DE102015209453A1 - Pupil facet mirror - Google Patents

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Ralf Gehrke
Thomas Fischer
Martin Endres
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Abstract

Ein Pupillenfacettenspiegel (10) weist Facetten (11) mit unterschiedlichen Krümmungsradien auf.A pupil facet mirror (10) has facets (11) with different radii of curvature.

Description

Die Erfindung betrifft einen Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage sowie eine Beleuchtungsoptik und ein Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Pupillenfacettenspiegel. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bestimmung der Krümmungsradien von Facetten eines Pupillenfacettenspiegels. Weiterhin betrifft die Erfindung ein optisches System und eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie. Schließlich betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements und ein verfahrensgemäß hergestelltes Bauelement. The invention relates to a pupil facet mirror for an illumination optical system of a projection exposure apparatus and to an illumination optics and an illumination system for a projection exposure apparatus having such a pupil facet mirror. In addition, the invention relates to a method for determining the radii of curvature of facets of a pupil facet mirror. Furthermore, the invention relates to an optical system and a projection exposure apparatus for microlithography. Finally, the invention relates to a method for producing a micro- or nanostructured device and a device produced according to the method.

Aus der WO 2009/074211 A1 ist eine Korrekturvorrichtung bekannt, mittels der über eine Querkoordinate quer zu einer Verlagerungsrichtung eines bei der Projektionsbelichtung verlagerten Objektes innerhalb bestimmter Toleranzgrenzen eine uniforme Intensitätsverteilung in einem Beleuchtungsfeld einstellbar ist. Eine derartige Korrekturvorrichtung wird auch als UNICOM bezeichnet. UNICOMs sind außerdem bekannt aus der EP 0 952 491 A2 sowie der DE 10 2012 205 886 A1 . From the WO 2009/074211 A1 a correction device is known, by means of which a uniform intensity distribution in an illumination field can be set within a certain tolerance limits via a transverse coordinate transverse to a displacement direction of an object displaced during the projection exposure. Such a correction device is also referred to as UNICOM. UNICOMs are also known from the EP 0 952 491 A2 as well as the DE 10 2012 205 886 A1 ,

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik mit einem entsprechenden UNICOM weiterzubilden. Diese Aufgabe wird durch einen Pupillenfacettenspiegel gelöst, dessen Facetten unterschiedliche Krümmungsradien aufweisen. It is an object of the present invention to develop a lighting optical system with a corresponding UNICOM. This object is achieved by a pupil facet mirror whose facets have different radii of curvature.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass sich hierdurch Dosisschwankungen im Objektfeld, welche sich auch durch Quellfluktuationen verursachte Verschiebungen des Beleuchtungsfeldes im Bereich des UNICOMs zurückführen lassen, verringern lassen.According to the invention, it has been recognized that this makes it possible to reduce dose fluctuations in the object field, which can also be attributed to shifts in the illumination field in the area of the UNICOM caused by swelling fluctuations.

Es wurde insbesondere erkannt, dass Quellfluktuationen, das heißt Ortsvariationen des Plasmas und/oder andere räumliche Schwankungen der Strahlungsquelle, zu einer Verschiebung des Beleuchtungsfeldes in der UNICOM-Ebene führen und damit zu Schwankungen der Strahlungsdosis, welche das Objektfeld erreicht. Diese Schwankungen werden von Energiesensoren, welche im optischen Pfad vor dem UNICOM angeordnet sind, nicht erfasst. Es kann somit zu Dosisfehlern kommen.In particular, it has been recognized that source fluctuations, ie local variations of the plasma and / or other spatial variations of the radiation source, lead to a shift of the illumination field in the UNICOM plane and thus to variations in the radiation dose reaching the object field. These fluctuations are not detected by energy sensors located in the optical path in front of the UNICOM. It can thus lead to Dosisfehlern.

Weiter wurde erkannt, dass sich die durch derartige Quellfluktuationen verursachten Dosisfehler reduzieren, insbesondere minimieren lassen, dadurch, dass die Facetten des Pupillenfacettenspiegels mit unterschiedlichen Krümmungsradien versehen werden. Es ist insbesondere möglich, die Krümmungsradien der Pupillenfacetten derart zu wählen, dass die Feldverschiebung, welche sich aus der Summe der Verschiebungen sämtlicher Einzelkanäle in der UNICOM-Ebene ergibt, reduziert, insbesondere minimiert wird.It was further recognized that the dose errors caused by such swelling fluctuations can be reduced, in particular minimized, by providing the facets of the pupil facet mirror with different radii of curvature. In particular, it is possible to choose the radii of curvature of the pupil facets in such a way that the field displacement which results from the sum of the displacements of all the individual channels in the UNICOM plane is reduced, in particular minimized.

Die Krümmungsradien der Pupillenfacetten können insbesondere derart gewählt werden, dass sie die Dosisschwankungen im Objektfeld, welche durch eine Verschiebung der einzelnen Beleuchtungskanäle aufgrund von Quellfluktuationen verursacht werden, zumindest teilweise kompensieren.The radii of curvature of the pupil facets can in particular be selected such that they at least partially compensate for the dose fluctuations in the object field which are caused by a displacement of the individual illumination channels due to swelling fluctuations.

Die Facetten des Pupillenfacettenspiegels sind insbesondere monolithisch ausgebildet.The facets of the pupil facet mirror are in particular monolithic.

Die Facetten des Pupillenfacettenspiegels sind insbesondere starr, das heißt nichtverlagerbar ausgebildet. Hierdurch wird der konstruktive Aufbau des Pupillenfacettenspiegels erleichtert.The facets of the pupil facet mirror are in particular rigid, that is to say they are not displaceable. As a result, the structural design of the pupil facet mirror is facilitated.

Der erfindungsgemäße Pupillenfacettenspiegel weist insbesondere ein vorbestimmtes, insbesondere ein nach einem nachfolgend noch näher beschriebenen Verfahren optimiertes Design, das heißt eine Anordnung einer Vielzahl von Pupillenfacetten mit vorgegebenen, unterschiedlichen Krümmungsradien auf. Das Design des Pupillenfacettenspiegels kann hierbei insbesondere an die Details der vorgesehenen Strahlungsquelle oder der vorgesehenen Strahlungsquellen des Beleuchtungssystems und/oder an die Designdaten der Beleuchtungsoptik, insbesondere des ersten Facettenspiegels, welcher das Bild der Strahlungsquelle aus einem Zwischenfokus auf die Pupillenfacetten abbildet, angepasst sein. In particular, the pupil facet mirror according to the invention has a predetermined design, in particular a design optimized according to a method to be described in more detail below, that is to say an arrangement of a plurality of pupil facets with predetermined, different radii of curvature. The design of the pupil facet mirror can in this case be adapted in particular to the details of the intended radiation source or the intended radiation sources of the illumination system and / or to the design data of the illumination optics, in particular of the first facet mirror, which images the image of the radiation source from an intermediate focus onto the pupil facets.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung unterscheiden sich mindestens zwei Krümmungsradien der Facetten um mindestens 1%. Das Verhältnis des größten Krümmungsradius Rmax zum kleinsten Krümmungsradius Rmin sämtlicher Facetten des Pupillenfacettenspiegels Rmax:Rmin beträgt insbesondere mindestens 1,01, insbesondere mindestens 1,02, insbesondere mindestens 1,03, insbesondere mindestens 1,04. According to one aspect of the invention, at least two radii of curvature of the facets differ by at least 1%. The ratio of the greatest radius of curvature R max to the smallest radius of curvature R min of all facets of the pupil facet mirror R max : R min is in particular at least 1.01, in particular at least 1.02, in particular at least 1.03, in particular at least 1.04.

Rmax:Rmin beträgt insbesondere höchstens 1,2, insbesondere höchstens 1,1. R max : R min is in particular at most 1.2, in particular at most 1.1.

Die Krümmungsradien R können insbesondere mindestens 500 mm, insbesondere mindestens 1000 mm, insbesondere mindestens 2000 mm betragen. The radii of curvature R may in particular be at least 500 mm, in particular at least 1000 mm, in particular at least 2000 mm.

Es hat sich ergeben, dass mit derartigen Unterschieden der Krümmungsradien der Facetten eine weitgehende Kompensation der durch Quellfluktuationen verursachten Feldverschiebungen in der UNICOM-Ebene möglich ist. It has been found that with such differences in the radii of curvature of the facets, a substantial compensation of the field shifts caused by swelling fluctuations in the UNICOM level is possible.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weisen jeweils mindestens 100, insbesondere mindestens jeweils 200, insbesondere mindestens jeweils 300, insbesondere mindestens jeweils 400, insbesondere mindestens jeweils 500 Facetten denselben Krümmungsradius auf. According to a further aspect of the invention, at least 100, in particular at least 200, in particular at least 300, in particular at least 400, in particular at least 500 facets each have the same radius of curvature.

Hierdurch wird die Herstellung des Pupillenfacettenspiegels erleichtert. This facilitates the manufacture of the pupil facet mirror.

