DE102016001810A1 - Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure - Google Patents
Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure Download PDFInfo
- Publication number
- DE102016001810A1 DE102016001810A1 DE102016001810.0A DE102016001810A DE102016001810A1 DE 102016001810 A1 DE102016001810 A1 DE 102016001810A1 DE 102016001810 A DE102016001810 A DE 102016001810A DE 102016001810 A1 DE102016001810 A1 DE 102016001810A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- printed circuit
- circuit board
- copper
- producing
- multilayer printed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
- C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0263—High current adaptations, e.g. printed high current conductors or using auxiliary non-printed means; Fine and coarse circuit patterns on one circuit board
- H05K1/0265—High current adaptations, e.g. printed high current conductors or using auxiliary non-printed means; Fine and coarse circuit patterns on one circuit board characterized by the lay-out of or details of the printed conductors, e.g. reinforced conductors, redundant conductors, conductors having different cross-sections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/13—Moulding and encapsulation; Deposition techniques; Protective layers
- H05K2203/1333—Deposition techniques, e.g. coating
- H05K2203/1344—Spraying small metal particles or droplets of molten metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4614—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination
- H05K3/462—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination characterized by laminating only or mainly similar double-sided circuit boards
Abstract
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte mit zumindest einer in einer Innenlage verstärkt ausgebildeten Leiterbahn genannt, wobei zumindest stückweise ein Element einer konventionell mittels Ätztechnik hergestellten Kupferstruktur-Leiterbahn mittels Kaltgasspritztechnik (kinetisches Spritzen bzw. CDGS Cold Gas Dynamic Spraying) verstärkt ausgebildet wird und es wird eine derart hergestellte mehrlagige Leiterplatte genannt und die Anwendung zur Verdrahtung bzw. elektrischen Verbindung und zur mechanischen Befestigung von elektrischen bzw. elektronischen Komponenten.It is called a method for producing a multilayer printed circuit board with at least one in an inner layer reinforced track, at least one piece of an element conventionally prepared by etching copper structure conductor track by means of cold spraying technique (kinetic spraying or CDGS Cold Gas Dynamic Spraying) is formed reinforced and It is called a multilayer printed circuit board produced in this way and the application for wiring or electrical connection and for the mechanical attachment of electrical or electronic components.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte (Multilayer) mit konventionell in Ätztechnik hergestellter Kupferstruktur (Leiterbahn) und zumindest in einer Innenlage mittels Kaltgasspritzen verstärkten Kupferstruktur und eine derart hergestellte Leiterplatte und die Anwendung als Leiterplatte.The invention relates to a method for producing a multilayer printed circuit board (multilayer) with conventionally prepared in etching copper structure (trace) and at least in an inner layer by means of cold gas spraying reinforced copper structure and a printed circuit board prepared in this way and the application as a printed circuit board.
Leiterplatten, auch als Printed Circuit Boards (BCBs) oder auch Printed Wiring Boards (PWBs) oder Leiterkarte oder Platine oder gedruckte Schaltung bezeichnet, werden zur Verdrahtung bzw. elektrischen Verbindung und zur mechanischen Befestigung von elektrischen bzw. elektronischen Komponenten (el. Komponenten bzw. el. Bauteile) verwendet, wobei diese el. Bauteile radial in Löchern der Leiterplatte mechanisch befestigt und elektrisch kontaktiert werden können oder auf der Oberfläche montiert werden können (surface mount technology SMT bzw. surface mount devices SMD) oder in Innenlagen vergraben werden können (burried components).Circuit boards, also referred to as Printed Circuit Boards (BCBs) or Printed Wiring Boards (PWBs) or printed circuit board or board or printed circuit are used for wiring or electrical connection and mechanical attachment of electrical or electronic components (el. el. Components), these el. Components can be fixed radially in holes of the circuit board and electrically contacted or can be mounted on the surface (surface mount technology SMT or surface mount devices SMD) or buried in inner layers (burried components).
Einerseits werden die el. Bauteile immer kleiner und komplexer, verbunden mit einer hohen Wärmeabgabe und damit wird der Bedarf nach Ableitung der Verlustwärme der el. Bauteile immer höher und andererseits werden immer höhere Ströme auf relativ kleinen Leiterplattenflächen vorgesehen oder benötigt, wie beispielsweise in modernen LED-Elementen der Lichttechnik oder im EV(Electro Vehicle)-Bereich oder allg. in der Leistungselektronik. Es müssen daher die Kupferquerschnitte der Verdrahtungsstrukturen auf und in Leiterplatten auf die geplanten, höheren Ströme dimensioniert werden, sodass die Erwärmung der Kupferleitungen an sich innerhalb geplanter Grenzen bleibt. In anderen Fällen werden auch Kupferstrukturen aktiv zur Ableitung der Verlustwärme von el. Bauteilen verwendet.On the one hand, the el. Components are becoming smaller and more complex, combined with a high heat output and thus the need to dissipate the heat loss of el. Components is always higher and on the other hand ever higher currents are provided or needed on relatively small PCB surfaces, such as in modern LED Elements of lighting technology or in the EV (Electro Vehicle) area or in general in power electronics. It is therefore necessary to dimension the copper cross sections of the wiring structures on and in printed circuit boards to the planned, higher currents so that the heating of the copper lines per se remains within planned limits. In other cases, copper structures are actively used to dissipate the heat loss of el. Components.
Übliche Leiterplattenmaterialien wie FR-4 bestehen aus einem elektrisch isolierenden Epoxidharz-Glasfasergewebe-Verbund mit darauf angeordneten Kupferfolien, die mittels Ätztechnik unter Aubildung von Leiterbahnen strukturiert werden.Conventional printed circuit board materials such as FR-4 consist of an electrically insulating epoxy resin-glass fiber fabric composite with copper foils arranged thereon, which are patterned by means of etching technology with the formation of conductor tracks.
