DE102015213228A1

DE102015213228A1 - Hologramm-Herstellungsverfahren

Info

Publication number: DE102015213228A1
Application number: DE102015213228.5A
Authority: DE
Inventors: Martin Schmitt-Lewen; Bernhard Buck; Michael Thelen
Original assignee: Heidelberger Druckmaschinen AG
Current assignee: Heidelberger Druckmaschinen AG
Priority date: 2015-07-15
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2017-01-19

Abstract

Bei einem Verfahren zum Herstellen von Hologrammen oder anderen Licht beugenden oder diffraktiven Mikrostrukturen auf bahn- oder bogenförmigen Bedruckstoffen wird eine Mikrostruktur (MS) aus einem ersten Material (1) auf einem Bedruckstoff (3) erzeugt und mit einer Maske (MA) aus dem ersten Material (1) oder aus einem zweiten Material (2) beschichtet, welches einen an das erste Material (1) angepassten Brechungsindex hat, sodass die Mikrostruktur (MS) unter der Maske (MA) mit bloßem Auge quasi unsichtbar wird.

Description

Vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Hologrammen oder anderen Licht beugenden oder diffraktiven Mikrostrukturen auf bahn- oder bogenförmigen Bedruckstoffen.
Solche Verfahren werden z. B. mit Druckmaschinen durchgeführt. Die Hologramme sind z. B. Sicherheitsmerkmale von Produktverpackungen.
DE 10 2013 016 117 A1 zeigt ein Verfahren, bei dem ein Flexoshim eine mikroprägende Silikonstruktur aufweist. Der Flexoshim wird bei einem Auftragswechsel gegen einen neuen Flexoshim ausgetauscht.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Hologramm-Herstellungsverfahren anzugeben, dessen Durchführung kostengünstig ist.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zum Herstellen von Hologrammen oder anderen Licht beugenden oder diffraktiven Mikrostrukturen auf bahn- oder bogenförmigen Bedruckstoffen gelöst,
wobei eine Mikrostruktur aus einem ersten Material auf einem Bedruckstoff erzeugt und mit einer Maske aus dem ersten Material oder aus einem zweiten Material, welches einen an das erste Material angepassten Brechungsindex hat, beschichtet wird, sodass die Mikrostruktur unter der Maske mit bloßem Auge quasi unsichtbar wird.
In beiden Fällen – wenn für die Maske das erste Material verwendet wird und ebenso wenn für die Maske das zweite Material verwendet wird – wird jeder von der Maske überdeckter Bereich der Mikrostruktur mit bloßem Auge quasi unsichtbar.
Ein Vorteil dieses Verfahren ist, dass bei verschiedenen Druckaufträgen ein und dieselbe Platte zum Erzeugen der Mikrostruktur verwendet werden kann. Die Platte kann ein Flexoshim sein.
Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Verfahrens ergeben sich aus der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels und der zugehörigen Zeichnung, worin zeigt:
1 einen Druckbogen im Ausgangszustand,
2 den Druckbogen nach dem Mikrostrukturieren und
3 den Druckbogen nach dem Maskieren.
1 zeigt einen Bedruckstoff 3 in seinem Zustand vor der Verarbeitung in einer Druckmaschine. Der Bedruckstoff 3 ist ein Druckbogen und hat eine Druckfläche 4, die rundum von vier Stegen, sogenannten druckfreien Rändern, begrenzt und eingerahmt wird. Die Druckfläche 4 ist für das Druckbild vorgesehen und die Stege sind für einen Kontrollstreifen, einen Greiferrand und Passkreuze vorgesehen. In diesem Ausgangszustand des Bedruckstoffs 3 sind die Druckfläche 4 und die Stege noch leer oder unbedruckt.
2 zeigt den Bedruckstoff 3 nach einer ersten Bearbeitungsstufe, in welcher eine Mikrostruktur MS aus einem ersten Material 1 auf dem Bedruckstoff 3 erzeugt wird. Das erste Material 1 ist ein Fluid, z. B. ein transparenter Dispersionslack.
Die Mikrostruktur MS kann in einem Abform-Werk (Casting-Werk) der Druckmaschine auf dem Bedruckstoff 3 erzeugt werden. Hierbei wird die Druckfläche 4 vollflächig mit dem ersten Material 1 beschichtet, z. B. in einem Lackier- oder Druckwerk, das dem Abform-Werk vorgeordnet ist.
In dem Abform-Werk wird eine Relieffolie mit einem Negativ der Mikrostruktur MS in den hierbei noch flüssigen Film aus dem ersten Material 1 auf den Bedruckstoff 3 gedrückt, um in den Film die Mikrostruktur MS hinein zu prägen, welche die ganze Druckfläche 4 ausfüllt.
Danach wird das erste Material 1 auf dem Bedruckstoff 3 durch Bestrahlung gehärtet, z. B. durch Bestrahlung mit Thermoluft und/oder IR-Strahlung.
Alternativ kann die Mikrostruktur MS in einem Kaltfolientransfer-Werk der Druckmaschine auf dem Bedruckstoff 3 erzeugt werden.
3 zeigt den Bedruckstoff 3 nach einer zweiten Bearbeitungsstufe, in welcher die Mikrostruktur MS mit einer Maske MA aus einem zweiten Material 2 beschichtet wird. Hierbei wird die Mikrostruktur MS nur teilweise beschichtet, sodass z. B. ein, zwei oder mehr Fenster ausgespart bleiben, in denen die Mikrostruktur MS nicht mit dem zweiten Material 2 beschichtet wird. In diesen Fenstern bleibt die Mikrostruktur MS mit dem bloßen Auge sichtbar und bildet sie Spot-Hologramme. Das zweite Material 2 ist ein Fluid, ist transparent und hat den gleichen oder einen sehr ähnlichen Brechungsindex wie das erste Material 1. Beispielsweise ist das zweite Material ein transparenter Dispersionslack oder ein transparenter UV-Lack.
Aufgrund der einander angepassten Brechungsindizes der beiden Materialien 1, 2 ist die in dem außerhalb der Fenster liegenden Bereich der Druckfläche 4 unter der Maske MA liegende Mikrostruktur MS mit bloßem Auge quasi unsichtbar.
Das zweite Material 2 kann mit einem druckformgebundenen Druckverfahren (impact printing), z. B. dem Hochdruck, dem Offsetdruck, dem Flexodruck, dem Siebdruck oder dem Tiefdruck, auf die Mikrostruktur MS gedruckt werden.
Danach wird das zweite Material 2 auf dem Bedruckstoff 3 durch Bestrahlung gehärtet, z. B. im Falle von Dispersionslack durch Bestrahlung mit Thermoluft und/oder IR-Strahlung oder im Falle von UV-Lack durch Bestrahlung mit UV-Strahlung
Alternativ kann das zweite Material 2 mit einem druckformlosen Druckverfahren (non-impact printing), z. B. dem Tintenstrahldruck oder dem Thermotransferdruck, auf die Mikrostruktur MS gedruckt werden.
Bezugszeichenliste

