Die Erfindung betrifft eine Justagevorrichtung zur Justage von Spiegeln zur Bündelführung von Strahlung längs eines Strahlengangs. Ferner betrifft die Erfindung eine Masken-Inspektionsvorrichtung zur Inspektion einer Maske für die Projektionslithographie mit einer derartigen Justagevorrichtung. The invention relates to an adjustment device for adjusting mirrors for bundle guidance of radiation along a beam path. Furthermore, the invention relates to a mask inspection device for inspecting a mask for projection lithography with such an adjustment device.
Vorrichtungen zur Spiegeljustierung sind durch offenkundige Vorbenutzung bekannt. Devices for mirror adjustment are known by public prior use.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Justagevorrichtung der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine vorgegebene Justagepräzision für die Relativposition der beiden Spiegel zueinander erreicht wird. It is an object of the present invention to develop an adjustment device of the aforementioned type such that a predetermined Justagepräzision for the relative position of the two mirrors is achieved to each other.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Justagevorrichtung mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. This object is achieved by an adjustment device with the features specified in claim 1.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass die Verwendung zweier Justagemarkierungen zusammen mit einem ortsauflösenden Detektor eine reproduzierbare und präzise Justage der Relativposition der beiden zu justierenden Spiegel zueinander gewährleistet. Die beiden zu justierenden Spiegel können ihrerseits aus einer Mehrzahl von individuell aktuierbaren Einzelspiegeln aufgebaut sein. Ein derartiger Aufbau aus individuell aktuierbaren Einzelspiegeln ist allerdings nicht zwingend. According to the invention, it has been recognized that the use of two adjustment markings together with a spatially resolving detector ensures a reproducible and precise adjustment of the relative position of the two mirrors to be adjusted relative to each other. The two mirrors to be adjusted can in turn be constructed from a plurality of individually actuatable individual mirrors. However, such a structure of individually actuable individual mirrors is not mandatory.
Eine Justagevorrichtung mit einer Justagelichtquelle nach Anspruch 2 ermöglicht eine Justage von Spiegeln, die eine Nutzwellenlänge führen, die zu Justagezwecken nur schwer oder gar nicht erfassbar ist. Als Justagelichtquelle kann ein Laser mit einer Justagewellenlänge im sichtbaren Bereich (VIS) oder im ultravioletten Bereich (UV) bis hin zum tiefenultravioletten Bereich (DUV) zum Einsatz kommen. Die Nutzwellenlänge kann nochmals deutlich kleiner sein und beispielsweise im extremen ultravioletten Bereich (EUV) liegen. An adjustment device with an Justagelichtquelle according to claim 2 allows an adjustment of mirrors, which lead a Nutzwellenlänge that is difficult or impossible to detect for adjustment purposes. As adjustment light source, a laser with an adjustment wavelength in the visible range (VIS) or in the ultraviolet range (UV) up to the deep ultraviolet range (DUV) can be used. The useful wavelength can again be significantly smaller and, for example, in the extreme ultraviolet range (EUV).
Justagemarkierungen nach Anspruch 3 können eine Positionsdetektion nach Art eines Moire-Gitters ermöglichen. Hierüber kann eine Justage der beiden Spiegel zueinander in mehreren Freiheitsgraden erfolgen. Als Justagestrahlungs-Teilbündel können Teilbündel der Nutzstrahlung oder Teilbündel einer Justagestrahlung einer separaten Justagelichtquelle zum Einsatz kommen. Justagemarkierungen according to claim 3 may allow a position detection in the manner of a moire grid. By means of this an adjustment of the two mirrors to each other can take place in several degrees of freedom. As adjustment beam sub-beam, partial beams of useful radiation or sub-beams of an adjustment radiation of a separate adjustment light source can be used.
Eine Ausgestaltung der Justagevorrichtung nach Anspruch 4 ist einfach und ermöglicht insbesondere die Erfassung von Kipp-Dejustierungen. An embodiment of the adjustment device according to claim 4 is simple and allows in particular the detection of tilting misalignments.
Eine Ausgestaltung der Justagevorrichtung nach Anspruch 5 ermöglicht insbesondere eine Erfassung von Abstands-Dejustierungen. An embodiment of the adjustment device according to claim 5 allows in particular a detection of distance misalignments.
Eine Justagevorrichtung nach Anspruch 6 lässt sich einfach realisieren und stellt nur geringe Anforderungen an eine Gestaltung der Justagemarkierungen. Mit einer solchen Justagevorrichtung lassen sich insbesondere Translations-Dejustierungen vermessen. Soweit die Justagemarkierungen ausreichend räumlich ausgedehnt sind, lassen sich hierüber auch Kipp-Dejustagen vermessen. An adjustment device according to claim 6 can be implemented easily and places only small demands on a design of Justagemarkierungen. With such an adjustment device in particular translational misalignments can be measured. As far as the Justagemarkierungen are sufficiently spatially extended, can also be measured about tilting misalignments.
Eine Zwischenbild-Anordnung nach Anspruch 7 erlaubt eine Ausgestaltung der Justagevorrichtung mit erhöhter Sensitivität des erfassten Justageparameters in Bezug auf eine Dejustage der zu justierenden Spiegel. An intermediate image arrangement according to claim 7 allows an embodiment of the adjustment device with increased sensitivity of the detected adjustment parameter with respect to a misalignment of the mirror to be adjusted.
Bei einer Spiegelausführung nach Anspruch 8 kann eine der Spiegelfacetten oder ein Strukturelement einer der Spiegelfacetten, z. B. die Kante einer Reflexionsfläche einer der Spiegelfacetten oder eine Mehrzahl derartiger Kanten als Justagemarker verwendet werden. Bei beiden relativ zueinander zu justierenden Spiegeln kann es sich jeweils um einen Facettenspiegel mit einer Mehrzahl oder einer Vielzahl von Spiegelfacetten handeln. Es kann sich insbesondere bei mindestens einem der zu justierenden Spiegel um ein MEMS(mikroelektromechanisches System)-Spiegelarray handeln. Beleuchtungsoptiken mit derartigen Spiegelfacetten, die bei der EUV-Projektionslithografie zum Einsatz kommen, sind aus der EP 0 955 641 A1 und der DE 10 2008 009 600 A bekannt. Die Justagevorrichtung kann zur Justage der Relativposition zweier Spiegel, insbesondere zweier Facettenspiegel, der optischen Systeme derartiger Beleuchtungsoptiken zum Einsatz kommen. In a mirror embodiment according to claim 8, one of the mirror facets or a structural element of one of the mirror facets, z. B. the edge of a reflection surface of one of the mirror facets or a plurality of such edges are used as alignment markers. Both mirrors to be adjusted relative to one another can each be a facet mirror having a plurality or a multiplicity of mirror facets. In particular, at least one of the mirrors to be adjusted may be a MEMS (microelectromechanical system) mirror array. Illumination optics with such mirror facets, which are used in the EUV projection lithography, are from the EP 0 955 641 A1 and the DE 10 2008 009 600 A known. The adjustment device can be used for adjusting the relative position of two mirrors, in particular two facet mirrors, of the optical systems of such illumination optics.
Justagefacetten nach Anspruch 9 können mit anderen optischen Wirkungen gestaltet sein als die zur Führung der Nutzstrahlung ausgestalteten Spiegelbereiche der zu justierenden Spiegel. Die Justagefacetten können dann für die Justagestrahlung eine spezifische bündelführende und insbesondere abbildende Wirkung haben und können eine Beschichtung tragen, die zur Reflexion der Justagestrahlung optimiert ist. Justagefacetten according to claim 9 may be designed with different optical effects than the designed to guide the useful radiation mirror areas of the mirror to be adjusted. The Justagefacetten can then have a specific bundle leading and especially imaging effect for Justagestrahlung and can wear a coating that is optimized for the reflection of the Justagestrahlung.
Justagefacetten nach Anspruch 10 vermeiden störende Beugungseffekte, die beispielsweise dann auftreten können, wenn die Spiegelfacetten eine Ausdehnung haben, die in der Größenordnung der Justagewellenlänge liegt. Dies kann dann der Fall sein, wenn eine Justagewellenlänge zum Einsatz kommt, die deutlich größer ist als eine Nutzstrahlungswellenlänge. Justagefacetten according to claim 10 avoid disturbing diffraction effects, which may occur, for example, when the mirror facets have an extent that is of the order of the adjustment wavelength. This may be the case when an adjustment wavelength is used which is significantly larger than a useful radiation wavelength.
Bei Spiegeln nach Anspruch 11 kommen die Vorteile der Justagevorrichtung besonders zum Tragen. Bei der Projektionsbelichtungsanlage kann es sich um eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage handeln. Die zu justierenden Spiegel können Bestandteile einer Beleuchtungsoptik und/oder einer Projektionsoptik einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sein. Mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage lassen sich mikro- bzw. nanostrukturierte Halbleiterbauelemente, insbesondere Speicherchips, mit sehr hoher Strukturauflösung herstellen. In mirrors according to claim 11, the advantages of the adjustment device come especially to Wear. The projection exposure apparatus may be an EUV projection exposure apparatus. The mirrors to be adjusted may be components of an illumination optics and / or a projection optics of such a projection exposure apparatus. With such a projection exposure apparatus, it is possible to produce microstructured or nanostructured semiconductor components, in particular memory chips, with a very high structural resolution.
Mit einer Justagevorrichtung lässt sich durch Kontrolle des Justageparameters eine einfache Justagevorschrift realisieren. Die Justagevorrichtung kann auch zur Überwachung eines Justagezustandes eingesetzt werden. With an adjustment device can be realized by controlling the Justageparameters a simple adjustment rule. The adjustment device can also be used to monitor a Justagezustandes.
Mit einer Justagevorrichtung nach Anspruch 12 ist eine Steuerung der Relativposition der zu justierenden Spiegel zueinander möglich. With an adjustment device according to claim 12, a control of the relative position of the mirror to be adjusted to each other is possible.