Fertigungsbedingt sind die Kupferfolien sehr gut haftend mit der Oberfläche des isolierenden Epoxidharz-Glasfasergewebe-Verbund (FR-4) verbunden, sodass keine Delamination während des Herstellprozesses eines Multilayers eintritt und nach dem Bestücken der Leiterplatte mit elektronischen Komponenten diese durch die strukturierten Kupferflächen mechanisch gut gehalten werden können.For manufacturing reasons, the copper foils are very well bonded to the surface of the insulating epoxy-glass fiber fabric composite (FR-4), so that no delamination occurs during the production process of a multilayer and after the assembly of the printed circuit board with electronic components, they are mechanically well held by the structured copper surfaces can be.
Um hohe Ströme leiten zu können bzw. um hohe thermische Belastungen ableiten zu können, werden die Kupferdicken von typisch 9, 12, 18, 35, 70, 105 μm Dicke auf 140 μm und 210 μm und 400 μm bis über 1.000 μm Dicke erhöht. Diese Verdickung der Kupferstrukturen kann nach dem Stand der Technik galvanisch/chemisch oder durch Verwendung von Dickkupferprofilen (sog. Coins) oder durch die Aufbringung von Dickkupferelementen mit z. B. Ultraschall erfolgen.In order to be able to conduct high currents or to be able to dissipate high thermal loads, the copper thicknesses of typically 9, 12, 18, 35, 70, 105 μm thickness are increased to 140 μm and 210 μm and 400 μm to over 1,000 μm thickness. This thickening of the copper structures can according to the prior art galvanic / chemical or by the use of thick copper profiles (so-called. Coins) or by the application of thick copper elements with z. B. ultrasound.
Die
In der
In der
In der
Alle diese bekannten Verfahren haben sich als nachteilig heraus gestellt, weil die Schaffung von Leiterbahnen mit vergrößerter Dicke (Höhe), die über die Dicke (Höhe) der in Ätztechnik hergestellten Leiterbahnen hinaus geht, mit hohem Aufwand verbunden ist.All these known methods have turned out to be disadvantageous because the creation of printed conductors with increased thickness (height), which goes beyond the thickness (height) of the printed conductors produced in etching technology, is associated with great expense.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine in herkömmlicher Ätztechnik hergestellte Leiterplatte mit durch einen herkömmlichen Ätzvorgang freigelegten Leiterbahnen aus Kupfer so weiter zu bilden, dass mit geringem Aufwand die Dicke (Höhe) der Leiterbahnen vergrößert werden kann.The invention is therefore based on the object to form a printed circuit board produced in conventional etching with exposed by a conventional etching conductor tracks made of copper so that with little effort, the thickness (height) of the tracks can be increased.
Zur Lösung der gestellten Aufgabe ist die Erfindung durch die technische Lehre des Patentanspruchs 1 gekennzeichnet.To solve the problem, the invention is characterized by the technical teaching of claim 1.
Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, gewünschte Kupferstrukturen – bevorzugt – in Innenlagen einer mehrlagigen Leiterplatte mittels der sogenannten Kaltgasspritztechnik (kinetisches Spritzen bzw. CDGS Cold Gas Dynamic Spraying) zu verstärken.According to the invention, it is proposed to reinforce desired copper structures-preferably-in inner layers of a multilayer printed circuit board by means of the so-called cold gas spraying technique (kinetic spraying or CDGS cold gas dynamic spraying).
Das Kaltgasspritzen ist ein Beschichtungsverfahren, bei dem der Beschichtungswerkstoff in Pulverform mit sehr hoher Geschwindigkeit auf das Trägermaterial (Substrat) aufgebracht wird. Dazu wird ein auf wenige hundert Grad aufgeheiztes Prozessgas durch Expansion in einer Lavaldüse auf Überschallgeschwindigkeit beschleunigt und anschließend die Pulverpartikel in den Gasstrahl injiziert. Die injizierten Spritzpartikel werden dabei auf eine so hohe Geschwindigkeit beschleunigt, dass sie im Gegensatz zu anderen thermischen Spritzverfahren auch ohne vorangehendes An- oder Aufschmelzen beim Aufprall auf das Substrat eine dichte und fest haftende Schicht bilden. Die kinetische Energie zum Zeitpunkt des Aufpralls reicht für ein vollständiges Aufschmelzen der Partikel i. a. nicht aus.Cold gas spraying is a coating process in which the coating material is applied in powder form to the carrier material (substrate) at very high speed. To is accelerated to a few hundred degrees heated process gas by expansion in a Laval nozzle to supersonic speed and then injected the powder particles in the gas jet. The injected spray particles are thereby accelerated to such a high speed that, in contrast to other thermal spraying methods, they form a dense and firmly adhering layer upon impact with the substrate even without prior melting or melting. The kinetic energy at the time of impact is generally insufficient for complete melting of the particles.
Dabei werden Kupferteilchen bzw. auch Kupferlegierungsteilchen in einem Gasstrahl derart beschleunigt und fein fokussiert, dass auf der vorhandenen Leiterbahnstruktur eine weitere hochdichte Kupferschicht entsteht. Es handelt sich demnach um ein Auftragsverfahren, mit dem die Dicke der in Ätztechnik hergestellten Leiterbahnen wesentlich erhöht werden kann.In this case, copper particles or else copper alloy particles are accelerated and finely focused in a gas jet such that a further high-density copper layer is formed on the existing printed conductor structure. It is therefore an application method with which the thickness of the printed conductors produced in etching technology can be substantially increased.
