DE102016104284B4 - Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter - Google Patents

Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter Download PDF

Info

Publication number
DE102016104284B4
DE102016104284B4 DE102016104284.6A DE102016104284A DE102016104284B4 DE 102016104284 B4 DE102016104284 B4 DE 102016104284B4 DE 102016104284 A DE102016104284 A DE 102016104284A DE 102016104284 B4 DE102016104284 B4 DE 102016104284B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
power semiconductor
conductor
insulating layer
semiconductor device
metal body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102016104284.6A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102016104284A1 (de
Inventor
Michael Schleicher
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semikron Elektronik GmbH and Co KG
Original Assignee
Semikron Elektronik GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semikron Elektronik GmbH and Co KG filed Critical Semikron Elektronik GmbH and Co KG
Priority to DE102016104284.6A priority Critical patent/DE102016104284B4/de
Priority to CN201710126235.9A priority patent/CN107180823B/zh
Priority to US15/452,020 priority patent/US10079197B2/en
Publication of DE102016104284A1 publication Critical patent/DE102016104284A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102016104284B4 publication Critical patent/DE102016104284B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/06Containers; Seals characterised by the material of the container or its electrical properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3736Metallic materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/467Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing gases, e.g. air
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/492Bases or plates or solder therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5226Via connections in a multilevel interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/11Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/117Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/427Cooling by change of state, e.g. use of heat pipes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Rectifiers (AREA)

Abstract

Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung (1) mit einem Metallformkörper (2), der einen ersten Anschlussleiter ausbildet,wobei ausgehend von der ersten Hauptfläche (20) des Metallformkörpers (2) eine erste Ausnehmung (22) mit einer ersten Grundfläche (220) ausgebildet ist in der ein erstes Leistungshalbleiterbauelement (30) angeordnet ist, wobei dessen erste der ersten Grundfläche (220) zugewandte Kontaktfläche (300) mit dieser Grundfläche (220) elektrisch leitend verbunden ist,wobei ausgehend von der zweiten Hauptfläche (24) des Metallformkörpers (2) eine zweite Ausnehmung (26) mit einer zweiten Grundfläche (260) ausgebildet ist in der ein zweites Leistungshalbleiterbauelement (32) angeordnet ist, wobei dessen erste der zweiten Grundfläche (260) zugeordnete Kontaktfläche (320) mit dieser Grundfläche (260) elektrisch leitend verbunden ist,wobei auf beiden Hauptflächen (20, 24), zumindest die jeweilige Ausnehmung (22, 26) ausfüllend und vollständig überdeckend jeweils eine Isolierschicht (40, 42) angeordnet ist,wobei die erste Isolierschicht (40) eine elektrisch leitende erste Durchkontaktierung (50) aufweist, die eine zweite Kontaktfläche (302) des ersten Leistungshalbleiterbauelements (30) mit einer auf der ersten Isolierschicht (40) angeordneten ersten Leiterfläche (60) elektrisch leitend verbindet und wobei die zweite Isolierschicht (42) eine elektrisch leitende zweite Durchkontaktierung (52) aufweist, die eine zweite Kontaktfläche (322) des zweiten Leistungshalbleiterbauelements (32) mit einer auf der zweiten Isolierschicht (42) angeordneten zweiten Leiterfläche (62) elektrisch leitend verbindet, wobei das zweite Leistungshalbeiterbauelement (32) eine der Grundfläche (260) der zweiten Ausnehmung (26) abgewandte zweite weitere Kontaktfläche (330) aufweist und wobei dieser zweiten weiteren Kontaktfläche (330) eine zweite weitere Durchkontaktierung (530) zugeordnet ist, die diese zweite weitere Kontaktfläche (330) mit einer auf der zweiten Isolierschicht (42) angeordneten weiteren zweiten Leiterfläche (630) elektrisch leitend verbindet.