Mit einer Justagevorrichtung nach Anspruch 13 ist eine Regelung der Justage abhängig von dem mit dem Detektor erfaßten Justageparameter möglich. Die Justagevorrichtung kann insbesondere auch während des Betriebs für eine Optimierung der Relativposition der Spiegel innerhalb einer Anlage sorgen. With an adjustment device according to claim 13, a control of the adjustment is possible depending on the adjustment parameters detected with the detector. In particular, the adjustment device can also ensure, during operation, an optimization of the relative position of the mirrors within a system.
Die Vorteile einer Masken-Inspektionsvorrichtung nach Anspruch 14 entsprechen denen, die vorstehen unter Bezugnahme auf die Justagevorrichtung bereits erläutert wurden. The advantages of a mask inspection device according to claim 14 correspond to those which have already been explained above with reference to the adjustment device.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen: Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. In this show:
1 schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithografie mit einer primären Lichtquelle, einer Beleuchtungsoptik und einer Projektionsoptik; 1 schematically a projection exposure apparatus for the EUV projection lithography with a primary light source, an illumination optics and a projection optics;
2 schematisch einen Meridionalschnitt durch die Projektionsbelichtungsanlage nach 1, wobei ein Strahlengang für einige Teilstrahlen von Beleuchtungs- und Abbildungslicht im Detail hervorgehoben ist; 2 schematically a meridional section through the projection exposure system according to 1 wherein a beam path for some partial beams of illumination and imaging light is highlighted in detail;
3 schematisch einen Ausschnitt eines Beleuchtungs-systems der Beleuchtungsoptik nach 1 mit einer ersten Übertragungs-Teiloptik zur Erzeugung sekundärer Lichtquellen durch Abbildung der primären Lichtquelle, wobei ein Ausschnitt einer ersten Facettenspiegels mit reflektierender Wirkung stärker im Detail dargestellt ist, sodass Einzelspiegel, die der erste Facettenspiegel aufweist und die Einzelspiegel-Ausleuch-tungskanäle zur Führung des Beleuchtungslichts hin zu einem Beleuchtungsfeld der Projektionsbelichtungsanlage bereitstellen, voneinander getrennt zu sehen sind und wobei die Führung von Teilstrahlen zweier Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle hin zu einer Facette eines zweiten Facettenspiegels einer zweiten Übertragungs-Teiloptik zur Überführung des Beleuchtungslichts von den sekundären Lichtquellen in das Beleuchtungsfeld gezeigt ist; 3 schematically a section of a lighting system of the lighting system according to 1 with a first transmission sub-optics for generating secondary light sources by imaging the primary light source, wherein a section of a first facet mirror with reflective effect is shown in greater detail, so that individual mirror having the first facet mirror and the Einzelspiegel-Ausleuch tungskanäle for guiding the illumination light providing guidance to a field of illumination of the projection exposure apparatus, being shown separated from one another and wherein the guidance of partial beams of two single-mirror illumination channels towards a facet of a second facet mirror of a second transmission sub-optics is provided for transferring the illumination light from the secondary light sources into the illumination field;
4 eine Aufsicht auf einen Ausschnitt des ersten Facettenspiegels mit ersten Justagemarkierungen; 4 a plan view of a section of the first facet mirror with first Justagagierungen;
5 schematisch eine Justagevorrichtung zur Justage der beiden Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik, wobei sowohl die erste Justagemarkierung auf dem ersten Facettenspiegel als auch eine zweite Justagemarkierung auf dem zweiten Facettenspiegel jeweils durch eine periodische Abfolge von reflektierenden Justagemarkern ausgebildet ist, dargestellt in einer zueinander justierten Relativposition der beiden Facettenspiegel; 5 schematically an adjustment device for adjusting the two facet mirrors of the illumination optics, wherein both the first Justagemarkierung on the first facet mirror and a second Justagemarkierung on the second facet mirror each formed by a periodic sequence of reflective alignment markers, shown in a mutually adjusted relative position of the two facet mirror;
6 in einer zu 5 ähnlichen Darstellung die Justagevorrichtung mit dem zweiten Facettenspiegel dejustiert verkippt zum ersten Facettenspiegel; 6 in one too 5 similar representation of the adjustment device with the second facet mirror misaligned tilted to the first facet mirror;
7 in einer zu 5 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung der Justagevorrichtung, bei der die Periodizität der Justagemarker auf den beiden Facettenspiegeln zueinander verschieden ist und Justagestrahlungs-Teilbündel zwischen den Justagemarkern konvergent zueinander verlaufen; 7 in one too 5 a similar embodiment, a further embodiment of the adjustment device, in which the periodicity of the Justagemarker on the two facet mirrors is different from each other and Justagestrahlungs sub-beams between the alignment mark convergent to each other;
8 eine weitere Variante einer Justagevorrichtung zur Justage zweier Spiegel zueinander, wiederum am Beispiel der Justage der beiden Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik zueinander, wobei die erste Justagemarkierung ein Objekt darstellt, das durch den ersten zu justierenden Spiegel auf ein Bild in einer Anordnungsebene der zweiten Justagemarkierung abgebildet ist, wobei die zweite Justagemarkierung ortsfest mit dem zweiten zu justierenden Spiegel verbunden ist, dargestellt in einer zueinander justierten Relativposition der beiden zu justierenden Spiegel zueinander; und 8th a further variant of an adjustment device for adjusting two mirrors to one another, again using the example of the adjustment of the two facet mirrors of the illumination optical system, wherein the first adjustment mark represents an object which is imaged by the first mirror to be adjusted on an image in an arrangement plane of the second adjustment mark, wherein the second Justagemarkierung is fixedly connected to the second mirror to be adjusted, shown in a mutually adjusted relative position of the two mirrors to be adjusted to each other; and
9 in einer zur 8 ähnlichen Darstellung die Justagevorrichtung nach 8 mit zueinander längs einer Translationskoordinate dejustierten Spiegeln. 9 in a to 8th similar representation after the adjustment device 8th with mirrors misaligned along a translation coordinate.
1 zeigt eine schematische Darstellung einer Projektionslithographie-Projektionsbelichtungsanlage 1. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst unter anderem eine Lichtquelleneinheit 2 und eine Beleuchtungsoptik 3 zur Ausleuchtung eines Objektfeldes 4 in einer Objektebene 5, in der eine strukturtragende Maske 6 angeordnet ist, die auch als Retikel bezeichnet ist. Das Retikel 6 wird von einem Retikelhalter 7 gehalten. 1 shows a schematic representation of a projection lithography projection exposure apparatus 1 , The projection exposure machine 1 includes, inter alia, a light source unit 2 and a lighting optics 3 for illuminating an object field 4 in an object plane 5 in which a structural mask 6 is arranged, which is also referred to as a reticle. The reticle 6 is from a reticle holder 7 held.
Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 1 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem als globales Koordinatensystem der Projektionsbelichtungsanlage 1 eingezeichnet. Die x-Achse verläuft senkrecht zur Zeichenebene der 1 in diese hinein. Die y-Achse verläuft nach rechts. Die z-Achse verläuft nach unten. To facilitate the description of positional relationships is in the 1 a Cartesian xyz coordinate system as a global coordinate system of the projection exposure system 1 located. The x-axis is perpendicular to the plane of the 1 into this. The y-axis is to the right. The z-axis is down.
Mithilfe des einen Verlagerungsantrieb aufweisenden Retikelhalters 7 ist das Retikel in der Objektebene 5 in der y-Richtung verlagerbar. Using the reticle holder having a displacement drive 7 is the reticle in the object plane 5 displaceable in the y-direction.
Weiterer Bestandteil der Projektionsbelichtungsanlage 1 ist ein Projektionsobjektiv 8 zur Abbildung der strukturtragenden Maske 6 auf ein Substrat 9, den sogenannten Wafer. Dieses Substrat 9 enthält eine photosensitive Schicht, die bei der Belichtung chemisch verändert wird. Man spricht hierbei von einem lithografischen Schritt. Die strukturtragende Maske 6 ist dabei in der Objektebene 5 und das Substrat 9 in einer Bildebene 10 des Projektionsobjektivs 8 angeordnet. Während der Belichtung wird der Wafer 9 über einen einen weiteren Verlagerungsantrieb aufweisenden Waferhalter 11 ebenfalls längs der y-Richtung verlagert, und zwar synchron zur Verlagerung des Substrathalters 7. Bei der Belichtung wird das Objektfeld 4 in ein Bildfeld 10a in der Bildebene 10 abgebildet. Ein Strahlengang von Beleuchtungs- und Abbildungslicht 12 zwischen der Lichtquelleneinheit 2 und dem Wafer 9 ist in der 1 stark schematisch angedeutet. Das Beleuchtungslicht 12 wird nachfolgend auch als Nutzstrahlung bezeichnet. Another component of the projection exposure machine 1 is a projection lens 8th to image the structure-bearing mask 6 on a substrate 9 , the so-called wafer. This substrate 9 contains a photosensitive layer, which is chemically altered during exposure. This is called a lithographic step. The structure-bearing mask 6 is in the object plane 5 and the substrate 9 in an image plane 10 of the projection lens 8th arranged. During exposure, the wafer becomes 9 via a further displacement drive having wafer holder 11 also displaced along the y-direction, in synchronism with the displacement of the substrate holder 7 , During exposure, the object field becomes 4 in a picture field 10a in the picture plane 10 displayed. A beam path of illumination and imaging light 12 between the light source unit 2 and the wafer 9 is in the 1 strongly indicated schematically. The illumination light 12 is hereinafter also referred to as useful radiation.