Die Erfindung beansprucht neben dem oben beschriebenen Kaltgasspritz-Auftragsverfahren allgemein auch die Verfahren des Thermischen Spritzens als Oberflächenbeschichtungsverfahren gezielt nur für den Dickenauftrag von Kupferleiterbahnen.In addition to the cold gas spraying application method described above, the invention generally also claims the methods of thermal spraying as a surface coating method specifically only for thickness application of copper conductor tracks.
Laut der normativen Definition (
Eine Schichtbildung findet statt, da die Spritzpartikel beim Auftreffen auf die Bauteiloberfläche prozess- und materialabhängig mehr oder minder abflachen, vorrangig durch mechanische Verklammerung haften bleiben und lagenweise die Spritzschicht aufbauen. Qualitätsmerkmale von Spritzschichten sind geringe Porosität, gute Anbindung ans Bauteil, Rissfreiheit und homogene Mikrostruktur. Die erzielten Schichteigenschaften werden maßgeblich beeinflusst von der Temperatur und der Geschwindigkeit der Spritzpartikel zum Zeitpunkt ihres Auftreffens auf die zu beschichtende Oberfläche. Der Oberflächenzustand (Reinheit, Aktivierung, Temperatur) übt ebenfalls maßgeblichen Einfluss auf Qualitätsmerkmale wie die Haftfestigkeit aus.A layer formation takes place because the spray particles flatten more or less depending on the process and material when hitting the component surface, stick primarily by mechanical clamping and layer by layer build up the spray layer. Quality features of sprayed coatings are low porosity, good adhesion to the component, freedom from cracks and homogeneous microstructure. The achieved coating properties are significantly influenced by the temperature and the speed of the spray particles at the time of their impact on the surface to be coated. The surface condition (purity, activation, temperature) also has a significant influence on quality features such as adhesion.
Als Energieträger für die An- oder Aufschmelzung des Spritzzusatzwerkstoffes dienen elektrischer Lichtbogen (Lichtbogenspritzen), Plasmastrahl (Plasmaspritzen), Brennstoff-Sauerstoff-Flamme bzw. Brennstoff-Sauerstoff-Hochgeschwindigkeitsflamme (konventionelles und Hochgeschwindigkeits-Flammspritzen), schnelle, vorgewärmte Gase (Kaltgasspritzen) und Laserstrahl (Laserstrahlspritzen). Laut
Zweck dieser Verfahren ist die gezielte Beschichtung der durch Ätztechnik hergestellten Kupfer-Leiterbahnen zum Zwecke der Veränderung und gezielten Anpassung von Oberflächeneigenschaften.The purpose of these methods is the targeted coating of the copper conductor tracks produced by etching technology for the purpose of altering and specifically adapting surface properties.
Damit besteht der Vorteil, dass die günstigen Eigenschaften – insbesondere deren Haftungseigenschaften auf der Leiterplatte – der in Ätztechnik auf einer FR-4 Leiterplatte hergestellten Leiterbahnen beibehalten werden. Dies hebt das erfindungsgemäße Verfahren gegenüber den bekannten Verfahren hervor.This has the advantage that the favorable properties - in particular their adhesion properties on the printed circuit board - of the printed conductors produced in an etching technique on a FR-4 printed circuit board are maintained. This highlights the method according to the invention over the known methods.
Bei den bekannten Verfahren mussten in separaten Verfahrensschritten geeignete Dickkupfer-Profile z. B. mittels Ultraschall-Schweißen auf der Oberfläche einer FR-4 Leiterplatte festgelegt werden. Damit konnten nur ungenügende Haftungseigenschaften der Dickkupfer-Profile auf der Oberfläche der Kunststoff-Leiterplatte erzielt werden. Nachdem das Bedürfnis besteht eine immer größere Anzahl von Bauteilen auf den Leiterbahn-Querschnitten elektrisch leitfähig zu kontaktieren, besteht bei der herkömmlichen Technik der Nachteil einer verminderter Haftung der Dickkupfer-Profile auf der Leiterplatten-Oberfläche, wenn diese mit einer Vielzahl von Bauelementen bestückt sind.In the known methods had suitable thick copper profiles z. B. are determined by ultrasonic welding on the surface of a FR-4 circuit board. Thus, only insufficient adhesion properties of the thick copper profiles on the surface of the plastic circuit board could be achieved. As the need arises to electrically contact an increasing number of components on the trace cross-sections, there is a disadvantage in the prior art of reduced adhesion of the thick copper profiles to the printed circuit board surface when loaded with a variety of devices.
Die Lastübertragungseigenschaften der in herkömmlicher Technik erzeugten Dickkupfer-Profile auf die Oberfläche der Leiterplatte waren demnach ungenügend.The load transfer properties of the thick copper profiles produced in conventional technology on the surface of the printed circuit board were therefore insufficient.
Hier setzt die Erfindung an, in dem die bekannt guten Haftungseigenschaften von in Ätztechnik erzeugten Leiterbahnen genutzt werden, um auf diesen Leiterbahnen gezielt ein aus Kupferpartikeln bestehenden leitfähigen Aufbau zu erzeugen, der die Höhe (Dicke) der Leiterbahn vergrößert, aber die guten Lastübertragungseigenschaften einer solchen Leiterbahn gegenüber der Trägerplatte beibehält.This is where the invention begins, in which the well-known adhesion properties of conductor tracks produced in etching technology are used in order to selectively generate a conductive conductive structure consisting of copper particles, which increases the height (thickness) of the conductor track, but the good load transfer properties of such Maintains trace opposite the carrier plate.
Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ist, dass nur gezielt einzelne, ausgewählte Leiterbahnen in ihrer Dicke (Höhe) vergrößert werden können. Der leitfähige Sprühauftrag sollte randscharf mit der Dicke der vorhandenen Leiterbahnen sein. Es sollte daher ein Dickenaufbau (in vertikaler Richtung), das heißt in der Höhenerstreckung der vorhandenen Leiterbahn-Struktur sein.Advantage of the method according to the invention is that only selectively, selected individual tracks in their thickness (height) can be increased. The conductive spray application should be sharp with the thickness of the existing tracks. It should therefore be a thickness structure (in the vertical direction), that is, in the vertical extent of the existing interconnect structure.
Selbstverständlich kann die Erfindung jedoch eine Vergrößerung der Leiterbahnbreite und/oder eine Vergrößerung der Leiterbahnhöhe vorsehen.Of course, however, the invention can provide an increase in the width of the conductor track and / or an increase in the conductor track height.
Weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ist, dass in einer ersten Ausführung vorgesehen ist, dass das aufgesprühte Dickenprofil für alle nachträglich behandelten Leiterbahnen gleichmässig hoch ist. Another advantage of the method according to the invention is that it is provided in a first embodiment that the sprayed thickness profile is uniformly high for all laterally treated printed conductors.
In einer anderen Ausführung kann es vorgesehen sein, dass das Dickenprofil ungleichmässig ist. Einige Leiterbahnen können nachträglich eine größere Dicke (Höhe) erhalten, als vergleichsweise andere Leiterbahnen. Einige Leiterbahnen können auch unbehandelt bleiben und ihre ursprüngliche, durch Ätztechnik hergestellte Leiterbahndicke beibehalten.In another embodiment, it may be provided that the thickness profile is uneven. Some tracks can subsequently have a greater thickness (height), as compared to other tracks. Some traces may also remain untreated and retain their original trace thickness made by etching.
Schließlich kann das Dickenprofil auf einer bestimmten Länge einer Leiterbahn auch moduliert sein. Auf einem ersten Längenabschnitt einer solchen Leiterbahn kann deshalb ein höherer Auftrag stattfinden als auf einem anderen Längenabschnitt der gleichen Leiterbahn.Finally, the thickness profile can also be modulated over a certain length of a conductor track. Therefore, a higher order can take place on a first length section of such a conductor path than on a different length section of the same conductor track.
Die Erfindung ist im Übrigen nicht darauf beschränkt, die Leiterbahnen der Innenlagen einer mehrlagigen Leiterplatte durch das erfindungsgemäße Auftragsverfahren zu verstärken. Das Verfahren kann für sämtliche Leiterbahnen von ein- oder mehrlagigen Leiterplatte angewendet werden.Incidentally, the invention is not limited to reinforcing the printed conductors of the inner layers of a multilayer printed circuit board by the application method according to the invention. The method can be used for all printed conductors of single or multilayer printed circuit board.
Grundsätzlich kann dabei die Oberfläche der Kupferstruktur und/oder das Gas und/oder die Kupferteilchen vorgewärmt werden.In principle, the surface of the copper structure and / or the gas and / or the copper particles can be preheated.
Nach erfolgtem Sprühauftrag kann bei einer Mehrlagen-Leiterplatte bei den in Innenlagen gelegenen Leiterbahnen eine Verdichtung der Leiterbahnen durch den späteren Laminiervorgang und damit eine Verfestigung der aufgetragenen Leiterbahnstruktur stattfinden.After the spray application has taken place, in the case of a multilayer printed circuit board, the interconnects located in inner layers can be densified by the subsequent laminating process and thus solidification of the applied interconnect structure.
Die Erfindung betrifft demnach ein Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Leiterplatte mit zumindest einer in einer Innenlage verstärkt ausgebildeten Leiterbahn, wobei zumindest stückweise ein Element einer konventionell mittels Ätztechnik hergestellten Kupferstruktur-Leiterbahn (
Es wird bevorzugt, wenn die Verstärkung zumindest eine Verdoppelung der Kupferstruktur-Schichtstärke ergibt.It is preferred if the gain results in at least a doubling of the copper structure layer thickness.
Es wird weiter bevorzugt, wenn die Verstärkung der Kupferstruktur-Schichtstärke eine Gesamt-Schichtstärke von größer 200 μm, insbesondere größer 400 μm bis über 1.000 μm ergibt.It is further preferred if the reinforcement of the copper structure layer thickness results in a total layer thickness of greater than 200 μm, in particular greater than 400 μm to more than 1000 μm.
Nach einem bevorzugten Merkmal wird ein Verfahren verwendet, das die Verstärkung mittels Kaltgasspritztechnik mit Kupfer- bzw. Kupferlegierungs-Teilchen durchführt. Bei einem solchen Kaltspritz-Vorgang lagern sich die mit hoher Geschwindigkeit auf die leiterplattenseitige Leiterbahnstruktur geschossenen, leitfähigen Partikel auf der Oberseite der leiterplattenseitigen Leiterbahnstruktur als fester Verbund an. Ein solcher ist mit einem Kalt-Reibschweißvorgang oder einem Knetvorgang zu vergleichen, bei dem die aufgetragenen Partikel einen unlösbaren Verbund mit dem Kupfer der Leiterbahn ergeben.According to a preferred feature, a method is used which performs the reinforcement by means of cold gas spraying with copper or copper alloy particles. In such a cold spraying process, the conductive particles shot at high speed onto the printed circuit board side wiring pattern are fixedly bonded to the upper surface of the wiring board side wiring pattern. Such is to be compared with a cold friction welding process or a kneading process, in which the applied particles give a permanent bond with the copper of the conductor track.
Es ist möglich, die Oberfläche der mit den Partikeln beschossenen Leiterbahn noch besonders für die Anlagerung der Partikel vorzubereiten. Dazu kann es vorgesehen, die Oberfläche chemisch oder mechanisch aufzurauen oder zu ritzen oder eine durch chemische oder mechanische Behandlung erfolgte Verbesserung der Haftfähigkeit der Oberfläche der Leiterbahn zu erzeugen.It is possible to prepare the surface of the track coated with the particles especially for the attachment of the particles. For this purpose, it is provided to roughen the surface chemically or mechanically or to scratch or to produce a chemical or mechanical treatment carried out improving the adhesion of the surface of the conductor track.
