.51 13.46 0.15
    25 220-5541 Co76.5 Fe2 Mn2 Nb4 Si2 B13.5 76.51 2.00 - 1.93 - 0.00 3.75 0.15 2.00 13.50 0.16
    26 220-5542 Co75 Fe3 Mn2 Nb3 Si3 B14 74.27 3.00 - 1.94 - 0.00 2.74 1.12 2.90 13.90 0.13
    Tabelle 3
    amorph nanokristallin
    Nr.: Charge Co x [at%] B s [T] λ s [ppm] T a [°C] T a [°C] B s [T] λ s [ppm] H k [A/cm] bei σ= 60MPa dH k /dσ [A/cm/MPa] σ [MPa] für µ =60
    12 VP 800® 0.0 1.210 25.66 690 1.235 0.01 10.50 0.1950 846
    13 VP 712® 1.5 1.237 24.86 690 1.250 0.45 8.80 0.1763 950
    14 220-4555 3.0 1.238 25.53 690 1.259 0.63 6.70 0.1427 1183
    15 220-4554 9.0 1.235 24.93 690 1.263 2.47 4.80 0.0851 1971
    19 220-5532 60.0 0.863 6.82 630 1.014 10.83 28.64 0.8497 157
    22 220-5538 62.5 0.807 5.08 595 0.964 6.60 59.31 1.3227 96
    22 220-5538 62.5 0.807 5.08 635 0.966 6.04 73.25 1.4513 88
    21 220-5537 65.0 0.773 3.76 595 0.885 3.16 117.33 1.9832 59
    21 220-5537 65.0 0.773 3.76 635 0.897 1.71 124.02 2.2391 53
    23 220-5539 67.5 0.748 1.68 595 0.809 -0.07 166.13 2.2133 48
    23 220-5539 67.5 0.748 1.68 635 0.842 -1.15 174.50 2.4406 45
    20 220-5536 70.0 0.715 0.22 595 0.753 -1.06 189.90 3.0562 32
    20 220-5536 70.0 0.715 0.22 635 0.739 -1.16 133.56 2.3707 41
    Tabelle 4
    Nr.: Charge Co x
    12 VP 800® 0.0
    T a = 690 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    □ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 25.66
    40.00 6.59 0.03 0.0049 0.27 1491 527 24.76
    50.00 9.20 0.01 0.0010 0.09 1068 533 24.58
    82.00 14.78 0.04 0.0021 0.09 665 543 22.95
    91.60 15.38 0.04 0.0029 0.09 639 552 18.80
    105.00 19.27 0.04 0.0030 0.09 510 555 14.46
    135.60 25.86 0.06 0.0019 0.08 380 580 4.52
    180.00 33.89 0.05 0.0022 0.09 290 595 2.89
    232.20 44.07 0.05 0.0011 0.07 223 599 2.71
    300.00 57.29 0.11 0.0019 0.07 172 630 1.08
    325.90 62.35 0.13 0.0021 0.07 158 649 0.18
    350.00 67.05 0.19 0.0026 0.05 147 654 0.01
    370.00 70.95 0.18 0.0027 0.06 139 694 0.01
    411.00 78.94 0.01 0.0001 0.04 124 698 0.01
    Tabelle 5
    Nr.: Charge Co x
    13 VP 712® 1.5
    T a = 690 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPal] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin[%] µ [1] amorph 25.00
    46.70 7.00 0.17 0.0237 0.14 1421 600 6.06
    49.10 7.03 0.15 0.0237 0.14 1416 650 0.99
    83.90 13.54 0.36 0.0253 0.15 735 690 0.45
    91.60 14.03 0.37 0.0253 0.15 709
    138.20 22.58 0.47 0.0245 0.13 441
    142.40 21.88 0.47 0.0215 0.13 455
    217.10 36.93 0.49 0.0188 0.13 269
    248.20 41.87 0.51 0.0124 0.13 238
    350.30 60.09 0.53 0.0245 0.13 166
    394.20 67.78 0.53 0.0215 0.13 147
    418.40 72.02 0.53 0.0188 0.13 138
    Tabelle 6
    Nr.: Charge Co x
    14 220-4555 3.0