Die Beleuchtungsoptik 3 und das Projektionsobjektiv 8 umfassen eine Mehrzahl von optischen Elementen. Diese optischen Elemente können dabei sowohl refraktiv als auch reflektiv ausgebildet sein. Auch Kombinationen von refraktiven und reflektiven optischen Elementen innerhalb der Beleuchtungsoptik 3 oder des Projektionsobjektivs 8 sind möglich. Gleichfalls kann die strukturtragende Maske 6 reflektiv oder transmissiv ausgebildet sein. Vollständig aus reflektiven Komponenten bestehen derartige Projektionsbelichtungsanlagen insbesondere dann, wenn sie mit einer Strahlung mit einer Wellenlänge < 193 nm, insbesondere mit einer Wellenlänge im extremen Ultraviolettbereich (EUV) von 5 bis 15 nm, betrieben werden. Projektionsbelichtungsanlagen 1 werden häufig als sogenannte Scanner betrieben. Das bedeutet, dass die strukturtragende Maske 6 durch ein schlitzförmiges Beleuchtungsfeld, das mit Objektfeld 4 zusammenfällt, entlang der Scanrichtung y bewegt wird, während das Substrat 9 in der Bildebene 10 des Projektionsobjektivs 8 synchron hierzu bewegt wird. Das Verhältnis der Geschwindigkeiten von strukturtragender Maske 6 und Substrat 9 entspricht dabei der Vergrößerung des Projektionsobjektivs 8, die üblicherweise kleiner als 1, insbesondere gleich ¼ ist. The illumination optics 3 and the projection lens 8th comprise a plurality of optical elements. These optical elements can be formed both refractive and reflective. Also combinations of refractive and reflective optical elements within the illumination optics 3 or the projection lens 8th are possible. Likewise, the structure-bearing mask 6 be formed reflective or transmissive. Such projection exposure systems consist entirely of reflective components, in particular if they are operated with radiation having a wavelength <193 nm, in particular having a wavelength in the extreme ultraviolet range (EUV) of 5 to 15 nm. Projection exposure systems 1 are often operated as so-called scanners. This means that the structure-bearing mask 6 through a slit-shaped illumination field, that with object field 4 coincides, is moved along the scanning direction y, while the substrate 9 in the picture plane 10 of the projection lens 8th is moved synchronously thereto. The ratio of velocities of structure-bearing mask 6 and substrate 9 corresponds to the magnification of the projection lens 8th , which is usually less than 1, in particular equal to ¼.
2 zeigt stärker im Detail eine Ausgestaltung der Projektionsbelichtungsanlage 1 mit der Beleuchtungsoptik 3 und dem Projektionsobjektiv 8. Die Beleuchtungsoptik 3 umfasst dabei eine erste Übertragungs-Teiloptik 13 zur Erzeugung sekundärer Lichtquellen 14 durch Abbildung einer primären Lichtquelle in Form eines Quellplasmas 15 der Lichtquelleneinheit 2. Zur ersten Übertragungs-Teiloptik 13 gehören ein ein- oder mehrteiliger Kollektorspiegel 16, der die EUV-Strahlung des Quellplasmas im Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 15 nm sammelt, und ein erster Facettenspiegel in Form eines Feldfacettenspiegels 17. Das Beleuchtungslicht 12 trifft auf den Feldfacettenspiegel 17 mit konvergentem Strahlengang. 2 shows more in detail an embodiment of the projection exposure system 1 with the illumination optics 3 and the projection lens 8th , The illumination optics 3 includes a first transmission sub-optics 13 for generating secondary light sources 14 by imaging a primary light source in the form of a source plasma 15 the light source unit 2 , To the first transmission part optics 13 include a one or more parts collector mirror 16 , which collects the EUV radiation of the source plasma in the wavelength range between 5 nm and 15 nm, and a first facet mirror in the form of a field facet mirror 17 , The illumination light 12 meets the field facet mirror 17 with convergent beam path.
Die Lichtquelleneinheit 2 kann in verschiedenen Ausführungsformen ausgebildet sein. Dargestellt ist eine Laserplasmaquelle (LPP). Bei diesem Quelltyp wird das eng begrenzte Quellplasma 15 erzeugt, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem Tröpfchengenerator 18 hergestellt wird und an einen vorbestimmten Ort verbracht wird. Dort wird das Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser 19 bestrahlt, sodass das Material in einen Plasmazustand übergeht und Strahlung im Wellenlängenbereich 5 bis 15 nm emittiert. Der Laser 19 ist dabei so angeordnet, dass die Laserstrahlung durch eine Öffnung 20 in dem Kollektorspiegel 16 fällt, bevor sie auf das Materialtröpfchen trifft. Als Laser 19 kommt zum Beispiel ein Infrarotlaser, insbesondere ein CO2-Laser, mit einer Wellenlänge von 10 µm zum Einsatz. Alternativ kann die Lichtquelleneinheit 2 auch als eine Entladungsquelle ausgebildet sein, bei der das Quellplasma 15 mithilfe einer Entladung erzeugt wird. The light source unit 2 may be formed in various embodiments. Shown is a laser plasma source (LPP). This source type becomes the narrow source plasma 15 generated by placing a small droplet of material with a droplet generator 18 is made and placed in a predetermined location. There, the material droplets with a high-energy laser 19 irradiated, so that the material passes into a plasma state and emits radiation in the wavelength range 5 to 15 nm. The laser 19 is arranged so that the laser radiation through an opening 20 in the collector mirror 16 falls before it hits the droplet of material. As a laser 19 For example, an infrared laser, in particular a CO 2 laser, with a wavelength of 10 μm is used. Alternatively, the light source unit 2 also be designed as a discharge source in which the source plasma 15 generated by means of a discharge.
Der erste Facettenspiegel 17 hat Einzelspiegel 21 (vgl. 3), die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 zur Führung des Beleuchtungslichts 12 zum Beleuchtungsfeld 4 bereitstellen. Die Einzelspiegel 21 können sowohl mit ebenen Reflexionsflächen als auch mit gekrümmten Reflexionsflächen ausgeführt sein. Krümmungsradien der Reflexionsflächen der Einzelspiegel 21 können von Einzelspiegel 21 zu Einzelspiegel 21 verschieden sein. Die Einzelspiegel 21 haben eine Spiegelfläche derart, dass die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 im Beleuchtungsfeld 4 Beleuchtungsfeldabschnitte beleuchten, die kleiner sind als das gesamte Beleuchtungsfeld 4. In der 2 sind nicht die einzelnen Einzelspiegel 21, sondern Gruppen 23 von Einzelspiegeln dargestellt, wobei die Einzelspiegel 21 jeweils einer der Gruppen 23 Beleuchtungsfeldabschnitte beleuchten, die sich zum gesamten Beleuchtungsfeld 4 ergänzen. Die Krümmungsradien der Einzelspiegel 21 können von Gruppe 23 zu Gruppe 23 verschieden sein. The first facet mirror 17 has individual mirrors 21 (see. 3 ), the single-mirror illumination channels 22 for guiding the illumination light 12 to the lighting field 4 provide. The individual mirrors 21 can be designed both with flat reflecting surfaces and with curved reflecting surfaces. Curvature radii of the reflection surfaces of the individual mirrors 21 can of individual mirrors 21 to individual mirror 21 to be different. The individual mirrors 21 have a mirror surface such that the individual mirror illumination channels 22 in the lighting field 4 Illuminate illumination field sections that are smaller than the entire illumination field 4 , In the 2 are not the individual individual mirrors 21 but groups 23 represented by individual mirrors, wherein the individual mirrors 21 each one of the groups 23 Lighting field sections illuminate that form the entire lighting field 4 complete. The radii of curvature of the individual mirrors 21 can by group 23 to group 23 to be different.
Im Strahlengang nach der ersten Übertragungs-Teiloptik 13 hat die Beleuchtungsoptik 3 eine zweite Übertragungs-Teiloptik 24 zur Überführung des Beleuchtungslichts 12 von den sekundären Lichtquellen 14 in das Beleuchtungsfeld 4. Die zweite Übertragungs-Teiloptik 24 hat einen zweiten Facettenspiegel 25 in Form eines Pupillenfacettenspiegels, der dem ersten Facettenspiegel 17 im Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 nachgeordnet ist. Die sekundären Lichtquellen 14 werden im Bereich einer Reflexion des Beleuchtungslichts 12 am zweiten Facettenspiegel 25 erzeugt. Der Pupillenfacettenspiegel 25 hat eine Mehrzahl von Pupillenfacetten 26, die auch als zweite Facetten bezeichnet werden. In the beam path after the first transmission sub-optics 13 has the illumination optics 3 a second transmission sub-optics 24 to the overpass of the illumination light 12 from the secondary light sources 14 in the lighting field 4 , The second transmission sub-optics 24 has a second facet mirror 25 in the form of a pupil facet mirror corresponding to the first facet mirror 17 in the beam path of the illumination light 12 is subordinate. The secondary light sources 14 be in the range of a reflection of the illumination light 12 at the second facet mirror 25 generated. The pupil facet mirror 25 has a plurality of pupil facets 26 , which are also referred to as second facets.
Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 25 sind ein erster Teleskopspiegel 27 und ein zweiter Teleskopspiegel 28 angeordnet, die beide im Bereich eines senkrechten Einfalls betrieben werden, das heißt, das Beleuchtungslicht 12 trifft einem Einfallswinkel zwischen 0° und 45° auf beide Spiegel 27, 28. Unter dem Einfallswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender Strahlung und der Normalen zur reflektiven optischen Fläche verstanden. Nachfolgend im Strahlengang ist ein Umlenkspiegel 29 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf das Objektfeld 4 in der Objektebene 5 lenkt. Der Umlenkspiegel 29 wird unter streifenden Einfall betrieben, das heißt, das Beleuchtungslicht 12 trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 45° und 90° auf den Spiegel. Am Ort des Objektfeldes 4 ist die reflektive strukturtragende Maske 6 angeordnet, die mithilfe des Projektionsobjektivs 8 in das Bildfeld 10a in der Bildebene 10 abgebildet wird. Das Projektionsobjektiv 8 umfasst sechs Spiegel M1, M2, M3, M4, M5 und M6, die in der Reihenfolge des Strahlengangs des Abbildungslichts 3 durchnummeriert sind. Alle sechs Spiegel M1 bis M6 des Projektionsobjektivs 8 weisen jeweils eine reflektive optische Fläche auf, die entlang einer um die optische Achse oA rotationssymmetrischen Fläche verläuft. In the light path after the pupil facet mirror 25 are a first telescope mirror 27 and a second telescope mirror 28 arranged, both operated in the region of a vertical incidence, that is, the illumination light 12 meets an angle of incidence between 0 ° and 45 ° on both mirrors 27 . 28 , The angle of incidence is understood to mean the angle between incident radiation and the normal to the reflective optical surface. Following in the beam path is a deflection mirror 29 arranged, the radiation striking him on the object field 4 in the object plane 5 directs. The deflection mirror 29 is operated under grazing incidence, that is, the illumination light 12 hits the mirror at an angle of incidence between 45 ° and 90 °. At the place of the object field 4 is the reflective structure-bearing mask 6 arranged using the projection lens 8th in the picture field 10a in the picture plane 10 is shown. The projection lens 8th comprises six mirrors M1, M2, M3, M4, M5 and M6 arranged in the order of the optical path of the imaging light 3 are numbered. All six mirrors M1 to M6 of the projection lens 8th each have a reflective optical surface extending along a rotationally symmetric surface about the optical axis oA.