Es wird bevorzugt, wenn die Kupfer- bzw. Kupferlegierungsteilchen eine Größenverteilung bezgl. d50 von einigen Mikrometern bzw. Submikrometern aufweisen und eine sphärische Form, eine plättchenförmige oder stabförmige oder konusförmige Form aufweisen.It is preferred if the copper or copper alloy particles have a size distribution of d50 of a few micrometers or submicrons and have a spherical shape, a platelike or rod-shaped or conical shape.
Damit kann eine besonders gute Verknäulung der aufgetragenen Partikel untereinander erreicht werden, sodass sich eine homogene Struktur der aufgetragenen Leiterbahnstruktur ergibt, deren Leitfähigkeit der Leitfähigkeit der am Grund liegenden Leiterbahn-Struktur entspricht. Die aufgetragene Schicht verbindet sich demnach homogen mit der auf der Oberfläche der Leiterplatte befindlichen Leiterbahnstruktur.Thus, a particularly good entanglement of the applied particles can be achieved with each other, so that a homogeneous structure of the applied conductor track structure results, the conductivity of which corresponds to the conductivity of the underlying trace structure. The applied layer thus combines homogeneously with the conductor track structure located on the surface of the printed circuit board.
Weiters können die Kupfer- bzw. Kupferlegierungsteilchen mit Abmessungen im Mikrometerbereich und/oder im Sub-Mikrometerbereich und/oder im Nanobereich gewählt werden und es kann eine sehr enge (monomodale) oder breite Gaußverteilung oder eine bimodale oder multimodale Verteilung gewählt werden.Further, the copper or copper alloy particles may be selected to be in the micrometer and / or submicron and / or nanoscale dimensions, and a very narrow (monomodal) or wide Gaussian distribution, or a bimodal or multimodal distribution may be used.
Die Kupfer- bzw. Kupferlegierungsteilchen können des Weiteren beschichtet ausgebildet sein, z. B. mit Silber. Dabei kann eine sehr geringe Schichtstärke im Nanometerbereich gewählt werden. Sie besitzen dann einen Kern aus Kupfer und eine Hülle aus einem anderen, geeigneten Stoff z. B. Ag oder Au.The copper or copper alloy particles may be further coated, e.g. With silver. In this case, a very small layer thickness in the nanometer range can be selected. They then have a core of copper and a shell of another, suitable material z. B. Ag or Au.
Der Erfindungsgegenstand der vorliegenden Erfindung ergibt sich nicht nur aus dem Gegenstand der einzelnen Patentansprüche, sondern auch aus der Kombination der einzelnen Patentansprüche untereinander.The subject of the present invention results not only from the subject matter of the individual claims, but also from the combination of the individual claims with each other.
Alle in den Unterlagen, einschließlich der Zusammenfassung offenbarten Angaben und Merkmale, insbesondere die in den Zeichnungen dargestellte räumliche Ausbildung, werden als erfindungswesentlich beansprucht, soweit sie einzeln oder in Kombination gegenüber dem Stand der Technik neu sind.All information disclosed in the documents, including the abstract, and Features, in particular the spatial design shown in the drawings, are claimed as essential to the invention, as far as they are new individually or in combination with respect to the prior art.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand von mehrere Ausführungswege darstellenden Zeichnungen näher erläutert. Hierbei gehen aus den Zeichnungen und ihrer Beschreibung weitere erfindungswesentliche Merkmale und Vorteile der Erfindung hervor.In the following, the invention will be explained in more detail with reference to drawings illustrating several execution paths. Here are from the drawings and their description further features essential to the invention and advantages of the invention.
Es zeigen:Show it:
In
Ein bevorzugtes Basismaterial ist FR-4, ein Epoxid-Glashartgewebe, das als FR-4 Prepreg mit einer typischen Dicke von 78 μm (z. B. Typ 1080) oder 120 μm (z. B. Typ 2116) oder 180 μm (z. B. Typ 7628) oder 60 μm (z. B. Typ 106) oder 100 μm (z. B. Typ 2125) oder 125 μm (z. B. Typ 2165) usw. verfügbar ist.A preferred base material is FR-4, an epoxy glassy braided fabric which is a FR-4 prepreg having a typical thickness of 78 μm (e.g., Type 1080) or 120 μm (e.g., Type 2116) or 180 μm (e.g. B. Type 7628) or 60 μm (eg Type 106) or 100 μm (eg Type 2125) or 125 μm (eg Type 2165) etc. is available.
Weiters sind derartige FR-4 Prepregs in einer Standardausführung mit einem Tg von größer 135°C oder in der Form High-Tg mit 170°C bis über 180°C verfügbar. Tg bezeichnet dabei die Glasübergangs-Temperatur. Prepregs mit zwei vorverpreßten Kupferlagen werden als Kernlagen (Cores) bezeichnet.Furthermore, such FR-4 prepregs are available in a standard version with a Tg of greater than 135 ° C or in the form of High-Tg at 170 ° C to over 180 ° C. Tg denotes the glass transition temperature. Prepregs with two pre-pressed copper layers are referred to as core layers (cores).