Description

  • Die Erfindung beschreibt eine gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung, die beispielhaft als eine Gleichrichterschaltung oder als Wechselrichterschaltung ausgebildet ist.
  • Aus der DE 10 2011 000 751 A1 ist ein Verfahren bekannt, umfassend das Bereitstellen eines Trägers, der einen ersten Hohlraum aufweist, das Bereitstellen einer dielektrischen Folie mit einer an der dielektrischen Folie angebrachten Metallschicht, das Platzieren eines ersten Halbleiterchips in dem ersten Hohlraum des Trägers und das Aufbringen der dielektrischen Folie auf den Träger.
  • Aus der DE 10 2012 111 788 A1 ist eine Vorrichtung bekannt, die einen ersten Leistungshalbleiterchip mit einer ersten Kontaktstelle und einer zweiten Kontaktstelle auf einer ersten Fläche und einer dritten Kontaktstelle auf der zweiten Fläche umfasst. Die Vorrichtung umfasst ferner einen zweiten Leistungshalbleiterchip mit einer ersten Kontaktstelle und einer zweiten Kontaktstelle auf einer ersten Fläche und einer dritten Kontaktstelle auf der zweiten Fläche. Der erste und der zweite Leistungshalbleiterchip sind übereinander angeordnet und die erste Fläche des ersten Leistungshalbleiterchips ist in die Richtung der ersten Fläche des zweiten Leistungshalbleiterchips gewandt. Außerdem ist der erste Leistungshalbleiterchip seitlich zumindest teilweise außerhalb des Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips angeordnet.
  • Aus dem Stand der Technik, beispielhaft offenbart in der EP 2 881 985 A1 , ist eine gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallkörper und zwei Leistungshalbleiterbauelement bekannt, wobei die Leistungshalbleiterbauelemente stapelartig auf dem Metallformkörper angeordnet sind. Die Leistungshalbleiterbauelemente sind mittels eines isolierenden Materials gekapselt, wobei das isolierende Material auch die Anschlussleitungen der Leistungshalbleiterbauelemente mit umschließt.
  • In Kenntnis dieser genannten Gegebenheiten liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung vorzustellen, die den Stand der Technik insbesondere in der Möglichkeit der effizienten Kühlung und symmetrischen Anordnung weiterbildet.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Leistungshalbleitereinrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben.
  • Erfindungsgemäß ist die gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung ausgebildet mit einem Metallformkörper, der einen ersten Anschlussleiter ausbildet. Ausgehend von der ersten Hauptfläche des Metallformkörpers ist eine erste Ausnehmung mit einer ersten Grundfläche ausgebildet in der ein erstes Leistungshalbleiterbauelement angeordnet ist, wobei dessen erste der ersten Grundfläche zugewandte Kontaktfläche mit dieser Grundfläche elektrisch leitend verbunden ist. Ausgehend von der zweiten Hauptfläche des Metallformkörpers ist eine zweite Ausnehmung mit einer zweiten Grundfläche ausgebildet in der ein zweites Leistungshalbleiterbauelement angeordnet ist, wobei dessen erste der zweiten Grundfläche zugeordnete Kontaktfläche mit dieser Grundfläche elektrisch leitend verbunden ist. Auf beiden Hauptflächen, und zumindest die jeweilige Ausnehmung ausfüllend und vollständig überdeckend ist jeweils eine Isolierschicht angeordnet, wobei die erste Isolierschicht eine elektrisch leitende erste Durchkontaktierung aufweist, die eine zweite Kontaktfläche des ersten Leistungshalbleiterbauelements mit einer auf der ersten Isolierschicht angeordneten ersten Leiterfläche elektrisch leitend verbindet und wobei die zweite Isolierschicht eine elektrisch leitende zweite Durchkontaktierung aufweist, die eine zweite Kontaktfläche des zweiten Leistungshalbleiterbauelements mit einer auf der zweiten Isolierschicht angeordneten zweiten Leiterfläche elektrisch leitend verbindet, wobei das zweite Leistungshalbeiterbauelement eine der Grundfläche der zweiten Ausnehmung abgewandte zweite weitere Kontaktfläche aufweist und wobei dieser zweiten weiteren Kontaktfläche eine zweite weitere Durchkontaktierung zugeordnet ist, die diese zweite weitere Kontaktfläche mit einer auf der zweiten Isolierschicht angeordneten weiteren zweiten Leiterfläche elektrisch leitend verbindet.
