DE102015225262A1 - Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

Info

Publication number
DE102015225262A1
DE102015225262A1 DE102015225262.0A DE102015225262A DE102015225262A1 DE 102015225262 A1 DE102015225262 A1 DE 102015225262A1 DE 102015225262 A DE102015225262 A DE 102015225262A DE 102015225262 A1 DE102015225262 A1 DE 102015225262A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optical system
reflective surface
reflecting surface
exposure apparatus
projection exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102015225262.0A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Ulrich SCHÖNHOFF
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102015225262.0A priority Critical patent/DE102015225262A1/de
Priority to KR1020187016448A priority patent/KR102694720B1/ko
Priority to JP2018526111A priority patent/JP6864685B2/ja
Priority to PCT/EP2016/080498 priority patent/WO2017102599A1/en
Priority to TW105141037A priority patent/TWI720087B/zh
Publication of DE102015225262A1 publication Critical patent/DE102015225262A1/de
Priority to US15/968,270 priority patent/US10838306B2/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/004—Systems comprising a plurality of reflections between two or more surfaces, e.g. cells, resonators
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/12—Reflex reflectors
    • G02B5/122—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
DE102015225262.0A 2015-12-15 2015-12-15 Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage Ceased DE102015225262A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015225262.0A DE102015225262A1 (de) 2015-12-15 2015-12-15 Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
KR1020187016448A KR102694720B1 (ko) 2015-12-15 2016-12-09 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치용 광학 시스템
JP2018526111A JP6864685B2 (ja) 2015-12-15 2016-12-09 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系
PCT/EP2016/080498 WO2017102599A1 (en) 2015-12-15 2016-12-09 Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
TW105141037A TWI720087B (zh) 2015-12-15 2016-12-12 光學系統，尤其是用於微影投射曝光裝置
US15/968,270 US10838306B2 (en) 2015-12-15 2018-05-01 Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015225262.0A DE102015225262A1 (de) 2015-12-15 2015-12-15 Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102015225262A1 true DE102015225262A1 (de) 2017-06-22

Family

ID=57680209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015225262.0A Ceased DE102015225262A1 (de) 2015-12-15 2015-12-15 Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10838306B2 (enExample)
JP (1) JP6864685B2 (enExample)
KR (1) KR102694720B1 (enExample)
DE (1) DE102015225262A1 (enExample)
TW (1) TWI720087B (enExample)
WO (1) WO2017102599A1 (enExample)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022208204A1 (de) 2022-08-08 2023-08-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7305353B2 (ja) 2016-05-25 2023-07-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー リソグラフィ装置の光学素子の位置測定

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10204465A1 (de) * 2002-02-05 2003-08-14 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren zur Korrektur von schwingungsinduzierten Abbildungsfehlern in einem Objektiv
US6842294B2 (en) 2001-04-11 2005-01-11 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric objective
WO2008126925A1 (en) 2007-04-10 2008-10-23 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and electronic device manufacturing method
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same
DE102010038748A1 (de) 2009-08-07 2011-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Spiegels mit wenigstens zwei Spiegelflächen, Spiegel einer Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012202675A1 (de) 2012-02-22 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102012212064A1 (de) 2012-07-11 2014-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographianlage mit segmentiertem Spiegel

