DE102015201020A1 - Projection exposure apparatus with manipulator and method for controlling a projection exposure apparatus - Google Patents

Projection exposure apparatus with manipulator and method for controlling a projection exposure apparatus

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DE102015201020A1
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optical
manipulator
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stellwegvektors
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Boris Bittner
Holger Walter
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv (22) und einem optischen Manipulator (136, 236, 336), welcher eine Vielzahl von Zonen (146, 246, 346) mit individuell einstellbarer optischer Wirkung aufweist, und umfasst die Schritte: The invention relates to a method for controlling a projection exposure apparatus (10) for microlithography comprising a projection objective (22) and an optical manipulator (136, 236, 336) having a plurality of zones (146, 246, 346) with individually adjustable optical effect having and includes the steps of:
Bestimmen eines Wellenfrontfehlers der Projektionsbelichtungsanlage (10), Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone (146, 246, 346) des optischen Manipulators (136, 236, 336), Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone (146, 246, 346) des optischen Manipulators, und Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit. Determining a wavefront error of the projection exposure system (10), generating a suitable correction of the wavefront error Stellwegvektors with adjustment paths for each zone (146, 246, 346) of the optical manipulator (136, 236, 336), determining a restriction parameter with respect to the actuator travel for at least one zone (146, 246, 346) of the optical manipulator, and checking of the adjustment paths of the generated Stellwegvektors for execution. Bei einer Einschränkung in der Ausführbarkeit erfolgt ein Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen (146, 246, 346) des optischen Manipulators, ein Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den entsprechenden Stellwegen des generierten Stellwegvektors, und ein Einstellen der optischen Wirkung aller Zonen (146, 246, 346) des optischen Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. In a limitation in the executability an acquiring a correction value vector with correction values ​​for a plurality of zones (146 246, 346) takes place of the optical manipulator, determining a corrected Stellwegvektors by adding the correction values ​​of the correction value vector to the corresponding adjustment paths of the generated Stellwegvektors, and setting the optical effect of all the zones (146, 246, 346) of the optical manipulator with the aid of the corrected Stellwegvektors for the compensation of the wavefront error.

Description

  • Hintergrund der Erfindung Background of the Invention
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv sowie mindestens einem in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs angeordneten optischen Manipulator, welcher eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs verteilten Zonen mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang aufweist. The invention relates to a method for controlling a projection exposure system for microlithography with a projection lens and at least one arranged in a beam path of the projection lens optical manipulator having a plurality of a cross-section of the beam path distributed zones with individually adjustable optical effects in the beam path.
  • Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv zum Abbilden eines Musters aus einer Objektebene des Projektionsobjektivs in eine Bildebene des Projektionsobjektivs und mindestens einen optischen Manipulator in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs, wobei der optische Manipulator eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs verteilten Zonen mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang aufweist. Furthermore, the invention relates to a projection exposure apparatus for microlithography comprising a projection objective for imaging a pattern of an object plane of the projection objective into an image plane of the projection objective and at least one optical manipulator in a beam path of the projection objective, wherein the optical manipulator distributed a plurality of a cross-section of the beam path has zones with individually adjustable optical effects in the beam path.
  • Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen werden insbesondere bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen oder anderen mikro- oder nanostrukturierten Bauelementen verwendet und dienen zur Abbildung eines Musters einer Maske oder eines Retikels auf eine fotosensitive Schicht eines Substrats. Microlithographic projection exposure apparatuses are used particularly in the manufacture of integrated circuits or other micro- or nano-structured components and are used for imaging a pattern of a mask or a reticle onto a photosensitive layer of a substrate. Hierfür enthält eine herkömmliche Projektionsbelichtungsanlage eine Lichtquelle und ein Beleuchtungssystem, das von der Lichtquelle emittierte elektromagnetische Strahlung aufbereitet und auf das Muster richtet. For this purpose, a conventional projection exposure apparatus comprises a light source and an illumination system which conditions emitted from the light source and electromagnetic radiation directed towards the pattern. Mit einem Projektionsobjektiv der Projektionsbelichtungsanlage wird ein von dem Beleuchtungssystem beleuchteter Abschnitt des Musters auf die fotosensitive Schicht des Substrats abgebildet. With a projection lens of the projection exposure apparatus, an illuminated by the illumination system portion of the pattern is imaged on the photosensitive layer of the substrate. Als Substrat werden in der Regel so genannte Wafer aus Halbleitermaterial verwendet. As the substrate, usually so-called wafer of semiconductor material may be used.
  • Die fortschreitende Miniaturisierung der Strukturen von Halbleiterbauelementen und der Bedarf an schnelleren Herstellungsprozessen mit kürzeren Belichtungszeiten führt zu immer höheren Anforderungen an die Abbildungseigenschaften der Projektionsbelichtungsanlagen und insbesondere der Projektionsobjektive. The continuing miniaturization of the structures of semiconductor devices and the need for faster manufacturing processes with shorter exposure times leading to ever higher demands on the imaging properties of the projection exposure systems and in particular the projection lenses. Die Abbildung des Musters auf die fotosensitive Schicht sollte während der gesamten Betriebsdauer der Projektionsbelichtungsanlage mit möglichst kleinen Abbildungsfehlern erfolgen. The image of the pattern onto the photosensitive layer should be done during the entire service life of the projection exposure system with the smallest possible aberrations.
  • Neben Abbildungsfehlern infolge von Fertigungs- und Montagetoleranzen sind auch erst während eines Betriebs auftretende Abbildungsfehler bekannt. Besides aberrations due to manufacturing and assembly tolerances and only during an operation occurring aberrations are known. So kann es bei optischen Elementen an Orten, die über längere Zeit einer besonders hohen Lichtintensität ausgesetzt sind, zum Auftreten von Alterungseffekten, beispielsweise zu einer Verdichtung (engl. compaction) des Materials, und somit zu einer lokal begrenzten Formänderung kommen. Thus, it may in optical elements at locations which are exposed to prolonged a particularly high light intensity, the occurrence of aging effects, for example, a compaction (engl. Compaction) of the material, and thus lead to a localized change in shape. Eine weitere Ursache für betriebsbedingte Abbildungsfehler ist die unvermeidbare Absorption eines Teils der zur Belichtung verwendeten elektromagnetischen Strahlung in den optischen Elementen des Projektionsobjektivs. Another cause of operational aberrations is the inevitable absorption of part of the electromagnetic radiation used for exposure in the optical elements of the projection objective. Die dabei absorbierte Leistung führt zu einer inhomogenen Erwärmung der optischen Elemente, wodurch Änderungen des Brechungsindex, Ausdehnungen und mechanische Spannungen auftreten. The power absorbed thereby resulting in an inhomogeneous heating of the optical elements, whereby changes in the refractive index, expansion and mechanical stresses occur. Durch diesen als „Lens-Heating“ bezeichneten Effekt kommt es zu Aberrationen der sich in dem Projektionsobjektiv ausbreitenden Wellenfront. Due to this as a "lens heating" designated effect leads to aberrations of propagating in the projection lens wavefront. Das Lens-Heating stellt durch die erwünschte Leistungssteigerung der verwendeten elektromagnetischen Strahlung und die fortschreitende Miniaturisierung ein zunehmendes Problem bei der Halbleiterlithographie dar. The lens heating represents an increasing problem in semiconductor lithography by the desired increase in performance of the electromagnetic radiation used and the progressive miniaturization.
  • Da die Möglichkeit zur dynamischen Korrektur von im Betrieb auftretenden oder sich ändernden Abbildungsfehlern zunehmend wichtiger wird, enthalten moderne Projektionsbelichtungsanlagen eine Vielzahl von optischen Manipulatoren. Because of the potential for dynamic correction occurring or in the operation changing aberrations becomes increasingly important, advanced projection exposure systems include a plurality of optical manipulators. Bei diesen optischen Manipulatoren lässt sich die optische Wirkung durch entsprechende Aktuatoren auf bestimmte Weise während des Betriebs ändern. In these optical manipulators, the optical effect by corresponding actuators can be changed in a certain way during operation. Je nach gemessenem oder extrapoliertem Wellenfrontfehler kann mit den Manipulatoren während des Betriebs eine Wellenfrontdeformation induziert werden, die zumindest teilweise zur Kompensation des momentan auftretenden Wellenfrontfehlers geeignet ist. Depending on the measured or the extrapolated wavefront aberration, a wavefront deformation can be induced with the manipulators during operation that is at least partially suitable for compensation of the wavefront error currently occurring.
  • Es sind verschiedene optische Manipulatoren für die Mikrolithographie bekannt, die eine Vielzahl von über den Querschnitt des Strahlengangs verteilte Zonen mit individuell einstellbarer optischer Wirkung aufweisen. There are known various optical manipulators for microlithography, having a plurality of distributed over the cross section of the beam path zones with individually variable optical effect. Beispielsweise wird in For example, in US 2008/0204682 A1 US 2008/0204682 A1 ein Manipulator beschrieben, der ein optisches Element in Gestalt einer Linse mit Infrarot-Strahlung beaufschlagt. a manipulator described which applies an optical element in the shape of a lens with infrared radiation. Hierbei wird die Linse zweidimensional variabel bestrahlt. Here, the lens is irradiated two-dimensionally variable. Aufgrund von Absorption der Infrarot-Strahlung erfolgt eine entsprechende Erwärmung der bestrahlten Linsenabschnitte. Due to absorption of the infrared radiation has a corresponding heating of the irradiated lens sections takes place.
  • Weiterhin sind adaptive Spiegel als Manipulatoren für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage bekannt. Furthermore, adaptive mirror as manipulators for a microlithographic projection exposure apparatus are known. Zum Beispiel wird in For example, in DE 102011081603 A1 DE 102011081603 A1 ein Spiegel mit einer piezoelektrischen Schicht und einer darüber angeordneten reflektierenden Beschichtung dargestellt. a mirror having a piezoelectric layer and an overlying reflective coating shown. Über eine Vielzahl von über der piezoelektrischen Schicht verteilten Steuerelektroden lässt sich je nach angelegter Spannung eine unterschiedliche lokale Verformung der reflektierenden Beschichtung bewirken. Via a plurality of via the piezoelectric layer distributed control electrodes a different local deformation of the reflective coating can be brought about depending on the applied voltage. Ein derart konfigurierter Spiegel ist auch in Such configured mirror is also in WO 2011/074319 WO 2011/074319 beschrieben. described. Ferner sind zB aus Further, for example, are made of JP 2013-161992 A JP 2013-161992 A oder or JP 2013-106014 A JP 2013-106014 A adaptive Spiegel bekannt, bei denen Aktuatoren in Gestalt von Piezoaktuatoren oder Ultraschallmotoren an verschiedenen Punkten an der Rückseite des Spiegels angreifen. Known adaptive mirror in which actuators in the form of piezo actuators, or ultrasonic motors at different points of attack at the back of the mirror. Es kann sich der Spiegel somit in einzeln oder kombiniert aktuierte Zonen aufgeteilt vorgestellt werden. the mirror may be presented divided into individually or combined aktuierte zones thus.
  • Ferner wird in Further, in WO 2008/034636 A2 WO 2008/034636 A2 ein strombetriebener thermischer Manipulator mit einer planparallelen Quarzplatte beschrieben. a current-operated thermal manipulator with a plane-parallel quartz plate described. Die Platte enthält eine zweidimensionale Matrix aus Heizzonen, welche sich über Leiterbahnen und ohmsche Strukturen individuell beheizen lassen. The plate includes a two-dimensional matrix of heating zones which can be heated individually via strip conductors and resistive structures. Durch Einstellen der eingebrachten elektrischen Leistung lässt sich für jede Zone eine individuelle Temperatur und somit ein bestimmter Brechungsindex einstellen. By setting the introduced electric power individual temperature and thus a certain refractive index can be set for each zone.
  • Zur Kompensation von während des Betriebs einer Projektionsbelichtungsanlage auftretenden oder sich ändernden Wellenfrontfehlern muss jede Zone der beschriebenen Manipulatoren mit einem geeigneten Stellwegbefehl so angesteuert werden, dass insgesamt eine möglichst optimale Korrektur erzielt wird. To compensate for occurring or during the operation of a projection exposure apparatus changing wavefront errors each zone of the manipulators described with a suitable Stellwegbefehl must be controlled so that a total of an optimal correction is achieved. Dabei sind bei der Bestimmung der Stellwege auch die Stellmöglichkeiten anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage zu berücksichtigen. Here, the storage facilities of other manipulators of the projection exposure system must be considered in determining the adjustment paths. Außerdem müssen eine Reihe von Randbedingungen beachtet werden. In addition, a number of conditions must be observed. Zum Beispiel kann der Stellweg für eine Zone auch benachbarten Zonen beeinflussen oder deren Stellwege beschränken. For example, the travel range for a zone can also affect neighboring zones or limit their travel ranges. Bei thermischen Manipulatoren muss zudem die thermische Neutralität über alle Zonen eingehalten werden, um eine Beeinträchtigung benachbarter Strukturen zu vermeiden. In thermal manipulators also the thermal neutrality must be maintained on all zones in order to avoid interference of adjacent structures. Die Bestimmung der Stellwege zur Kompensation eines gemessenen Wellenfrontfehlers führt daher zu einem sehr komplexen Optimierungsproblem, das in der Regel nicht mehr in Echtzeit während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage gelöst werden kann. Therefore, determining the adjustment paths for the compensation of a measured wavefront error leads to a very complex optimization problem that can be solved in general no longer in real time during operation of the projection exposure apparatus.