Der Pupillenfacettenspiegel kann insgesamt mindestens 1000, insbesondere mindestens 1200, insbesondere mindestens 1400, insbesondere mindestens 1600, insbesondere mindestens 1800, insbesondere mindestens 2000 Pupillenfacetten aufweisen. Die Gesamtzahl der Pupillenfacetten beträgt insbesondere höchstens 10000, insbesondere höchstens 8000, insbesondere höchstens 6000, insbesondere höchstens 4000, insbesondere höchstens 2000. The pupil facet mirror can have a total of at least 1000, in particular at least 1200, in particular at least 1400, in particular at least 1600, in particular at least 1800, in particular at least 2000 pupil facets. In particular, the total number of pupil facets is at most 10,000, in particular at most 8000, in particular at most 6000, in particular at most 4000, in particular at most 2000.

Durch eine derart große Anzahl von Pupillenfacetten ist es möglich, eine Vielzahl unterschiedlicher Beleuchtungssettings einzustellen, das heißt die Einfallswinkelverteilung der Beleuchtungsstrahlung auf das Objektfeld je nach Bedarf flexibel zu wählen.Such a large number of pupil facets makes it possible to set a plurality of different illumination settings, that is to say to choose the incident angle distribution of the illumination radiation on the object field flexibly as required.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung bilden die Facetten eine Mehrzahl von unterschiedlichen Gruppen, wobei die Facetten der unterschiedlichen Gruppen unterschiedliche Krümmungsradien aufweisen. Die Facetten derselben Gruppe weisen jeweils denselben Krümmungsradius auf.According to a further aspect of the invention, the facets form a plurality of different groups, the facets of the different groups having different radii of curvature. The facets of the same group each have the same radius of curvature.

Hierdurch wird zum einen die Herstellung der Pupillenfacetten erleichtert. Außerdem wird hierdurch die Optimierung der Zuordnung der Pupillenfacetten zu einem bestimmten Krümmungsradius erleichtert.This facilitates the production of the pupil facets on the one hand. In addition, this simplifies the optimization of the assignment of the pupil facets to a certain radius of curvature.

Die Anzahl der Gruppen der Facetten mit unterschiedlichen Krümmungsradien beträgt insbesondere zwei, drei, vier, fünf oder mehr. Sie beträgt insbesondere höchstens zwanzig, insbesondere höchstens zehn. The number of groups of the facets with different radii of curvature is in particular two, three, four, five or more. In particular, it is at most twenty, in particular at most ten.

Die erfindungsgemäße Aufgabe wird außerdem durch eine Beleuchtungsoptik mit einem entsprechenden Pupillenfacettenspiegel gelöst. Die Vorteile ergeben sich aus denen des Pupillenfacettenspiegels. The object of the invention is also achieved by an illumination optics with a corresponding pupil facet mirror. The advantages result from those of the pupil facet mirror.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind die Krümmungsradien der zweiten Facetten derart gewählt, dass eine Teilmenge der zweiten Facetten eine Brennweite aufweist, welche geringer ist als ihr Abstand zur Korrekturebene (UNICOM-Ebene).According to a further aspect of the invention, the radii of curvature of the second facets are selected such that a subset of the second facets has a focal length which is less than their distance from the correction plane (UNICOM plane).

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist eine Teilmenge der zweiten Facetten eine Bildweite auf, welche größer ist als ihr Abstand zur UNICOM-Ebene.According to another aspect of the invention, a subset of the second facets have an image width that is greater than their distance to the UNICOM plane.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist eine Teilmenge der zweiten Facetten eine Bildweite auf, welche im Wesentlichen ihrem Abstand zur UNICOM-Ebene entspricht.According to a further aspect of the invention, a subset of the second facets has an image width that substantially corresponds to their distance from the UNICOM plane.

Mit anderen Worten sind die Krümmungsradien der Pupillenfacetten so gewählt, dass ein Teil derselben die Feldfacetten in eine Ebene vor der UNICOM-Ebene abbildet. Es ist auch möglich, dass ein Teil der Pupillenfacetten die ersten Facetten in eine Ebene hinter der UNICOM-Ebene abbildet. Eine Abbildung der Feldfacetten in die UNICOM-Ebene ist ebenso möglich. Vorzugsweise sind die Krümmungsradien der zweiten Facetten derart gewählt, dass eine erste Teilmenge der zweiten Facetten eine Bildweite aufweist, welche geringer ist als ihr Abstand zur UNICOM-Ebene und eine zweite Teilmenge der zweiten Facetten eine Bildweite aufweist, welche größer ist als ihr Abstand zur UNICOM-Ebene. Dies ermöglicht eine gegenseitige Kompensation von quellfluktuations-verursachten Feldverschiebungen in oder relativ zur UNICOM-Ebene. In other words, the radii of curvature of the pupil facets are chosen such that a part of them images the field facets in a plane in front of the UNICOM plane. It is also possible that a part of the pupil facets depicts the first facets in a plane behind the UNICOM plane. An image of the field facets in the UNICOM level is also possible. Preferably, the radii of curvature of the second facets are selected such that a first subset of the second facets has an image width that is less than their distance from the UNICOM plane and a second subset of the second facets has an image distance that is greater than their distance from the UNICOM -Level. This allows for mutual compensation of source fluctuation induced field shifts in or relative to the UNICOM plane.

Zusätzlich hierzu kann eine dritte Teilmenge der zweiten Facetten eine Bildweite aufweisen, welche in etwa ihrem Abstand zur UNICOM-Ebene entspricht.In addition, a third subset of the second facets may have an image width that approximates their distance to the UNICOM plane.

Aufgrund einer endlichen Ausdehnung des Pupillenfacettenspiegels und/oder einer verkippten Anordnung desselben relativ zur UNICOM-Ebene ist eine genaue Übereinstimmung der Bildweite mit dem Abstand zur UNICOM-Ebene nicht oder zumindest nicht für sämtliche Facetten derselben Gruppe möglich. Im Folgenden sei unter einer Übereinstimmung der Bildweite der Facetten einer Gruppe mit ihrem Abstand zur UNICOM-Ebene verstanden, dass mindestens eine Facetten in dieser Gruppe existiert, deren Bildweite um weniger als 1%, insbesondere weniger als 0,5%, insbesondere weniger als 0,3%, insbesondere weniger als 0,2%, insbesondere weniger als 0,1% von ihrem Abstand zur UNICOM-Ebene abweicht.Due to a finite extent of the pupil facet mirror and / or a tilted disposition thereof relative to the UNICOM plane, an exact match of the image distance with the distance is at the UNICOM level or at least not possible for all facets of the same group. In the following, a match of the image width of the facets of a group with their distance from the UNICOM level is understood to mean that at least one facet exists in this group whose image width is less than 1%, in particular less than 0.5%, in particular less than 0 , 3%, in particular less than 0.2%, in particular less than 0.1%, deviates from their distance from the UNICOM level.

Die Vorteile des erfindungsgemäßen Beleuchtungssystems ergeben sich ebenfalls aus denen des Pupillenfacettenspiegels. The advantages of the illumination system according to the invention also result from those of the pupil facet mirror.

Bei der Strahlungsquelle handelt es sich insbesondere um eine EUV-Strahlungsquelle, insbesondere um eine Plasmaquelle. Alternative Strahlungsquellen sind ebenso möglich. Der Einfachheit halber wird im Folgenden dennoch zum Teil von Plasmaquellen oder vom Plasma der Strahlungsquelle gesprochen. Dies sei nicht einschränkend verstanden. Die erfindungsgemäße Idee ist problemlos auf alternative Strahlungsquellen übertragbar. The radiation source is in particular an EUV radiation source, in particular a plasma source. Alternative sources of radiation are also possible. For the sake of simplicity, however, the following will speak in part of plasma sources or of the plasma of the radiation source. This is not meant to be limiting. The inventive idea can be easily transferred to alternative radiation sources.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung sind die Krümmungsradien der zweiten Facetten derart gewählt, dass sich für mindestens zwei Beleuchtungskanäle Dosisschwankungen im Objektfeld, welche durch Quellfluktuationen verursacht werden, zumindest teilweise kompensieren. According to one aspect of the invention, the radii of curvature of the second facets are selected such that for at least two illumination channels dose fluctuations in the object field, which are caused by swelling fluctuations, at least partially compensate.

Die Krümmungsradien der zweiten Facetten sind insbesondere derart gewählt, dass sich bei mindestens einem vorgegebenen Beleuchtungssetting die über sämtliche Beleuchtungskanäle gemittelten Dosisschwankungen zumindest teilweise kompensieren. Sie sind mit anderen Worten derart gewählt, dass es zu einer Reduktion, insbesondere einer Minimierung der Gesamt-Dosisschwankung im Objektfeld kommt. Die Gesamt-Dosisschwankung im Objektfeld kann insbesondere auf Werte unterhalb eines vorgegebenen zulässigen Maximalwerts von 10 %, insbesondere von 5 %, insbesondere von 3 %, insbesondere von 1 %, reduziert werden. The radii of curvature of the second facets are chosen in particular such that, with at least one predetermined illumination setting, the dose fluctuations averaged over all the illumination channels at least partially compensate each other. In other words, they are chosen such that there is a reduction, in particular a minimization of the total dose fluctuation in the object field. The total dose fluctuation in the object field can be reduced in particular to values below a predetermined permissible maximum value of 10%, in particular of 5%, in particular of 3%, in particular of 1%.