3 zeigt einen Ausschnitt der Beleuchtungsoptik 3 zwischen dem Quellplasma 15 der Lichtquelle und einer der Pupillenfacetten 26 des Pupillenfacettenspiegels 25. Dargestellt sind in der 3 die Komponenten der ersten Übertragungs-Teiloptik 13 und zusätzlich eine der Einzelspiegel-Gruppen 23 des Feldfacettenspiegels 17. Dargestellt ist ferner der Verlauf mehrerer ausgewählter Einzelstrahlen des Beleuchtungslichts 12, die der dargestellten Spiegelgruppe 23 des Feldfacettenspiegels 17 zugeordnet sind. 3 shows a section of the illumination optics 3 between the source plasma 15 the light source and one of the pupil facets 26 of the pupil facet mirror 25 , Shown in the 3 the components of the first transmission sub-optics 13 and additionally one of the individual mirror groups 23 of the field facet mirror 17 , Also shown is the course of several selected individual beams of the illumination light 12 , that of the displayed mirror group 23 of the field facet mirror 17 assigned.
Je nach Ausführung der Beleuchtungsoptik 3 hat der Feldfacettenspiegel 17 eine abbildende Wirkung oder eine rein umlenkende Wirkung für das Beleuchtungslicht 12. Die Pupillenfacetten 26 der Pupillenfacetten 26 sind in der 3 durch eine konkav gekrümmte Spiegelfläche dargestellt. Depending on the design of the illumination optics 3 has the field facet mirror 17 an imaging effect or a purely deflecting effect for the illumination light 12 , The pupil facets 26 the pupil facets 26 are in the 3 represented by a concave curved mirror surface.
Aus der Darstellung nach 3 wird deutlich, dass bei der ersten Übertragungs-Teiloptik 13 der Kollektorspiegel 16 die primäre Lichtquelle, also das Quellplasma 15, auf die sekundäre Lichtquelle 14 im Bereich der Pupillenfacette 26 abbildet, die über einen Gruppen-Ausleuchtungskanal den Einzelspiegel 21 der Spiegelgruppe 23 zugeordnet ist. Zu dem Gruppen-Ausleuchtungskanal gehören die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 der Einzelspiegel 21 dieser Spiegelgruppe 23. Zu dieser Abbildung trägt der Feldfacettenspiegel 17 außer einer reinen Strahlumlenkung nichts bei. From the illustration to 3 becomes clear that at the first transmission sub-optics 13 the collector mirror 16 the primary light source, ie the source plasma 15 , on the secondary light source 14 in the area of the pupil facet 26 depicts the single mirror via a group illumination channel 21 the mirror group 23 assigned. The group illumination channel includes the individual mirror illumination channels 22 the individual mirror 21 this mirror group 23 , The field facet mirror bears this illustration 17 nothing but a pure beam deflection.
Die sekundären Lichtquellen 14 stellen bei dieser Abbildung ein erstes Lichtquellen-Bild im Strahlengang des Beleuchtungslichts 2 nach der primären Lichtquelle, also nach dem Quellplasma 15, dar. The secondary light sources 14 make in this figure, a first light source image in the beam path of the illumination light 2 after the primary light source, ie after the source plasma 15 , dar.
Tatsächlich wird, wie aus der 2 zu entnehmen ist, jede der Spiegelgruppen 23 mit dem Beleuchtungslicht beleuchtet und bildet jeweils das Quellplasma 15 auf eine ausgewählte der Pupillenfacetten 26 des Pupillenfacettenspiegels 25 in Form einer sekundären Lichtquelle 14 ab. Die sekundären Lichtquellen 14 müssen nicht exakt am Punkt der Reflexion an den Pupillenfacetten 26 liegen, sondern können auch im Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 benachbart zur Reflexion an den Pupillenfacetten 26 entstehen. Actually, as from the 2 it can be seen, each of the mirror groups 23 illuminated with the illumination light and forms each of the source plasma 15 on a selected one of the pupil facets 26 of the pupil facet mirror 25 in the form of a secondary light source 14 from. The secondary light sources 14 do not have to be exact at the point of reflection on the pupil facets 26 lie, but also in the beam path of the illumination light 12 adjacent to the reflection on the pupil facets 26 arise.
Jede der Spiegelgruppen 23 des Feldfacettenspiegels 17 hat eine Mehrzahl der Einzelspiegel 21. Über die jeweiligen Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 reflektieren die Einzelspiegel 21 jeweils das Beleuchtungslicht 12 in Beleuchtungsfeldabschnitte, die kleiner sind als das gesamte Beleuchtungsfeld bzw. Objektfeld 4 und sich für die Einzelspiegel 21 jeweils einer der Spiegelgruppen 23 zum gesamten Objektfeld 4 ergänzen. Eine der Spiegelgruppen 23 hat also die Funktion einer Feldfacette eines Feldfacettenspiegels bzw. eines ersten Rasterelements beispielsweise nach der US 6,438,199 B1 oder der US 6,658,084 B2 . Eine entsprechende Unterteilung von Feldfacetten in Einzelspiegel, sodass die Wirkung einer Einzelspiegel-Gruppe der Wirkung einer Feldfacette entspricht, ist bekannt aus der DE 10 2008 009 600 A . Each of the mirror groups 23 of the field facet mirror 17 has a majority of individual levels 21 , About the respective individual mirror illumination channels 22 reflect the individual mirrors 21 each the illumination light 12 in illumination field sections that are smaller than the entire illumination field or object field 4 and for the individual mirror 21 one each of the mirror groups 23 to the entire object field 4 complete. One of the mirror groups 23 So has the function of a field facet of a field facet mirror or a first raster element, for example, after the US Pat. No. 6,438,199 B1 or the US 6,658,084 B2 , A corresponding subdivision of field facets into individual mirrors, so that the effect of an individual mirror group corresponds to the effect of a field facet, is known from US Pat DE 10 2008 009 600 A ,
Die Einzelspiegel 21 jeweils einer der Spiegelgruppen 23 sind über ihre jeweiligen Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 genau einer Pupillenfacette 26, also einer der Facetten des zweiten Facettenspiegels 25, zugeordnet. Innerhalb einer solchen Spiegelgruppe 23 können mehr als zehn Einzelspiegel 21, mehr als fünfundzwanzig Einzelspiegel 21, mehr als fünfzig Einzelspiegel 21 oder auch mehr als einhundert Einzelspiegel 21 vorliegen. The individual mirrors 21 one each of the mirror groups 23 are above their respective individual mirror illumination channels 22 exactly one pupil facet 26 , that is one of the facets of the second facet mirror 25 , assigned. Within such a mirror group 23 can have more than ten individual mirrors 21 , more than twenty-five individual mirrors 21 , more than fifty individual mirrors 21 or even more than a hundred individual mirrors 21 available.
Bei einer Ausführung der Beleuchtungsoptik 3 steht jeder der Einzelspiegel 21 mit einem zugeordneten Aktor 30 zur Kippverlagerung des jeweiligen Einzelspiegels 21 in mechanischer Wirkverbindung, was in 3 beispielhaft für einen der Einzelspiegel 21 dargestellt ist. Über die Aktoren 30 sind die Einzelspiegel 21 derart zwischen mindestens zwei Kippstellungen verkippbar, dass in einer ersten der Kippstellungen der Einzelspiegel 21 eine erste Ausleuchtungsverteilung der Facetten 26 des zweiten Facettenspiegels 25 und in einer zweiten der Kippstellungen der Einzelspiegel 21 eine zweite Ausleuchtungsverteilung der Facetten 26 des zweiten Facettenspiegels 25 über die jeweils über die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 22 zugeordneten Einzelspiegel 21 ausgeleuchtet wird. In der Kippstellung der Einzelspiegel 21 nach 3 lenken die Einzelspiegel 21 der dargestellten Einzelspiegel-Gruppe 23 das Beleuchtungslicht 12 auf genau eine der Pupillenfacetten 26, die in der 3 als Pupillenfacette 26 1 ausgezeichnet ist. Diese Ausleuchtung ist für genau zwei der Einzelspiegel 21 gezeigt. In one embodiment of the illumination optics 3 each one stands for the individual mirror 21 with an associated actuator 30 for tilting displacement of the respective individual mirror 21 in mechanical operative connection, resulting in 3 exemplary for one of the individual mirrors 21 is shown. About the actors 30 are the individual mirrors 21 tilted between at least two tilted positions such that in a first of the tilted positions of the individual mirror 21 a first illumination distribution of the facets 26 of the second facet mirror 25 and in a second of the tilt positions of the individual mirror 21 a second illumination distribution of the facets 26 of the second facet mirror 25 via each via the individual mirror illumination channels 22 associated individual mirror 21 is illuminated. In the tilted position of the individual mirrors 21 to 3 steer the individual mirrors 21 the illustrated individual mirror group 23 the illumination light 12 on exactly one of the pupil facets 26 in the 3 as a pupil facet 26 1 is excellent. This illumination is for exactly two of the individual mirrors 21 shown.