  • Herkömmlich werden daher die Stellwege aller Zonen und auch der anderen in der Projektionsbelichtungsanlage vorgesehenen Manipulatoren für bestimmte Wellenfrontfehler, beispielsweise für bestimmte Zernike-Koeffizienten, im Voraus berechnet und als Stellwegvektoren in einem Speicher für eine Steuereinheit der Projektionsbelichtungsanlage bereitgestellt. Therefore, conventionally, the travel ranges of all zones and the other provided in the projection exposure apparatus manipulators for particular wavefront error, for example, for certain Zernike coefficients computed in advance and provided as Stellwegvektoren in a memory of a control unit of the projection exposure apparatus. Die Steuereinheit generiert anschließend während des Betriebs für einen gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehler mit Hilfe der gespeicherten Stellwegvektoren einen zur Kompensation des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektor mit Stellwegen für alle Zonen. The control unit then generates a carrier suitable for compensation of the wavefront error Stellwegvektor with adjustment paths for all zones during operation for a measured or extrapolated wavefront error with the aid of the stored Stellwegvektoren.
  • Ein Nachteil dieser Vorgehensweise ist, dass die zuvor berechneten und bereitgestellten Stellwegvektoren einen Manipulator mit einer Stellwegcharakteristik innerhalb einer bestimmten Sollvorgabe voraussetzen. A disadvantage of this approach is that the previously calculated and provided Stellwegvektoren require a manipulator with a Stellwegcharakteristik within a particular target specification. Kommt es während des Betriebs durch eine Störung zu einer von der Sollvorgabe abweichenden Stellwegcharakteristik bei einer oder mehreren Zonen, kann diese bei einer Generierung eines Stellwegvektors nicht berücksichtigt werden. If, during operation by a disturbance at a position deviating from the nominal specification Stellwegcharakteristik at one or more zones, they can not be taken into account when generating a Stellwegvektors. Ein Wellenfrontfehler wird daher nicht mehr optimal korrigiert. A wavefront error is therefore not optimally corrected. Da eine erneute Berechnung aller bereitgestellten Stellwegvektoren unter Berücksichtigung der abweichenden Stellwegcharakteristik zu zeitaufwendig ist, müssen die mangelhaften Komponenten letztendlich ausgetauscht werden. Since a new calculation of all Stellwegvektoren provided is too time-consuming, taking into account the different Stellwegcharakteristik, the defective components must ultimately be replaced.
  • Ein Beispiel für eine solche Störung ist ein elektrischer Kurzschluss zwischen zwei benachbarten Zonen eines thermischen Manipulators, wodurch beide Zonen stets mit der gleichen elektrischen Leistung betrieben werden. An example of such a disorder is an electrical short circuit between two adjacent regions of a thermal manipulator, whereby both zones are always operated with the same electric power. Weiterhin können optische Elemente, zB deformierbare Spiegel oder beheizbare Platten, bei denen die Stellwegcharakteristik einer oder mehrerer Zonen bereits nach der Fertigung zu stark von den Sollvorgaben abweicht, nicht für einen Manipulator verwendet werden. Furthermore, optical elements, such as deformable mirror or heated plates, wherein the one or more zones Stellwegcharakteristik deviates too much after the production of the target specifications are not used for a manipulator.
  • Ein weiteres Beispiel für die vorstehend genannte Störung ist der Ausfall eines Kanals eines Manipulator, der ein optisches Element mit Infrarotlicht beaufschlagt, mit der Folge, dass lokal das Korrekturvermögen des Manipulators einbricht. Another example of the above-mentioned disturbance is the failure of a channel of a manipulator which acts on an optical element with infrared light, with the result that locally the correction capability of the manipulator breaks. Weiterhin können mechanische Komponente, die Druck oder Zug auf einen adaptiven Spiegel ausüben, von einem Ausfall betroffen sein. Furthermore, mechanical component, the pressure or train can have on an adaptive mirror, be affected by a failure. Ebenso kann zB die Kontaktierung eines adaptiven Spiegels mit einer piezo-elektrischen Schicht beschädigt werden, so dass einzelne aktuierbare Zonen nicht mehr angesteuert werden können. Likewise, the contacting of an adaptive mirror with a piezo-electric layer can be damaged, for example, so that individual actuated by means zones can not be controlled.
  • Ein weiteres Problem ergibt sich dadurch, dass es bei der Generierung von Stellwegbefehlen zu einer Überschreitung eines vorgegebenen Stellwegbereichs eines oder mehrerer Stellwege kommen kann. Another problem results from the fact that it can come in the generation of Stellwegbefehlen to exceed a predetermined travel range of one or more travel ranges. Diese Stellwege könnten anschließend nicht mehr vollständig ausgeführt werden. This adjustment paths could then no longer be fully executed. Eine solche Stellwegabschneidung (engl. Clipping) durch Übersteuerung würde zu einer schlechteren Kompensation vorhandener Wellenfrontfehlern oder zur Erzeugung weiterer Wellenfrontfehler führen. Such Stellwegabschneidung (engl. Clipping) by overdriving would lead to a worse compensation existing wavefront errors or for generation of further wavefront error. Auch könnte die Steuerbefehlsgenerierung insgesamt instabil werden. The control command generation could be a whole unstable. Da die bekannten Steuerungsverfahren mit bereitgestellten Stellwegvektoren nur eine ungenügende Reaktion auf ein drohendes oder stattfindendes Clipping ermöglichen, werden die Manipulatoren von vornherein nicht bis an die Bereichsgrenzen gefahren. Since the known control methods allow provided with Stellwegvektoren only an inadequate response to an impending or occurring clipping end, the manipulators are not moved from the start up to the area boundaries. Hierdurch wird nachteilhaft nicht das komplette Leistungsvermögen der Manipulatoren ausgenutzt. In this way, the complete performance of the manipulators is disadvantageous not exploited.
  • Zugrunde liegende Aufgabe Object of
  • Es ist eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage sowie eine Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, womit die vorgenannten Probleme gelöst werden, und insbesondere auch bei einer Einschränkung in der Ausführbarkeit eines Stellwegs einer oder mehrerer Zonen eines optischen Manipulators eine ausreichende Kompensation eines Wellenfrontfehlers während des Betriebs ermöglicht wird. It is an object of the invention to provide a method for controlling a projection exposure apparatus and a projection exposure system, with which the aforementioned problems are solved, and in particular also in a limitation in the feasibility of an actuating path of one or more zones of an optical manipulator, a sufficient compensating a wavefront error during the operation is possible.
  • Erfindungsgemäße Lösung inventive solution
  • Die vorgenannte Aufgabe kann erfindungsgemäß beispielsweise gelöst werden durch ein Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv sowie mindestens einem in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs angeordneten optischen Manipulator, welcher eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs verteilten Zonen mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang aufweist. The above object can be according to the invention, for example, by a method for controlling a projection exposure system for microlithography with a projection lens and at least one arranged in a beam path of the projection lens optical manipulator, wherein a plurality of a cross-section of the beam path distributed zones with individually adjustable optical effect in the having optical path. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: Bestimmen eines Wellenfrontfehlers in einem Bildfeld der Projektionsbelichtungsanlage, Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone des optischen Manipulators mittels eines stellweggenerierenden Optimierungsalgorithmus auf Grundlage des bestimmten Wellenfrontfehlers, Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone des optischen Manipulators, sowie Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit unter Berücksichtigung des ermittelten Einschränkungsparameters. The method comprises the steps of: determining a wavefront error in an image field of the projection exposure apparatus, generating a suitable correction of the wavefront error Stellwegvektors with adjustment paths for each zone of the optical manipulator by means of a stellweggenerierenden optimization algorithm based on the determined wavefront error, determining a limiting parameter with respect to the actuator travel for at least a zone of the optical manipulator, and checking of the adjustment paths of the generated Stellwegvektors for execution in consideration of the restriction parameter determined. Weiterhin werden die folgenden Schritte bei Vorliegen einer Einschränkung in der Ausführbarkeit ausgeführt: Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen des optischen Manipulators auf Grundlage des Einschränkungsparameters und des generierten Stellwegvektors, Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Korrektur der Stellwege des generierten Stellwegvektors anhand der entsprechenden Korrekturwerte des Korrekturwertvektors, wie etwa durch skaliertes Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den entsprechenden Stellwegen des generierten Stellwegvektors, und Einstellen der optischen Wirkung aller Zonen des optischen Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. Further, the following steps in the event of a limitation in the workability are performed: obtaining a correction value vector with correction values ​​for several of the areas of the optical manipulator on the basis of the restriction parameter and the generated Stellwegvektors, determining a corrected Stellwegvektors by correcting the adjustment paths of the generated Stellwegvektors using the corresponding correction values the correction value vector, such as by adding the scaled correction values ​​of the correction value vector corresponding to the adjustment paths of the generated Stellwegvektors, and adjusting the optical effect of all the zones of the optical manipulator with the aid of the corrected Stellwegvektors for the compensation of the wavefront error.
  • Weiterhin kann die Aufgabe erfindungsgemäß gelöst werden durch die nachfolgend beschriebene Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie. Furthermore, the object can be achieved according to the invention by the below-described projection exposure apparatus for microlithography. Die Projektionsbelichtungsanlage enthält ein Projektionsobjektiv zum Abbilden eines Musters aus einer Objektebene des Projektionsobjektivs in eine Bildebene des Projektionsobjektivs, sowie mindestens einen optischen Manipulator in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs, wobei der optische Manipulator eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs verteilten Zonen mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang aufweist. The projection exposure apparatus comprising a projection objective for imaging a pattern of an object plane of the projection objective into an image plane of the projection objective, and at least one optical manipulator in a beam path of the projection objective, wherein the optical manipulator, a plurality of a cross-section of the beam path distributed zones with individually adjustable optical effect has in the beam path. Weiterhin umfasst die Projektionsbelichtungsanlage ein Bestimmungsmodul zum Bestimmen eines Wellenfrontfehlers in einem Bildfeld der Projektionsbelichtungsanlage, einen Stellweggenerator zum Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone des optischen Manipulators mittels eines stellweggenerierenden Optimierungsalgorithmus auf Grundlage des bestimmten Wellenfrontfehlers, eine Prüfeinrichtung zum Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone des optischen Manipulators und zum Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit unter Berücksichtigung des ermittelten Einschränkungsparameters, sowie eine Korrektureinrichtung zum Korrigieren des generierten Stellwegvektors bei einer Einschränkung der Ausführbarkeit mindestens eines Stellwegs. Further, the projection exposure apparatus comprises a determination module for determining a wavefront error in an image field of the projection exposure apparatus, a Stellweggenerator for generating a suitable correction of the wavefront error Stellwegvektors with adjustment paths for each zone of the optical manipulator by means of a stellweggenerierenden optimization algorithm based on the determined wavefront error, a test device for determining a limiting parameter with respect to the actuator travel for at least one zone of the optical manipulator and checking of the adjustment paths of the generated Stellwegvektors for execution in consideration of the restriction parameter determined, and a correcting means for correcting the generated Stellwegvektors at a limitation of the feasibility of at least one actuator travel. Die Korrektureinrichtung ist zum Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen des optischen Manipulators basierend auf den Einschränkungsparameter und dem generierten Stellwegvektor und zum Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Korrektur der Stellwege des generierten Stellwegvektors anhand der entsprechenden Korrekturwerte des Korrekturwertvektors, wie etwa durch skaliertes Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den entsprechenden Stellwegen des generierten Stellwegvektors, ausgebildet. The correction means is for obtaining a correction value vector with correction values ​​for several of the areas of the optical manipulator based of the constraint parameters and the generated Stellwegvektor and for determining a corrected Stellwegvektors by correcting the adjustment paths of the generated Stellwegvektors on the basis of respective correction values ​​of the correction value vector, such as by scaled adding correction values ​​of the correction value vector corresponding to the adjustment paths of the generated Stellwegvektors formed. Weiterhin umfasst die Projektionsbelichtungsanlage eine Aktuierungseinrichtung zum Einstellen aller Zonen des optischen Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. Further, the projection exposure system comprises an actuating device for setting all the zones of the optical manipulator with the aid of the corrected Stellwegvektors for the compensation of the wavefront error. Die erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage kann insbesondere einen Speicher zur Speicherung des generierten Stellwegvektors und insbesondere einen weiteren Speicher zur Speicherung von Korrekturwertvektoren umfassen. The projection exposure apparatus according to the invention can in particular comprise a memory for storing the generated Stellwegvektors and particularly to a further memory for storing correction value vectors.