    T a = 690 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 25.53
    31.60 2.64 0.09 0.0264 0.17 3795 690 0.63
    40.32 3.86 0.10 0.0224 0.16 2595
    51.70 5.29 0.16 0.0247 0.18 1893
    69.70 8.40 0.28 0.0268 0.19 1193
    74.89 8.86 0.35 0.0223 0.15 1131
    100.21 12.42 0.40 0.0268 0.15 806
    124.70 15.99 0.46 0.0248 0.17 626
    130.90 16.85 0.47 0.0263 0.15 595
    160.26 20.99 0.49 0.0243 0.17 477
    186.30 24.69 0.47 0.0179 0.14 406
    211.02 28.13 0.50 0.0268 0.19 356
    249.39 33.83 0.52 0.0223 0.15 296
    286.24 38.97 0.54 0.0268 0.15 257
    309.44 42.40 0.57 0.0248 0.17 236
    348.23 47.82 0.59 0.0263 0.15 209
    390.02 53.82 0.61 0.0243 0.17 186
    Tabelle 7
    Nr.: Charge Co x
    15 220-4554 9.0
    T a = 690 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 24.93
    33.63 2.42 0.07 0.0288 0.19 4157 690 2.47
    39.99 3.14 0.09 0.0268 0.19 3204
    58.50 4.92 0.13 0.0260 0.20 2043
    75.33 6.12 0.20 0.0265 0.18 1643
    85.80 7.06 0.19 0.0265 0.16 1423
    100.20 8.24 0.24 0.0276 0.17 1219
    124.88 10.37 0.29 0.0260 0.19 969
    148.09 12.28 0.32 0.0265 0.17 818
    160.13 13.35 0.35 0.0238 0.19 753
    197.20 16.52 0.37 0.0260 0.20 608
    243.77 20.50 0.39 0.0275 0.18 490
    250.66 21.01 0.40 0.0282 0.17 478
    311.68 26.29 0.42 0.0250 0.19 382
    Tabelle 8
    Nr.: Charge Co x
    19 220-5532 60.0
    T a = 630 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 6.82
    31.26 5.02 0.35 0.2601 14.89 1623 585 12.19
    52.16 20.80 0.69 0.0355 1.35 391 630 10.830
    97.12 60.55 0.89 0.0148 0.47 134 660 10.28
    146.87 108.45 0.89 0.0248 0.50 79
    192.23 136.99 0.89 0.0265 0.31 57
    Tabelle 9
    Nr.: Charge Co x
    22 220-5538 62.5
    T a = 595 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 5.08
    22.47 13.66 1.79 0.1684 7.49 561 595 6.60
    37.59 13.85 1.77 0.1665 7.96 554 635 6.04
    69.17 77.39 1.17 0.0153 1.14 99
    103.74 123.94 1.32 0.0108 0.47 62
    123.42 145.66 1.58 0.0110 0.39 53
    142.32 175.77 1.43 0.0080 0.33 44
    177.96 221.51 1.71 0.0100 0.34 35
    216.65 257.19 1.88 0.0068 0.32 30
    259.35 319.22 1.88 0.0059 0.25 24
    T a = 635 [°C]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1]
    14.52 6.71 2.33 0.5942 29.93 1148
    20.24 11.50 2.28 0.4777 22.50 669
    34.41 30.48 1.50 0.0564 7.96 252
    64.73 86.89 2.33 0.0270 2.24 88
    92.08 131.24 1.88 0.0148 0.95 59
    120.45 160.82 1.71 0.0105 0.66 48
    151.92 198.83 1.77 0.0092 0.39 39
    Tabelle 10
    Nr.: Charge Co x
    21 220-5537 65.0
    T a = 595 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 3.76
    5.53 9.10 1.70 0.2717 15.81 679 590 3.36
    7.59 14.35 1.59 0.2167 11.71 430 595 3.16
    13.04 23.12 1.14 0.1015 3.22 294 635 1.71
    23.95 46.20 0.86 0.0708 1.36 147 675 1.84