Die Krümmungsradien der zweiten Facetten sind insbesondere derart gewählt, dass die Gesamt-Dosisschwankung bei einer vorgegebenen Auswahl an Beleuchtungssettings reduziert, insbesondere minimiert wird. Es kann insbesondere sichergestellt werden, dass die Gesamt-Dosisschwankung im Objektfeld für sämtliche der vorgegebenen Beleuchtungssettings höchstens so groß ist wie ein vorgegebener Maximalwert. The radii of curvature of the second facets are selected in particular such that the total dose fluctuation is reduced, in particular minimized, given a predetermined selection of illumination settings. In particular, it can be ensured that the total dose fluctuation in the object field for all of the predetermined illumination settings is at most as large as a predefined maximum value.

Diese Angaben beziehen sich jeweils auf mechanische Schwankungen der Strahlungsquelle innerhalb eines vorgegebenen maximalen Schwankungsbereichs. Der Schwankungsbereich der Strahlungsquelle kann ausgehend von einer Nominalposition beispielsweise bis zu 1 mm, bis zu 2 mm oder bis zu 3 mm in jede Richtung betragen. These data relate in each case to mechanical fluctuations of the radiation source within a predetermined maximum fluctuation range. The fluctuation range of the radiation source may be from a nominal position, for example, up to 1 mm, up to 2 mm or up to 3 mm in each direction.

Der Schwankungsbereich der Strahlungsquelle kann in jede Raumrichtung dieselbe Erstreckung aufweisen. Er kann auch anisotrop sein, das heißt in unterschiedliche Raumrichtungen unterschiedliche Erstreckungen aufweisen. The fluctuation range of the radiation source can have the same extent in each spatial direction. It can also be anisotropic, that is, have different extents in different spatial directions.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Auslegung eines Pupillenfacettenspiegels, insbesondere ein Verfahren zur Bestimmung der Krümmungsradien von Facetten eines Pupillenfacettenspiegels anzugeben. Another object of the invention is to specify a method for designing a pupil facet mirror, in particular a method for determining the radii of curvature of facets of a pupil facet mirror.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit folgenden Schritten gelöst:

  • – Vorgabe eines Beleuchtungssystems gemäß der vorhergehenden Beschreibung,
  • – Vorgabe einer Anzahl unterschiedlicher Beleuchtungssettings mit Beleuchtungskanälen,
  • – Vorgabe einer diskreten Anzahl unterschiedlicher Krümmungsradien der zweiten Facetten,
  • – Bestimmen eines Zusammenhangs einer Verlagerung von Bildern der ersten Facetten im Bereich einer Korrekturebene mit Schwankungen der Strahlungsquelle in Abhängigkeit der Krümmungsradien der zweiten Facetten,
  • – Bestimmen einer über alle Beleuchtungskanäle gemittelten Feldverschiebung im Bereich der und/oder relativ zur Korrekturebene für die unterschiedlichen Beleuchtungssettings,
  • – Minimierung einer Meritfunktion, welche gewichtete Anteile der Feldverschiebungen aufgrund von Schwankungen der Strahlungsquelle in unterschiedlichen Raumrichtungen umfasst, in Abhängigkeit von einer Zuordnung der zweiten Facetten zu unterschiedlichen Krümmungsradien.
This task is solved by a procedure with the following steps:
  • Specification of a lighting system according to the preceding description,
  • Specification of a number of different illumination settings with illumination channels,
  • Specification of a discrete number of different radii of curvature of the second facets,
  • Determining a relationship of a displacement of images of the first facets in the region of a correction plane with fluctuations of the radiation source as a function of the radii of curvature of the second facets,
  • Determining a field shift averaged over all illumination channels in the region of and / or relative to the correction plane for the different illumination settings,
  • Minimizing a merit function, which comprises weighted portions of the field shifts due to variations of the radiation source in different spatial directions, depending on an assignment of the second facets to different radii of curvature.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, die Krümmungsradien der Facetten des Pupillenfacettenspiegels derart zu bestimmen, dass die Beleuchtung des Objektfeldes möglichst insensitiv im Hinblick auf Schwankungen der Strahlungsquelle ist. Hierdurch kann insbesondere die Stabilität der Beleuchtung des Objektfeldes verbessert werden. With the method according to the invention, it is possible to determine the radii of curvature of the facets of the pupil facet mirror such that the illumination of the object field is as insensitive as possible in the With regard to fluctuations of the radiation source. In this way, in particular the stability of the illumination of the object field can be improved.

Bezüglich der unterschiedlichen Krümmungsradien kann zunächst lediglich vorgegeben werden, wie viel diskrete, unterschiedliche Krümmungsradien überhaupt vorgesehen sind. Prinzipiell ist es auch möglich, konkrete Werte für die Krümmungsradien vorzugeben. Im ersten Fall werden die konkreten Werte der Krümmungsradien bei der Minimierung der Meritfunktion bestimmt. With regard to the different radii of curvature, it can first of all only be specified how many discrete, different radii of curvature are provided at all. In principle, it is also possible to specify concrete values for the radii of curvature. In the first case, the concrete values of the radii of curvature are determined by minimizing the merit function.

Im zweiten Fall wird lediglich die Zuordnung der einzelnen Facetten zu den bereits vorgegebenen Krümmungsradien ermittelt. In the second case, only the assignment of the individual facets to the already given radii of curvature is determined.

Bei der Bestimmung der über alle Beleuchtungskanäle gemittelten Feldverschiebung kann vorgesehen sein, die einzelnen Beleuchtungskanäle unterschiedlicher Beleuchtungssettings mit vorgegebenen Gewichtungsfaktoren zu gewichten. Hierdurch ist es insbesondere möglich, eine Auswahl von Beleuchtungskanälen mehr oder weniger stark zu gewichten. When determining the field shift averaged over all the illumination channels, it may be provided to weight the individual illumination channels of different illumination settings with predetermined weighting factors. This makes it possible, in particular, to weight a selection of illumination channels more or less strongly.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung umfasst die Meritfunktion jeweils Anteile der maximalen Feldverschiebungen in Abhängigkeit von den unterschiedlichen Beleuchtungssettings, wobei unterschiedliche Raumrichtungen der Feldverschiebungen jeweils mit einem Gewichtungsfaktor gewichtet werden. According to one aspect of the invention, the merit function respectively comprises portions of the maximum field displacements as a function of the different illumination settings, wherein different spatial directions of the field displacements are each weighted with a weighting factor.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass sich durch eine unterschiedliche Gewichtung der Feldverschiebungen in den unterschiedlichen Raumrichtungen die Dosisstabilität im Objektfeld weiter verbessern lässt. According to the invention, it has been recognized that the dose stability in the object field can be further improved by a different weighting of the field shifts in the different spatial directions.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist bei der Minimierung der Meritfunktion als Randbedingung vorgegeben, dass jeweils mindestens 20%, insbesondere mindestens 25%, insbesondere mindestens 30% der zweiten Facetten denselben Krümmungsradius aufweisen. Dies kann für die Herstellung des Pupillenfacettenspiegels vorteilhaft sein.According to a further aspect of the invention, when minimizing the merit function as a boundary condition, it is predetermined that in each case at least 20%, in particular at least 25%, in particular at least 30%, of the second facets have the same radius of curvature. This can be advantageous for the production of the pupil facet mirror.

Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zu verbessern.Other objects of the invention are to improve an optical system for a projection exposure apparatus and a projection exposure apparatus for microlithography.

Auch diese Aufgaben werden durch Bereitstellung eines Pupillenfacettenspiegels gemäß der vorhergehenden Beschreibung gelöst. Die Vorteile ergeben sich aus denen des Pupillenfacettenspiegels. These objects are also achieved by providing a pupil facet mirror as described above. The advantages result from those of the pupil facet mirror.

Weitere Aufgaben der Erfindung bestehen darin, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements sowie ein verfahrensgemäß hergestelltes Bauelement zu verbessern. Further objects of the invention are to improve a method for producing a microstructured or nanostructured component as well as a component produced according to the method.

Die Vorteile ergeben sich aus den vorstehend bereits erläuterten. Weitere Vorteile, Details und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Es zeigen:The advantages emerge from those already explained above. Further advantages, details and features of the invention will become apparent from the description of embodiments with reference to FIGS. Show it:

1 schematisch und in Bezug auf eine Beleuchtungsoptik im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, 1 schematically and with reference to a lighting optical system in the meridional section, a projection exposure apparatus for microlithography,

2 schematisch eine Ausschnittsvergrößerung aus dem Strahlengang der Beleuchtungsoptik zur Erläuterung der Erfindung und 2 schematically an enlarged detail of the beam path of the illumination optics for explaining the invention and

3 schematisch ein Diagramm zur Verdeutlichung der Abhängigkeit der Feldverschiebung in der Korrekturebene in Abhängigkeit eines Krümmungsradius der Pupillenfacetten für den Fall, dass sämtliche Pupillenfacetten denselben Krümmungsradius aufweisen. 3 schematically a diagram illustrating the dependence of the field shift in the correction plane as a function of a radius of curvature of the pupil facets in the event that all pupil facets have the same radius of curvature.