  • Die Erfindung beruht auf dem Prinzip, einen während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage mittels eines Optimierungsalgorithmus generierten und nicht vollständig ausführbaren Stellweg für mindestens eine Zone des optischen Manipulators durch korrigierte Stellwege für andere Zonen auszugleichen. The invention is based on the principle of a generated and during operation of the projection exposure system by means of an optimization algorithm is not fully executable regulating distance for at least one zone of the optical manipulator by corrected adjustment paths to compensate for other zones. Die durch den nicht ausführbaren Stellweg verursachte fehlerhafte optische Wirkung des Manipulators soll durch die mit den korrigierten Stellwegen erzeugte optische Wirkung der anderen Zonen kompensiert werden. The non-executable caused by the faulty actuator travel optical effect of the manipulator is to be compensated by the heat generated with the corrected adjustment paths, optical effect of the other zones. Zu diesem Zweck findet zunächst eine Überprüfung der generierten Stellwege auf Grundlage eines ermittelten Einschränkungsparameters statt. To this end, first a review of the generated travel ranges instead based on a constraint parameter determined. Der Einschränkungsparameter gibt dazu Stellwegeinschränkungen für mindestens eine Zone vor. The constraint parameters are to Stellwegeinschränkungen front for at least one zone. Wird für eine oder mehrere Zonen eine Einschränkung in der Ausführbarkeit des generierten Stellweges und somit ein nicht vollständig ausführbarer Stellweg festgestellt, erfolgt eine Korrektur des generierten Stellwegvektors mit Stellwegen für alle Zonen durch einen Korrekturwertvektor. Is determined for one or more zones of a limitation in the practicability of the generated adjustment path and thus a not fully executable travel, a correction of the generated Stellwegvektors with adjustment paths for all zones by a correction value vector. Der Korrekturwertvektor enthält Korrekturwerte für mehrere, insbesondere für alle Zonen des optischen Manipulators und wird mit Hilfe der durch den Einschränkungsparameter vorgegebenen Stellwegeinschränkung und des generierten Stellwegvektors, insbesondere der darin enthaltenen, nicht ausführbaren Stellwege ermittelt. The correction value vector contains correction values ​​for several, particularly for all zones of the optical manipulator and is calculated using the predetermined parameters through the restriction Stellwegeinschränkung and the generated Stellwegvektors, in particular the adjustment paths contained therein, not executable. Die Korrektur wird beispielsweise durch komponentenweises Addieren des Korrekturwertvektors zum generierten Stellwegvektor durchgeführt. The correction is performed for example, by component-wise adding the correction value to the generated vector Stellwegvektor. Der durch die Korrektur ermittelte korrigierte Stellwegvektor wird anstelle des generierten Stellwegvektors zum Einstellen aller Zonen des optischen Manipulators verwendet und erzeugt eine optische Wirkung des Manipulators, die durch den generierten Stellwegvektor erzeugt werden sollte. The determined by the correction corrected Stellwegvektor is used instead of the generated Stellwegvektors for setting all the zones of the optical manipulator, and produces a visual effect of the manipulator, which should be generated by the generated Stellwegvektor.
  • Unter Stellweg wird hier nicht nur eine räumliche Verschiebung oder Drehung eines optischen Elements, sondern insbesondere auch eine lokale oder flächige Beaufschlagung eines optischen Elements mit Wärme, Kälte, Kräften, Momenten, Licht einer bestimmten Wellenlänge oder elektrischen Strömen verstanden. Under travel is not only a spatial displacement or rotation of an optical element, but in particular also a local-area or applying an optical element with heat, cold, forces, moments, light of a certain wavelength or electric currents is understood here. Eine mittels Manipulator-Aktuierung durchgeführte Änderung einer Zustandsgröße eines optischen Elements bzw. Manipulators um einen Stellweg ändert dessen optische Wirkung in einer spezifischen Weise. A survey conducted by means of manipulator actuation change of a state quantity of an optical element or manipulator to an adjustment path changes its optical effect in a specific manner.
  • Unter Stellwegvektor oder Korrekturwertvektor wird hier eine Zusammenfassung einer Mehrzahl von Stellwegen bzw. Korrekturwerten für jeweils verschiedene Zonen des optischen Manipulators verstanden. Under Stellwegvektor or correction value vector a summary of a plurality of actuating paths, or correction values ​​is to be understood in each case different zones of the optical manipulator here. Dabei kann ein Stellwergvektor oder Korrekturwertvektor zusätzlich auch Stellwege bzw. Korrekturwerte für andere Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage enthalten. It can additionally comprise adjustment paths or correction values ​​for other manipulators of the projection exposure apparatus or a Stellwergvektor correction value vector.
  • Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und der erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage lassen sich sowohl ein optischer Manipulator mit einer oder mehreren fehlerhaften Zonen als auch generierte Stellwergvektoren weiterhin für eine Kompensation von Wellenfrontfehlern verwenden. With the method according to the invention and the projection exposure apparatus according to the invention, both an optical manipulator with one or more defective areas and generated Stellwergvektoren can continue to be used for a compensation of wave front errors. Dabei ist eine Anpassung des Optimierungsalgorithmus zur eigentlichen Generierung von Stellwertvektoren nicht notwendig, was einen erheblichen Zeitbedarf bedeuten würde. Here, an adaptation of the optimization algorithm to the actual generation of control output vectors is not necessary, which would mean a significant amount of time. Weiterhin kann eine Übersteuerung einer oder mehrerer Zonen des optischen Manipulators durch außerhalb eines Stellwegbereichs liegende Stellwege und eine daraus resultierende Stellwegabschneidung kompensiert werden. Further, an override one or more zones of the optical manipulator by lying outside a travel range adjustment paths, and a resulting Stellwegabschneidung can be compensated.
  • Gemäß einer erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst das Beschaffen des Korrekturwertvektors eine Auswahl eines Korrekturwertvektors aus einer Vielzahl von für die Projektionsbelichtungsanlage in einem Speicher bereitgestellten Korrekturwertvektoren. According to one embodiment of the invention the method, the acquiring of the correction value vector comprises a selection of a correction value vector from a plurality of provided for the projection exposure apparatus in a memory correction value vectors. Mit anderen Worten, es wird ein vorab ermittelter Korrekturwertvektor aktiviert. In other words, it will activate a previously determined correction value vector. Dieser Korrekturwertvektor kann vorab, dh vor dem Belichtungsbetrieb der Projektionsbelichtungsanlage, innerhalb oder außerhalb der Projektionsbelichtungsanlage berechnet worden sein. This correction value vector can advance, ie have been calculated prior to the exposure operation of the projection exposure system inside or outside the projection exposure system. Durch diese besonders schnell durchführbare Beschaffung des Korrekturwertvektors wird ein Korrigieren des generierten Stellwegvektors während des Betriebs in Echtzeit erleichtert. This particularly expeditious procurement of the correction value vector correcting the generated Stellwegvektors during operation in real time is facilitated.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst das Beschaffen des Korrekturwertvektors folgende Schritte: Ermitteln eines Basiskorrekturvektors mit Basisstellwegen auf Grundlage des Einschränkungsparameters, Ermitteln eines Skalierungsfaktors auf Grundlage des generierten Stellwegvektors und des ermittelten Basiskorrekturvektors, sowie Berechnen des Korrekturwertvektors durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor. According to a further embodiment of the invention the method, the acquiring of the correction value vector comprising the steps of: determining a base correction vector with base adjustment paths on the basis of the restriction parameter, determining a scaling factor based on the generated Stellwegvektors and the base correction vector found, and calculating the correction value vector by scaling the basic correction vector with the determined scaling factor , Der oben aufgeführte Schritt des Ermitteln eines Basiskorrekturvektors mit Basisstellwegen auf Grundlage des Einschränkungsparameters kann auch vorab, dh vor dem Belichtungsbetrieb der Projektionsbelichtungsanlage, innerhalb oder außerhalb der Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt werden. The step of determining a correction vector based base with adjustment paths on the basis of the restriction parameter above can also in advance, ie prior to the exposure operation of the projection exposure apparatus be carried out inside or outside the projection exposure apparatus.
  • Der Basiskorrekturvektor kann beispielsweise für einen nicht vollständig ausführbaren Stellweg einer Zone ermittelt werden und lässt sich durch Skalieren mit dem Skalierungsfaktor auch für viele andere nicht vollständig durchführbare Stellwege der Zone zur Korrektur des generierten Stellwegvektors verwenden. The base correction vector can be determined, for example for a not fully executable regulating distance of a zone and can be used by scaling by the scaling factor for many other not completely viable travel ranges of the zone for the correction of the generated Stellwegvektors. Entsprechendes gilt für durch den Einschränkungsparameter vorgegebene Stellwegeinschränkungen bei mehreren Zonen. The same applies to predetermined by the restriction parameters Stellwegeinschränkungen in several zones. Die Verwendung eines Basiskorrekturvektors vereinfacht somit wesentlich die Ermittlung von Korrekturwertvektoren für eine Vielzahl von unterschiedlichen generierten Stellwegvektoren. The use of a base correction vector thus greatly simplifies the calculation of correction value vectors for a plurality of different generated Stellwegvektoren.
  • Insbesondere umfasst dabei das Ermitteln des Basiskorrekturvektors eine Auswahl eines Basiskorrekturvektors aus einer Vielzahl von für die Projektionsbelichtungsanlage in einem Speicher bereitgestellten Basiskorrekturvektoren. In particular, the determination of the base correction vector comprises a selection of a basis vector from a plurality of correction provided for the projection exposure apparatus in a memory based correction vectors. Die Basiskorrekturvektoren können zum Beispiel zuvor mit einem Rechner für verschiedene Zonen und unterschiedliche stellwegeinschränkende Störungen bestimmt und anschließend in dem Speicher gespeichert werden. The base correction vectors may be, for example, previously determined by a computer for different areas and different stellwegeinschränkende disorders and then stored in the memory. Das Ermitteln des Basiskorrekturvektors und damit auch die Korrektur eines generierten Stellwegvektors lässt sich so auch bei neu auftretenden, stellwegeinschränkenden Störungen einer oder mehrerer Zonen des optischen Manipulators unmittelbar durchführen. Determining the base correction vector, and thus the correction of a generated Stellwegvektors can immediately perform so well in newly occurring disturbances stellwegeinschränkenden one or more zones of the optical manipulator.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung gibt der Einschränkungsparameter einen maximal zulässigen Stellweg für mindestens eine Zone des optischen Manipulators vor. According to a further embodiment of the invention, the restriction parameter specifies a maximum permissible travel range for at least one zone of the optical manipulator. Als maximaler Stellweg kann beispielsweise die Grenze eines Stellwegbereichs für eine den Sollvorgaben entsprechende Zone verwendet werden. As the maximum adjustment path, for example, the boundary of a travel range for a corresponding zone of the target specifications can be used. Auf diese Weise lässt sich eine Übersteuerung einer Zone durch einen während des Betriebs generierten, fehlerhaften Stellweg und eine daraus resultierende Stellwegabschneidung korrigieren. In this way, an override a zone through a generated during operation, faulty adjustment path and a resulting Stellwegabschneidung can be corrected.
  • Eine erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst ein Prüfen einer Aktuatorcharakteristik der Zonen des optischen Manipulators auf Einhaltung einer Sollvorgabe für einen Stellwegbereich und ein Festlegen des Einschränkungsparameters auf einen maximal zulässigen Stellweg für eine fehlerhafte Zone mit einer von der Sollvorgabe abweichenden Aktuatorcharakteristik. An embodiment of the invention the method comprises a checking an actuator characteristics of the zones of the optical manipulator for compliance with a desired specification for an actuation path and a set of restriction parameter to a maximum adjustment path of an erroneous zone with a deviating from the nominal specification actuator characteristics. Je nach Manipulator wird zum Beispiel eine Widerstandscharakteristik der elektrisch beheizbaren Zonen einer Platte oder eines anderen optischen Elements für einen thermischen Manipulator, die zur Verfügung stehende bzw. momentan genutzte Strahlungsleistung eines mit IR-Strahlung arbeitenden Manipulators oder die Deformierungscharakteristik der Zonen eines adaptiven Spiegels geprüft. Depending on the manipulator a resistance characteristic of the electrically heatable zones of a plate or other optical element for a thermal manipulator, the available or currently used radiation power of an operating with IR radiation manipulator or Deformierungscharakteristik of zones of an adaptive mirror is checked, for example. Ein Manipulator mit einer von der Sollvorgabe abweichenden Aktuatorcharakteristik bei einer oder mehreren Zonen lässt sich weiterhin für eine Kompensation von Wellenfrontfehlern einsetzen. A manipulator having a position deviating from the nominal specification actuator characteristics in one or more zones can continue to work for compensation of wave front errors.