1: erstes Material
2: zweites Material
3: Bedruckstoff
4: Druckfläche
MA: Maske
MS: Mikrostruktur
UV: UV-Bestrahlung

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102013016117 A1 [0003]

Claims

Verfahren zum Herstellen von Hologrammen oder anderen Licht beugenden oder diffraktiven Mikrostrukturen auf bahn- oder bogenförmigen Bedruckstoffen, wobei eine Mikrostruktur (MS) aus einem ersten Material (1) auf einem Bedruckstoff (3) erzeugt und mit einer Maske (MA) aus dem ersten Material (1) oder aus einem zweiten Material (2), welches einen an das erste Material (1) angepassten Brechungsindex hat, beschichtet wird, sodass die Mikrostruktur (MS) unter der Maske (MA) mit bloßem Auge quasi unsichtbar wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das erste Material (1) ein Fluid ist.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das erste Material (1) durch Bestrahlung gehärtet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das zweite Material (2) ein Fluid ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das zweite Material (2) durch Bestrahlung gehärtet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das zweite Material (2) transparent ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das zweite Material (2) den gleichen Brechungsindex wie das erste Material (1) hat.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Bedruckstoff (3) ein Druckbogen ist und eine Druckfläche (4) des Druckbogens beim Erzeugen der Mikrostruktur (MS) vollflächig mit dem ersten Material (1) beschichtet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das zweite Material (2) mit dem Hochdruck, dem Offsetdruck, dem Flexodruck, dem Siebdruck, dem Tiefdruck oder einem anderem druckformgebundenen Druckverfahren auf die Mikrostruktur (MS) gedruckt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das zweite Material (2) mit dem Tintenstrahldruck, dem Digitaldruck mit Toner, dem Thermotransferdruck oder einem anderem druckformlosen Druckverfahren auf die Mikrostruktur (MS) gedruckt wird.