    35.27 68.28 0.90 0.0411 0.91 99
    T a = 635 [°C]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1]
    20.13 36.87 1.60 0.0463 1.84 194
    28.12 52.71 1.51 0.0299 1.08 135
    47.95 100.17 1.65 0.0170 0.53 71
    88.31 189.48 1.70 0.0089 0.24 38
    235.64 499.57 2.01 0.0043 0.26 14
    Tabelle 11
    Nr.: Charge Co x
    20 220-5536 70.0
    T a = 595 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 0.22
    18.54 50.62 0.97 0.0190 0.71 118 595 -1.06
    25.88 77.87 0.86 0.0112 0.53 77 635 -1.17
    43.31 144.77 0.86 0.0056 0.46 41
    80.12 272.55 1.08 0.0041 0.62 22
    180.31 545.22 3.70 0.0069 0.98 11
    T a = 635 [°C]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1]
    19.99 32.78 13.08 0.4644 4.50 179
    27.76 49.24 14.35 0.3112 3.55 119
    46.08 100.89 17.32 0.1839 2.90 58
    132.56 313.04 25.81 0.0905 2.09 19
    196.52 446.83 41.74 0.1039 2.29 13
    Tabelle 12
    Nr.: Charge Co x
    23 220-5539 67.5
    T a = 595 [°C] T a [°C] λ s [ppm]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1] amorph 1.68
    23.25 59.24 0.53 0.0091 0.16 109 595 -0.07
    38.02 101.46 0.64 0.0062 0.13 63 635 -1.15
    70.44 189.48 0.96 0.0051 0.16 34
    113.13 299.78 1.48 0.0051 0.15 21
    130.53 338.06 1.45 0.0052 0.15 19
    150.02 392.18 1.50 0.0038 0.22 16
    194.51 477.62 1.41 0.0029 0.33 13
    254.61 593.92 1.36 0.0041 0.43 11
    306.38 683.21 0.34 0.0005 0.72 9
    T a = 635 [°C]
    σ [MPa] H k [A/cm] H c [A/cm] B r /B m [1] n-Lin [%] µ [1]
    17.07 40.18 0.95 0.0236 0.32 167
    23.26 63.25 1.01 0.0164 0.24 106
    40.70 114.15 0.93 0.0082 0.20 59
    76.98 238.50 1.29 0.0055 0.17 28
    116.66 346.27 1.69 0.0049 0.28 19
    160.35 479.71 1.41 0.0028 0.41 14
    196.67 508.89 1.36 0.0026 0.42 13
    263.85 619.21 0.38 0.0006 0.55 11
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102015102765 A1 [0003]
    • WO 2103156010 A1 [0003]

Claims (25)

  1. Legierung, die durch die Formel Co100-a-b-c-d-x-y-zFeaCubMcTdSixByZz beschrieben ist, worin M eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Nb, Mo und Ta und T eines oder mehrere der Gruppe der Elemente Mn, V, Cr und Ni ist und Z eines oder mehrere der Gruppe der Elemente C, P und Ge ist, wobei a, b, c, d, x, y, z in Atom-% angegeben sind, und a, b, c, d, w, y, z die folgenden Bedingungen erfüllen: 1,5 < a < 15
    Figure DE102021121345A1_0033
    0,1 < b < 1,5
    Figure DE102021121345A1_0034
    1 c < 5
    Figure DE102021121345A1_0035
    0 d < 5
    Figure DE102021121345A1_0036
    12 < x < 18
    Figure DE102021121345A1_0037
    5 < y < 8
    Figure DE102021121345A1_0038
    0 z < 2
    Figure DE102021121345A1_0039
    und bis zu 1 at.-%, bevorzugt bis zu 0,5 at.-% an Verunreinigungen aufweist.