Die Aktoren 30 der Einzelspiegel 21 stehen mit einer zentralen Steuereinrichtung 31 in nicht dargestellter Weise in Signalverbindung. Die Steuereinrichtung 31 gibt die jeweiligen Kippstellungen der Einzelspiegel 21 vor. The actors 30 the individual mirror 21 stand with a central control device 31 in a manner not shown in signal connection. The control device 31 gives the respective tilt positions of the individual mirrors 21 in front.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 3 ist die jeweilige Spiegelgruppe 23 monolithisch ausgeführt. Die Einzelspiegel 21 der Spiegelgruppe 23 sind dann individuell verkippt und können je nach Krümmung der Reflexionsflächen der Spiegel 21 eine unterschiedliche bündelführende Wirkung haben, sind jedoch nicht individuell aktuierbar. In diesem Fall ist jede der Spiegelgruppen 23 mit einem Gruppen-Aktor zur gemeinsamen Verkippung aller Einzelspiegel 21 ausgerüstet. In a further embodiment of the illumination optics 3 is the respective mirror group 23 executed monolithic. The individual mirrors 21 the mirror group 23 are then individually tilted and can, depending on the curvature of the reflection surfaces of the mirror 21 have a different bundling effect, but are not individually actuable. In this case, each of the mirror groups 23 with a group actuator for common tilting of all individual mirrors 21 equipped.
Die Pupillenfacetten 26 des Pupillenfacettenspiegels 25 liegen in einer Beleuchtungs-Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 3. The pupil facets 26 of the pupil facet mirror 25 lie in an illumination pupil plane of the illumination optics 3 ,
Die Größe der Einzelspiegel 21 ist in der 3 stark übertrieben dargestellt, da das Verhältnis aus der Größe des jeweiligen Einzelspiegels 21 und des Abstandes zwischen dem Kollektor 16 und dem Feldfacettenspiegel 17 mit den Spiegelgruppen 23 in der Praxis viel kleiner ist als in der schematischen 4 dargestellt. The size of the individual mirror 21 is in the 3 shown greatly exaggerated, since the ratio of the size of each individual mirror 21 and the distance between the collector 16 and the field facet mirror 17 with the mirror groups 23 much smaller in practice than in the schematic 4 shown.
5 zeigt eine Justagevorrichtung 32 zur Justage von Spiegeln zur Bündelführung von Strahlung längs eines Strahlengangs am Beispiel der Justage des Feldfacettenspiegels 17 relativ zum Pupillenfacettenspiegel 25. In gleicher Weise, wie dies nachfolgend anhand dieser beiden Spiegel 17, 25 erläutert wird, können mit der Justagevorrichtung 32 beliebige Paare von in einem Strahlengang zur Führung von Nutzstrahlung mit einander nachgeordneten Spiegeln in ihrer Relativposition zueinander justiert werden. Beispiele für derartige Spiegelpaare sind die Spiegel der Beleuchtungsoptik 3 oder die Spiegel der Projektionsoptik 8 der Projektionsbelichtungsanlage 1. 5 shows an adjustment device 32 for the adjustment of mirrors for the bundle guidance of radiation along a beam path on the example of the adjustment of the field facet mirror 17 relative to the pupil facet mirror 25 , In the same way as below with reference to these two mirrors 17 . 25 can be explained with the adjustment device 32 any pairs of in a beam path for guiding useful radiation with each other downstream mirrors are adjusted in their relative position to each other. Examples of such pairs of mirrors are the mirrors of the illumination optics 3 or the mirrors of the projection optics 8th the projection exposure system 1 ,
Die Justagevorrichtung 32 hat eine erste Justagemarkierung 33 in Form einer periodischen Abfolge von reflektierenden ersten Justagemarkern 34 längs einer Markerdimension MD auf dem Feldfacettenspiegel 17, also auf den im Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 führenden Spiegel. Bei der Markerdimension MD kann es sich um eine Dimension parallel zur x- oder zur y-Koordinate handeln, wie in der 5 durch das schematisch eingetragene kartesische xyz-Koordinatensystem angedeutet. The adjustment device 32 has a first adjustment mark 33 in the form of a periodic sequence of reflective first alignment markers 34 along a marker dimension MD on the field facet mirror 17 , that is to say in the beam path of the illumination light 12 leading mirror. The marker dimension MD can be a dimension parallel to the x or the y coordinate, as in FIG 5 indicated by the schematically entered Cartesian xyz coordinate system.
4 zeigt eine Aufsicht auf den Feldfacettenspiegel 17. Dargestellt ist ein Ausschnitt einer Tragplatte 35 des Feldfacettenspiegels 17 mit einer hierauf angeordneten und beispielhaft dargestellten Spiegelgruppe 23 mit Einzelspiegeln 21 und einigen Justagemarkern 34 der Justagemarkierung 33. 4 shows a plan view of the field facet mirror 17 , Shown is a section of a support plate 35 of the field facet mirror 17 with a mirror group arranged thereon and exemplified 23 with individual mirrors 21 and some adjustment markers 34 the adjustment mark 33 ,
Die Justagemarker 34 haben in der Ebene der Tragplatte 35 eine Erstreckung ihrer jeweiligen Reflexionsfläche, die so groß ist, dass auch bei einer Justagewellenlänge von Justagestrahlung 36, die über den Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 geführt ist, die wesentlich größer ist als die Wellenlänge des Beleuchtungslichts 12, keine Beugungseffekte an den Justagemarkern 34 auftreten. Die Justagestrahlung 36 hat eine Wellenlänge von beispielsweise 193 nm, also eine Wellenlänge, die um etwa einen Faktor 10 größer ist als die Wellenlänge des Beleuchtungslichts 12. Die Justagemarker 34 haben x- und y-Erstreckungen von beispielsweise 10 µm, können also als quadratische Spiegelchen auf der Tragplatte 35 mit Reflexionsflächen mit Ausdehnungen in 10 µm × 10 µm ausgebildet sein. Auch größere Reflexionsflächen der Justagemarker 34 sind möglich, beispielsweise mit typischen Kantenlängen von 50 µm, 100 µm, 250 µm, 500 µm, 1mm, 2mm oder 5 mm. The adjustment markers 34 have in the plane of the support plate 35 an extension of their respective reflection surface, which is so large that even at an adjustment wavelength of Justagestrahlung 36 passing over the beam path of the illumination light 12 is guided, which is substantially greater than the wavelength of the illumination light 12 , no diffraction effects at the adjustment markers 34 occur. The adjustment radiation 36 has a wavelength of, for example, 193 nm, that is, a wavelength which is larger by a factor of about 10 than the wavelength of the illumination light 12 , The adjustment markers 34 have x and y extensions of, for example, 10 microns, so can as square mirrors on the support plate 35 be formed with reflective surfaces with dimensions in 10 microns × 10 microns. Also larger reflecting surfaces of the adjustment markers 34 are possible, for example, with typical edge lengths of 50 microns, 100 microns, 250 microns, 500 microns, 1mm, 2mm or 5 mm.
Die Justagestrahlung 36 wird von einer Justagestrahlungsquelle 37 (vgl. 5) erzeugt und über einen beispielsweise einklappbaren Einkoppelspiegel 38, der in Justagepausen außerhalb der Betriebszeiten der Projektionsbelichtungsanlage 1 in den Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 eingeklappt wird, in den Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 eingekoppelt. The adjustment radiation 36 is from an adjustment radiation source 37 (see. 5 ) generated and via an example einklappbaren Einkoppelspiegel 38 in adjustment pauses outside the operating hours of the projection exposure system 1 in the beam path of the illumination light 12 is folded into the beam path of the illumination light 12 coupled.
Zur Justagevorrichtung 32 gehört weiterhin eine zweite Justagemarkierung 39 auf dem Pupillenfacettenspiegel 25. Die zweite Justagemarkierung 39 ist ebenfalls durch eine periodische Abfolge von reflektierenden zweiten Justagemarkern 40 längs einer Markerdimension MD auf den Pupillenfacettenspiegel 25, also auf den im Strahlengang des Beleuchtungslichts 12 und der Justagestrahlung 36 nachfolgenden Spiegel der zu justierenden Spiegel, ausgebildet. Bei wie in der 5 dargestellt korrekter Justage der beiden Spiegel 17, 25 zueinander laufen die beiden Markerdimensionen MD der Justagemarkierungen 33, 39 parallel zueinander und beispielsweise relativ zu x-Richtung oder parallel zur y-Richtung. Sowohl die Justagemarker 34 als auch die Justagemarker 40 haben plane Reflexionsflächen. To the adjustment device 32 still has a second adjustment mark 39 on the pupil facet mirror 25 , The second adjustment mark 39 is also due to a periodic sequence of reflective second alignment markers 40 along a marker dimension MD on the pupil facet mirror 25 , that is to say in the beam path of the illumination light 12 and the adjustment radiation 36 following level of mirrors to be adjusted, educated. Like in the 5 shown correct adjustment of the two mirrors 17 . 25 the two marker dimensions MD of the alignment markings run to each other 33 . 39 parallel to each other and, for example, relative to the x-direction or parallel to the y-direction. Both the adjustment markers 34 as well as the adjustment markers 40 have plane reflection surfaces.