  • Bei einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst das Ermitteln des Basiskorrekturvektors bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone des optischen Manipulators mit einem von einer Sollvorgabe abweichenden Stellwegbereichs die folgenden Schritte: Bestimmen eines maximalen Korrekturstellwegs für die fehlerhafte Zone basierend auf der Sollvorgabe und des tatsächlichen Stellwertbereichs, Bestimmen von maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen des Manipulators, und Lösen eines Optimierungsproblems mit dem maximalen Korrekturstellweg der fehlerhaften Zone, den maximalen Stellwegbereichen aller anderen Zonen und einer minimalen oder vorgegebenen Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. In a further embodiment of the method of determining the base correction vector in the presence of a defective area of ​​the optical manipulator comprises a deviating from a desired target travel range the steps of: determining a maximum correction adjustment path for the defective area based on the target setting and the actual control value range, determining maximum Stellwegbereichen for all other zones of the manipulator, and solving an optimization problem with the maximum Korrekturstellweg the defective zone, the maximum Stellwegbereichen all other zones and a minimum or predetermined aberration as constraints for determining the base adjustment paths of the base correction vector.
  • Als maximaler Korrekturstellweg kann beispielsweise eine Differenz der Grenzen eines Sollstellwertbereichs und des tatsächlichen Stellwertbereichs verwendet werden. As the maximum Korrekturstellweg a difference in the boundaries of a target control value range and the actual control value range may for example be used. Mit anderen Worten enthält der Basiskorrekturvektor als Lösung des Optimierungsproblems Basisstellwege für alle Zonen außer der fehlerhaften Zone, deren gemeinsame optische Wirkung der optischen Wirkung des real nicht ausführbaren maximalen Korrekturstellwegs entspricht. In other words, the base correction vector contains as a solution of the optimization problem based adjustment paths for all zones except the defective zone, corresponding to their common optical effect of the optical effect of the maximum real non-executable correcting the travel. Der Basiskorrekturvektor lässt sich durch Skalieren schnell für weitere nicht vollständig ausführbare Stellwege der fehlerhaften Zone anpassen. The base correction vector can be adapted by scaling quickly for other not completely executable adjustment paths of the faulty zone. Auf diese Weise wird eine in Echtzeit während des Betriebs durchführbare Ermittlung eines Korrekturwertvektors für eine Vielzahl von verschiedenen Stellwegvektoren mit einem auf Grund einer fehlerhaften Zone nicht vollständig ausführbaren Stellweg ermöglicht. In this way, a viable in real time during the operation of determining a correction value vector for a variety of different Stellwegvektoren with a due to a defective zone is not fully executable travel range is made possible.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens erfolgt ein Prüfen einer Aktuatorcharakteristik der Zonen des optischen Manipulators zur Ermittlung eines Vorliegens einer fehlerhaften Zone und, bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone, das Berechnen eines Basiskorrekturvektors während der Herstellung des optischen Manipulators, und es wird der optische Manipulator zusammen mit dem berechneten Basiskorrekturvektor für die Projektionsbelichtungsanlage bereitgestellt. According to a further embodiment of the process of checking an actuator characteristics of the zones of the optical manipulator for determining an existence of a defective area and, in the presence of a defective zone, calculating a base correction vector during the manufacture of the optical manipulator, and it is the optical manipulator together takes place provided with the calculated base correction vector for the projection exposure system. Durch diese Maßnahme kann der Manipulator beziehungsweise das die Zonen aufweisende optische Element des Manipulators auch bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone für die Projektionsbelichtungsanlage bereitgestellt und verwendet werden und muss nicht aussortiert werden. By this measure, the manipulator or the zones having optical element of the manipulator even in the presence of a faulty zone for the projection exposure apparatus can be provided and used and need not be sorted out.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform basiert das Ermitteln des Skalierungsfaktors bei Vorliegen einer fehlerhafte Zone des optischen Manipulators mit einem von einer Sollvorgabe abweichenden Stellwegbereich auf einem Überschreitungswert des Stellwegbereichs durch den generierten Stellweg und einer Nominalauslegung des für die fehlerhafte Zone ermittelten Basiskorrekturvektors. According to a further embodiment the determination of the scaling factor when there is a defective area of ​​the optical manipulator with a deviating from a desired specification actuation path on a timeout value of the travel range by the generated travel and a nominal design of the base correction vector determined for the faulty zone is based. Zum Beispiel kann mit einem Basisüberschreitungswert, für dessen Korrektur der Basiskorrekturvektor ausgelegt ist, als Skalierungsfaktor das Verhältnis von Überschreitungswert zu Basisüberschreitungswert ermittelt werden. For example, with a base-out value for the correction of the basic correction vector is designed to be determined based timeout value as a scaling factor, the ratio of timeout value. Zusammen mit dem Basiskorrekturvektor für die fehlerhafte Zone ermöglicht der so bestimmte Skalierungsfaktor eine schnelle Ermittlung einer Vielzahl von unterschiedlichen Korrekturwertvektoren für Überschreitungen des Stellwegbereichs bei einer fehlerhaften Zone. Together with the base correction vector for the defective zone of the thus determined scaling factor enables quick determination of a plurality of different correction value vectors for exceedances of the travel range in a defective zone.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst der optische Manipulator eine Bestrahlungseinrichtung sowie ein in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs angeordnetes optisches Element. According to a further embodiment of the invention, the optical manipulator includes an irradiation device and a valve disposed in a beam path of the projection objective optical element. Die Zonen auf dem optischen Element werden von der Bestrahlungseinrichtung jeweils separat mit Strahlung einer Wellenlänge, welche von einer Belichtungswellenlänge der Projektionsbelichtungsanlage abweicht, derart bestrahlt, dass aufgrund einer Aufheizung der Zonen die optische Wirkung zur Kompensation des Wellenfrontfehlers erzielt wird. The zones on the optical element are irradiated from the irradiating means separately with radiation of a wavelength which is different from an exposure wavelength of the projection exposure system in such a way that due to a heating of the zones, the optical effect for the compensation of the wavefront error is achieved. Die zur Aufheizung der Zonen verwendete Strahlung kann auch als Heizstrahlung bezeichnet werden. The radiation used for the heating of the zones can be also referred to as heat radiation. Wie bereits erwähnt, weist die Heizstrahlung eine Wellenlänge auf, die von der Belichtungswellenlänge der Projektionsbelichtungsanlage abweicht. As already mentioned, the heat radiation of a wavelength that is different from the exposure wavelength of the projection exposure system. Die Belichtungswellenlänge ist die Wellenlänge der zur Abbildung von Maskenstrukturen in die Bildebene der Projektionsbelichtungsanlage verwendeten Belichtungsstrahlung. The exposure wavelength is the wavelength of exposure radiation used for imaging the mask structures in the image plane of the projection exposure apparatus.
  • Die Wellenlänge der Heizstrahlung weicht vorzugsweise derart von der Belichtungswellenlänge ab, dass ein Großteil, insbesondere mindestens 80% oder 90% der auf das optische Element eingestrahlten Heizstrahlung von diesem absorbiert wird. The wavelength of the heat radiation preferably deviates in such a manner on the exposure wavelength, that a large part, in particular at least 80% or 90% of the irradiated on the optical element heating radiation is absorbed by this. Damit wird lediglich ein geringer Teil der Heizstrahlung von dem optischen Element im Strahlengang des Projektionsobjektivs weitergegeben, sodass ein im Strahlengang nachgelagertes optisches Element keine wesentliche Aufheizung erfährt. Thus, a small part of the heat radiation from the optical element in the beam path of the projection objective is only passed on, so that a downstream in the beam path optical element does not experience any substantial heating. Das optische Element, auf welches die Heizstrahlung eingestrahlt wird kann zB eine Linse, eine strahlungsdurchlässige Platte oder ein Spiegel sein. The optical element on which the heat radiation is irradiated may be, for example, a lens, a radiation-transmissive plate, or a mirror. Insbesondere kann das optische Element eines der optischen Elemente des Projektionsobjektivs sein, welche den Strahlengang des Projektionsobjektivs definieren. In particular, the optical element of the optical elements of the projection lens may be, which define the beam path of the projection objective. Das heißt, in diesem Fall dient das vom optischen Manipulator umfasste optische Element grundsätzlich der Führung der Belichtungsstrahlung im Strahlengang. That is, in this case, the manipulator comprised by the optical optical element is used in principle, the guide of the exposure radiation in the beam path.
  • Im Fall, in dem das optische Element des optischen Manipulators eine Linse ist, erfolgt durch die Einstrahlung der Heizstrahlung eine Brechzahländerung im Linsenmaterial. In the case where the optical element of the optical manipulator is a lens made by the radiation of the heat radiation, a change in refractive index in the lens material. Die zonenabhängige Aufheizung des Linsenmaterials führt zu einer lokal variierenden Brechzahländerung in der Linse, was eine Wellenfrontmanipulation zur Folge hat. The zone dependent heating of the lens material results in a locally varying refractive index change in the lens, a wavefront manipulation result has. Die Funktionsweise einer strahlungsdurchlässigen Platte ist analog. The operation of a radiation-transparent plate is analog. Im Fall, in dem das optische Element des Manipulators ein Spiegel ist, erfolgt durch die zonenabhängige Einstrahlung der Heizstrahlung aufgrund der daraus resultierenden ortsabhängigen Erwärmung eine Deformation der Spiegeloberfläche, welche ebenfalls eine Wellenfrontmanipulation zur Folge hat. In the case where the optical element of the manipulator is a mirror of the heat radiation is performed by the zone-dependent irradiation due to the resulting location-dependent heating, deformation of the mirror surface, which also has a wavefront manipulation result.
  • Gemäß einer Ausführungsform ist die jeweilige optische Wirkung der Zonen mittels jeweiliger Steuersignale einstellbar und weiterhin erfolgt ein Prüfen auf eine fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale zweier Zonen. According to one embodiment, the respective optical effect of the zones is adjustable by means of respective control signals and further checking is performed on an erroneous DC circuit of the control signals of two zones. Bei Vorliegen einer fehlerhaften Gleichschaltung gibt der Einschränkungsparameter einen einheitlichen Stellweg für die beiden betroffenen Zonen vor. In the event of a faulty DC circuit of the restriction parameter specifies a uniform adjustment path for the two affected zones.