  • Vorzugsweise bildet der erste Anschlussleiter einen Wechselspannungsanschluss aus, während die erste und zweite Leiterfläche weitere Anschlussleiter ausbilden, die die Gleichspannungsanschlüsse ausbilden.
  • Es ist bevorzugt, wenn mindestens eines der Leistungshalbleiterbauelemente in thermischem Kontakt mit einer zugeordneten Kühleinrichtung steht, die auf der dem Metallformkörper abgewandten Seite dieser Leiterfläche angeordnet, und vorzugsweise durch eine elektrisch isolierende Zwischenlage davon isoliert, ist. Insbesondere kann hierbei die jeweilige Isolierschicht und die zugeordnete isolierende Zwischenlage zu einer gemeinsamen Isolierlage entarten.
  • Es kann vorteilhaft sein, wenn das erste Leistungshalbeiterbauelement eine der Grundfläche der ersten Ausnehmung zugewandte erste weitere Kontaktfläche aufweist, die vorzugsweise als Steuerkontaktfläche ausgebildet ist und wobei dieser ersten weitere Kontaktfläche eine vom Metallformkörper elektrisch isolierte erste weitere Durchkontaktierung zugeordnet ist, die diese erste weitere Kontaktfläche mit einer auf der zweiten Isolierschicht angeordneten ersten weiteren Leiterfläche elektrisch leitend verbindet.
  • Es kann auch vorteilhaft sein, wenn die zweite weitere Kontaktfläche e als Steuerkontaktfläche ausgebildet ist.
  • Eine bevorzugte Ausgestaltung ergibt sich, wenn die zweite Leiterfläche, die erste weitere Leiterfläche und die zweite weitere Leiterfläche aus einer in sich strukturierten, und damit elektrisch voneinander isolierte Leiterbahnen ausbildenden, Metallfolie gebildet sind. Hierbei können die Leiterbahnen der Metallfolie auf der dem Metallformkörper abgewandten Seite mit einer Isolierstofffolie bedeckt sein. Weiterhin können beide Folien adhäsiv miteinander verbunden sein.
  • Besonders bevorzugt ist es, wenn die erste und zweite weitere Leiterfläche mit einer Steuereinrichtung zur Ansteuerung der Leistungshalbleiterbauelemente verbunden sind.
  • Es kann vorteilhaft sein, wenn der Metallformkörper einen Hohlraum zur Kühlung der Leistungshalbleiterbauelemente aufweist. Hierbei kann der Hohlraum einen Teil einer Heatpipe ausbildet. Alternativ kann der Hohlraum dazu eingerichtet sind mit einem flüssigen oder gasförmigen Kühlmedium durchströmt zu werden.
  • Selbstverständlich können, sofern dies nicht per se ausgeschlossen ist, die im Singular genannten Merkmale mehrfach in der erfindungsgemäßen Leistungshalbleitereinrichtung vorhanden sein. Beispielhaft handelt es sich bei dem genannten ersten und zweiten Leistungshalbleiterbauelement jeweils um mindestens ein Leistungshalbleiterbauelement. Es können somit gleichartige Leistungshalbleiterbauelemente mehrfach vorhanden sein, es kann insbesondere ein Leistungshalbleiterbauelement auch als eine Parallelschaltung zweier unterschiedlicher Leistungshalbleiterbauelement ausgebildet sein, insbesondere als Parallelschaltung eines Leistungstransistors mit einer Freilaufdiode. Ebenso sind die jeweiligen Durchkontaktierungen bevorzugt mehrfach vorhanden.
  • Es versteht sich, dass die verschiedenen Ausgestaltungen der Erfindung einzeln oder in beliebigen sich nicht per se ausschließenden Kombinationen realisiert sein können, um Verbesserungen zu erreichen. Insbesondere sind die vorstehend und im Folgenden genannten und erläuterten Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
  • Weitere Erläuterungen der Erfindung, vorteilhafte Einzelheiten und Merkmale, ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung der in den 1 bis 6 schematisch dargestellten Ausführungsbeispiele der Erfindung, oder von jeweiligen Teilen hiervon.
    • 2 und 3 zeigen Schnittansichten von verschiedenen Ausgestaltungen einer erfindungsgemäßen Leistungshalbleitereinrichtung.
    • 1 und 4 zeigen weitere Ausgestaltungen zur Erläuterung der Erfindung.
    • 5 zeigt eine Draufsicht auf eine erfindungsgemäße Leistungshalbleitereinrichtung.