Im Folgenden werden zunächst die allgemeinen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 1 beschrieben. Für weitere Details der Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere für weitere Details einer auch als UNICOM bezeichneten Korrekturvorrichtung 24, sei auf die DE 10 2012 205 886 A1 sowie die EP 2 240 830 B1 verwiesen, welche als Bestandteil der vorliegenden Erfindung vollständig in diese integriert sind. The following are the general components of a projection exposure system 1 described. For more details of the projection exposure system 1 in particular for further details of a correction device, also referred to as UNICOM 24 be on the DE 10 2012 205 886 A1 as well as the EP 2 240 830 B1 referred, which are fully integrated as part of the present invention in this.

Eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithografie dient zur Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten elektronischen Halbleiter-Bauelements. Eine Strahlungsquelle 2 emittiert zur Beleuchtung genutzte EUV-Strahlung im Wellenlängenbereich beispielsweise zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere im Bereich von 13,5 nm oder weniger. Bei der Strahlungsquelle 2 kann es sich insbesondere um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, gas discharge produced plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, laser produced plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron basiert, ist für die Strahlungsquelle 2 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Strahlungsquelle findet der Fachmann beispielsweise in der US 6 859 515 B2 . Zur Beleuchtung und Abbildung innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird EUV-Beleuchtungslicht bzw. Beleuchtungsstrahlung in Form eines Abbildungslicht-Bündels 3 genutzt. Das Abbildungslicht-Bündel 3 durchläuft nach der Strahlungsquelle 2 zunächst einen Kollektor 4, bei dem es sich beispielsweise um einen genesteten Kollektor mit einem aus dem Stand der Technik bekannten Mehrschalen-Aufbau oder alternativ um einen, dann hinter der Strahlungsquelle 2 angeordneten ellipsoidal geformten Kollektor handeln kann. Ein entsprechender Kollektor ist aus der EP 1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor 4 durchtritt das EUV-Beleuchtungslicht 3 zunächst eine Zwischenfokusebene 5, was zur Trennung des Abbildungslicht-Bündels 3 von unerwünschten Strahlungs- oder Partikelanteilen genutzt werden kann. Nach Durchlaufen der Zwischenfokusebene 5 trifft das Abbildungslicht-Bündel 3 zunächst auf einen Feldfacettenspiegel 6 mit Feldfacetten 7.A projection exposure machine 1 for microlithography is used to produce a micro- or nanostructured electronic semiconductor device. A radiation source 2 emits EUV radiation used for illumination in the wavelength range, for example between 5 nm and 30 nm, in particular in the Range of 13.5 nm or less. At the radiation source 2 In particular, it can be a plasma source, for example a GDPP source (plasma generation by gas discharge, gas discharge produced plasma) or an LPP source (plasma generation by laser, laser produced plasma). Also, a radiation source based on a synchrotron is for the radiation source 2 used. Information about such a radiation source is the expert, for example in the US 6,859,515 B2 , For illumination and imaging within the projection exposure system 1 becomes EUV illumination light or illumination radiation in the form of an imaging light beam 3 used. The picture light bundle 3 goes through the radiation source 2 first a collector 4 which is, for example, a nested collector with a multi-shell structure known from the prior art or alternatively one, then behind the radiation source 2 arranged ellipsoidal shaped collector can act. A corresponding collector is from the EP 1 225 481 A known. After the collector 4 passes through the EUV illumination light 3 first an intermediate focus level 5 What the separation of the picture light bundle 3 can be used by unwanted radiation or particle fractions. After passing through the Zwischenfokusebene 5 meets the picture light bundle 3 first on a field facet mirror 6 with field facets 7 ,

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der Zeichnung jeweils ein kartesisches globales xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene und aus dieser heraus. Die y-Achse verläuft in der 1 nach rechts. Die z-Achse verläuft in der 1 nach oben.To facilitate the description of positional relationships, a Cartesian global xyz coordinate system is shown in the drawing. The x-axis runs in the 1 perpendicular to the drawing plane and out of it. The y-axis runs in the 1 to the right. The z-axis runs in the 1 up.

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen bei einzelnen optischen Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird in den nachfolgenden Figuren jeweils auch ein kartesisches lokales xyz- oder xy-Koordinatensystem verwendet. Die jeweiligen lokalen xy-Koordinaten spannen, soweit nichts anderes beschrieben ist, eine jeweilige Hauptanordnungsebene der optischen Komponente, beispielsweise eine Reflexionsebene, auf. Die x-Achsen des globalen xyz-Koordinatensystems und der lokalen xyz- oder xy-Koordinatensysteme verlaufen parallel zueinander. Die jeweiligen y-Achsen der lokalen xyz- oder xy-Koordinatensysteme haben einen Winkel zur y-Achse des globalen xyz-Koordinatensystems, die einem Kippwinkel der jeweiligen optischen Komponente um die x-Achse entspricht. To facilitate the description of positional relationships in individual optical components of the projection exposure apparatus 1 In each of the following figures, a Cartesian local xyz or xy coordinate system is used. Unless otherwise described, the respective local xy coordinates span a respective main assembly plane of the optical component, for example a reflection plane. The x-axes of the xyz global coordinate system and the local xyz or xy coordinate systems are parallel. The respective y-axes of the local xyz or xy coordinate systems have an angle to the y-axis of the global xyz coordinate system, which corresponds to a tilt angle of the respective optical component about the x-axis.

Die Feldfacetten 7 sind rechteckig und haben jeweils das gleiche x/y-Aspektverhältnis. Das x/y-Aspektverhältnis kann beispielsweise 12/5, kann 25/4, kann 104/8, kann 20/1 oder kann 30/1 betragen.The field facets 7 are rectangular and each have the same x / y aspect ratio. The x / y aspect ratio may be, for example, 12/5, 25/4, 104/8, 20/1, or 30/1.

Nach Reflexion am Feldfacettenspiegel 6 trifft das in Abbildungslicht-Teilbündel, die den einzelnen Feldfacetten 7 zugeordnet sind, aufgeteilte Abbildungslicht-Bündel 3 auf einen Pupillenfacettenspiegel 10 mit Pupillenfacetten 11. Das jeweilige Abbildungslicht-Teilbündel des gesamten Abbildungslicht-Bündels 3 ist längs jeweils eines Abbildungslichtkanals geführt.After reflection at the field facet mirror 6 This hits the imaging light sub-beam that matches the individual field facets 7 assigned, split image light bundles 3 on a pupil facet mirror 10 with pupil facets 11 , The respective imaging light sub-beam of the entire imaging light beam 3 is guided along each of a picture light channel.

Gemäß einer beispielhaften Facettenanordnung sind die Pupillenfacetten 11 um ein Zentrum herum in ineinander liegenden Facettenringen angeordnet. Jedem von einer der Feldfacetten 7 reflektierten Abbildungslicht-Teilbündel des EUV-Beleuchtungslichts 3 ist eine Pupillenfacette 11 zugeordnet, so dass jeweils ein beaufschlagtes Facettenpaar mit einer der Feldfacetten 7 und einer der Pupillenfacetten 11 den Abbildungslichtkanal für das zugehörige Abbildungslicht-Teilbündel des EUV-Beleuchtungslichts 3 vorgibt. Die kanalweise Zuordnung der Pupillenfacetten 11 zu den Feldfacetten 7 erfolgt abhängig von einer gewünschten Beleuchtung durch die Projektionsbelichtungsanlage 1. Die Abbildungslichtkanäle werden auch als Beleuchtungskanäle bezeichnet. Die Gesamtheit der Beleuchtungskanäle definiert ein Beleuchtungssetting. According to an exemplary facet arrangement, the pupil facets are 11 arranged around a center in nested facet rings. Each one of the field facets 7 reflected picture light sub bundle of EUV illumination light 3 is a pupil facet 11 assigned, so that in each case an acted facet pair with one of the field facets 7 and one of the pupil facets 11 the imaging light channel for the associated imaging light sub-beam of the EUV illumination light 3 pretends. The channel-wise assignment of the pupil facets 11 to the field facets 7 occurs depending on a desired illumination by the projection exposure system 1 , The image light channels are also referred to as illumination channels. The entirety of the illumination channels defines a lighting setting.