  2. Legierung nach Anspruch 1, wobei 4,0 ≤ a ≤ 15,0, vorzugsweise 4,6 ≤ a ≤ 14,6 gilt.
  3. Legierung nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei 0,1 < b < 0,9, vorzugsweise 0,7 < b < 0,9 gilt.
  4. Legierung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei M Nb ist und 2 ≤ c ≤ 4, vorzugsweise 2 ≤ c ≤ 3 gilt.
  5. Legierung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei T Mn ist und 0 ≤ d < ≤ 2,5 gilt.
  6. Legierung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 14 ≤ x ≤ 16 und/oder 5 ≤ y ≤ 7 gilt.
  7. Legierung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 20 ≤ (x + y + z) ≤ 25.
  8. Legierung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, die eine Dicke von 10 µm bis 25 µm, vorzugsweise 12 µm bis 20 µm und/oder eine Breite von 2 mm bis zu 300 mm, vorzugsweise 40 mm bis 300 mm und/oder im gegossenen Zustand eine zusammenhängende Länge von mindestens 2 km oder mindestens 8 km aufweist.
  9. Legierung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, die nach Wärmebehandlung ein nanokristallines Gefüge aufweist, bei der zumindest 90 Vol.-% der Körner eine mittlere Größe kleiner als 25 nm aufweisen.
  10. Legierung nach Anspruch 9, die im nanokristallinen Zustand eine Permeabilität von 20 bis 130, vorzugsweise maximal 100, vorzugsweise maximal 60 und/oder eine Sättigungsmagnetisierung Bs nano von = 0.75 bis 1.05T und/oder eine Sättigungsmagnetostriktion |λs nano| von < 8ppm, bevorzugt < 2ppm und/oder ein Remanenzverhältnis Br/Bmax < 0.1, bevorzugt < 0.05 und/oder eine Koerzitivfeldstärke (f = 60Hz) Hc von < 2A/cm, bevorzugt < 1.5A/cm und/oder ein Verhältnis von Hc zu dem induzierten Anisotropiefeld Hk, Hc/Hk, < 0.05, bevorzugt Hc/Hk < 0.01 und/oder eine Nicht-Linearität der Hystereseschleife von < 1%, bevorzugt < 0.5% aufweist.
  11. Legierung nach Anspruche 9 oder Anspruch 10, die im nanokristallinen Zustand eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ von größer als 1.0 A/cm/MPa, vorzugsweise von größer als 1.5 A/cm/MPa aufweist, wobei Hk induziertes Anisotropiefeld und σ Zugspannung bezeichnet.
  12. Legierung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, die zumindest 80 Vol.-% amorph ist.
  13. Verfahren zum Herstellen eines nanokristallinen Metallbandes, Bereitstellen eines amorphen Metallbandes aus einer Legierung nach Anspruch 12, Wärmebehandeln des amorphen Metallbandes im Durchlauf unter Zugspannung σ von 1 MPa bis 300 MPa bei einer Temperatur Ta, wobei 450°C ≤ Ta ≤ 750°C beträgt, um ein nanokristallines Metallband zu erzeugen, bei dem zumindest 90 Vol.-% der Körner eine mittlere Größe kleiner als 25 nm aufweisen.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, wobei die Zugspannung während des Wärmebehandelns im Durchlauf variiert wird.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder Anspruch 14, wobei das nanokristalline Metallband eine Zugspannungssensitivität dHk/dσ von größer als 1.0 A/cm/MPa, vorzugsweise von größer als 1.5 A/cm/MPa aufweist.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, wobei das nanokristalline Metallband eine Permeabilität von 20 bis 130, vorzugsweise maximal 100, vorzugsweise maximal 60 und/oder eine Sättigungsmagnetisierung Bsnano von = 0.75 bis 1. 05T und/oder eine Sättigungsmagnetostriktion |λsnano| von < 8ppm, bevorzugt < 2ppm und/oder ein Remanenzverhältnis Br/Bmax < 0.1, bevorzugt < 0.05 und/oder eine Koerzitivfeldstärke (f = 60Hz) Hc von < 2A/cm, bevorzugt < 1.5A/cm und/oder ein Verhältnis von Hc zu dem induzierten Anisotropiefeld Hk, Hc/Hk, Hc/Hk < 0.05, bevorzugt Hc/Hk < 0.01 und/oder eine nicht-Linearität der Hystereseschleife von < 1%, bevorzugt < 0.5% aufweist.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 18, wobei das Metallband mit einer Geschwindigkeit s im Durchlauf durch einen Durchlaufofen mit einer Heizzone mit einer Länge von 30 cm bis 3 m gezogen wird, sodass eine Verweildauer des Metallbandes in einer Temperaturzone des Durchlaufofens mit der Temperatur Ta zwischen 2 Sekunden und 10 Minuten liegt.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, wobei nach dem Wärmebehandeln im Durchlauf das Metallband zu einem Ringbandkern gewickelt wird.