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215718A (ja) * 1999-11-26 2001-08-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2002231619A (ja) * 2000-11-29 2002-08-16 Nikon Corp 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP2005527848A (ja) * 2002-04-11 2005-09-15 ハイデルベルク・インストルメンツ・ミクロテヒニツク・ゲー・エム・ベー・ハー 基板の上にマスクを結像させる方法および装置
US6897940B2 (en) * 2002-06-21 2005-05-24 Nikon Corporation System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography
JP2004266264A (ja) 2003-02-13 2004-09-24 Canon Inc 光学系、露光装置、デバイス製造方法
US7126671B2 (en) * 2003-04-04 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2006140366A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Nikon Corp 投影光学系及び露光装置
US7283210B2 (en) * 2005-03-22 2007-10-16 Nikon Corporation Image shift optic for optical system
DE102006003375A1 (de) * 2006-01-24 2007-08-09 Carl Zeiss Smt Ag Gruppenweise korrigiertes Objektiv
JP2007317713A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Canon Inc 光学素子駆動装置
DE102006034755A1 (de) * 2006-07-24 2008-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung
WO2008040494A1 (en) * 2006-10-02 2008-04-10 Carl Zeiss Smt Ag Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
EP2097789B1 (en) * 2006-12-01 2012-08-01 Carl Zeiss SMT GmbH Optical system with an exchangeable, manipulable correction arrangement for reducing image aberrations
JP5554245B2 (ja) * 2007-12-21 2014-07-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ露光装置のマスク照明用の照明系
US20110001945A1 (en) 2009-07-01 2011-01-06 Masayuki Shiraishi Projection optical system, exposure apparatus, and assembly method thereof
DE102011087851A1 (de) 2010-12-22 2012-06-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Verschlusseinrichtung für eine Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung
NL2007498A (en) 2010-12-23 2012-06-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method of modifying a beam of radiation within a lithographic apparatus.
WO2012097833A1 (en) * 2011-01-20 2012-07-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of operating a projection exposure tool
JP2014120682A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Canon Inc 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
DE102014208770A1 (de) * 2013-07-29 2015-01-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6842294B2 (en) 2001-04-11 2005-01-11 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric objective
DE10204465A1 (de) * 2002-02-05 2003-08-14 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren zur Korrektur von schwingungsinduzierten Abbildungsfehlern in einem Objektiv
WO2008126925A1 (en) 2007-04-10 2008-10-23 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and electronic device manufacturing method
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same
DE102010038748A1 (de) 2009-08-07 2011-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Spiegels mit wenigstens zwei Spiegelflächen, Spiegel einer Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012202675A1 (de) 2012-02-22 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102012212064A1 (de) 2012-07-11 2014-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographianlage mit segmentiertem Spiegel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022208204A1 (de) 2022-08-08 2023-08-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Also Published As

Publication number Publication date
US10838306B2 (en) 2020-11-17
TWI720087B (zh) 2021-03-01
JP6864685B2 (ja) 2021-04-28
TW201732344A (zh) 2017-09-16
KR20180093923A (ko) 2018-08-22
US20180246416A1 (en) 2018-08-30
JP2019505825A (ja) 2019-02-28
WO2017102599A1 (en) 2017-06-22
KR102694720B1 (ko) 2024-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60208045T2 (de) Objektiv mit pupillenverdeckung
DE102004035595B4 (de) Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
DE102013204391B3 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
DE102015209051B4 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102008064504A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102017209440A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102014204660A1 (de) Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102004014766A1 (de) Verfahren zur Verzeichnungskorrektur in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012206153A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102015209173B4 (de) Verfahren zum herstellen eines objektivs für eine lithographieanlage
DE102018212400A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie
DE102015225262A1 (de) Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102018220565A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem semiaktiven Abstandshalter und Verfahren zur Verwendung des semiaktiven Abstandshalters
WO2018104178A1 (de) Katadioptrisches projektionsobjektiv und verfahren zu seiner herstellung
DE102020211700A1 (de) Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage
WO2018114816A1 (de) Verfahren zur positionierung eines bauelements eines optischen systems
DE102016207487A1 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102019209610A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Klebeverbindung zwischen einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente
DE102020201098A1 (de) Abbildende Optik
DE102015220144A1 (de) Optisches System und Lithographieanlage
WO2020164786A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines testobjekts
DE102023116893A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Kompensation von Pendelkräften
WO2024002799A1 (de) Verfahren sowie messanordnung zur interferometrischen bestimmung der oberflächenform eines prüflings
DE102023202493A1 (de) Ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
DE102022212463A1 (de) Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum betreiben eines optischen systems einer lithographieanlage

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final