Die Dicke der Kupferlagen bzw. Kupferfolien betragen i. a. 12, 18, 35, 70, 105 μm und können bei Dickkupfer 140 μm bzw. 210 μm bis 400 μm betragen. Ganz wesentlich für die Verwendung von Prepregs, die mit Kupferlagen verpreßt sind, ist deren Haftung und der bei einem Abziehtest (Peel-Test) ermittelte Wert, der i. a. im Bereich von größer 1,1 bis 1,6 N/mm betragen muß und auch nach einem Klimatest von 24 Stunden bei 85°C und 85% relativer Luftfeuchtigkeit keine nennenswerte Veränderung aufweist.The thickness of the copper layers or copper foils are i. a. 12, 18, 35, 70, 105 microns and can be in thick copper 140 microns or 210 microns to 400 microns. Quite essential for the use of prepregs which are pressed with copper layers, their adhesion and the value determined in a peel test (peel test), the i. a. must be in the range of greater than 1.1 to 1.6 N / mm and even after a climatic test of 24 hours at 85 ° C and 85% relative humidity has no significant change.
Die Kupferlagen werden nach dem Stand der Technik i. a. photolithographisch strukturiert und geätzt und ergeben strukturierte Leiterbahnen (
Erfindungsgemäß werden nunmehr stückweise Kupferstruktur-Leiterbahnen (
Zur Vermeidung von unerwünschten Randeffekten, das heißt, zur Vermeidung dass die aufgesprühten Partikel in die Nachbarschaft der zu beschichtenden Leiterbahn gelangen, kann es vorgesehen sein, die Kunststoff-Oberfläche der Leiterplatte in der Nachbarschaft der zu beschichtenden Leiterbahn mit einem Trennmittel (z. B. Silikon oder blauer oder pinkfarbener Abziehlack) zu behandeln, um einen unerwünschten Auftrag der neben der Leiterbahn aufgesprühten und angelagerten Partikel durch ein nachfolgendes mechanisches Bürsten oder ein chemisches Nachätzen zu entfernen.In order to avoid undesirable edge effects, that is, to prevent the sprayed-on particles from getting into the vicinity of the conductor track to be coated, provision may be made for the plastic surface of the printed circuit board to be coated in the vicinity of the conductor track to be coated with a release agent (eg. Silicone or blue or pink peel-off lacquer) to remove any unwanted application of the particles sprayed and deposited adjacent to the trace by subsequent mechanical brushing or chemical etching.
Ebenso kann ein mit dem Rand der zu beschichtenden Leiterbahn abschliessendes, deckungsgleiches Beschichten der Leiterbahn dadurch erreicht werden, dass mit der Sprühdüse eine sich in Längsrichtung erstreckende Blende mitgeführt wird, die eine gezielte Beschichtung der Leiterbahn in Längsrichtung gewährleistet, aber eine über den seitlichen Rand der Leiterbahn hinaus gehende Beschichtung vermeidet.Likewise, a congruent with the edge of the conductor to be coated interconnect, coating of the conductor can be achieved in that with the spray nozzle a longitudinally extending aperture is carried, which ensures a targeted coating of the conductor in the longitudinal direction, but one on the lateral edge of the Conduit beyond going coating avoids.
Die auf der Oberseite der zu beschichtenden Leiterbahn angeordnete Grenzschicht (
Angestrebt wird eine intermetallische Verbindung. Aus diesem Grunde ist die Deoxidation der Oberfläche der Kupferstruktur (
Das Kaltgasspritzverfahren mit dem Kaltgasspritz-System (
Als Gas (
Die Temperatur der Oberfläche der Kupferstruktur (
Der Kaltgasspritz-Vorgang kann unter atmosphärischer Luft oder unter Inertgas wie Stickstoff oder Argon erfolgen.The cold gas spraying process can be carried out under atmospheric air or under an inert gas such as nitrogen or argon.
Der Strahldruck des Gases kann im Hochdruckbereich von z. B. 750 PSI = 51,7 bar oder auch im Niederdruckbereich von z. B. 6 bar liegen. Es werden auch alle dazwischen liegenden Druckbereiche als vorteilhaft erkannt.The jet pressure of the gas can in the high pressure range of z. B. 750 PSI = 51.7 bar or in the low pressure range of z. B. 6 bar. All intervening pressure ranges are also recognized as advantageous.
Die bevorzugt verwendeten Laval-Düsen haben die Eigenschaft, von einem konvergenten und anschließend divergenten Strömungsquerschnitt das Fluid auf Überschallgeschwindigkeit zu beschleunigen, ohne daß es zu starken Verdichtungsstößen kommt;
In vielen Fällen ist jedoch die Erzeugung einer Überschallgeschwindigkeit nicht notwendig.The Laval nozzles which are preferably used have the property of accelerating the fluid to supersonic speed from a convergent and then divergent flow cross section without resulting in excessive compression impacts;
In many cases, however, the generation of a supersonic speed is not necessary.
In der Leiterplattenindustrie werden Leiterbahnen nahezu ausschließlich aus Kupfer verwendet, wobei die freien Kupferoberflächen der Außenlagen organisch oder anorganisch passiviert werden und derart über Monate lötfähig bleiben. Insbesondere die anorganische Passivierung mit einer dünnen Nickel-Silberschicht ist für die Anbindung der Kupfer- bzw. Kupferlegierungsteilchen mittels Kaltgasspritzverfahren sehr gut geeignet, allerdings sind damit erhöhte Kosten gegeben.In the printed circuit board industry, strip conductors are used almost exclusively of copper, whereby the free copper surfaces of the outer layers are passivated in organic or inorganic form and remain solderable for months. In particular, the inorganic passivation with a thin nickel-silver layer is very well suited for the connection of the copper or copper alloy particles by means of cold gas spraying, but this increases costs are given.