  • Gemäß einer Ausführungsvariante ist der optische Manipulator als deformierbarer Spiegel konfiguriert, bei dem die optische Wirkung der Zonen mittels an einer piezoelektrischen Schicht anliegenden Steuerelektroden individuell einstellbar ist, und die fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale zweier Zonen erfolgt durch einen Kurzschluss zweier benachbarter Steuerelektroden. According to one embodiment, the optical manipulator is configured as a deformable mirror, in which the optical effect of the zones can be individually adjusted by means of voltage applied to a piezoelectric layer, control electrodes and carried the faulty DC circuit of the control signals of two zones by a short circuit between two adjacent control electrodes.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsvariante ist der optische Manipulator als strombetriebener thermischer Manipulator konfiguriert, bei dem die Steuersignale zur Einstellung der optischen Wirkung der Zonen durch individuelle elektrische Beheizung der Zonen erzeugt werden, wobei weiterhin das Prüfen auf ein fehlerhaftes Gleichschalten der Steuersignale zweier Zonen ein Prüfen auf einen elektrischen Kurzschluss in der Beheizung zweier benachbarter Zonen umfasst, der bewirkt, dass beide Zonen gleich stark beheizt werden, und der Einschränkungsparameter bei Vorliegen eines Kurzschlusses einen einheitlichen Stellweg für die beiden benachbarten Zonen vorgibt. According to a further embodiment of the optical manipulator is configured as a current-operated thermal manipulator, wherein the control signals are generated for adjusting the optical power of the zones by means of individual electric heating of the zones, where further testing for a faulty direct switching of the control signals of two zones testing for a includes electrical short circuit in the heating of two adjacent zones, which causes both zones are equally heated, and the restriction parameters in case of a short circuit specifies a uniform adjustment path for the two adjacent zones. Mit anderen Worten ist der optische Manipulator gemäß dieser Ausführungsvariante als strombetriebener thermischer Manipulator konfiguriert, bei dem die optische Wirkung der Zonen durch elektrische Beheizung individuell eingestellt wird, wobei weiterhin ein Prüfen auf einen elektrischen Kurzschluss in der Beheizung zweier benachbarter Zonen erfolgt, der bewirkt, dass beide Zonen gleich stark beheizt werden, und der Einschränkungsparameter bei Vorliegen eines Kurzschlusses einen einheitlichen Stellweg für die beiden benachbarten Zonen vorgibt. In other words, the optical manipulator according to this embodiment in which the optical effect of the zones is individually set by electrical heating is configured as a current-operated thermal manipulator, while still carried out a check for an electrical short circuit in the heating of two adjacent zones, which causes both zones are equally heated, and the restriction parameters in case of a short circuit specifies a uniform adjustment path for the two adjacent zones. Das Prüfen auf einen elektrischen Kurzschluss kann insbesondere nach Inbetriebnahme des Manipulators erfolgen. Checking for an electrical short circuit can be done particularly after the completion of the manipulator. Hierdurch wird ein Korrigieren der durch den einheitlichen Stellweg induzierten Störung ermöglicht. Thereby correcting the induced by the single actuating path interference is enabled. Der Manipulator kann auch mit einem Kurzschuss zwischen zwei benachbarten Zonen mittels der korrigierten Stellwege weiter verwendet werden. The manipulator can be used with a short shot between two adjacent zones by means of the corrected adjustment paths.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist der optische Manipulator als strombetriebener thermischer Manipulator konfiguriert, bei dem die optische Wirkung der Zonen durch elektrische Beheizung individuell eingestellt wird, wobei weiterhin das Ermitteln des Basiskorrekturvektors umfasst: ein Berechnen eines Basiskorrekturvektors für zwei benachbarte, kurzgeschlossene Zonen des strombetriebenen thermischen Manipulators durch Lösen eines Optimierungsproblems mit vorgegebenen Differenz zwischen unterschiedlichen Stellwegen für die zwei kurzgeschlossenen Zonen, maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen des thermischen Manipulators und minimaler Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. According to a further embodiment of the method according to the invention, the optical manipulator is configured as a current-operated thermal manipulator, wherein the optical effect of the zones is individually set by electrical heating, further wherein determining the base correction vector comprises: calculating a base correction vector for two adjacent short-circuited zones of current-operated thermal manipulator by solving an optimization problem with predetermined difference between different travels for the two short-circuited zones maximum Stellwegbereichen for all other zones of the thermal manipulator and minimal aberration as constraints for determining the base adjustment paths of the base correction vector. Als unterschiedliche Stellwege können zum Beispiel zwei Stellwege mit einer Basisdifferenz verwendet werden. As different travel ranges, for example, two travel ranges can be used with a base difference. Mit anderen Worten enthält der Basiskorrekturvektor als Lösung des Optimierungsproblems Basisstellwege für alle Zonen außer den zwei kurzgeschlossenen benachbarten Zonen, deren gemeinsame optische Wirkung den optischen Wirkungen der zwei real nicht ausführbaren, unterschiedlichen Stellwege für die kurzgeschlossen Zonen entspricht. In other words, the base correction vector contains as a solution of the optimization problem based adjustment paths for all zones except for the two short-circuited adjacent zones whose common optical effect equivalent to the optical effects of the two real non-executable, different adjustment paths for the short-circuited zone. Durch Skalieren kann der Basiskorrekturvektor schnell an andere bei den kurzgeschlossenen Zonen nicht ausführbare Stellwegdifferenzen angepasst werden. By scaling the basic correction vector is not executable Stellwegdifferenzen can quickly be adapted to other at the shorted zones. Hierdurch wird eine in Echtzeit während des Betriebs ausführbare Ermittlung eines Korrekturwertvektors für eine Vielzahl von verschiedenen Stellwegvektoren mit unterschiedlichen Stellwegen für die kurzgeschlossenen Zonen durchführbar. In this way an executable in real time during the operation of determining a correction value vector for a variety of different Stellwegvektoren with different travel ranges for the shorted zones is feasible.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die jeweilige optische Wirkung der Zonen mittels jeweiliger Steuersignale einstellbar und das Ermitteln des Basiskorrekturvektors umfasst weiterhin: ein Berechnen eines Basiskorrekturvektors für zwei Zonen des Manipulators, deren Steuersignale gleichgeschaltet sind. According to a further embodiment, the respective optical effect of the zones by means of respective control signals being adjustable, and determining the base correction vector further comprises: calculating a base correction vector for two zones of the manipulator, the control signals are brought into line. Dieses Berechnen erfolgt durch Lösen eines Optimierungsproblems mit vorgegebener Differenz zwischen unterschiedlichen Stellwegen für die zwei Zonen mit gleichgeschalteten Steuersignalen, maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen des optischen Manipulators und minimaler Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. This calculation is performed by solving an optimization problem with a predetermined difference between different travels for the two zones with the same dedicated control signals, maximum Stellwegbereichen for all other zones of the optical manipulator and minimal aberration as constraints for determining the base adjustment paths of the base correction vector.
  • Gemäß einer Ausführungsvariante ist der optische Manipulator als deformierbarer Spiegel, bei dem die optische Wirkung der Zonen mittels an einer piezoelektrischen Schicht anliegenden Steuerelektroden individuell einstellbar ist, oder als strombetriebener thermischer Manipulator, bei dem die optische Wirkung der Zonen durch elektrische Beheizung individuell einstellbar ist, konfiguriert. According to one embodiment, the optical manipulator as a deformable mirror, in which the optical effect of the zones can be individually adjusted by means of voltage applied to a piezoelectric layer, control electrodes, or as a current-operated thermal manipulator, wherein the optical effect of the zones can be individually adjusted by electrical heating, configured , Das Berechnen des Basiskorrekturvektors erfolgt für zwei benachbarte, elektrisch kurzgeschlossene Zonen des optischen Manipulators. Calculating the base correction vector occurs for two neighboring, electrically shorted zones of the optical manipulator. Gemäß der zweiten Variante ist damit der optische Manipulator als strombetriebener thermischer Manipulator konfiguriert, bei dem die optische Wirkung der Zonen durch elektrische Beheizung individuell eingestellt wird. According to the second variant, so that the optical manipulator is configured as a current-operated thermal manipulator, wherein the optical effect of the zones is individually set by electrical heating. Dabei umfasst das Ermitteln des Basiskorrekturvektors insbesondere weiterhin ein Berechnen eines Basiskorrekturvektors für eine Widerstandsabweichung einer oder mehrerer Zonen des strombetriebenen thermischen Manipulators durch Lösen eines Optimierungsproblems mit vorgegebenen maximal möglichen Stellwegen für die betroffenen Zonen, maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen des thermischen Manipulators und minimaler Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. Thereby determining the base correction vector in particular further comprises calculating a base correction vector for a resistance variation of one or more zones of the current-operated thermal manipulator by solving an optimization problem with predetermined maximum possible adjustment paths for the affected areas, maximum Stellwegbereichen for all other zones of the thermal manipulator and minimal aberration as constraints to determine the base adjustment travel of the base correction vector.
  • Eine weitere erfindungsgemäße Ausführungsform umfasst ein Berechnen und Bereitstellen von Basiskorrekturvektoren für eine Vielzahl von möglichen Kurzschlüssen zwischen zwei benachbarten Zonen eines strombetriebenen thermischen Manipulators. A further embodiment of the invention comprises a calculating and providing correction basis vectors for a plurality of possible short circuits between two adjacent zones of a current-operated thermal manipulator. Insbesondere wird für alle möglichen Kurzschlüsse zwischen allen benachbarten Zonen des Manipulators ein Basiskorrekturvektor berechnet und für die Projektionsbelichtungsanlage bereitgestellt. In particular, a base correction vector is calculated and provided to the projection exposure system for all possible short-circuits between all the adjacent zones of the manipulator. Durch diese Maßnahme steht unmittelbar beim Auftreten eines Kurzschlusses ein entsprechender Basiskorrekturvektor zum Ermitteln eines Korrekturwertvektors zur Verfügung. This measure is immediately upon the occurrence of a short circuit, a corresponding correction vector basis for determining a correction value vector available.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung basiert das Ermitteln des Skalierungsfaktors auf der Differenz der generierten Stellwege für die zwei Zonen mit gleichgeschalteten Steuersignalen, insbesondere die zwei benachbarten, kurzgeschlossenen Zonen, und einer Nominalauslegung des für die Zonen mit gleichgeschalteten Steuersignalen, insbesondere die kurzgeschlossenen Zonen, ermittelten Basiskorrekturvektors. According to a further embodiment of the invention the determination of the scaling factor based on the difference of the generated adjustment paths for the two zones with the same dedicated control signals, in particular the two adjacent short-circuited zones, and a nominal design of the zones with the same dedicated control signals, in particular the short-circuited zones determined base correction vector. Beispielsweise kann mit einer Basisdifferenz zwischen zwei unterschiedlichen Stellwegen, für dessen Korrektur der Basiskorrekturvektor ausgelegt ist, als Skalierungsfaktor das Verhältnis von der Differenz der Stellwege zur Basisdifferenz ermittelt werden. For example, with a base difference between two different adjustment paths, is designed for the correction of the basic correction vector, are determined at the base difference as the scaling factor, the ratio of the difference of the adjustment paths. Zusammen mit dem Basiskorrekturvektor für die kurzgeschlossenen Zonen vereinfacht der so bestimmte Skalierungsfaktor eine Ermittlung einer Vielzahl von unterschiedlichen Korrekturwertvektoren für generierte Stellwegvektoren mit unterschiedlichen, nicht ausführbaren Stellwegen für die kurzgeschlossenen Zonen. Together with the correction vector based on the short-circuited areas thus determined scaling factor simplifying a determination of a plurality of different correction value vectors for Stellwegvektoren generated with different, non-executable adjustment paths for the short-circuited zone.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens enthält der optische Manipulator eine für die Belichtungsstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage transparente Platte, deren optische Wirkung temperaturabhängig ist, wobei die Zonen jeweils separate, elektrisch beheizbare Bereiche der Platte sind, und es erfolgt ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone der transparenten Platte durch eine Beheizung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors. According to a further embodiment of the invention the method of the optical manipulator includes a transparent to the exposure radiation of the projection exposure apparatus plate whose optical effect is temperature dependent, the zones are respectively separate, electrically heatable regions of the plate, and there is an adjustment of the optical power for each zone the transparent plate by a heating in accordance with the travel ranges of the corrected Stellwegvektors. Eine solche Platte ermöglicht wegen der hohen Anzahl von Zonen eine sehr flexible Einstellung des Manipulators zur Kompensation von vielen unterschiedlichen Wellenfrontfehlern. Such a panel enables a very flexible adjustment of the manipulator to compensate for many different wavefront errors due to the high number of zones. Die Platte lässt sich bei dieser Ausführungsform auch mit fehlerhaften Zonen weiterhin zur Kompensation von Wellenfrontfehlern verwenden. The plate can also continue to use with faulty zones to compensate for wavefront errors in this embodiment.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens enthält der optische Manipulator eine zweite, für die Belichtungsstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage transparente Platte, deren optische Wirkung temperaturabhängig ist, wobei weitere Zonen des Manipulators jeweils separate, elektrisch beheizbare Bereiche der zweiten Platte sind, und es erfolgt ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone beider Platten durch eine Beheizung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors. According to a further embodiment of the invention the method of the optical manipulator includes a second transparent to the exposure radiation of the projection exposure apparatus plate whose optical effect is temperature dependent, wherein further zones of the manipulator are each separate, electrically heatable portions of the second plate, and there is an adjustment of the optical effect for each zone of both plates through a heating in accordance with the travel ranges of the corrected Stellwegvektors. Mit dieser Ausführungsform kann ein solcher Manipulator mit einer sehr hohen Anzahl von Zonen auch bei einem stellwegeinschränkenden Defekt einer oder mehrerer Zonen weiterhin verwendet werden. With this embodiment, such a manipulator can be used with a very high number of zones also in a defect stellwegeinschränkenden one or more zones continues.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst der optische Manipulator einen deformierbaren Spiegel, wobei die Zonen jeweils deformierbare Bereiche einer reflektierenden Beschichtung des Spiegels sind, und es erfolgt ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone des deformierbaren Spiegels durch eine Deformierung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors. According to a further embodiment of the invention the method of the optical manipulator comprises a deformable mirror, the zones are each deformable areas of a reflective coating of the mirror, and there is an adjustment of the optical power for each zone of the deformable mirror by a deformation corresponding to the travel ranges of the corrected Stellwegvektors. Die Deformierung kann mittels piezoelektrischer Schichten, durch Druck oder Zug von Aktuatoren in Gestalt von Stößeln oder durch die Beaufschlagung mit Heizlicht bewirkt werden. The deformation may be effected by pressure or train of actuators in the form of plungers or by the application of heating light by means of piezoelectric layers. Manipulatoren mit einem solchen adaptiven Spiegel werden insbesondere bei Projektionsbelichtungsanlagen mit einer Belichtungsstrahlung im tiefen ultravioletten Spektralbereich (DUV und VUV) sowie im extremen ultravioletten Spektralbereich (EUV) verwendet. Manipulators with such an adaptive mirror are particularly used in the projection exposure apparatus with an exposure radiation in the deep ultraviolet region (DUV and VUV) as well as in the extreme ultraviolet spectral range (EUV). Auch diese Manipulatoren lassen sich nun mit einer stellwegeinschränkenden Störung bei einer oder mehreren Zonen weiterhin zur Korrektur von Wellenfrontfehlern verwenden. These manipulators can now be a stellwegeinschränkenden disorder in one or continue to use multiple zones to correct wavefront errors.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform des Verfahrens umfasst der generierte Stellwegvektor zusätzlich Stellwege für mindestens einen weiteren optischen Manipulator der Projektionsbelichtungsanlage, enthält der ermittelte Korrekturwertvektor Korrekturwerte für die Stellwege des weiteren Manipulators, und erfolgt ein Einstellen des weiteren Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors. According to a further embodiment of the method the generated Stellwegvektor additionally comprises adjusting paths for at least one further optical manipulator of the projection exposure apparatus, the correction value vector determined contains correction values ​​for the adjustment paths of the further manipulator, and takes place a setting of the other manipulator with the aid of the corrected Stellwegvektors. Somit wird bei einer Korrektur von nicht vollständig ausführbaren Stellwegen für Zonen des optischen Manipulators auch die einstellbare optische Wirkung des mindestens einen weiteren optischen Manipulators berücksichtigt. Thus, in a correction of not fully executable adjustment paths of zones of the optical manipulator, the adjustable optical effect of the at least one further optical manipulator is considered.