Über den Pupillenfacettenspiegel 10 und eine nachfolgende, aus drei Spiegeln 12, 13, 14 bestehenden Übertragungsoptik 15 werden die Feldfacetten 7 in eine Objektebene 16 der Projektionsbelichtungsanlage 1 abgebildet. Der Spiegel 14 ist als Spiegel für streifenden Einfall (Grazing-Incidence-Spiegel) ausgeführt. In der Objektebene 16 ist ein Retikel 17 angeordnet, von dem mit der Beleuchtungsstrahlung 3 ein Ausleuchtungsbereich ausgeleuchtet wird, der mit einem Objektfeld 18 einer nachgelagerten Projektionsoptik 19 der Projektionsbelichtungsanlage 1 zusammenfällt. Der Ausleuchtungsbereich wird auch als Beleuchtungsfeld bezeichnet. Das Objektfeld 18 ist je nach der konkreten Ausführung einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage 1 rechteckig oder bogenförmig. Die Abbildungslichtkanäle werden im Objektfeld 18 überlagert. Das EUV-Beleuchtungslicht 3 wird vom Retikel 17 reflektiert. Das Retikel 17 wird von einem Objekthalter 17a gehaltert, der längs der Verlagerungsrichtung y mit Hilfe eines schematisch angedeuteten Objektverlagerungsantriebs 17b angetrieben verlagerbar ist.About the pupil facet mirror 10 and a subsequent, three mirrors 12 . 13 . 14 existing transmission optics 15 become the field facets 7 in an object plane 16 the projection exposure system 1 displayed. The mirror 14 is designed as a grazing incidence mirror. In the object plane 16 is a reticle 17 arranged, of which with the illumination radiation 3 an illumination area is illuminated, with an object field 18 a downstream projection optics 19 the projection exposure system 1 coincides. The illumination area is also called a lighting field. The object field 18 is depending on the specific design of a lighting optics of the projection exposure system 1 rectangular or arcuate. The image light channels are in the object field 18 superimposed. The EUV lighting light 3 is from the reticle 17 reflected. The reticle 17 is from an object holder 17a held along the displacement direction y by means of a schematically indicated object displacement drive 17b is driven displaced.

Die Projektionsoptik 19 bildet das Objektfeld 18 in der Objektebene 16 in ein Bildfeld 20 in einer Bildebene 21 ab. In dieser Bildebene 21 ist ein Wafer 22 angeordnet, der eine lichtempfindliche Schicht trägt, die während der Projektionsbelichtung mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 belichtet wird. Der Wafer 22, also das Substrat, auf welches abgebildet wird, wird von einem Wafer- bzw. Substrathalter 22a gehaltert, der längs der Verlagerungsrichtung y mit Hilfe eines ebenfalls schematisch angedeuteten Waferverlagerungsantriebs 22b synchron zur Verlagerung des Objekthalters 17a verlagerbar ist. Bei der Projektionsbelichtung werden sowohl das Retikel 17 als auch der Wafer 22 in der y-Richtung synchronisiert gescannt. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 ist als Scanner ausgeführt. Die Scanrichtung y ist die Objektverlagerungsrichtung.The projection optics 19 forms the object field 18 in the object plane 16 in a picture field 20 in an image plane 21 from. In this picture plane 21 is a wafer 22 arranged carrying a photosensitive layer, the during the projection exposure with the projection exposure apparatus 1 is exposed. The wafer 22 That is, the substrate to be imaged on is from a wafer or substrate holder 22a held along the displacement direction y by means of a likewise schematically indicated Waferverlagerungsantriebs 22b synchronous to the displacement of the object holder 17a is relocatable. In the projection exposure, both the reticle 17 as well as the wafer 22 scanned synchronized in the y-direction. The projection exposure machine 1 is designed as a scanner. The scanning direction y is the object displacement direction.

In einer Korrekturebene 23 angeordnet ist eine Beleuchtungsintensitäts-Korrekturvorrichtung 24, die nachfolgend noch näher erläutert wird. Die Korrekturebene 23 ist von der Objektebene 16 um nicht mehr als 20 mm, beispielsweise um 6 mm, 8 mm, 10 mm oder 16 mm, beabstandet. Die Korrekturvorrichtung 24, die auch als UNICOM bezeichnet wird, dient unter anderem zur Einstellung einer scanintegrierten, also in y-Richtung integrierten, Intensitätsverteilung des Beleuchtungslichts über das Objektfeld 18. Die Korrekturvorrichtung 24 wird von einer Steuereinrichtung 25 angesteuert. Beispiele einer Feld-Korrektur-Vorrichtung sind bekannt aus der WO 2009/074 211 A1 , der EP 0 952 491 A2 sowie aus der DE 10 2008 013 229 A1 , auf die hiermit verwiesen wird. In a correction level 23 arranged is an illumination intensity correction device 24 , which will be explained in more detail below. The correction level 23 is from the object plane 16 spaced apart by not more than 20 mm, for example by 6 mm, 8 mm, 10 mm or 16 mm. The correction device 24 , which is also called UNICOM, is used, among other things, to set a scan-integrated intensity distribution of the illumination light over the object field, that is integrated in the y direction 18 , The correction device 24 is from a controller 25 driven. Examples of a field correction device are known from the WO 2009/074 211 A1 , of the EP 0 952 491 A2 as well as from the DE 10 2008 013 229 A1 to which reference is hereby made.

Der Feldfacettenspiegel 6, der Pupillenfacettenspiegel 10, die Spiegel 12 bis 14 der Übertragungsoptik 15 sowie die Korrekturvorrichtung 24 sind Bestandteile einer Beleuchtungsoptik 26 der Projektionsbelichtungsanlage 1. Gemeinsam mit der Strahlungsquelle 2 bildet die Beleuchtungsoptik 26 ein Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage 1. Die Beleuchtungsoptik 26 bildet zusammen mit der Projektionsoptik 19 ein optisches System. The field facet mirror 6 , the pupil facet mirror 10 , the mirror 12 to 14 the transmission optics 15 as well as the correction device 24 are components of a lighting system 26 the projection exposure system 1 , Together with the radiation source 2 forms the illumination optics 26 an illumination system of the projection exposure apparatus 1 , The illumination optics 26 forms together with the projection optics 19 an optical system.

Bei der Projektionsbelichtung werden zunächst das Retikel 17 und der Wafer 22, der eine für das Beleuchtungslicht 3 lichtempfindliche Beschichtung trägt, bereitgestellt. Anschließend wird ein Abschnitt des Retikels 17 mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf den Wafer 22 projiziert. Schließlich wird die mit dem Beleuchtungslicht 3 belichtete lichtempfindliche Schicht auf dem Wafer 22 entwickelt. Auf diese Weise wird ein mikro- bzw. nanostrukturiertes Bauteil beispielsweise ein Halbleiterchip hergestellt. In the projection exposure, first the reticle 17 and the wafer 22 , one for the illumination light 3 photosensitive coating carries provided. Subsequently, a section of the reticle 17 with the help of the projection exposure system 1 on the wafer 22 projected. Finally, the one with the illumination light 3 exposed photosensitive layer on the wafer 22 developed. In this way, a micro- or nanostructured component, for example, a semiconductor chip is produced.

Im Folgenden werden weitere Details des Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage 1, insbesondere des Pupillenfacettenspiegels 10, beschrieben. Below are further details of the illumination system of the projection exposure apparatus 1 , in particular the pupil facet mirror 10 , described.

Die Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10 bilden die Feldfacetten 7 des Feldfacettenspiegels 6 in das Objektfeld 18 mit dem Retikel 17 ab. Das UNICOM 24 dient hierbei zur Einstellung und Korrektur von Intensitätsfeldverläufen im Objektfeld 18. Die Korrekturebene 23, welche auch als UNICOM-Ebene bezeichnet wird, liegt in Richtung des Strahlengangs der Beleuchtungsstrahlung 3 vor dem Objektfeld 18 mit dem Retikel 17.The pupil facets 11 of the pupil facet mirror 10 form the field facets 7 of the field facet mirror 6 in the object field 18 with the reticle 17 from. The UNICOM 24 serves for the adjustment and correction of intensity field curves in the object field 18 , The correction level 23 , which is also referred to as UNICOM level, lies in the direction of the beam path of the illumination radiation 3 in front of the object field 18 with the reticle 17 ,

Beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 kann es zu Schwankungen der Strahlungsquelle 2 kommen. Diese werden auch als Quellfluktuationen bezeichnet. Derartige Quellfluktuationen führen zu einer Verschiebung des Beleuchtungsfeldes in der UNICOM-Ebene, insbesondere in Richtung parallel zur Scanrichtung, insbesondere in das UNICOM 24 hinein. Dies kann dazu führen, dass ein Teil der Beleuchtungsstrahlung 3, welche zur Beleuchtung des Retikels 17 vorgesehen ist, nicht zum Retikel 17 gelangt, sondern vom UNICOM 24 abgeblendet wird. Da dies von Energiesensoren, welche im Strahlengang vor der Korrekturebene 23 angeordnet sind, nicht erfasst wird, kann eine derartige Feldverschiebung zu Dosisfehlern bei der Belichtung des Retikels 17 führen. Für den Dosisfehler ist insbesondere eine Verschiebung des Beleuchtungsfeldes in das UNICOM 24 hinein, das heißt in Richtung parallel zur Scanrichtung und parallel zur UNICOM-Ebene 23, relevant.When operating the projection exposure system 1 There may be fluctuations in the radiation source 2 come. These are also called source fluctuations. Such source fluctuations lead to a shift of the illumination field in the UNICOM plane, in particular in the direction parallel to the scanning direction, in particular into the UNICOM 24 into it. This can cause some of the illumination radiation 3 which is used to illuminate the reticle 17 is provided, not to the reticle 17 but from the UNICOM 24 dimmed. Because this is from energy sensors, which are in the beam path in front of the correction plane 23 can not be detected, such a field shift to dose errors in the exposure of the reticle 17 to lead. For the dose error is in particular a shift of the illumination field in the UNICOM 24 in, ie in the direction parallel to the scan direction and parallel to the UNICOM plane 23 , relevant.