Die Justagemarker 34 reflektieren die Justagestrahlung 36 so, dass Justagestrahlungs-Teilbündel 41 der Justagestrahlung 36 zwischen den Justagemarkern 33, 39 parallel zueinander verlaufen. Bei der Ausführung der Justagevorrichtung 32 nach den 5 und 6 ist die Periodizität P0 der Justagemarker 34 und 40 der Justagemarkierungen 33 und 39 gleich. Bei gemäß 5 justierten Spiegeln 17, 25 ist eine effektive Periode einer Gesamtheit 42 der Justagestrahlungs-Teilbündel 41 auf dem Pupillenfacettenspiegel 25 genauso groß wie die Periode P0der Justagemarker 40 der zweiten Justagemarkierung 39. Zudem sind bei korrekter Justage der Spiegel 17, 25 zueinander die Justagemarker 40 der zweiten Justagemarkierung 39 sowohl in der x-Richtung als auch in der y-Richtung exakt so zu den Justagestrahlungs-Teilbündeln 41 ausgerichtet, dass letztere mit höchster Reflektivität von den Justagemarkern 40 hin zu einem ortsauflösenden Detektor 43 in Form einer Kamera reflektiert werden. The adjustment markers 34 reflect the adjustment radiation 36 such that adjustment irradiation sub bundle 41 the adjustment radiation 36 between the adjustment markers 33 . 39 parallel to each other. In the execution of the adjustment device 32 after the 5 and 6 is the periodicity P 0 the adjustment markers 34 and 40 the adjustment marks 33 and 39 equal. In accordance with 5 adjusted mirrors 17 . 25 is an effective period of a totality 42 the adjustment radiation sub bundle 41 on the pupil facet mirror 25 the same as the period P 0 of the adjustment markers 40 the second adjustment mark 39 , In addition, with correct adjustment of the mirror 17 . 25 to each other the adjustment markers 40 the second adjustment mark 39 in both the x-direction and in the y-direction exactly the same to the Justagestrahlungs sub-beams 41 aligned, the latter with the highest reflectivity from the alignment markers 40 towards a spatially resolving detector 43 be reflected in the form of a camera.
Die Ausrichtung der Justagemarker 40 ist so, dass die Justagestrahlungs-Teilbündel 41 auch nach Reflexion an den Justagemarkern 40 parallel zueinander verlaufen. The alignment of the adjustment markers 40 is such that the adjustment beam subbands 41 also after reflection at the adjustment markers 40 parallel to each other.
Als Justageparameter, den die Kamera 43 erfasst, dient eine Strahlungsintensität I der Gesamtheit 42 der Justagestrahlungs-Teilbündel 41, die von den ersten Justagemarkern 34 und nachfolgend von den zweiten Justagemarkern 40 reflektiert ist. Bei perfekter Justage der beiden Spiegel 17, 25 zueinander hat die längs der Markerdimension MD, die längs der x-Achse bzw. längs der y-Achse verlaufen kann, mit der Kamera 43 erfasste Strahlungsintensität ein Top Hat-Profil I (x, y), wobei eine erfasste Intensität I0 einen vorbestimmten Wert erreicht (vgl. 5). Eine Dejustage liegt vor, wenn in einem vorgegebenen Detektionsbereich der Kamera 43 der Strahlungsintensitätswert I = I0 nicht erreicht wird und/oder wenn das gemessene Strahlungsintensitätsprofil kein Top Hat-Profil ist. As an adjustment parameter, the camera 43 detects, serves a radiation intensity I of the whole 42 the adjustment radiation sub bundle 41 that from the first adjustment markers 34 and subsequently from the second adjustment markers 40 is reflected. With perfect adjustment of the two mirrors 17 . 25 to each other along the marker dimension MD, which can extend along the x-axis or along the y-axis, with the camera 43 detected radiation intensity has a top hat profile I (x, y), wherein a detected intensity I 0 reaches a predetermined value (see. 5 ). A misalignment exists when in a predetermined detection range of the camera 43 the radiation intensity value I = I 0 is not reached and / or if the measured radiation intensity profile is not a top hat profile.
6 verdeutlicht die Auswirkungen einer Kipp-Dejustage des Spiegels 25 relativ zum Spiegel 17 um einen Kippwinkel a. Hierdurch verkleinert sich eine effektive Periode Peff der Justagemarker 40 der zweiten Justagemarkierung 39 auf einen Wert Peff = P0 × cosa, wobei P0 die Periode der Justagemarker 40 der zweiten Justagemarkierung 39 längs der Markerdimension ist. Entsprechend wird nur ein Teil der Gesamtheit der Justagestrahlungs-Teilbündel 41, die auf den Pupillenfacettenspiegel 25 treffen, von den Justagemarkern 40 mit höchster Reflektivität reflektiert. Im Beispiel nach der 6 ist dies ein mittleres Justage-Strahlungsteilbündel 41 m. Je weiter die anderen Justagestrahlungs-Teilbündel 41 von diesem mittleren Justage-Strahlungsteilbündel 41 m entfernt sind, desto geringer ist eine Reflexionseffizienz der Justage-Strahlungsteilbündel 41 an den Justagemarkern 40. Dies liegt daran, dass für die Periodizitäten gilt: Peff < P0. Es ergibt sich als Justageparameter auf dem Bildfeld der Kamera 43 ein Strahlungsintensitätsprofil, das in der 6 unterhalb der Kamera 43 dargestellt ist. Solange der Spitzenintensitätswert I0 noch erreicht wird, lässt sich diesem in etwa gaußförmigen Strahlungsintensitätsprofil noch entnehmen, dass ausschließlich eine Kipp-Dejustage vorliegt. Wenn der Intensitäts-Maximalwert beim Strahlungsintensitätsprofil nach 6, I0, nicht mehr erreicht wird, stellt dies ein Indiz dafür da, dass neben einer Kipp-Dejustage auch eine Translationsdejustage vorliegt, da dann keines der Justage-Teilbündel mit höchster Reflektivität an den Justagemarkern 34 bzw. 40 reflektiert wird. 6 illustrates the effects of tilting misalignment of the mirror 25 relative to the mirror 17 by a tilt angle a. This reduces an effective period P eff of the adjustment markers 40 the second adjustment mark 39 to a value P eff = P 0 × cosa, where P 0 is the period of the adjustment markers 40 the second adjustment mark 39 along the marker dimension. Accordingly, only part of the entirety of the adjustment irradiation sub-beams becomes 41 pointing to the pupil facet mirror 25 meet, from the alignment markers 40 reflected with highest reflectivity. In the example after the 6 this is a middle adjustment radiation subset 41 m . The farther the other adjustment radiation subbundles 41 from this middle adjustment radiation sub-beam 41 m are removed, the lower is a reflection efficiency of the adjustment radiation sub-beams 41 at the adjustment markers 40 , This is because for the periodicities: P eff <P 0 . It results as an adjustment parameter on the image field of the camera 43 a radiation intensity profile found in the 6 below the camera 43 is shown. As long as the peak intensity value I 0 is still reached, it can be deduced from this approximately Gaussian radiation intensity profile that there is only one tilting misalignment. If the intensity maximum value in the radiation intensity profile after 6 , I 0 , is no longer achieved, this is an indication that in addition to a tilting misalignment also a translation adjustment is present, because then none of the adjustment sub-beams with the highest reflectivity on the alignment markers 34 respectively. 40 is reflected.
Die Justagemarker 34 bzw. 40 können durch Justagefacetten gebildet sein, die außerhalb eines Bündelführungs-Nutzbereiches der zu justierenden Spiegel 17, 25 angeordnet sind. Eine Grenze dieses Bündelführungs-Nutzbereiches ist in der 4 durch eine strichpunktierte Linie zwischen den außerhalb des Bündelführungs-Nutzbereiches angeordneten Justagemarkern 34 und den innerhalb des Bündelführungs-Nutzbereiches angeordneten Spiegelgruppen 23 angedeutet. The adjustment markers 34 respectively. 40 may be formed by Justagefacetten that outside a bundle guide useful range of the mirror to be adjusted 17 . 25 are arranged. One limit of this bundle management payload is in the 4 by a dash-dotted line between the outside of the bundle guide-Nutzbereiches arranged alignment markers 34 and the mirror groups arranged within the bundle routing payload area 23 indicated.
Die Justagemarker 40 sind entsprechend dem, was vorstehend im Zusammenhang mit der 4 und dem Feldfacettenspiegel 17 erläutert wurde, auf einer Tragplatte des Pupillenfacettenspiegels 25 außerhalb eines Bündelführungs-Nutzbereichs angeordnet, in dem die Pupillenfacetten 26 des Pupillenfacettenspiegels 26 angeordnet sind. The adjustment markers 40 are in accordance with what is above in connection with the 4 and the field facet mirror 17 has been explained on a support plate of the pupil facet mirror 25 disposed outside of a bundle guide payload area in which the pupil facets 26 of the pupil facet mirror 26 are arranged.
Zur Justagevorrichtung 32 gehören weiterhin ein erster Verlagerungsantrieb 44 zur Verlagerung des Feldfacettenspiegels 17, der mechanisch mit der Tragplatte 35 verbunden ist, und ein zweiter Verlagerungsantrieb 45 zum Verlagern des Pupillenfacettenspiegels 25, der mit dessen Tragplatte mechanisch verbunden ist. Die beiden Verlagerungsantriebe 44 und 45 sowie die Kamera 43 stehen mit der Steuer-/Regeleinheit 31 in Signalverbindung, was in der 5 nicht im Einzelnen dargestellt ist. To the adjustment device 32 continue to be a first relocation drive 44 for shifting the field facet mirror 17 that mechanically with the support plate 35 connected, and a second displacement drive 45 for displacing the pupil facet mirror 25 , which is mechanically connected to the support plate. The two displacement drives 44 and 45 as well as the camera 43 stand with the control unit 31 in signal connection, resulting in the 5 is not shown in detail.
In der Steuer-/Regeleinheit 31 ist eine Look up-Tabelle abgelegt, die bestimmten Relativverlagerungen zwischen den Spiegeln 17, 25, die über die Verlagerungsantriebe 44, 45 vorgegeben werden können, bestimmte Änderungsmuster für das mit der Kamera 43 gemessene Strahlungsintensitätsprofil zugeordnet sind. Zur Justage der beiden Spiegel 17, 25 zueinander werden einige Testverlagerungen der Spiegel 17, 25 zueinander durchgespielt und die hierbei gemessenen Spiegelintensitätsprofiländerungen werden mit den Verlagerungsmustern der Look up-Tabelle ermittelt. Hieraus ermittelt die Steuer-/Regeleinrichtung 31 eine Ist-Position der beiden Spiegel 17, 25 und steuert anschließend die Verlagerungsantriebe 44, 45 so an, dass diese Ist-Positionen der Spiegel 17, 25 mit vorher vorgegebenen, perfekt justierten Soll-Positionen übereinstimmen. Auf diese Weise werden die Spiegel 17, 25 justiert. Die Relativposition der Justagemarkierungen 33 zueinander ist ein Maß für den Justageparameter für die Übereinstimmung einer Ist-Justageposition der zu justierenden Spiegel 17, 25 mit einer Soll-Justageposition. In the control unit 31 is a look up table filed, the specific relative displacements between the mirrors 17 . 25 that about the displacement drives 44 . 45 can be given certain patterns of change for the camera 43 measured Radiation intensity profile are assigned. For adjusting the two mirrors 17 . 25 to each other, some test displacements of the mirror 17 . 25 played through to each other and measured in this case mirror intensity profile changes are determined with the displacement patterns of the look-up table. From this determines the control / regulating device 31 an actual position of the two mirrors 17 . 25 and then controls the displacement drives 44 . 45 so that these actual positions of the mirror 17 . 25 agree with previously specified, perfectly adjusted nominal positions. That way, the mirrors become 17 . 25 adjusted. The relative position of the adjustment marks 33 to each other is a measure of the adjustment parameters for the match of an actual adjustment position of the mirror to be adjusted 17 . 25 with a desired adjustment position.