  • Gemäß einer erfindungsgemäßen Ausführungsform der Projektionsbelichtungsanlage ist ein Speicher zum Speichern einer Vielzahl von Korrekturwertvektoren für die Korrektureinrichtung vorgesehen. According to one embodiment of the invention the projection exposure system a memory for storing a plurality of correction value vectors for the correction means is provided. Die Beschaffung eines Korrekturwertvektors durch die Korrektureinrichtung lässt sich durch Zugriff auf die gespeicherten Korrekturwertvektoren schnell durchführen und ermöglicht ein Korrigieren des generierten Stellwegvektors während des Betriebs. Retrieving a correction vector value by the correction means can be performed quickly by accessing the stored correction value and vectors allows correcting the generated Stellwegvektors during operation.
  • Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform der Projektionsbelichtungsanlage ist die Korrektureinrichtung zum Ermitteln eines Basiskorrekturvektors mit Basisstellwegen auf Grundlage des Einschränkungsparameters, zum Ermitteln eines Skalierungsfaktors auf Grundlage des generierten Stellwegvektors und zum Berechnen des Korrekturwertvektors durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor ausgebildet. According to a further embodiment of the invention the projection exposure apparatus, the correction means for determining a basic correction vector with base adjustment paths on the basis of the restriction parameter, configured to determine a scaling factor on the basis of the generated Stellwegvektors and for calculating the correction value vector by scaling the basic correction vector with the determined scale factor. Die nach Vorgabe durch den Einschränkungsparameter für einen nicht vollständig ausführbaren Stellweg ermittelte Basiskorrektur lässt sich durch Skalieren mit dem Skalierungsfaktor auch für viele andere nicht vollständig durchführbare Stellwege zur Korrektur des generierten Stellwegvektors verwenden. The base correction determined as specified by the restriction parameters for a not fully executable adjustment path can be used by scaling by the scaling factor for many other not completely feasible adjustment paths for correction of the generated Stellwegvektors. Entsprechend zum korrespondierenden Verfahrensanspruch wird durch die Verwendung eines Basiskorrekturvektors die Beschaffung von Korrekturwertvektoren für eine Vielzahl von generierten Stellwegvektoren wesentlich vereinfacht. Corresponding to the corresponding method claim retrieving correction value vectors for a plurality of generated Stellwegvektoren is substantially simplified by the use of a base correction vector.
  • Ferner ist bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform der Projektionsbelichtungsanlage ein Speicher zum Speichern einer Vielzahl von Basiskorrekturvektoren für die Korrektureinrichtung vorgesehen. Further, in one embodiment of the invention the projection exposure system a memory for storing a plurality of basic correction vectors for the correction means is provided. Für verschiedene Zonen und unterschiedliche stellwegeinschränkende Störungen ermittelte Basiskorrekturvektoren können in dem Speicher gespeichert und für die Korrektureinrichtung bereitgestellt werden. Base correction vectors determined for different areas and different stellwegeinschränkende disorders can be stored in the memory and provided for the correcting means. Hierdurch wird das Ermitteln eines Basiskorrekturvektors durch die Korrektureinheit beschleunigt und vereinfacht. Thereby determining a base correction vector is accelerated by the correction unit and simplified.
  • Die bezüglich der vorstehend aufgeführten Ausführungsformen, Ausführungsbeispiele bzw. Ausführungsvarianten, etc. des erfindungsgemäßen Verfahrens angegebenen Merkmale können entsprechend auf die erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage übertragen werden. With respect to the embodiments mentioned above, embodiments or variants, etc., of the process of the invention indicated features may be transferred according to the invention the projection exposure system. Umgekehrt können die bezüglich der vorstehend ausgeführten Ausführungsformen, Ausführungsbeispiele bzw. Ausführungsvarianten der erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage angegebenen Merkmale entsprechend auf das erfindungsgemäße Verfahren übertragen werden. Conversely, with respect to the embodiments set forth above, embodiments and variants of the given projection exposure apparatus according to the invention features may be transferred according to the inventive method. Diese und andere Merkmale der erfindungsgemäßen Ausführungsformen werden in der Figurenbeschreibung und den Ansprüchen erläutert. These and other features of the embodiments of the invention are explained in the figure description and the claims. Die einzelnen Merkmale können entweder separat oder in Kombination als Ausführungsformen der Erfindung verwirklicht werden. The individual features can be implemented either separately or in combination as the embodiments of the invention. Weiterhin können sie vorteilhafte Ausführungsformen beschreiben, die selbstständig schutzfähig sind und deren Schutz ggf. erst während oder nach Anhängigkeit der Anmeldung beansprucht wird. Furthermore, they can describe advantageous embodiments that are automatically eligible for protection, and their protection is necessary, claimed only during or after pendency of the application.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnungen Brief Description of Drawings
  • Die vorstehenden, sowie weitere vorteilhafte Merkmale der Erfindung werden in der nachfolgenden detaillierten Beschreibung beispielhafter erfindungsgemäßer Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügten schematischen Zeichnungen veranschaulicht. The foregoing and other advantageous features of the invention are illustrated in the following detailed description of exemplary embodiments of the invention with reference to the accompanying diagrammatic drawings. Es zeigt: It shows:
  • 1 1 ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie in einer schematischen Ansicht, An embodiment of the projection exposure apparatus according to the invention for microlithography, in a schematic view,
  • 2 2 ein erstes Ausführungsbeispiel eines optischen Manipulators der Projektionsbelichtungsanlage nach a first embodiment of an optical manipulator, the projection exposure apparatus according to 1 1 mit einem deformierbaren Spiegel in einem schematischen Querschnitt, with a deformable mirror in a schematic cross-section,
  • 3 3 den optischen Manipulator mit einem deformierbaren Spiegel gemäß the optical manipulator with a deformable mirror according to 2 2 in einem schematischen Querschnitt entlang der Linie AA in in a schematic cross-section along the line AA in 2 2 , .
  • 4 4 ein zweites Ausführungsbeispiel eines optischen Manipulators der Projektionsbelichtungsanlage nach A second embodiment of an optical manipulator, the projection exposure apparatus according to 1 1 mit einem deformierbaren Spiegel in einem schematischen Querschnitt, with a deformable mirror in a schematic cross-section,
  • 5 5 einen Aktuator des optischen Manipulators nach an actuator of the optical manipulator according to 4 4 in einer schematischen Ansicht, in a schematic view,
  • 6 6 den optischen Manipulator mit einem deformierbaren Spiegel gemäß the optical manipulator with a deformable mirror according to 4 4 in einem schematischen Querschnitt entlang der Linie AA in in a schematic cross-section along the line AA in 4 4 , .
  • 7 7 ein drittes Ausführungsbeispiel eines optischen Manipulators der Projektionsbelichtungsanlage nach A third embodiment of an optical manipulator, the projection exposure apparatus according to 1 1 mit einem deformierbaren Spiegel in einem schematischen Querschnitt, with a deformable mirror in a schematic cross-section,
  • 8 8th ein Substrat des deformierbaren Spiegels gemäß a substrate of the deformable mirror according to 7 7 mit elektrischen Zuleitungen in einer schematischen Ansicht, with electrical supply lines, in a schematic view,
  • 9 9 eine Bestrahlungseinrichtung eines durch IR-Strahlung beheizten thermischen Manipulators der Projektionsbelichtungsanlage nach an irradiation device of a heated by IR radiation thermal manipulator of the projection exposure system according to 1 1 in einer schematischen Ansicht, in a schematic view,
  • 10 10 eine schematische Ansicht der Bestrahlung einer Linse durch die Bestrahlungseinrichtung nach a schematic view of the irradiation by the irradiation of a lens device according to 9 9 zur Erzeugung einer Temperaturverteilung mit unterschiedlichen Temperaturen in verschiedenen lokalen Bereichen der Linse, to produce a temperature distribution of different temperatures in different local areas of the lens,
  • 11 11 eine optische Platte eines strombeheizten optischen Manipulators für ein Projektionsobjektiv der Projektionsbelichtungsanlage nach an optical disk of a current-heated optical manipulator for a projection lens of the projection exposure apparatus according to 1 1 in einer schematischen Ansicht, in a schematic view,
  • 12 12 ein Flussdiagramm zur Veranschaulichung eines ersten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens, sowie a flow diagram illustrating a first embodiment of the method according to the invention, and
  • 13 13 ein Flussdiagramm zur Veranschaulichung eines zweiten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens. a flow diagram illustrating a second embodiment of the inventive method.
  • Detaillierte Beschreibung erfindungsgemäßer Ausführungsbeispiele Detailed description of the invention embodiments
  • In den nachstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen bzw. Ausführungsformen oder Ausführungsvarianten sind funktionell oder strukturell einander ähnliche Elemente soweit wie möglich mit den gleichen oder ähnlichen Bezugszeichen versehen. In the hereinafter described embodiments or embodiments or alternative embodiments mutually similar elements are functionally or structurally as far as possible given the same or similar reference numerals. Daher sollte zum Verständnis der Merkmale der einzelnen Elemente eines bestimmten Ausführungsbeispiels auf die Beschreibung anderer Ausführungsbeispiele oder die allgemeine Beschreibung der Erfindung Bezug genommen werden. Therefore, reference should be made to the understanding of the characteristics of the individual elements of a particular embodiment of the description of other embodiments or the general description of the invention. Zur Erleichterung der Beschreibung ist in einigen Zeichnungen ein kartesisches xyz-Koordinatensystem angegeben, aus dem sich die jeweilige Lagebeziehung der in den Figuren dargestellten Komponenten ergibt. For ease of description in some drawings, a Cartesian xyz-coordinate system is specified from the results in the respective positional relationship of the components shown in the figures.
  • 1 1 stellt in einer schematischen Ansicht eine Projektionsbelichtungsanlage provides a schematic view of a projection exposure system 10 10 für die Mikrolithographie zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen, zB integrierten Schaltkreisen, dar. Mit der Projektionsbelichtungsanlage for microlithography for the production of microstructured components, such as integrated circuits. With the projection exposure apparatus 10 10 werden Strukturen einer Maske are structures of a mask 12 12 , auch Retikel genannt, auf eine fotosensitive Schicht eines Substrats , Also called reticle on a photosensitive layer of a substrate 14 14 übertragen. transfer. Als Substrat werden in der Regel so genannte Wafer aus Silizium oder einem anderen Halbleitermaterial verwendet. As the substrate, usually so-called wafer of silicon or another semiconductor material may be used.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage The projection exposure system 10 10 enthält für diesen Zweck eine Strahlungsquelle contains for this purpose a radiation source 16 16 zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung. for generating electromagnetic radiation. Als Strahlungsquelle The radiation source 16 16 wird beispielsweise ein Laser oder dergleichen verwendet, der elektromagnetische Strahlung im UV-Bereich mit einer Wellenlänge von insbesondere etwa 365 nm, 248 nm oder 193 nm erzeugt. For example, a laser or the like is used, the electromagnetic radiation in the UV range having a wavelength of in particular about 365 nm, 248 nm or 193 nm is generated. Alternativ kann die Strahlungsquelle Alternatively, the radiation source 16 16 auch Strahlung mit kleinerer Wellenlänge erzeugen, zB Strahlung im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich (EUV) mit einer Wellenlänge kleiner als 100 nm, insbesondere etwa 13,5 nm oder etwa 6,8 nm. also generate radiation at a smaller wavelength, for example radiation in the extreme ultraviolet wavelength range (EUV) having a wavelength less than 100 nm, especially about 13.5 nm or about 6.8 nm.