    • 6 zeigt eine erläuternde Schnittansicht einer Weiterbildung einer erfindungsgemäßen Leistungshalbleitereinrichtung.
  • 1 zeigt zur Erläuterung der Erfindung eine Leistungshalbleitereinrichtung 1 in Ausgestaltung einer Einphasengleichrichterschaltung. Dargestellt ist ein Metallformkörper 2, aus Kupfer oder einem anderen Material mit geringem spezifischen Widerstand, der einen ersten Anschlussleiter, hier denjenigen des Wechselspannungsanschlusses ausbildet. Zur externen Verbindung ist hier ohne dass es hierauf beschränkt wäre eine Schraubverbindung 28 durch ein zugehörige Aufnahme 280 dargestellt. In dieser Ausgestaltung des Metallformkörpers 2 weist dieser einer erste und eine dazu parallele zweite Hauptfläche 20, 24 auf, wobei der Metallformkörper 2 eine Dicke also einen Abstand der Hauptflächen 20, 24 zueinander von 1,2mm aufweist. Bevorzugt sind Dicken des Metallformkörpers 2 zwischen 0,8mm bis 2mm, wobei abhängig von weiteren Parametern auch Dicken zwischen 0,5mm und 0,8mm oder auch jenseits von 2mm möglich sind.
  • Ausgehend von der ersten, in dieser und den weiteren Darstellung der unteren, Hauptfläche 20 ist hier eine erste Ausnehmung 22 angeordnet. Diese erste Ausnehmung 22 dient der Aufnahme eines ersten Leistungshalbleiterbauelements 30, hier einer Diode, genauer einer Leistungsdiode. Die Ausnehmung 22 weist eine Tiefe auf, die vorzugsweise der Dicke der Diode 30, typisch zwischen 60µm und 200µm, zumindest bis auf wenige zehn Prozent, entspricht. Die Diode 30 schließt also idealerweise bündig mit der zugeordneten ersten Hauptfläche 22 ab, ragt ein wenig über diese hinaus oder ist ein wenig gegenüber dieser zurückversetzt. Die Diode 30, genauer deren erste Kontaktfläche 300, ist mit der ersten Grundfläche 220 der ersten Ausnehmung 22 elektrisch leitend, insbesondere mittels einer Sinter-, Löt oder Klebeverbindung, verbunden.
  • Ausgehend von der zweiten, in dieser und den weiteren Darstellung der oberen, Hauptfläche 24 ist eine zweite Ausnehmung 26 seitlich versetzt zur ersten Ausnehmung 22, angeordnet. In dieser zweiten Ausnehmung 26 ist analog zur ersten Ausnehmung 22 ein zweites Leistungshalbleiterbauelement 32, hier eine zweite Leistungsdiode, angeordnet.
  • Wie dargestellt ist auf der gesamten ersten und zweiten Hauptfläche 20, 24, mit Ausnahme des Bereichs zur externen Verbindung, eine dünne Isolierschicht 40, 42 angeordnet. Der Werkstoff dieser Isolierschicht 40, 42 ist hier bevorzugt ein fachübliches Leiterplattenbasismaterial, wie beispielhaft Epoxyid- oder Phenolharz, und füllt zusätzlich die freien Volumenbereiche der jeweiligen Ausnehmungen 22, 26 aus und überdeckt auch das jeweils in dieser Ausnehmung 22, 26 angeordnete Leistungshalbleiterbauelement 30, 32 vollständig. Der Werkstoff der Isolierschicht 40, 42 kann weiterhin auch, wie hier dargestellt, mindestens eine Seitenfläche des Metallformkörpers 2 ganz oder teilweise überdecken.
  • Auf einem Abschnitt der ersten Isolierschicht 40 und somit elektrisch isoliert vom Metallformkörper 2 ist eine erste Leiterfläche 60, die hier einen Anschlussleiter, genauer einen Gleichspannungsanschluss negativen Potentials ausbildet, angeordnet. Zur elektrischen Verbindung dieser ersten Leiterfläche 60 mit der zweiten Kontaktfläche 302 des ersten Leistungshalbleiterbauelements 30 sind in der dazwischen liegenden ersten Isolierschicht 40 erste Durchkontaktierungen 50 angeordnet. Diese sind beispielhaft hergestellt mittels Laserbohren durch die erste Leiterfläche und die erste Isolierschicht und anschließendes galvanisieren der entstandenen Löcher.
  • Zur äußeren elektrischen Isolierung der ersten Leiterfläche 60 ist weiterhin eine erste isolierende Zwischenlage 70, die erste Leiterfläche 60 und hier auch die erste Isolierlage 40 und einen Teil des Bereichs zur externen Verbindung überdeckend, angeordnet.