7 zeigt eine weitere Ausführung einer Justagevorrichtung 46, die anstelle der Justagevorrichtung 32 zur Justage der beiden Spiegel 17, 25 oder eines anderen Spiegelpaares der Projektionsbelichtungsanlage 1 oder eines anderen optischen Systems zum Einsatz kommen kann. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 6 und insbesondere unter Bezugnahme auf die 4 bis 6 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. 7 shows a further embodiment of an adjustment device 46 instead of the adjustment device 32 for adjusting the two mirrors 17 . 25 or another mirror pair of the projection exposure apparatus 1 or another optical system can be used. Components which correspond to those described above with reference to 1 to 6 and in particular with reference to 4 to 6 already described, bear the same reference numbers and will not be discussed again in detail.
Bei der Justagevorrichtung 46 ist die Periodizität P0 der ersten Justagemarkierung 33 auf dem Spiegel 17 verschieden von der Periodizität P1 der zweiten Justagemarkierung 39 auf dem Spiegel 25. Es gilt P1 < P0. Bei der Justagevorrichtung 46 verlaufen die Justagestrahlungs-Teilbündel 41 zwischen den Justagemarkierungen 33 und 39 zwischen den beiden zu justierenden Spiegeln 17 und 25 konvergent. Der Konvergenzwinkel ist so auf das Verhältnis P1/P0 abgestimmt, dass bei korrekt zueinander justierten Spiegeln 17, 25 der Abstand der Justagestrahlungs-Teilbündel 41 bei der Reflexion an den Justagemarkern 40 der Periodizität dieser Justagemarker 40 auf dem zweiten so justierten Spiegel 25 entspricht. Bei perfekt zueinander justierten Spiegeln 17, 25 werden die Justagestrahlungs-Teilbündel 41 also sowohl von den Justagemarkern 34 der ersten Justagemarkierung 32 als auch von den Justagemarkern 40 der zweiten Justagemarkierung 39 mit höchster Reflektivität reflektiert. In the adjustment device 46 is the periodicity P 0 of the first adjustment mark 33 on the mirror 17 different from the periodicity P 1 of the second adjustment mark 39 on the mirror 25 , We have P 1 <P 0 . In the adjustment device 46 the adjustment irradiation sub-beams run 41 between the adjustment marks 33 and 39 between the two mirrors to be adjusted 17 and 25 convergent. The convergence angle is tuned to the ratio P1 / P0, that with correctly adjusted mirrors 17 . 25 the distance of the adjustment beam subbands 41 when reflecting on the alignment markers 40 the periodicity of these adjustment markers 40 on the second mirror so adjusted 25 equivalent. With perfectly adjusted mirrors 17 . 25 become the adjustment irradiation subbundles 41 So from both the Justagemarkern 34 the first adjustment mark 32 as well as from the adjustment markers 40 the second adjustment mark 39 reflected with highest reflectivity.
Die Kamera 43 ist bei der Justagevorrichtung 46 nach einem Zwischenfokus Z angeordnet, den die Justagestrahlungs-Teilbündel 41 aufgrund von deren konvergenter Führung durchlaufen. Bei korrekter Justage der beiden Spiegel 17, 25 zueinander erfasst die Kamera wiederum als Justageparameter ein Strahlungsintensitätsprofil I (x) bzw. I (y) in Form eines Top Hat-Profils I = I0. Bei einer Dejustage der beiden Spiegel 17, 25, insbesondere bei einer Dejustage des Spiegels 25 relativ zum Spiegel 17 in z-Richtung, ergibt sich eine Abweichung des gemessenen Strahlungsintensitätsprofils von diesem Top Hat-Profil, wie in der 7 gestrichelt dargestellt. Insbesondere bei einer Dejustage längs der z-Richtung weicht aufgrund der Konvergenz der Justagestrahlungs-Bündel 41 im Bereich der Reflexion am zweiten so justierten Spiegel 25 die Periodizität der Justagestrahlungs-Bündel von der Periodizität der zweiten Justagemarker 40 ab, sodass nicht alle der Justagestrahlungs-Teilbündel an den zweiten Justagemarkern 40 mit gleich hoher Reflektivität reflektiert werden. Die Justagevorrichtung 46 ist also besonders sensitiv hinsichtlich einer Dejustage der beiden Spiegel 17, 25 zueinander längs der z-Richtung, also senkrecht zur Markerdimension MD. The camera 43 is in the adjustment device 46 arranged after an intermediate focus Z, which the Justagestrahlungs partial bundles 41 go through because of their convergent leadership. With correct adjustment of the two mirrors 17 . 25 In each case, the camera captures a radiation intensity profile I (x) or I (y) in the form of a top hat profile I = I 0 as an adjustment parameter. In a misalignment of the two mirrors 17 . 25 , Especially at a misalignment of the mirror 25 relative to the mirror 17 in the z-direction, there is a deviation of the measured radiation intensity profile from this top hat profile, as in the 7 shown in dashed lines. In particular, in the case of a misalignment along the z direction, the adjustment beam bundle deviates due to the convergence 41 in the area of the reflection at the second mirror adjusted in this way 25 the periodicity of the adjustment irradiation bundles of the periodicity of the second adjustment markers 40 so that not all of the adjustment beam sub-beams are at the second adjustment markers 40 be reflected with the same high reflectivity. The adjustment device 46 is therefore particularly sensitive to a misalignment of the two mirrors 17 . 25 to each other along the z-direction, that is perpendicular to the marker dimension MD.
Für diese effektive Periode PJT der Justagestrahlungs-Teilbündel ergibt sich bei der Justagevorrichtung 46 abhängig von einer Dejustage z: PJT = P1 × (z0 – z)/z0. Ein Maß für z0 ist dabei, in welchem z-Abstand sich die Justagestrahlungs-Teilbündel 41 bei weggelassenem zweiten Spiegel 25 in einem Fokus treffen würden. For this effective period P JT of the adjustment radiation sub-beams results in the adjustment device 46 depending on a misalignment z: P JT = P 1 × (z0-z) / z0. A measure of z0 is in which z-distance the adjustment beam sub-beams 41 with omitted second mirror 25 in a focus.
Die Justagesensitivität beiden Justagevorrichtungen 32, 46 ergibt sich nach dem Prinzip des Moire-Gitters. The adjustment sensitivity of both adjustment devices 32 . 46 follows the principle of the Moire grating.
Anstelle eines konvergenten Strahlengangs zwischen den beiden Spiegeln 17, 25 kann bei einer alternativen Ausführung einer Justagevorrichtung auch ein divergenter Strahlengang zum Einsatz kommen. In diesem Fall ist die Periodizität P1 der Justagemarker 40 am zweiten Spiegel 25 im Strahlengang größer als die Periodizität P0 der Justagemarker 34 der ersten Justagemarkierung am ersten Spiegel 17. Instead of a convergent beam path between the two mirrors 17 . 25 can also be a divergent beam path used in an alternative embodiment of an adjustment device. In this case, the periodicity P 1 is the adjustment markers 40 at the second mirror 25 in the beam path greater than the periodicity P 0 of the alignment markers 34 the first adjustment mark on the first mirror 17 ,
Anhand der 8 und 9 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Justagevorrichtung 47 zur Justage von Spiegeln 17, 25 zur Bündelführung von Strahlung längs eines Strahlengangs beschrieben, wiederum am Beispiel der beiden Facettenspiegel 17, 25. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend bereits unter Bezugnahme auf die 1 bis 7 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. Based on 8th and 9 Below is a further embodiment of an adjustment device 47 for adjusting mirrors 17 . 25 for the bundle guidance of radiation along a beam path, again using the example of the two facet mirrors 17 . 25 , Components which correspond to those already described above with reference to the 1 to 7 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.
Die Justagevorrichtung 47 hat als erste Justagemarkierung ein Justageobjekt 48, bei dem es sich beispielsweise um ein Kreuz handeln kann, das in einem Insert der 8 in einer Aufsicht dargestellt ist. Die Balken des Kreuzes der Justagemarkierung 48 verlaufen parallel zur x-Richtung und parallel zur y-Richtung. Das Justageobjekt 48 und abbildende Justagespiegel 49, 50 auf den beiden zu justierenden Spiegeln 17, 25 sind so angeordnet, dass das Justageobjekt 48 durch die abbildende Wirkung zumindest auf einen der beiden Spiegel 17, 25 auf ein Justagebild 51 abgebildet wird. Zwischen einer Justageobjektebene 52, in der das Justageobjekt 48 angeordnet ist, und einer Justagebildebene 53, in der das Justagebild 51 angeordnet ist, liegt ein Zwischenbild ZB dieser Abbildung. Der erste Spiegel 17 bildet das Justageobjekt 48 in das Zwischenbild ZB ab. Der zweite Spiegel 25 bildet das Zwischenbild ZB in das Justagebild 51 ab. The adjustment device 47 has an adjustment object as the first adjustment mark 48 , which may be, for example, a cross containing an insert of the 8th is shown in a plan. The bars of the cross of the adjustment mark 48 are parallel to the x-direction and parallel to the y-direction. The adjustment object 48 and imaging adjustment mirrors 49 . 50 on the two to be adjusted Reflect 17 . 25 are arranged so that the adjustment object 48 by the imaging effect on at least one of the two mirrors 17 . 25 on an adjustment picture 51 is shown. Between an adjustment object level 52 in which the adjustment object 48 is arranged, and a Justagebildebene 53 in which the adjustment picture 51 is arranged, lies an intermediate image ZB of this figure. The first mirror 17 makes the adjustment object 48 in the intermediate image ZB. The second mirror 25 forms the intermediate image ZB in the adjustment image 51 from.