  19. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass ein gewünschter Wert der Permeabilität µ und/oder des Anisotropiefeldes Hk und/oder ein magnetischer Bandquerschnitt AFe sowie ein erlaubter Abweichungsbereich jedes dieser Werte vorbestimmt werden, indem magnetische Eigenschaften des Metallbandes beim Verlassen des Durchlaufofens laufend gemessen werden, während das Metallband nicht mehr unter Zugspannung steht, und wenn Abweichungen von den erlaubten Abweichungsbereichen der magnetischen Eigenschaften festgestellt werden, die Zugspannung σ an dem Metallband entsprechend nachgeregelt wird, um die gemessenen Werte der magnetischen Eigenschaften in den Bereich innerhalb der erlaubten Abweichungsbereiche zurückzubringen.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, wobei, um einen vorbestimmten aktiven Materialquerschnitt eines Ringbandkerns Kern-AFe bereitzustellen, beim Verlassen des Durchlaufofens der magnetische Bandquerschnitt AFe am Metallband lokal und laufend ermittelt wird, die Anzahl der Bandlagen des Ringbandkerns auf Grund der ermittelten Werten des magnetischen Bandquerschnitts AFe berechnet wird und der Ringbandkern mit der berechneten Anzahl von Bandlagen gewickelt wird.
  21. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 20, ferner aufweisend: Herstellen des amorphen Metallbandes mit einer Rascherstarrungstechnologie, wobei eine Schmelze auf eine sich bewegende Außenoberfläche eines sich bewegenden Kühlkörpers gegossen wird, wobei die Schmelze auf der Außenoberfläche erstarrt und das amorphe Metallband geformt wird.
  22. Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Außenoberfläche des Kühlkörpers kontinuierlich bearbeitet wird, um die Außenoberfläche des Kühlkörpers zu glätten, während die Schmelze auf die sich bewegende Außenoberfläche des Kühlkörpers gegossen wird.
  23. Verwendung der Legierung nach einem der Ansprüche 1 bis 11 bei einem DCtoleranten Stromwandler oder einem Interphasen Transformator oder einem Isolationstransformator oder einem Fly-Back Transformator oder einem Fly-Back Wandler oder einer Speicher-Drossel oder einer PFC-Drossel für Industrie- und Automobilanwendungen oder einem elektronischen Steuergerät wie einem DC/DC-Wandler oder einer Speicherdrossel oder einem Speicherüberträger oder einer Filterdrossel mit niederpermeablen Kernmaterialien oder einem induktiven Energiespeicher.
  24. Ringbandkern, der ein gewickeltes Band aus einer Legierung nach einem der Ansprüche 1 bis 11 aufweist.
  25. Ringbandkern nach Anspruch 24, ferner umfassend eine elektrische Isolationsbeschichtung.
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