Als metallische elektrisch leitende Teilchen (
Die Größenverteilung der verwendeten Teilchen (
Weiters können Kupferlegierungen mit Beimengungen von Zink (Zn) und/oder Silber (Ag) und/oder Magnesium (Mg) und/oder Nickel (Ni) und/oder Eisen (Fe) und/oder Mangan (Mn) und/oder Zinn (Sb) und/oder Aluminium (Al) gewählt werden und derart die Eigenschaften der verstärkten Leiterbahn (
Es können auch die Kupfer- und Kupferlegierungsteilchen (
Die Kupfer- bzw. Kupferlegierungsteilchen (
Die verstärkte Kupferstruktur (
Die verstärkte Kupferstruktur weist deshalb auch sehr gute thermische Eigenschaften auf. Die Porosität ist besser als 97% und insbesondere besser als 99%.The reinforced copper structure therefore also has very good thermal properties. The porosity is better than 97% and in particular better than 99%.
Da die Dicke des Substrats (
In
In dieser beispielhaften Darstellung werden insgesamt 6 Leiterbahn-Kupfer-Lagen (
Beispielhaft ist schematisch noch eine Durchkontaktierung (
Weiters sind zwei Außenlagen (
Diese schematische Darstellung einer Mehrlagenleiterplatte (
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Mehrlagenleiterplatte (Multilayer – ML)Multilayer PCB (Multilayer - ML)
- 22
- Kaltgasspritz-System (Cold-Gas-Dynamic-Spray CGDS System)Cold gas spraying system (cold gas dynamic spray CGDS system)
- 33
- Substrat: Innenlage bzw. Prepreg bzw. Basismaterial wie z. B. FR-4 (Epoxid-Glashartgewebe), FR-4 Low Tg, FR-4 High Tg, Gr-2, FR-3, CEM-1, XEM-x, PI, CE, AramidSubstrate: inner layer or prepreg or base material such. FR-4 Low Tg, FR-4 High Tg, Gr-2, FR-3, CEM-1, XEM-x, PI, CE, Aramid
- 44
- Kupferstruktur-Leiterbahn: i. a. geätztes Kupfer mit einer Dicke von 12 oder 18 oder 35 oder 70 oder 105 μm mit einer Haftung zum Substrat von größer 1,1 N/mm bis 1,6 N/mmCopper structure trace: i. a. Etched copper with a thickness of 12 or 18 or 35 or 70 or 105 μm with an adhesion to the substrate of greater than 1.1 N / mm to 1.6 N / mm
- 55
- Metallische elektrisch leitende Teilchen, insbesondere Kupferteilchen bzw. Kupferlegierungsteilchen mit diversen Formen und Größenverteilungen (Gaußsche Verteilung bzm. Monomodale bzw. Eimodale bzw. Multimodale Verteilung) und Nano-Beschichtungen und Beimengungen wie nanoskaligen Kupfer- und/oder Silber- oder Palldaiumteilchen.Metallic electrically conductive particles, in particular copper particles or copper alloy particles with various shapes and size distributions (Gaussian distribution bzm. Monomodale or Eimodale or multimodal distribution) and nano-coatings and admixtures such as nanoscale copper and / or silver or Palldaiumteilchen.
- 66
- Gas: Luft bzw. insbesondere inerte Gase wie Stickstoff oder ArgonGas: air or, in particular, inert gases such as nitrogen or argon
- 77
- Verstärkte LeiterbahnReinforced track
- 88th
- Teilchenstrahlparticle
- 99
- Außenlagebacksheet
- 1010
- Innenlageüber der verstärkten KupferstrukturInner layer over the reinforced copper structure
- 1111
- Innenlageinner layer
- 1212
- Durchkontaktierungvia
- 1313
- Kupfer-Lage 1Copper layer 1
- 1414
-
Kupfer-Lage 2
Copper layer 2 - 1515
-
Kupfer-Lage 3
Copper layer 3 - 1616
- Kupfer-Lage 4Copper layer 4
- 1717
- Kupfer-Lage 5Copper layer 5
- 1818
-
Kupfer-Lage 6
Copper layer 6 - 1919
- Grenzschichtinterface
- 2020
- Lötstoppmaske obenSolder mask on top
- 2121
- Lötstoppmaske untenSolder mask below
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.
Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- EP 1365637 A2 [0007] EP 1365637 A2 [0007]
- WO 2005053367 A2 [0008] WO 2005053367 A2 [0008]
- WO 2013158178 A2 [0009] WO 2013158178 A2 [0009]
- WO 2014102054 A1 [0010] WO 2014102054 A1 [0010]
Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature
- DIN EN 657 [0018] DIN EN 657 [0018]
- DIN-Norm EN 657 [0020] DIN standard EN 657 [0020]
Claims (26)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016001810.0A DE102016001810A1 (en) | 2016-02-17 | 2016-02-17 | Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016001810.0A DE102016001810A1 (en) | 2016-02-17 | 2016-02-17 | Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102016001810A1 true DE102016001810A1 (en) | 2017-08-17 |
Family
ID=59409828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102016001810.0A Ceased DE102016001810A1 (en) | 2016-02-17 | 2016-02-17 | Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102016001810A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021018713A1 (en) * | 2019-07-26 | 2021-02-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for thermally spraying conductor paths, and electronic module |
DE102021201361A1 (en) | 2021-02-12 | 2022-08-18 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Electrical component and method for producing an electrical component embedded in a multilayer printed circuit board |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020012743A1 (en) * | 2000-07-25 | 2002-01-31 | The Research Foundation Of State University Of New York | Method and apparatus for fine feature spray deposition |
EP1365637A2 (en) | 2002-05-23 | 2003-11-26 | Delphi Technologies, Inc. | Copper circuit formed by kinetic spray |
DE10223209A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Delphi Tech Inc | Process for improving the electrical conductivity and the corrosion and wear resistance of a flexible circuit |
WO2005053367A2 (en) | 2003-10-30 | 2005-06-09 | Yazaki Europe Limited | Method and apparatus for the manufacture of electric circuits |
US20060258055A1 (en) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Wiring board and method of manufacturing the same |
DE102006004322A1 (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Häusermann GmbH | Printed circuit board with additional functional elements as well as manufacturing process and application |
US20080220373A1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for forming a photoresist-laminated substrate, method for plating an insulating substrate, method for surface treating of a metal layer of a circuit board, and method for manufacturing a multi layer ceramic condenser using metal nanoparticles aerosol |
WO2013158178A2 (en) | 2012-01-27 | 2013-10-24 | Ndsu Research Foundation | Micro cold spray direct write systems and methods for printed micro electronics |