  • Auf einem Abschnitt der zweiten Isolierschicht 42 und somit elektrisch isoliert vom Metallformkörper 2 ist eine zweite Leiterfläche 62, die hier einen Anschlussleiter, genauer einen Gleichspannungsanschluss positiven Potentials ausbildet, angeordnet. Zur elektrischen Verbindung dieser zweiten Leiterfläche 62 mit der zweiten Kontaktfläche 322 des zweiten Leistungshalbleiterbauelements 32 sind in der dazwischen liegenden zweite Isolierschicht 42 zweite Durchkontaktierungen 52 angeordnet. Diese sind wie oben beschrieben hergestellt.
  • Zur äußeren elektrischen Isolierung der zweiten Leiterfläche 62 ist weiterhin eine zweite isolierende Zwischenlage 72, die Leiterfläche 62 und hier auch die zweite Isolierlage 42 und einen Teil des Bereichs zur externen Verbindung überdeckend, angeordnet.
  • Zur Abfuhr der durch Leitungs- und Schaltverluste in den Leistungshalbleiterbauelemente 30, 32 entstehenden Wärme ist hier auf der ersten und zweiten Isolierlage 70, 72 jeweils eine Kühleinrichtung 80, 82, jeweils ausgeführt als Luftkühleinrichtung und auch jeweils flüchtend mit dem zugeordnete Leistungshalbleiterbauelement 30, 32 und dieses hier allseits überragend, angeordnet.
  • Es kann vorteilhaft sein, wenn die Leistungshalbleitereinrichtung 1 nur eine, bevorzugt die zweite Kühleinrichtung 82, aufweist, dann kann im Rahmen der Anwendung der Leistungshalbleitereinrichtung 1 die erste Kühleinrichtung 80 spezifisch ausgewählt werden, vgl. 3.
  • 2 zeigt eine erste Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Leistungshalbleitereinrichtung 1 in Ausgestaltung einer Halbbrückenwechselrichterschaltung, bei der die Leistungshalbleiterbauelemente 30, 32 als Feldeffekttransistoren ausgebildet sind und jeweils eine weitere Kontaktfläche 310, 330, eine Steuerkontaktfläche, aufweisen.
  • Grundsätzlich ist der Metallformkörper 2 mit seinen Ausnehmungen 22, 26 gleichartig demjenigen gemäß 1 ausgebildet. Zusätzlich weist der Metallformkörper 2 hier allerdings eine von der ersten Grundfläche 220 der ersten Ausnehmung 22 zur zweiten Hauptfläche 24 reichende weitere Ausnehmung 210 auf, die mit dem Werkstoff der Isolierschicht 40, 42 gefüllt ist und in der eine erste weitere vom Metallformkörper 2 elektrisch isolierte erste weitere Durchkontaktierung 510 ausbildet ist.
  • Diese erste weitere Durchkontaktierung 510 verbindet den Steueranschluss, der auf der der ersten Grundfläche 220 der ersten Ausnehmung 22 zugewandten Seite angeordnet ist, und damit die erste weitere Kontaktfläche 310 des ersten Leistungshalbleiterbauelement 30, mit einer ersten weiteren Leiterfläche 610, angeordnet auf der zweiten Hauptfläche 24 und elektrisch von dieser isoliert mittels des zweiten Isolierstoffs 42.
  • Ebenso auf der zweiten Hauptfläche 24 angeordnet und elektrisch von dieser isoliert ist eine zweite weitere Leiterfläche 630 angeordnet. Diese ist mit dem Steueranschluss, der auf der der zweiten Grundfläche 260 der zweiten Ausnehmung 26 abgewandten Seite des Leistungshalbleiterbauelements 32 angeordnet ist, und damit die zweite weitere Kontaktfläche 330 des zweiten Leistungshalbleiterbauelement 32 ausbildet, mittels einer zweiten weiteren Durchkontaktierung 530 durch die zweite Isolierschicht 42 elektrisch leitend verbunden. Diese erste und zweite weitere Leiterfläche 610, 630 dient somit der Ansteuerung des jeweiligen Leistungshalbleiterbauelements 30, 32 der Leistungshalbleitereinrichtung.
  • In dieser Ausgestaltung entartet die erste und zweite Isoliersicht 40, 42 zu einer einzigen Isolierschicht, die zudem auch die elektrisch Isolation gegen andere Potentiale aller Durchkontaktierungen ausbildet.
  • 3 zeigt eine zweite Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Leistungshalbleitereinrichtung 1 in Ausgestaltung einer Halbbrückenwechselrichterschaltung, bei der die Leistungshalbleiterbauelemente 30, 32 als Leistungstransistoren mit antiparallel geschalteten Leistungsdioden ausgebildet sind, wobei jeder Leistungstransistor analog den Feldeffekttransistoren gemäß 2 jeweils eine weitere Kontaktfläche 310, 330, eine Steuerkontaktfläche, aufweist. Die beiden einander zugeordneten Leistungshalbleiterbauelemente, also der Leistungstransistor und die antiparallel geschalteten Leistungsdiode sind jeweils in einer gemeinsamen Ausnehmung angeordnet.