  • Die von der Lichtquelle Of the light source 16 16 erzeugte elektromagnetische Strahlung generated electromagnetic radiation 16 16 , auch Belichtungsstrahlung bezeichnet, durchläuft zunächst ein Beleuchtungssystem , Also referred to imaging radiation first passes through an illumination system 18 18 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 . , Das Beleuchtungssystem The lighting system 18 18 enthält eine Vielzahl von optischen Elementen includes a plurality of optical elements 20 20 , beispielsweise Linsen oder Spiegel, von denen in Such as lenses or mirrors, of which 1 1 neben einem Umlenkspiegel nur eines symbolisch dargestellt ist. in addition to a deflection mirror only one is shown symbolically. Das Beleuchtungssystem The lighting system 18 18 dient zur Beleuchtung der Maske serves to illuminate the mask 12 12 mit einem geeigneten Beleuchtungsstrahl. with a suitable illumination beam. Dazu formt das Beleuchtungssystem These shapes the lighting system 18 18 die Strahlung mittels der optischen Elemente the radiation by means of the optical elements 20 20 derart, dass die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Form des Strahlquerschnitts, Form der Wellenfront, Polarisation und dergleichen aufweist. such that the desired properties in terms of shape of the beam cross-section, the form of the wave front, polarization and the like has. Beispielsweise enthält das Beleuchtungssystem einen Scannerschlitz zum kontinuierlichen Scannen der Maske For example, the lighting system includes a scanner slot for continuously scanning the mask 12 12 durch einen Beleuchtungsstrahl mit rechteckigem Querschnitt und ermöglicht eine Dipol-, Quadrupol- oder Multipol-Beleuchtung, wobei die einzelnen Punkte auf der Maske by an illumination beam having a rectangular cross section and allows a dipole, quadrupole or multipole illumination, the individual points on the mask 12 12 jeweils aus unterschiedlichen Richtungen angestrahlt werden. are illuminated from different directions respectively. Die Maske The mask 12 12 ist in diesem Ausführungsbeispiel als Transmissionsmaske ausgebildet. is designed as a transmission mask in this embodiment. Insbesondere für die EUV-Lithographie kann die Maske alternativ auch als Reflexionsmaske ausgeführt sein. In particular for EUV lithography, the mask can alternatively be configured as a reflection mask.
  • Ein Projektionsobjektiv A projection lens 22 22 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 bildet die Strukturen der in einer Objektebene the structures of the forms in an object plane 24 24 des Projektionsobjektivs the projection lens 22 22 angeordneten Maske arranged mask 12 12 in eine Bildebene in an image plane 26 26 ab, in der die fotosensitive Schicht des Substrats from, in which the photosensitive layer of the substrate 14 14 positioniert ist. is positioned. Hierfür enthält das Projektionsobjektiv For this purpose, includes the projection lens 22 22 eine Vielzahl von einen Strahlengang a plurality of an optical path 48 48 des Projektionsobjektivs definierenden optischen Elementen, welche abhängig vom Design des Projektionsobjektivs of the projection lens defining optical elements, which depending on the design of the projection objective 22 22 und der Strahlungswellenlänge als Linsen, Spiegel oder dergleichen ausgeführt sind. and the radiation wavelength as lenses, mirrors or the like are executed. In In 1 1 werden exemplarisch ein optisches Element in Gestalt einer Linse are exemplarily an optical element in the form of a lens 28 28 sowie ein optisches Element in Gestalt eines Spiegels and an optical element in the form of a mirror 70 70 dargestellt. shown.
  • Weiterhin enthält die Projektionsbeleuchtungsanlage Further includes the projection lighting system 10 10 eine Positionierungsvorrichtung a positioning device 30 30 zur Aufnahme und exakten Positionierung der Maske und eine Positionierungsvorrichtung for receiving and accurately positioning the mask and a positioning device 32 32 zur Fixierung, Bewegung und exakten Positionierung des Substrats for fixation, movement and precise positioning of the substrate 14 14 . , Die Positionierungsvorrichtung The positioning device 30 30 für die Maske for the mask 12 12 ermöglicht auch während des Betriebs mit Hilfe von Aktuatoren eine räumliche Verschiebung, Drehung oder Neigung der Maske allow, even during operation with the aid of actuators a spatial displacement, rotation or tilt of the mask 12 12 . , Auch kann die Positionierungsvorrichtung Also, the positioning device 30 30 für einen Scan-Betrieb zum Verfahren der Maske for a scan operation for moving the mask 12 12 senkrecht zu einer optischen Achse perpendicular to an optical axis 34 34 des Projektionsobjektivs the projection lens 22 22 ausgebildet sein. be formed.
  • Entsprechend ist auch die Positionierungsvorrichtung Correspondingly, the positioning device 32 32 für das Substrat for the substrate 14 14 mittels Aktuatoren zur räumlichen Verschiebung, Drehung oder Neigung des Substrats by means of actuators for the spatial displacement, rotation or tilt of the substrate 14 14 während des Betriebs ausgebildet. formed during operation. Weiterhin ermöglicht die Positionierungsvorrichtung Further allows the positioning device 32 32 ein Verfahren des Substrats a method of the substrate 14 14 senkrecht zur optischen Achse perpendicular to optical axis 34 34 für einen Stepper- oder Scanner-Betrieb. for a stepper or scanner operation.
  • Bei der Abbildung der Strukturen der Maske When mapping the structures of the mask 12 12 auf das Substrat to the substrate 14 14 sollen Abbildungsfehler des Projektionsobjektivs are aberrations of the projection lens 22 22 möglichst klein gehalten werden. be kept as small as possible. Neben Abbildungsfehlern infolge von Fertigungs- und Montagetoleranzen können auch erst während eines Betriebes der Projektionsbelichtungsanlage In addition to imaging errors due to manufacturing and assembly tolerances can also only during operation of the projection exposure system 10 10 Abbildungsfehler im Projektionsobjektiv Aberrations in the projection objective 22 22 auftreten. occur. So kann es bei Linsen So it can with lenses 28 28 an Orten, die über längere Zeit einer besonders hohen Lichtintensität ausgesetzt sind, zum Auftreten von Alterungseffekten, beispielsweise zu einer Verdichtung (engl. compaction) oder einer Verringerung der Dichte (engl. rarefaction) des Materials und somit zu einer lokal begrenzten Formänderung kommen. at locations which are exposed to prolonged a particularly high light intensity, the occurrence of aging effects, for example, a compaction (engl. compaction), or a reduction in density (engl. rarefaction) of the material and thus lead to a localized change in shape.
  • Eine weitere Ursache für betriebsbedingte Abbildungsfehler ist eine lokale Erwärmung einzelner optischer Elemente, wie etwa von Linsen Another cause of operational aberrations is a local heating of individual optical elements such as lenses 28 28 , durch eine unvermeidbare Absorption eines Anteils der durchtretenden elektromagnetischen Strahlung. By an inevitable absorption of a proportion of the penetrating electromagnetic radiation. Hierdurch können lokale Änderungen der Oberflächengeometrie durch Ausdehnung oder mechanische Spannung auftreten. In this way, may occur due to expansion or mechanical stress local changes in the surface geometry. Auch kann es zu einer Änderung der Materialeigenschaften, wie dem Brechungsindex, kommen. Also, there may be a change in the material properties such as the refractive index.
  • Abbildungsfehler von Objektiven werden häufig als Abweichung einer gemessenen realen optischen Wellenfront von einer idealen optischen Wellenfront beschrieben. Imaging errors of lenses are often described as the deviation of a measured actual optical wavefront from an ideal optical wavefront. Die Abweichung wird auch als Wellenfrontdeformation oder Wellenfrontfehler bezeichnet und lässt sich durch eine Reihenentwicklung in einzelne Anteile zerlegen. The deviation is also known as wavefront deformation or wavefront error and can be broken down by a series expansion into individual portions. Eine Zerlegung nach Zernike-Polynome hat sich dabei als besonders geeignet erwiesen, da die einzelnen Terme der Zerlegung jeweils bestimmten Abbildungsfehlern wie beispielsweise Astigmatismus oder Koma zugeordnet werden können. A decomposition by Zernike polynomials has been found to be particularly useful because the individual terms of the decomposition of each particular imaging errors such as coma or astigmatism can be assigned. Eine Definition der Zernike-Funktionen wird zB in A definition of the Zernike functions, for example is in US 2011/0216303 A1 US 2011/0216303 A1 dargestellt. shown.
  • Das Projektionsobjektiv The projection lens 22 22 enthält zur Kompensation von solchen während des Betriebs auftretenden oder sich ändernden Wellenfrontfehlern mindestens einen optischen Manipulator includes to compensate for such occurring during operation or changing wavefront errors at least one optical manipulator 136 136 , . 236 236 bzw. or. 336 336 mit einer Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs with a variety of over a cross section of the beam path 48 48 verteilten Zonen mit separat einstellbarer optischer Wirkung. distributed zones with separately variable optical effect. Zu Veranschaulichungszwecken sind in dem Projektionsobjektiv For illustrative purposes, in the projection lens 22 22 exemplarisch ein optischer Manipulator by way of example, an optical manipulator 136 136 mit einem deformierbaren Spiegel with a deformable mirror 70 70 , ein durch Infrarotlichtbestrahlung beheizter thermischer Manipulator , Heated by infrared light irradiation thermal Manipulator 236 236 und ein strombeheizter thermischer Manipulator and a current-heated thermal manipulator 336 336 vorgesehen. intended. In alternativen Ausführungen können sowohl eine andere Anzahl von optischen Manipulatoren als auch andersartig aufgebaute Manipulatoren mit einer Vielzahl von in ihrer optischen Wirkung individuell einstellbaren Zonen verwendet werden. In alternative embodiments, both a different number of optical manipulators and other manipulators similar structure with a variety of individually adjustable in their optical effect zones can be used.
  • Der optische Manipulator The optical manipulator 136 136 umfasst den deformierbaren Spiegel includes the deformable mirror 70 70 sowie eine Manipulationseinrichtung and a manipulation device 138 138 . , Der optische Manipulator The optical manipulator 136 136 kann in einer Feld- oder Pupillenebene des Projektionsobjektivs may be in a field or pupil plane of the projection objective 22 22 oder intermediär, dh zwischen Feld- und Pupillenebene, angeordnet werden. or intermediate, that is, are arranged between field and pupil plane. Der Spiegel The mirror 70 70 des optischen Manipulators the optical manipulator 136 136 ist als adaptiver Spiegel mit einer Vielzahl von separat deformierbaren Bereichen einer reflektierenden Beschichtung als individuell in ihrer optischen Wirkung einstellbare Zonen ausgebildet. is formed as an adaptive mirror with a plurality of separately deformable areas of a reflective coating to be individually adjustable in their optical effect zones. Eine Deformierung einer Zone erfolgt durch die Manipulationseinrichtung takes place a deformation of a zone through the manipulation device 138 138 . , Ein optischer Manipulator An optical manipulator 136 136 mit einem solchen Spiegel eignet sich insbesondere für eine elektromagnetische Belichtungsstrahlung im EUV-Spektralbereich. with such a mirror is particularly suitable for electromagnetic exposure radiation in the EUV spectral range.
  • In In 2 2 wird ein erstes Ausführungsbeispiel is a first embodiment 136a 136a des optischen Manipulators the optical manipulator 136 136 mit einem deformierbaren konkaven Spiegel with a deformable concave mirror 70 70 und Aktuatoren and actuators 140 140 dargestellt, welche senkrecht (in -Y-Richtung) gegen die Rückseite shown, which are perpendicular (in -Y direction) against the rear side 142 142 des Spiegels of the mirror 70 70 einwirken. act. Ein solcher optischer Manipulator Such an optical manipulator 136 136 wird zB in der is, for example, in the JP 2013-161992 A JP 2013-161992 A beschrieben. described. Der Spiegel The mirror 70 70 weist eine reflektierende Beschichtung includes a reflective coating 144 144 an seiner Vorderseite auf und wird von einer Spiegelhaltung on its front side and is of a mirror-attitude 145 145 fixiert. fixed. Der Manipulator the manipulator 136 136 enthält weiterhin eine Manipulationseinrichtung further includes a manipulating means 138 138 mit einem Gehäuse with a housing 148 148 und einer Vielzahl von daran befestigten Aktuatoren and a plurality of actuators attached thereto 140 140 . , Jeder Aktuator each actuator 140 140 verfügt über einen Drucksensor has a pressure sensor 150 150 , ein Antriebselement , A drive member 152 152 , eine Feder , a feather 154 154 und ein Kontaktelement and a contact element 156 156 . , Das Antriebselement The driving element 152 152 ist in Y-Richtung expandierbar und zusammenziehbar ausgebildet und kann für diesen Zweck beispielsweise ein piezoelektrisches Element oder einen Ultraschallmotor aufweisen. is formed expandable and contractible in the Y-direction and may for example comprise a piezoelectric element or an ultrasonic motor for this purpose. Je nach Ausdehnung des Antriebselements Depending on the extent of the drive member 152 152 wirkt über die Feder acts through the spring 154 154 und das Kontaktelement and the contact element 156 156 eine entsprechende Kraft im Kontaktbereich auf die Rückseite a corresponding force in the contact area on the back side 142 142 des Spiegels of the mirror 70 70 . , Hierdurch erfolgt eine lokale Deformation der reflektierenden Beschichtung This results in a local deformation of the reflective coating 144 144 . , Die einwirkende Kraft wird von dem Drucksensor The acting force of the pressure sensor 150 150 erfasst und kann von einer nicht dargestellten Steuerung zum Einstellen einer vorgegebenen Deformation verarbeitet werden. detected and can be processed by an unillustrated controller for adjusting a predetermined deformation.