Die Schwankungen der Strahlungsquelle 2 können auf unterschiedliche Ursachen zurückzuführen sein. Sie werden der Einfachheit halber auch als Plasmaschwankungen bezeichnet. Ihr Umfang liegt im Bereich von höchstens 3 mm, insbesondere höchstens 2 mm, insbesondere höchstens 1 mm. The fluctuations of the radiation source 2 can be due to different causes. They are also referred to as plasma fluctuations for the sake of simplicity. Its circumference is in the range of at most 3 mm, in particular at most 2 mm, in particular at most 1 mm.

Um den durch die Quellfluktuationen verursachten Dosisfehler zu reduzieren, insbesondere zu minimieren, ist erfindungsgemäß vorgesehen, die Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 in der Design-Phase dergestalt zu bestimmen, dass die Feldverschiebung, welche sich aus der Gesamtheit aller Beleuchtungskanäle in der Korrekturebene 23 ergibt, minimal wird. Hierbei ist es nicht notwendig, die Abbildung jedes einzelnen Beleuchtungskanals unabhängig voneinander zu optimieren.In order to reduce the dose errors caused by the swelling fluctuations, in particular to minimize them, the curvature radii of the pupil facets are provided according to the invention 11 in the design phase to determine that the field shift, resulting from the totality of all illumination channels in the correction plane 23 yields, becomes minimal. It is not necessary to optimize the image of each individual lighting channel independently of each other.

Als Randbedingung kann vorgegeben sein, dass die Pupillenfacetten 11 jeweils Gruppen bilden, wobei die Pupillenfacetten 11 derselben Gruppe denselben Krümmungsradius aufweisen und Pupillenfacetten 11 unterschiedlicher Gruppen unterschiedliche Krümmungsradien aufweisen. Die Anzahl der Gruppen kann zwei, drei, vier, fünf oder mehr betragen. Sie beträgt vorzugsweise höchstens zwanzig, insbesondere höchstens fünfzehn, insbesondere höchstens zehn, insbesondere höchstens fünf. As a constraint, it can be specified that the pupil facets 11 each form groups, the pupil facets 11 the same group have the same radius of curvature and pupil facets 11 different groups have different radii of curvature. The number of groups can be two, three, four, five or more. It is preferably at most twenty, in particular at most fifteen, in particular at most ten, in particular at most five.

Die Bestimmung der Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 beziehungsweise die Zuordnung der Pupillenfacetten 11 zu unterschiedlichen Krümmungsradien kann wie folgt ermittelt werden: Zunächst wird für jede der Raumrichtungen x, y und z die Feldverschiebung (dUNI) in Richtung parallel zur Scanrichtung in der Korrekturebene 23 aufgrund von Schwankungen der Strahlungsquelle 2 in der jeweiligen Raumrichtung (dPlasmax, dPlasmay und dPlasmaz) in Abhängigkeit der Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 nach folgender Formel bestimmt:

Figure DE102015209453A1_0002
The determination of the radii of curvature of the pupil facets 11 or the assignment of the pupil facets 11 For different radii of curvature can be determined as follows: First, for each of the spatial directions x, y and z, the field shift (dUNI) in the direction parallel to the scanning direction in the correction plane 23 due to variations in the radiation source 2 in the respective spatial direction (dPlasma x , dPlasma y and dPlasma z ) as a function of the radii of curvature of the pupil facets 11 determined according to the following formula:
Figure DE102015209453A1_0002

Als resultierende Feldverschiebung in das UNICOM 24 hinein, das heißt in y-Richtung, wird der größte Wert über eine Anzahl vorgegebener Beleuchtungssettings

Figure DE102015209453A1_0003
bei Mittelung über alle Beleuchtungskanäle definiert. Die einzelnen Beleuchtungskanäle können hierbei mit unterschiedlichen Gewichten (gi,Setting) gewichtet werden. Als Gewichte
(gi,Setting) dienen insbesondere die Intensitäten der jeweiligen Beleuchtungskanäle.As resulting field shift into the UNICOM 24 in, that is, in the y-direction, the largest value becomes over a number of predetermined lighting settings
Figure DE102015209453A1_0003
when averaging across all lighting channels defined. The individual illumination channels can hereby be weighted with different weights (g i, setting ). As weights
(g i, Setting ) serve in particular the intensities of the respective illumination channels.

Eine Meritfunktion umfasst Anteile der Feldverschiebungen, die sich durch Quellfluktuationen in den unterschiedlichen Raumrichtungen x, y und z ergeben. Diese Anteile können mit Gewichtungsfaktoren α, β, γ gewichtet werden. Zur Bestimmung der optimalen Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 beziehungsweise der Zuordnung der Pupillenfacetten 11 zu den Gruppen mit unterschiedlichen Krümmungsradien wird somit die folgende Meritfunktion minimiert:

Figure DE102015209453A1_0004
A merit function comprises portions of the field shifts resulting from source fluctuations in the different spatial directions x, y and z. These proportions can be weighted with weighting factors α, β, γ. To determine the optimal radii of curvature of the pupil facets 11 or the assignment of the pupil facets 11 thus the following merit function is minimized for the groups with different radii of curvature:
Figure DE102015209453A1_0004

Hierbei handelt es sich um ein diskretes Optimierungsproblem.This is a discrete optimization problem.

Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, einen oder mehrere der Krümmungsradien RPF der Pupillenfacetten 11 vorzugeben. Diese Krümmungsradien RPF können insbesondere bereits vor der Minimierung der Meritfunktion als Randbedingung bei der Optimierung vorgegeben sein. Hierdurch ist es beispielsweise möglich, bereits bestehende Pupillenfacetten 11 zu verwenden. Auch aus anderen Gründen kann es wünschenswert sein, zumindest für einzelne der Pupillenfacetten 11 vorab einen Krümmungsradius RPF vorzugeben.According to the invention, one or more of the radii of curvature R PF of the pupil facets can be provided 11 pretend. These radii of curvature R PF can in particular be predefined as a boundary condition during optimization even before the merit function is minimized. This makes it possible, for example, already existing pupil facets 11 to use. For other reasons as well, it may be desirable for at least some of the pupil facets 11 pre-set a radius of curvature R PF .

In der 3 ist exemplarisch dargestellt, wie die Feldverschiebung, das heißt die Verschiebung der Bilder der Feldfacetten in der UNICOM-Ebene 23 in y-Richtung von einem Krümmungsradius RPF der Pupillenfacetten 11 abhängt. Dargestellt ist ein Fall, bei welchem sämtliche der Pupillenfacetten 11 denselben Krümmungsradius RPF aufweisen.In the 3 is exemplified, such as the field shift, that is, the displacement of the images of the field facets in the UNICOM level 23 in the y-direction of a radius of curvature R PF of the pupil facets 11 depends. Shown is a case in which all of the pupil facets 11 have the same radius of curvature R PF .

Dargestellt sind separate Bereiche, welche jeweils den Effekt einer mechanischen Verschiebung der Strahlungsquelle 2 um 1 mm in der durch das Symbol gekennzeichneten Richtung angeben. Die Bereiche verdeutlichen jeweils die Variation der jeweiligen Größe über die Beleuchtungssettings und Feldpunkte.Shown are separate areas, each having the effect of a mechanical displacement of the radiation source 2 1 mm in the direction indicated by the symbol. The areas each illustrate the variation of the respective size over the illumination settings and field points.

Wie der 3 qualitativ zu entnehmen ist, ist die Feldverschiebung bei einer Quellfluktuation in z-Richtung im Wesentlichen insensitiv gegenüber dem Krümmungsradius RPF der Pupillenfacetten 11. Bei einer Quellfluktuation in x-Richtung zeigt sie eine schwache Abhängigkeit vom Krümmungsradius RPF der Pupillenfacetten 11.Again 3 is qualitatively apparent, the field shift at a source fluctuation in the z-direction is substantially insensitive to the radius of curvature R PF of the pupil facets 11 , With a swelling in the x-direction, it shows a weak dependence on the radius of curvature R PF of the pupil facets 11 ,

Bei einer Quellfluktuation in y-Richtung zeigt sie jedoch eine markante Abhängigkeit vom Krümmungsradius RPF der Pupillenfacetten 11.In the case of a swelling in the y-direction, however, it shows a marked dependence on the radius of curvature R PF of the pupil facets 11 ,

Wie qualitativ ersichtlich ist, kann unter der Voraussetzung, dass sämtliche Pupillenfacetten 11 denselben Krümmungsradius R aufweisen, lediglich eine Quellfluktuation in einer Richtung (y-Richtung) kompensiert werden, während die anderen beiden Richtungen im Wesentlichen insentitiv gegenüber einer Variation des Krümmungsradius R sind und daher nicht optimiert werden können. As can be seen qualitatively, provided that all pupil facets 11 have the same radius of curvature R, only a source fluctuation in one direction (y-direction) are compensated, while the other two directions are substantially insensitive to a variation of the radius of curvature R and therefore can not be optimized.