Die Zwischenbildebene 53 fällt mit einer Anordnungsebene einer zweiten Justagemarkierung 54 zusammen. Die zweite Justagemarkierung 54 ist ortsfest, also starr, mit dem ersten Spiegel 17 verbunden, wie in der 8 durch einen Verbindungsarm 55 angedeutet. The intermediate image plane 53 coincides with an arrangement plane of a second adjustment mark 54 together. The second adjustment mark 54 is stationary, so rigid, with the first mirror 17 connected, as in the 8th through a connecting arm 55 indicated.
Die Justagemarkierungen 48 bzw. 54 der Justagevorrichtung 47 können insbesondere durch Kanten von Reflexionsflächen von Spiegelfacetten auf den Spiegel 17, 25 realisiert sein. The adjustment marks 48 respectively. 54 the adjustment device 47 can in particular by edges of reflection surfaces of mirror facets on the mirror 17 . 25 be realized.
Bei korrekt justierten Spiegeln fällt das Justagebild 51 mit der zweiten Justagemarkierung 54 zusammen. With correctly adjusted mirrors the adjustment picture falls 51 with the second adjustment mark 54 together.
Die zweite Justagemarkierung 54 kann wiederum als xy-Kreuz nach Art des Justageobjektes 48 ausgeführt sein. Als Justageparameter wird ein x/y-Abstand, also einerseits in x-Abstand und andererseits ein y-Abstand, zwischen dem Justagebild 51 und der zweiten Justagemarkierung 54 von der Kamera 43 erfasst. Bei korrekt justierten Spiegeln 17, 25 ist dieser x/y-Abstand 0. The second adjustment mark 54 can turn as an xy-cross in the manner of the adjustment object 48 be executed. As an adjustment parameter is an x / y-distance, so on the one hand in x-distance and on the other hand, a y-distance, between the Justagebild 51 and the second adjustment mark 54 from the camera 43 detected. With correctly adjusted mirrors 17 . 25 this x / y distance is 0.
Bei einer Dejustage zwischen den Spiegeln 17 und 25 ergibt sich eine entsprechende x/y-Verlagerung des Justagebildes 51 relativ zur zweiten Justagemarkierung 54, wie in 9 dargestellt. Bei einer vergrößernden Abbildung des Justageobjektes 48 in das Justagebild 51 kann eine entsprechende Vergrößerung einer Sensitivität der Justagevorrichtung 47 in Bezug auf eine Justageverlagerung der Spiegel 17, 15 relativ zueinander erreicht werden, wie in der 9 dargestellt. Ein Verlagerungsfehler Δx des Spiegels 17 wird dabei in einen vergrößerten Abstand Δx' des Justagebildes 51 zur zweiten Justagemarkierung 54 übersetzt. In a misalignment between the mirrors 17 and 25 this results in a corresponding x / y displacement of the adjustment image 51 relative to the second adjustment mark 54 , as in 9 shown. In a magnifying picture of the adjustment object 48 in the adjustment picture 51 may be a corresponding increase in sensitivity of the adjustment device 47 in terms of an adjustment shift of the mirrors 17 . 15 be achieved relative to each other, as in the 9 shown. A displacement error Δx of the mirror 17 is doing in an enlarged distance .DELTA.x 'of the Justagebildes 51 to the second adjustment mark 54 translated.
Auch die Justagevorrichtungen 46 und 47 können mit Verlagerungsantrieben für die Spiegel 17, 25 sowie mit einer Steuer-/Regeleinrichtung 31 zur Regelung der Spiegeljustage zusammenwirken, wie dies vorstehend im Zusammenhang mit der Justagevorrichtung 32 bereits erläutert wurde. Also the adjustment devices 46 and 47 can with displacement drives for the mirrors 17 . 25 and with a control / regulating device 31 to cooperate to regulate the mirror adjustment, as described above in connection with the adjustment device 32 has already been explained.
Bei der Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils wird zunächst der Wafer 9 bereitgestellt, auf dem zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist. Es wird zudem das Retikel 6 bereitgestellt, das abzubildende Strukturen aufweist. Weiterhin wird die Projektionsbelichtungsanlage 1 mit einer der vorstehend beschriebenen Ausführungen der ersten Übertragungs-Teiloptik 13 und einem Pupillenfacettenspiegel 25 bereitgestellt, bei dem die Anzahl der Pupillenfacetten 26 ein ganzzahliges Vielfaches größer ist als die Anzahl der Einzelspiegelgruppen 23, beispielsweise um das drei- bis zehnfache höher ist. Vor der eigentlichen Projektionsbelichtung werden die Spiegel 17, 25 sowie ggf. weitere Spiegelpaare des optischen Systems der Projektionsbelichtungsanlage 1, also der Beleuchtungsoptik 3 und/oder der Projektionsoptik 8, also insbesondere auch der Spiegel M1 bis M6, zueinander mithilfe der vorstehend erläuterten Justagevorrichtungen 32, 46 oder 47 zueinander justiert. Es wird sodann ein Beleuchtungssetting vorgegeben, es werden also diejenigen Pupillenfacetten 26 des Pupillenfacettenspiegels 25 ausgewählt, die beleuchtet werden sollen, damit eine vorgegebene Beleuchtungswinkelverteilung bei der Beleuchtung des Objektfeldes 4, in dem das Retikel 6 angeordnet ist, resultiert. Entsprechend dieser Vorgabe wird über die Steuer-/Regeleinrichtung 31 die Kippstellung der Einzelspiegel 21 aller Einzelspiegelgruppen 23 des ersten Facettenspiegels 17 vorgegeben. Anschließend wird wenigstens ein Teil des Retikels 6 auf einen Bereich der lichtempfindlichen Schicht mithilfe der Projektionsoptik 8 der Projektionsbelichtungsanlage 1 projiziert. In the manufacture of a micro- or nanostructured component, the wafer is first of all 9 provided on which at least partially a layer of a photosensitive material is applied. It also becomes the reticle 6 provided having structures to be imaged. Furthermore, the projection exposure system 1 with one of the above-described embodiments of the first transmission sub-optics 13 and a pupil facet mirror 25 provided in which the number of pupil facets 26 an integer multiple is greater than the number of individual mirror groups 23 , for example, is three to ten times higher. Before the actual projection exposure, the mirrors 17 . 25 and possibly further pairs of mirrors of the optical system of the projection exposure apparatus 1 , so the lighting optics 3 and / or the projection optics 8th , So in particular also the mirror M1 to M6, to each other by means of the above-explained adjustment devices 32 . 46 or 47 adjusted to each other. It is then given a lighting setting, so it will be those pupil facets 26 of the pupil facet mirror 25 selected, which are to be illuminated, so that a predetermined illumination angle distribution in the illumination of the object field 4 in which the reticle 6 is arranged results. According to this specification is via the control / regulating device 31 the tilting position of the individual mirrors 21 of all individual mirror groups 23 of the first facet mirror 17 specified. Subsequently, at least a part of the reticle 6 on a portion of the photosensitive layer using the projection optics 8th the projection exposure system 1 projected.
Die vorstehend beschriebenen Ausführungen der Justagevorrichtungen 32, 46 und 47 können auch zur Justage zweier zu justierender Spiegel einer Masken-Inspektionsvorrichtung genutzt werden. Eine derartige Masken-Inspektionsvorrichtung ist beschrieben in der WO 2011/144389 A1 , auf deren Inhalt vollumfänglich Bezug genommen wird. Eine derartige Masken-Inspektionsvorrichtung hat eine Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung der Maske, also beispielsweise des Retikels 6, eine vergrößernde abbildende Optik zur Beleuchtung eines beleuchteten Objektfeldes, das mit einem Abschnitt auf der Maske zusammenfällt, und eine Detektionseinrichtung zur Erfassung einer Lichtintensität des Beleuchtungs- und Abbildungslichtes im Bildfeld. Bei den zueinander zu justierenden Spiegeln kann es sich um jeweils zwei der Beleuchtungsspiegel B1 bis B3 und/oder um zwei der Projektionsspiegel M1 bis M4 der in dieser Druckschrift beschriebenen Masken-Inspektionsvorrichtung handeln. Mit einer solchen Masken-Inspektionsvorrichtung können insbesondere optische Parameter der Maske vermessen und/oder Strukturdefekte auf der Maske erfasst werden. The above-described embodiments of the adjustment devices 32 . 46 and 47 can also be used to adjust two mirrors of a mask inspection device to be adjusted. Such a mask inspecting apparatus is described in U.S. Patent Nos. 4,149,359 WO 2011/144389 A1 whose contents are fully referenced. Such a mask inspection device has an illumination optical system for illuminating the mask, that is, for example, the reticle 6 , a magnifying imaging optics for illuminating an illuminated object field, which coincides with a portion on the mask, and a detection device for detecting a light intensity of the illumination and imaging light in the image field. The mirrors to be adjusted to one another can be in each case two of the illumination mirrors B1 to B3 and / or two of the projection mirrors M1 to M4 of the mask inspection device described in this publication. With such a mask inspection device, in particular optical parameters of the mask can be measured and / or structural defects can be detected on the mask.
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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EP 0955641 A1 [0012] EP 0955641 A1 [0012]
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DE 102008009600 A [0012, 0045] DE 102008009600 A [0012, 0045]
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US 6438199 B1 [0045] US 6438199 B1 [0045]
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US 6658084 B2 [0045] US 6658084 B2 [0045]
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WO 2011/144389 A1 [0081] WO 2011/144389 A1 [0081]