  • Sämtliche Durchkontaktierungen sind grundsätzlich gleich ausgebildet wie unter 1 und 2 bereits beschrieben.
  • Wesentlich ist hier jedoch, dass im Unterschied zu 1 und 2 die erste und zweite Isoliersicht 40, 42 und auch die isolierende Zwischenlage 70, 72 zu einer einzigen Isolierlage entarten, die aus dem Werkstoff der Isolierschichten besteht. Diese Isolierlage wird allerdings bevorzugt nicht in einem Arbeitsschritt sondern in eine Abfolge mehrerer Arbeitsschritte ausgebildet. In jeweiligen Zwischenschritten werden beispielhaft Durchkontaktierungen ausgebildet und Leiterflächen angeordnet. Die Isolierlage bildet hier insbesondere auch die elektrisch Isolation gegen andere Potentiale aller Durchkontaktierungen aus. Bevorzugt ausgebildet wird die Isolierlage, wie auch die Durchkontaktierungen oder die Verbindungen mit den Leiterflächen mittels aktueller, fachüblicher Techniken der Leiterplattenherstellung.
  • Weiterhin, aus Gründen der Übersichtlichkeit beabstandet, dargestellt ist eine erste und zweite Kühleinrichtung 80, 82. Die zweite Kühleinrichtung 82 ist hier wieder als Luftkühleinrichtung ausgebildet, wobei sie von allen Potentialen der Leistungshalbleitereinrichtung elektrisch isoliert angeordnet ist und wesentliche Bereiche der zweiten Hauptfläche 24 überdeckt. Die erste Kühleinrichtung 80, die vorzugsweise erst beim der Verwendung angeordnet wird ist als Flüssigkeitskühleinrichtung ausgebildet und wird zur ersten Hauptfläche 20 und elektrisch davon isoliert angeordnet.
  • 4 zeigt zur Erläuterung der Erfindung eine weitere Leistungshalbleitereinrichtung 1 in Ausgestaltung einer Einphasengleichrichterschaltung, bei der das erste und zweite Leistungshalbleiterbauelement 30 ,32 als zwei parallel geschaltete Leistungsdioden ausgebildet sind. Diese beiden jeweiligen Leistungsdioden sind jeweils in einer gemeinsamen Ausnehmung 22, 26 angeordnet. Hierbei ist die erste Ausnehmung 22 der ersten Hauptfläche 20 nicht vollständig zu der zweiten Ausnehmung 26 der zweiten Hauptfläche 24 versetzt. Die übrige Ausgestaltung des Metallformkörpers 2 entspricht derjenigen gemäß 1.
  • Die Ausgestaltung der ersten und zweiten Leiterfläche 60, 62 wie auch der Isolierlage als solcher mit den ersten und zweiten Durchkontaktierungen 50, 52 entspricht derjenigen gemäß 3.
  • 5 zeigt eine Draufsicht in Richtung der zweiten Hauptfläche 22 auf eine erfindungsgemäße Leistungshalbleitereinrichtung. Dargestellt ist quasi von unten nach oben eine erste Leiterfläche 60, erste Leistungshalbleiterbauelemente 30, ein Metallformkörper 2, zweite Leistungshalbleiterbauelemente 32 angeordnet in zweiten Ausnehmungen 220, eine zweite Leiterfläche 62 sowie eine erste und eine zweite weitere Leiterfläche 610, 630.
  • Aus Gründen der Übersichtlichkeit wurden die ersten Ausnehmungen, wie auch die Isolierlage im Sinn der 3 und 4, sowie eine erste und zweite Kühleinrichtung nicht dargestellt.
  • 6 zeigt eine erläuternde Schnittansicht einer Weiterbildung der Erfindung. Hierbei ist der Metallformkörper 2 derart weitergebildet, dass er im Inneren einen Hohlraum 90 zur Kühlung der Leistungshalbleiterbauelemente 30, 32 aufweist. Dieser Hohlraum 90 ist hier als ein Teil einer Heatpipe ausgebildet. Alternativ kann der Hohlraum auch Teil einer Luft- oder Flüssigkeitskühlung sein und hierzu nicht dargestellte Kühlrippen oder Kühlfinger aufweisen. Ein wesentlicher Vorteil der hiermit erzielten Kühlung des Metallformkörpers 2 liegt darin, dass der Wärmeübergang zu den Leistungshalbleiterbauelementen 30, 32 mit einem metallischen Werkstoff, wie beispielhaft Lot, erfolgen kann und somit der Wärmewiderstand bei diesem Übergang geringer ist als bei einem isolierenden Werkstoff.
  • Dieser Hohlraum samt zugehöriger weiterer Kühleinrichtung kann zusätzlich zur ersten oder zweiten oder beiden Kühleinrichtungen vorhanden sein. Deren effiziente Kühlung beruht insbesondere darauf, dass die Dicke und damit der Wärmewiderstand der Schichten aus isolierendem Werkstoff möglichst dünn ausgestaltet sind, ohne dabei die elektrische Sicherheit zu vernachlässigen.