Diese Werte konnten erheblich verbessert werden, wenn die Randbedingung, dass sämtliche der Pupillenfacetten 11 denselben Krümmungsradius aufweisen müssen, aufgegeben wurde. Mit anderen Worten ermöglichen zusätzliche Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 Kompensationen zusätzlicher Freiheitsgrade der Schwankungen der Strahlungsquelle 2. These values could be significantly improved if the boundary condition that all of the pupil facets 11 have the same radius of curvature, was abandoned. In other words, additional radii of curvature allow the pupil facets 11 Compensations of additional degrees of freedom of the fluctuations of the radiation source 2 ,

Als besonders vorteilhafter Kompromiss hat sich die Beschränkung auf zwei, drei, vier oder fünf unterschiedliche Krümmungsradien herausgestellt.As a particularly advantageous compromise, the restriction to two, three, four or five different radii of curvature has been found.

Hierbei kann als Randbedingung vorgegeben sein, dass jeweils eine Mindestanzahl von jeweils mindestens 100 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens 200 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens 300 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens 400 Pupillenfacetten 11 denselben Krümmungsradius aufweist. Es kann insbesondere als Randbedingung bei der Minimierung der Meritfunktion vorgegeben sein, dass jeweils mindestens 20%, insbesondere mindestens 25% der Pupillenfacetten 11 denselben Krümmungsradius aufweisen.In this case, it can be specified as a boundary condition that in each case a minimum number of at least 100 pupil facets each 11 , in particular at least 200 pupil facets 11 , in particular at least 300 pupil facets 11 , in particular at least 400 pupil facets 11 has the same radius of curvature. In particular, it can be predetermined as a boundary condition in the minimization of the merit function that in each case at least 20%, in particular at least 25%, of the pupil facets 11 have the same radius of curvature.

Bei einer Anzahl von zwei Gruppen von Pupillenfacetten 11 mit unterschiedlichen Krümmungsradien konnte die maximale Sensitivität der Feldverschiebung im Hinblick auf Quellfluktuationen in den drei unterschiedlichen Raumrichtungen um einen Faktor von etwa drei von etwa 180 µm/mm auf etwa 60 µm/mm reduziert werden.For a number of two groups of pupil facets 11 with different radii of curvature, the maximum field shift sensitivity with respect to source fluctuations in the three different spatial directions could be reduced by a factor of about three from about 180 μm / mm to about 60 μm / mm.

Selbst wenn einer der beiden Krümmungsradien von einem bestehenden Design des Pupillenfacettenspiegels 10 übernommen und fest vorgegeben wurde, ließ sich die Sensitivität der Feldverlagerung gegenüber Quellfluktuationen noch immer um mehr als einen Faktor 2 reduzieren. Bei Hinzunahme einer dritten Gruppe von Pupillenfacetten 11, das heißt eines dritten Krümmungsradius, konnte die Sensitivität weiter reduziert werden. Der zusätzliche Nutzen bei Hinzunahme eines dritten Krümmungsradius war jedoch nicht mehr so groß wie der Unterschied beim Übergang von einem einzigen auf zwei unterschiedliche Krümmungsradien. Die Reduzierung der Sensitivität beim Übergang von zwei auf drei Krümmungsradien lag im Bereich von 10 % bis 30 %.Even if one of the two radii of curvature of an existing design of the pupil facet mirror 10 and fixed, the sensitivity of the field shift to source fluctuations could still be reduced by more than a factor of 2. With the addition of a third group of pupil facets 11 , that is, a third radius of curvature, the sensitivity could be further reduced. However, the added benefit of adding a third radius of curvature was no longer as great as the difference in transition from a single to two different radii of curvature. The reduction in sensitivity in the transition from two to three radii of curvature ranged from 10% to 30%.

Im Folgenden werden noch einmal unterschiedliche Aspekte des erfindungsgemäßen Pupillenfacettenspiegels 10 anhand der 2 erläutert. Der Pupillenfacettenspiegel 10 umfasst eine Vielzahl von Pupillenfacetten 11 mit unterschiedlichen Krümmungsradien R. Exemplarisch dargestellt sind in der 2 drei Pupillenfacetten 11 1, 11 2, 11 3 mit drei unterschiedlichen Krümmungsradien R1, R2, R3.In the following, once again different aspects of the pupil facet mirror according to the invention will be discussed 10 based on 2 explained. The pupil facet mirror 10 includes a variety of pupil facets 11 with different radii of curvature R. are exemplified in the 2 three pupil facets 11 1 , 11 2 , 11 3 with three different radii of curvature R 1 , R 2 , R 3 .

Die unterschiedlichen Krümmungsradien Ri der Pupillenfacetten 11 führen zu unterschiedlichen Brennweiten und damit unterschiedlichen Bildweiten bzw. Bildlagen derselben. Die Pupillenfacette 11 1 weist beispielsweise eine Bildweite auf, welche gerade in etwa ihrem Abstand zur Korrekturebene 23 entspricht, Die Pupillenfacette 11 2 weist eine Bildweite auf, welche geringer ist als ihr Abstand zur Korrekturebene 23. Die Pupillenfacette 11 3 weist eine Bildweite auf, welche größer ist als ihr Abstand zur Korrekturebene 23. The different radii of curvature R i of the pupil facets 11 lead to different focal lengths and thus different image widths or image layers of the same. The pupil facet 11 1 , for example, has an image width which is approximately at its distance from the correction plane 23 corresponds, The pupil facet 11 2 has an image width which is less than its distance from the correction plane 23 , The pupil facet 11 3 has an image width that is greater than its distance from the correction plane 23 ,

Der Abstand der Pupillenfacetten 11 i zur Korrekturebene 23 wird hierbei jeweils entlang eines zentralen Strahls des auf sie auftreffenden Bündels mit Beleuchtungsstrahlung 3 gemessen.The distance between the pupil facets 11 i to the correction level 23 In this case, in each case along a central beam of the incident thereon beam with illumination radiation 3 measured.

Mindestens zwei der Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 unterscheiden sich um mindestens 1%, insbesondere mindestens 2%, insbesondere mindestens 3%, insbesondere mindestens 4%. Die Krümmungsradien der Pupillenfacetten 11 unterscheiden sich vorzugsweise höchstens um 10%, insbesondere höchstens 9%, insbesondere höchstens 8%, insbesondere höchstens 7%, insbesondere höchstens 6%.At least two of the radii of curvature of the pupil facets 11 differ by at least 1%, in particular at least 2%, in particular at least 3%, in particular at least 4%. The radii of curvature of the pupil facets 11 preferably differ by more than 10%, in particular at most 9%, in particular at most 8%, in particular at most 7%, in particular at most 6%.

In der 2 sind aus Gründen der Übersichtlichkeit lediglich drei der Pupillenfacetten 11 dargestellt. Tatsächlich ist die Anzahl der Pupillenfacetten 11 des Pupillenfacettenspiegels 10 wesentlich höher. Sie kann insbesondere mindestens 1000, insbesondere mindestens 1200, insbesondere mindestens 1400, insbesondere mindestens 1600, insbesondere mindestens 1800, insbesondere mindestens 2000 betragen. Sie beträgt vorzugsweise höchstens 10000, insbesondere höchstens 8000, insbesondere höchstens 6000, insbesondere höchstens 4000, insbesondere höchstens 2000. In the 2 For reasons of clarity, only three of the pupil facets are 11 shown. In fact, the number of pupil facets is 11 of the pupil facet mirror 10 significantly higher. In particular, it may be at least 1000, in particular at least 1200, in particular at least 1400, in particular at least 1600, in particular at least 1800, in particular at least 2000. It is preferably at most 10,000, in particular at most 8000, in particular at most 6000, in particular at most 4000, in particular at most 2000.

Jeweils mindestens 100 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens jeweils 100 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens jeweils 300 Pupillenfacetten 11, insbesondere mindestens jeweils 400 Pupillenfacetten 11 weisen denselben Krümmungsradius auf. At least 100 pupil facets each 11 , in particular at least 100 pupil facets each 11 , in particular at least each 300 pupil facets 11 , in particular at least 400 pupil facets each 11 have the same radius of curvature.