WO2014102054A1 (en) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Robert Bosch Gmbh | Conductor track arrangement and method for the production thereof |
DE102014217186A1 (en) * | 2014-08-28 | 2016-03-03 | Continental Automotive Gmbh | Method for producing a circuit carrier and circuit carrier for electronic components |
-
2016
- 2016-02-17 DE DE102016001810.0A patent/DE102016001810A1/en not_active Ceased
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020012743A1 (en) * | 2000-07-25 | 2002-01-31 | The Research Foundation Of State University Of New York | Method and apparatus for fine feature spray deposition |
EP1365637A2 (en) | 2002-05-23 | 2003-11-26 | Delphi Technologies, Inc. | Copper circuit formed by kinetic spray |
DE10223209A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Delphi Tech Inc | Process for improving the electrical conductivity and the corrosion and wear resistance of a flexible circuit |
WO2005053367A2 (en) | 2003-10-30 | 2005-06-09 | Yazaki Europe Limited | Method and apparatus for the manufacture of electric circuits |
US20060258055A1 (en) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Wiring board and method of manufacturing the same |
DE102006004322A1 (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Häusermann GmbH | Printed circuit board with additional functional elements as well as manufacturing process and application |
US20080220373A1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-11 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for forming a photoresist-laminated substrate, method for plating an insulating substrate, method for surface treating of a metal layer of a circuit board, and method for manufacturing a multi layer ceramic condenser using metal nanoparticles aerosol |
WO2013158178A2 (en) | 2012-01-27 | 2013-10-24 | Ndsu Research Foundation | Micro cold spray direct write systems and methods for printed micro electronics |
WO2014102054A1 (en) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Robert Bosch Gmbh | Conductor track arrangement and method for the production thereof |
DE102014217186A1 (en) * | 2014-08-28 | 2016-03-03 | Continental Automotive Gmbh | Method for producing a circuit carrier and circuit carrier for electronic components |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DIN EN 657 |
DIN-Norm EN 657 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021018713A1 (en) * | 2019-07-26 | 2021-02-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for thermally spraying conductor paths, and electronic module |
DE102021201361A1 (en) | 2021-02-12 | 2022-08-18 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Electrical component and method for producing an electrical component embedded in a multilayer printed circuit board |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20190117494A (en) | Electromagnetic shielding film, shielded printed wiring boards and electronic equipment | |
DE102017219463A1 (en) | WIRE WRAPPED COIL COMPONENTS AND METHOD FOR PRODUCING A WIRE WRAPPED COIL COMPONENT | |
EP3326437B1 (en) | Method for creating patterned coatings on a molded article, and device for carrying out said method | |
DE202012013222U1 (en) | contact element | |
DE102008051921A1 (en) | Multilayer system with contact elements and method for creating a contact element for a multilayer system | |
DE112012004940T5 (en) | Production of a conductor track structure and substrate with such a structure | |
DE102015210458A1 (en) | Method for connecting a conductor having a base metal with a copper-containing terminal element by means of welding and a connection arrangement produced thereby | |
DE102006037532A1 (en) | Method for producing an electrical functional layer on a surface of a substrate | |
DE102016001810A1 (en) | Method for producing a printed circuit board with reinforced copper structure | |
JP2008078310A (en) | Method of forming conductive pattern, wiring circuit board, and method of manufacturing the same | |
WO2008101884A2 (en) | Method for contacting electrical components | |
DD296510A5 (en) | SOURCE TREATMENT FOR PREPARING ARTIFICIAL RESINS BEFORE CURRENT METALLIZATION | |
DE102012108919A9 (en) | Device and method for producing a layer system | |
DE4131065A1 (en) | Mfg. PCB having etch-resistant layer on metal layer on insulation material substrate - selectively removing etch-resistant layer by e.m. radiation and forming conductive path pattern on structured metal layer so exposed | |
DE102006030822A1 (en) | Metal for fabricating metal contact structure of solar cell, involves strengthening metallic contact structure in electrolytic bath | |
DE102016006813B4 (en) | Process for the production of a multilayer printed circuit board with contacting of inner layers as well as multilayer printed circuit board | |
DE102012110382B4 (en) | Substrate and method for manufacturing a substrate | |
WO2004020696A2 (en) | Method for producing a foam metallic structure, metallic foam, and arrangement consisting of a carrier substrate and metallic foam | |
WO2015055717A1 (en) | Method for pre-treating a substrate surface, method for coating the substrate surface, and method for connecting a substrate to an element | |
DE102014116275A1 (en) | Method for producing a contact region for a layer of an electric heater and device for an electric heater for a motor vehicle | |
DE102012023212B3 (en) | Electrically conductive component with improved adhesion and process for its production, and for producing a composite material | |
EP3324493B1 (en) | A method for producing a contact element at the end of an electrical conductor | |
DE102014217186A1 (en) | Method for producing a circuit carrier and circuit carrier for electronic components | |
DE102017209297A1 (en) | Method for producing an electrical conductor track on a plastic carrier and sensor module comprising a plastic carrier with a conductor track produced in this way | |
EP2248401A2 (en) | Method for producing printed circuit boards comprising fitted components |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R163 | Identified publications notified | ||
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
R003 | Refusal decision now final |