Claims (11)

  1. Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung (1) mit einem Metallformkörper (2), der einen ersten Anschlussleiter ausbildet, wobei ausgehend von der ersten Hauptfläche (20) des Metallformkörpers (2) eine erste Ausnehmung (22) mit einer ersten Grundfläche (220) ausgebildet ist in der ein erstes Leistungshalbleiterbauelement (30) angeordnet ist, wobei dessen erste der ersten Grundfläche (220) zugewandte Kontaktfläche (300) mit dieser Grundfläche (220) elektrisch leitend verbunden ist, wobei ausgehend von der zweiten Hauptfläche (24) des Metallformkörpers (2) eine zweite Ausnehmung (26) mit einer zweiten Grundfläche (260) ausgebildet ist in der ein zweites Leistungshalbleiterbauelement (32) angeordnet ist, wobei dessen erste der zweiten Grundfläche (260) zugeordnete Kontaktfläche (320) mit dieser Grundfläche (260) elektrisch leitend verbunden ist, wobei auf beiden Hauptflächen (20, 24), zumindest die jeweilige Ausnehmung (22, 26) ausfüllend und vollständig überdeckend jeweils eine Isolierschicht (40, 42) angeordnet ist, wobei die erste Isolierschicht (40) eine elektrisch leitende erste Durchkontaktierung (50) aufweist, die eine zweite Kontaktfläche (302) des ersten Leistungshalbleiterbauelements (30) mit einer auf der ersten Isolierschicht (40) angeordneten ersten Leiterfläche (60) elektrisch leitend verbindet und wobei die zweite Isolierschicht (42) eine elektrisch leitende zweite Durchkontaktierung (52) aufweist, die eine zweite Kontaktfläche (322) des zweiten Leistungshalbleiterbauelements (32) mit einer auf der zweiten Isolierschicht (42) angeordneten zweiten Leiterfläche (62) elektrisch leitend verbindet, wobei das zweite Leistungshalbeiterbauelement (32) eine der Grundfläche (260) der zweiten Ausnehmung (26) abgewandte zweite weitere Kontaktfläche (330) aufweist und wobei dieser zweiten weiteren Kontaktfläche (330) eine zweite weitere Durchkontaktierung (530) zugeordnet ist, die diese zweite weitere Kontaktfläche (330) mit einer auf der zweiten Isolierschicht (42) angeordneten weiteren zweiten Leiterfläche (630) elektrisch leitend verbindet.
  2. Leistungshalbleitereinrichtung nach Anspruch 1, wobei der erste Anschlussleiter einen Wechselspannungsanschluss ausbildet und wobei die erste und zweite Leiterfläche (60, 62) weitere Anschlussleiter ausbilden, die die Gleichspannungsanschlüsse ausbilden.
  3. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mindestens eine der Leiterflächen (60, 62) in thermischem Kontakt mit einer zugeordneten Kühleinrichtung (80, 82) steht, die auf der dem Metallformkörper (2) abgewandten Seite dieser Leiterfläche (60, 62) angeordnet, und vorzugsweise durch eine elektrisch isolierende Zwischenlage (70, 72) davon isoliert, ist.
  4. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das erste Leistungshalbeiterbauelement (30) eine der Grundfläche (220) der ersten Ausnehmung (22) zugewandte erste weitere Kontaktfläche (310) aufweist, die vorzugsweise als Steuerkontaktfläche ausgebildet ist und wobei dieser ersten weitere Kontaktfläche (310) eine vom Metallformkörper (2) elektrisch isolierte erste weitere Durchkontaktierung (510) zugeordnet ist, die diese erste weitere Kontaktfläche (310) mit einer auf der zweiten Isolierschicht (42) angeordneten weiteren ersten Leiterfläche (610) elektrisch leitend verbindet.
  5. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die zweite weitere Kontaktfläche (330) als Steuerkontaktfläche ausgebildet ist.
  6. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die zweite Leiterfläche (62), die erste weitere Leiterfläche (610) und die zweite weitere Leiterfläche (630) aus einer in sich strukturierten, und damit elektrisch voneinander isolierte Leiterbahnen ausbildenden, Metallfolie gebildet sind.
  7. Leistungshalbleitereinrichtung nach Anspruch 6, wobei die Leiterbahnen der Metallfolie auf der dem Metallformkörper (2) abgewandten Seite mit einer Isolierstofffolie bedeckt sind und vorzugsweise beide Folien adhäsiv miteinander verbunden sind.
  8. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei erste und zweite weitere Leiterfläche (610, 630) mit einer Steuereinrichtung zur Ansteuerung der Leistungshalbleiterbauelemente (30, 32) verbunden sind.
  9. Leistungshalbleitereinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Metallformkörper (2) einen Hohlraum (90) zur Kühlung der Leistungshalbleiterbauelemente (30, 32) aufweist.
  10. Leistungshalbleitereinrichtung nach Anspruch 9, wobei der Hohlraum (90) einen Teil einer Heatpipe ausbildet.
  11. Leistungshalbleitereinrichtung nach Anspruch 9, wobei der Hohlraum (90) dazu eingerichtet ist mit einem flüssigen oder gasförmigen Kühlmedium durchströmt zu werden.
DE102016104284.6A 2016-03-09 2016-03-09 Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter Active DE102016104284B4 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016104284.6A DE102016104284B4 (de) 2016-03-09 2016-03-09 Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter
CN201710126235.9A CN107180823B (zh) 2016-03-09 2017-02-17 具有金属模铸体的封装的功率半导体装置
US15/452,020 US10079197B2 (en) 2016-03-09 2017-03-07 Encapsulated power semiconductor device having a metal moulded body as a first connecting conductor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016104284.6A DE102016104284B4 (de) 2016-03-09 2016-03-09 Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102016104284A1 DE102016104284A1 (de) 2017-09-14
DE102016104284B4 true DE102016104284B4 (de) 2022-05-12