Der Pupillenfacettenspiegel 10 umfasst eine, zwei, drei, vier, fünf oder mehr Gruppen von Pupillenfacetten 11, wobei Pupillenfacetten 11 der unterschiedlichen Gruppen unterschiedliche Krümmungsradien Ri aufweisen. Pupillenfacetten 11 derselben Gruppe weisen denselben Krümmungsradius auf. The pupil facet mirror 10 includes one, two, three, four, five or more groups of pupil facets 11 , where pupil facets 11 the different groups have different radii of curvature R i . pupil facets 11 the same group have the same radius of curvature.

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Claims (15)

Pupillenfacettenspiegel (10) für eine Beleuchtungsoptik (26) einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit Facetten (11) mit unterschiedlichen Krümmungsradien.Pupil facet mirror ( 10 ) for an illumination optics ( 26 ) of a projection exposure apparatus ( 1 ) with facets ( 11 ) with different radii of curvature. Pupillenfacettenspiegel (10) gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sich mindestens zwei Krümmungsradien der Facetten (11) um mindestens 1% unterscheiden.Pupil facet mirror ( 10 ) according to claim 1, characterized in that at least two radii of curvature of the facets ( 11 ) differ by at least 1%. Pupillenfacettenspiegel (10) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens jeweils 100 Facetten (11) denselben Krümmungsradius aufweisen.Pupil facet mirror ( 10 ) according to one of the preceding claims, characterized in that at least in each case 100 facets ( 11 ) have the same radius of curvature. Pupillenfacettenspiegel (10) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Facetten (11) eine Mehrzahl von unterschiedlichen Gruppen bilden, wobei die Facetten (11) der unterschiedlichen Gruppen unterschiedliche Krümmungsradien aufweisen.Pupil facet mirror ( 10 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the facets ( 11 ) form a plurality of different groups, the facets ( 11 ) of the different groups have different radii of curvature. Beleuchtungsoptik (26) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie umfassend 5.1. einen ersten Facettenspiegel (6) mit einer Mehrzahl von ersten Facetten (7) und 5.2. einen zweiten Facettenspiegel mit einer Mehrzahl von zweiten Facetten (11), 5.3. wobei der zweite Facettenspiegel durch einen Pupillenfacettenspiegel (10) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche gebildet wird.Illumination optics ( 26 ) for a projection exposure apparatus ( 1 ) for microlithography comprising 5.1. a first facet mirror ( 6 ) having a plurality of first facets ( 7 ) and 5.2. a second facet mirror having a plurality of second facets ( 11 ), 5.3. wherein the second facet mirror is represented by a pupil facet mirror ( 10 ) is formed according to one of the preceding claims. Beleuchtungsoptik (26) gemäß Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Vorrichtung (24) zur Korrektur einer Beleuchtungsintensitätsverteilung in einer Korrekturebene (23) aufweist und dass die Krümmungsradien der zweiten Facetten (11) derart gewählt sind, dass eine Teilmenge der zweiten Facetten (11) eine Bildweite aufweist, welche geringer ist als ihr Abstand zur Korrekturebene (23). Illumination optics ( 26 ) according to claim, characterized in that it comprises a device ( 24 ) for correcting an illumination intensity distribution in a correction plane ( 23 ) and that the radii of curvature of the second facets ( 11 ) are selected such that a subset of the second facets ( 11 ) has an image width that is less than its distance from the correction plane ( 23 ). Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage (1) umfassend 7.1. eine Beleuchtungsoptik (26) gemäß einem der Ansprüche 5 bis 6 und 7.2. eine Strahlungsquelle (2) zur Erzeugung von Beleuchtungsstrahlung (3).Illumination system for a projection exposure apparatus ( 1 comprising 7.1. an illumination optics ( 26 ) according to any one of claims 5 to 6 and 7.2. a radiation source ( 2 ) for generating illumination radiation ( 3 ). Beleuchtungssystem gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Krümmungsradien der zweiten Facetten (11) derart gewählt sind, dass sich für mindestens zwei Beleuchtungskanäle Dosisschwankungen im Objektfeld (18), welche durch Quellfluktuationen verursacht werden, zumindest teilweise kompensieren.Illumination system according to claim 7, characterized in that the radii of curvature of the second facets ( 11 ) are selected such that for at least two illumination channels dose fluctuations in the object field ( 18 ), which are caused by swelling fluctuations, at least partially compensate. Verfahren zur Bestimmung der Krümmungsradien von Facetten (11) eines Pupillenfacettenspiegels (10) umfassend die folgenden Schritte: 9.1. Vorgabe eines Beleuchtungssystems gemäß Anspruch 8, 9.2. Vorgabe einer Anzahl unterschiedlicher Beleuchtungssettings mit Beleuchtungskanälen, 9.3. Vorgabe einer diskreten Anzahl unterschiedlicher Krümmungsradien der zweiten Facetten (11), 9.4. Bestimmen eines Zusammenhangs einer Verlagerung von Bildern der ersten Facetten (7) im Bereich einer Korrekturebene (23) mit Schwankungen der Strahlungsquelle (2) in Abhängigkeit der Krümmungsradien der zweiten Facetten (11), 9.5. Bestimmen einer über alle Beleuchtungskanäle gemittelten Feldverschiebung im Bereich der und/oder relativ zur Korrekturebene für die unterschiedlichen Beleuchtungssettings, 9.6. Minimierung einer Meritfunktion, welche gewichtete Anteile der Feldverschiebungen aufgrund von Schwankungen der Strahlungsquelle (2) in unterschiedlichen Raumrichtungen umfasst, in Abhängigkeit von einer Zuordnung der zweiten Facetten (11) zu unterschiedlichen Krümmungsradien.Method for determining the radii of curvature of facets ( 11 ) of a pupil facet mirror ( 10 ) comprising the following steps: 9.1. Specification of a lighting system according to claim 8, 9.2. Specification of a number of different lighting settings with illumination channels, 9.3. Specification of a discrete number of different radii of curvature of the second facets ( 11 9.4. Determining a relationship of a displacement of images of the first facets ( 7 ) in the area of a correction plane ( 23 ) with fluctuations of the radiation source ( 2 ) as a function of the radii of curvature of the second facets ( 11 9.5. Determining a field shift averaged over all illumination channels in the region of and / or relative to the correction plane for the different illumination settings, 9.6. Minimization of a merit function, which weighted portions of the field shifts due to variations of the radiation source ( 2 ) in different spatial directions, depending on an assignment of the second facets ( 11 ) to different radii of curvature. Verfahren gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Meritfunktion jeweils Anteile der maximalen Feldverschiebungen in Abhängigkeit von den unterschiedlichen Beleuchtungssettings umfasst, wobei die Feldverschiebungen in unterschiedlichen Raumrichtungen jeweils mit einem unabhängigen Gewichtungsfaktor gewichtet werden.A method according to claim 9, characterized in that the merit function each comprises portions of the maximum field shifts in dependence on the different lighting settings, wherein the field shifts are weighted in different spatial directions each with an independent weighting factor. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 9 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass als Randbedingung bei der Minimierung der Meritfunktion vorgegeben wird, dass jeweils mindestens 20% der zweiten Facetten (11) denselben Krümmungsradius aufweisen.Method according to one of claims 9 to 10, characterized in that as a boundary condition in the minimization of the merit function is specified that in each case at least 20% of the second facets ( 11 ) have the same radius of curvature. Optisches System umfassend eine Beleuchtungsoptik (26) gemäß einem der Ansprüche 5 bis 6 und 12.1. eine Projektionsoptik (19) zur Abbildung eines Objektfeldes (18) in ein Bildfeld (20).Optical system comprising an illumination optics ( 26 ) according to one of claims 5 to 6 and 12.1. a projection optics ( 19 ) for mapping an object field ( 18 ) in an image field ( 20 ). Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie umfassend 13.1. eine Beleuchtungsoptik (26) gemäß einem der Ansprüche 5 bis 6, 13.2. eine Projektionsoptik (19) zur Abbildung eines Objektfeldes (18) in ein Bildfeld (20) und 13.3. eine Strahlungsquelle (2) zur Erzeugung von Beleuchtungsstrahlung (3). Projection exposure apparatus ( 1 ) for microlithography 13.1. an illumination optics ( 26 ) according to one of claims 5 to 6, 13.2. a projection optics ( 19 ) for mapping an object field ( 18 ) in an image field ( 20 ) and 13.3. a radiation source ( 2 ) for generating illumination radiation ( 3 ). Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen eines Wafers (22), auf dem zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist, – Bereitstellen eines Retikels (17), das abzubildende Strukturen aufweist, – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 13, – Projizieren wenigstens eines Teils des Retikels (17) auf einen Bereich der Schicht des Wafers (22) mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage (1).A method of fabricating a micro- or nanostructured device comprising the steps of: - providing a wafer ( 22 ), on which at least partially a layer of a photosensitive material is applied, - providing a reticle ( 17 ) having structures to be imaged, - providing a projection exposure apparatus ( 1 ) according to claim 13, - projecting at least a part of the reticle ( 17 ) on an area of the layer of the wafer ( 22 ) using the projection exposure apparatus ( 1 ). Bauelement hergestellt nach einem Verfahren gemäß Anspruch 14.Component produced by a method according to claim 14.
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