Family

ID=59700623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102016104284.6A Active DE102016104284B4 (de) 2016-03-09 2016-03-09 Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10079197B2 (de)
CN (1) CN107180823B (de)
DE (1) DE102016104284B4 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017115883B4 (de) * 2017-07-14 2020-04-02 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungselektronisches Submodul mit Gleich- und Wechselspannungsanschlusselementen und Anordnung hiermit
DE102017216732A1 (de) * 2017-09-21 2019-03-21 Conti Temic Microelectronic Gmbh Stromrichter, elektrische Antriebsanordnung mit einem Stromrichter
US11915996B2 (en) * 2019-05-09 2024-02-27 Intel Corporation Microelectronics assembly including top and bottom packages in stacked configuration with shared cooling

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011000751A1 (de) 2010-02-16 2011-12-08 Infineon Technologies Ag Halbleiter-Bauelement mit einem einen Hohlraum aufweisenden Träger und Herstellungsverfahren
DE102012111788A1 (de) 2011-12-08 2013-06-13 Infineon Technologies Ag Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und Verfahren für ihre Herstellung
EP2881985A1 (de) 2013-06-28 2015-06-10 Delta Electronics, Inc. Eingebettete Verpackungsstruktur und Verfahren zur Herstellung davon

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7787254B2 (en) * 2006-03-08 2010-08-31 Microelectronics Assembly Technologies, Inc. Thin multichip flex-module
DE102010041892A1 (de) * 2010-10-01 2012-04-05 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul mit einem Grundmodul und einem Verbindungsmodul

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011000751A1 (de) 2010-02-16 2011-12-08 Infineon Technologies Ag Halbleiter-Bauelement mit einem einen Hohlraum aufweisenden Träger und Herstellungsverfahren
DE102012111788A1 (de) 2011-12-08 2013-06-13 Infineon Technologies Ag Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und Verfahren für ihre Herstellung
EP2881985A1 (de) 2013-06-28 2015-06-10 Delta Electronics, Inc. Eingebettete Verpackungsstruktur und Verfahren zur Herstellung davon

Also Published As

Publication number Publication date
CN107180823A (zh) 2017-09-19
DE102016104284A1 (de) 2017-09-14
CN107180823B (zh) 2022-02-11
US20170263530A1 (en) 2017-09-14
US10079197B2 (en) 2018-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015111204B4 (de) Leistungselektronisches Modul mit Lastanschlusselementen
DE112015002001B4 (de) Halbleitermodul
DE102014116383B4 (de) Halbleitergehäuse umfassend ein transistor-chip-modul und ein treiber-chip-modul sowie verfahren zu dessen herstellung
DE102013110815B3 (de) Leistungshalbleitereinrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Leistungshalbleitereinrichtung
DE102015113208A1 (de) Modul mit integriertem Leistungselektronikschaltkreis und Logikschaltkreis
EP2804210A1 (de) Leistungselektronische Schalteinrichtung und Anordnung hiermit
DE102015210587B4 (de) Halbleitermodul, halbleitermodulanordnung und verfahren zum betrieb eines halbleitermoduls
DE102014106857B4 (de) Leistungshalbleitereinrichtung
DE102011078811B3 (de) Leistungselektronisches System mit einer Kühleinrichtung
DE112015000245T5 (de) Halbleitermodul
DE102014116662B4 (de) Elektrische anschlussbaugruppe, halbleitermodul und verfahren zurherstellung eines halbleitermoduls
DE102014104194B4 (de) Leistungshalbleitereinrichtung
DE102013212446A1 (de) Elektrische Schaltung und Verfahren zum Herstellen einer elektrischen Schaltung zur Ansteuerung einer Last
DE102018104972B4 (de) Leiterplattenelement mit integriertem elektronischen Schaltelement, Stromrichter und Verfahren zum Herstellen eines Leiterplattenelements
EP3273474A1 (de) Leistungselektronische schalteinrichtung, anordnung hiermit und verfahren zur herstellung der schalteinrichtung
DE102016104284B4 (de) Gekapselte Leistungshalbleitereinrichtung mit einem Metallformkörper als erstem Anschlussleiter
EP3273473A1 (de) Leistungselektronische schalteinrichtung, anordnung hiermit und verfahren zur herstellung der schalteinrichtung
DE102015116165A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer leistungselektronischen Schalteinrichtung und leistungselektronische Schalteinrichtung
EP3273470A1 (de) Leistungselektronische schalteinrichtung, anordnung hiermit und verfahren zur herstellung der schalteinrichtung
DE102011078806B4 (de) Herstellungsverfahren für ein leistungselektronisches System mit einer Kühleinrichtung
DE102013108185A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer leistungselektronischen Schalteinrichtung und leistungselektronische Schalteinrichtung
DE102021106991B3 (de) Leistungshalbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls und leistungselektronische Anordnung hiermit
EP2704194B1 (de) Leistungshalbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls
WO2022008121A1 (de) Verfahren zur herstellung eines leistungsmoduls, entsprechender zwischenprodukte, resultierendes leistungsmoduls sowie eines umrichtersystems mit diesem leistungsmodul
WO2021105028A1 (de) Leistungsmodul mit gehäusten leistungshalbleitern zur steuerbaren elektrischen leistungsversorgung eines verbrauchers sowie verfahren zur herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final