  • 3 3 zeigt einen Querschnitt des optischen Manipulators shows a cross section of the optical manipulator 136a 136a entlang der Linie AA in taken along the line AA in 2 2 . , Die Aktuatoren the actuators 140 140 sind symmetrisch zur optischen Achse are symmetrical to the optical axis 158 158 des Spiegels of the mirror 70 70 an dessen Rückseite at the rear 142 142 angeordnet. arranged. Jeder Aktuator each actuator 140 140 lässt sich einzeln ansteuern und verursacht an seinem Druckbereich eine lokale Verformung des Spiegels can be controlled individually and causes at its pressure range, local deformation of the mirror 70 70 . , Diese Druckbereiche stellen somit individuell in ihrer optischen Wirkung einstellbare Zonen These pressure ranges thus represent individually in their optical effect adjustable zones 146 146 des optischen Manipulators the optical manipulator 136a 136a dar. represents.
  • In In 4 4 wird ein zweites Ausführungsbeispiel is a second embodiment of 136b 136b des optischen Manipulators the optical manipulator 136 136 mit einem deformierbaren konkaven Spiegel with a deformable concave mirror 70 70 dargestellt, wie es beispielsweise in der shown, as for example, in JP 2013-106014 JP 2013-106014 offenbart wird. is disclosed. Der Spiegel The mirror 70 70 wird von einer Spiegelhalterung is of a mirror mount 145 145 fixiert und verfügt an seiner Vorderseite über eine reflektierende Beschichtung fixed and has on its front side a reflective coating 144 144 . , Weiterhin enthält der optische Manipulator Further includes the optical manipulator 136b 136b eine Manipulationseinrichtung a manipulation device 138 138 mit einer Vielzahl von Aktuatoren with a plurality of actuators 140 140 . , Die Aktuatoren the actuators 140 140 sind an einer Trägerplatte are on a support plate 160 160 befestigt und wirken auf Spiegelpfosten mounted and act on the mirror post 164 164 ein, welche an der Rückseite a, which at the rear 142 142 des Spiegels of the mirror 70 70 befestigt sind und sich in Y-Richtung durch Ausnehmungen are fixed and in the Y direction by recesses 162 162 in der Trägerplatte in the carrier plate 160 160 erstrecken. extend. Im Gegensatz zum Ausführungsbeispiel nach In contrast to the embodiment according 2 2 üben die Aktuatoren practice the actuators 140 140 eine Kraft in X- und Z-Richtung, dh parallel zur Rückseite a force in X- and Z-direction, ie parallel to the back 142 142 des Spiegels of the mirror 70 70 , und somit seitlich auf die Spiegelpfosten And thus the side of the mirror post 164 164 aus und bewirken so eine lokale Deformation der reflektierenden Beschichtung and so cause a local deformation of the reflective coating 144 144 des Spiegels of the mirror 70 70 . , Weiterhin enthält der optische Manipulator Further includes the optical manipulator 136b 136b ein Gehäuse a housing 148 148 , an dem Positionssensoren At which position sensors 166 166 zur Bestimmung der XZ-Auslenkung der Spiegelpfosten for determining the XZ-deflection of the mirror post 162 162 angeordnet sind. are arranged.
  • 5 5 zeigt einen Aktuator shows an actuator 140 140 des optischen Manipulators the optical manipulator 136 136 nach after 4 4 in einer detaillierten schematischen Ansicht. in a detailed schematic view. Der Aktuator the actuator 140 140 enthält ein Antriebselement includes a driving member 152 152 . , Das Antriebselement The driving element 152 152 ist an der Trägerplatte is on the carrier plate 160 160 befestigt und kann sich in Y-Richtung ausdehnen oder zusammenziehen. fixed and may extend in the Y direction or contract. Ein sich dabei bewegendes Ende des Antriebselements A while moving the end of the drive element 152 152 wirkt auf einen Arm eines L-förmigen Hebels acts on one arm of a L-shaped lever 168 168 ein, welcher schwenkbar an der Trägerplatte a, which is pivotally on the support plate 160 160 befestigt ist. is attached. Ein anderer Arm des Hebels Another arm of the lever 168 168 bewegt sich dadurch bei diesem Aktuator thereby moves in this actuator 140 140 in X-Richtung und wirkt über ein Verbindungselement in the X direction and acts via a connecting element 170 170 auf den Spiegelpfosten on the mirror post 164 164 ein. on. Der Spiegelpfosten The mirror post 164 164 ist durch eine Feder is a spring 172 172 vorgespannt und erstreckt sich durch die Ausnehmung in Richtung Spiegel biased and extends through the recess in the direction of mirror 70 70 . , Mit einem Befestigungselement With a fastening element 174 174 ist der Spiegelpfosten is the mirror post 164 164 an einem aus der Rückseite at one of the back 142 142 hervorstehenden Teil protruding part 176 176 des Spiegels of the mirror 70 70 befestigt. attached. Für eine Auslenkung des Spiegelpfostens For a deflection of the mirror post 164 164 in Z-Richtung enthält der Aktuator in the Z direction, the actuator includes 140 140 ein weiteres Antriebselement, einen entsprechend angeordneten Hebel mit einem Verbindungselement und eine weitere Feder. a further drive member, a correspondingly arranged lever with a connecting element and a further spring.
  • 6 6 zeigt einen Querschnitt des optischen Manipulators shows a cross section of the optical manipulator 136b 136b gemäß according to 4 4 entlang der Linie AA in taken along the line AA in 4 4 . , Deutlich zu erkennen ist, dass jeder Aktuatoren It is clearly evident that each actuator 140 140 jeweils eine Feder in each case a spring 172 172 und ein Antriebselement and a drive member 152 152 für eine Auslenkung des Spiegelpfostens for a deflection of the mirror post 164 164 in X-Richtung und in Z-Richtung aufweist. has in the X direction and in the Z direction. Die Aktuatoren sind teilweise symmetrisch zur optischen Achse The actuators are partially symmetrically to the optical axis 158 158 des Spiegels of the mirror 70 70 an dessen Rückseite at the rear 142 142 angeordnet. arranged. Jeder Aktuator each actuator 140 140 lässt sich einzeln ansteuern und verursacht eine lokale Verformung der reflektiven Beschichtung can be controlled individually and causes a local deformation of the reflective coating 144 144 des Spiegels of the mirror 70 70 . , Diese lokalen Bereiche bei den Aktuatoren These local areas in the actuators 140 140 stellen separat in ihrer optischen Wirkung einstellbare Zonen provide separately adjustable zones in their optical effect 146 146 des optischen Manipulators the optical manipulator 136b 136b dar. represents.
  • In In 7 7 wird ein drittes Ausführungsbeispiel is a third embodiment 136c 136c eines optischen Manipulators an optical manipulator 136 136 mit einem deformierbaren konkaven Spiegel with a deformable concave mirror 70 70 in einem schematischen Querschnitt dargestellt. shown in a schematic cross-section. Der optische Manipulator The optical manipulator 136c 136c enthält unter einer reflektierenden Beschichtung includes, among a reflective coating 144 144 eine piezoelektrische Schicht a piezoelectric layer 180 180 , mit der durch lokales Anlegen einer elektrischen Spannung eine lokale Deformation der reflektierenden Beschichtung With which by locally applying an electric voltage, a local deformation of the reflective coating 144 144 bewirkt werden kann. can be effected. Ein solcher optischer Manipulator Such an optical manipulator 136c 136c wird zB in der is, for example, in the DE 10 2011 081 603 A1 DE 10 2011 081 603 A1 beschrieben. described.
  • Der optische Manipulator The optical manipulator 136c 136c umfasst ein konkav ausgeformtes Substrat includes a concave molded substrate 182 182 , auf dem eine Vielzahl von elektrischen Leitungen On which a plurality of electric lines 184 184 angeordnet ist. is arranged. 8 8th zeigt in einer Draufsicht eine beispielhafte Anordnung der elektrischen Leitungen shows a top view of an exemplary arrangement of the electric lines 184 184 auf dem Substrat on the substrate 182 182 . , Jede elektrische Leitung Each electrical lead 184 184 enthält eine erste Kontaktfläche includes a first contact surface 185 185 in unmittelbarer Nähe des Umfangs des Substrats in the immediate vicinity of the periphery of the substrate 182 182 . , Weiterhin enthält jede elektrische Leitung Further includes any electrical line 184 184 eine zweite Kontaktfläche a second contact surface 186 186 , die bei einer Durchkontaktierung in einer über den elektrischen Leitungen That in a via in an electric over the lines 184 184 vorgesehenen Isolationsschicht provided insulation layer 190 190 angeordnet ist. is arranged. Die Isolationsschicht The insulation layer 190 190 trägt eine Schicht aus flächig ausgebildeten Steuerelektroden carrying a layer of planar design control electrodes 192 192 , welche jeweils über eine Durchkontaktierung Which in each case via a through- 188 188 elektrisch mit der entsprechenden elektrischen Leitung electrically connected to the corresponding electrical line 184 184 verbunden sind. are connected. Auf den Steuerelektroden On the control electrodes 192 192 ist die piezoelektrische Schicht is the piezoelectric layer 180 180 angeordnet, welche ihrerseits eine Gegenelektrode arranged, which in turn is a counter electrode 194 194 trägt. wearing. Die Gegenelektrode The counter electrode 194 194 erstreckt sich über die gesamte piezoelektrische Schicht extends over the entire piezoelectric layer 180 180 und trägt eine Schutzschicht and carries a protective layer 196 196 . , Auf der Schutzschicht On the protective layer 196 196 ist schließlich die reflektierende Beschichtung Finally, the reflective coating 144 144 angeordnet. arranged. Durch Anlegen einer entsprechenden Spannung zwischen einer ersten Kontaktfläche By applying an appropriate voltage between a first contact surface 185 185 und der Gegenelektrode and the counter electrode 194 194 wird eine lokale Verformung der piezoelektrischen Schicht is a local deformation of the piezoelectric layer 180 180 im Bereich der zugehörigen Steuerelektrode in the region of the associated control electrode 192 192 erzielt. achieved. Die lokalen Bereiche der reflektierenden Beschichtung The local areas of the reflective coating 144 144 bei jeder der Steuerelektroden in each of the control electrodes 192 192 stellen somit individuell in ihrer optischen Wirkung einstellbare Zonen thus represent individually in their optical effect adjustable zones 146 146 des optischen Manipulators the optical manipulator 136c 136c dar. Im Fall eines Kurzschlusses zweier benachbarter Steuerelektroden . In the case of a short circuit between two adjacent control electrodes 192 192 erfolgt eine fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale der zugehörigen Zonen carried out an erroneous DC circuit of the control signals of the associated zones 146 146 . , In diesem Fall lässt sich nur ein einheitlicher Stellweg für die betroffenen Zonen In this case, leaving only a single actuator travel to the affected areas 146 146 einstellen. to adjust.
  • Der in in 1 1 dargestellte thermische Manipulator illustrated thermal manipulator 236 236 mit einer Infrarotlichtbestrahlung von lokalen Bereichen der Linse with an infrared light irradiation of local areas of the lens 28 28 umfasst eine Vielzahl von Bestrahlungseinheiten includes a plurality of irradiation units 238 238 , welche von einer Infrarotlichtquelle That of an infrared light source 240 240 bereitgestelltes infrarotes Licht jeweils mit einer einstellbaren Intensität auf einen bestimmten Bereich bzw. eine Zone der Linse -provided infrared light each having an adjustable intensity to a certain range or zone of the lens 28 28 einstrahlen. radiate. Der thermische Manipulator The thermal manipulator 236 236 kann in einer Feld- oder Pupillenebene des Projektionsobjektivs may be in a field or pupil plane of the projection objective 22 22 oder intermediär, dh zwischen Feld- und Pupillenebene, angeordnet werden. or intermediate, that is, are arranged between field and pupil plane. Ein thermischer Manipulator A thermal manipulator 236 236 , der Infrarotlicht auf einen bestimmten Bereich bzw. eine Zone der Linse , The infrared light to a specific region or zone of the lens 28 28 einstrahlt, eignet sich insbesondere für eine elektromagnetische Belichtungsstrahlung im tiefen ultravioletten DUV- oder VUV-Spektralbereich. irradiates, is particularly suitable for electromagnetic exposure radiation in the deep ultraviolet DUV or VUV spectral region.
  • In In 9 9 wird eine Ausführungsform eines solchen thermischen Manipulators An embodiment of such a thermal manipulator 236 236 schematisch dargestellt, wie sie zB in der shown schematically, as described for example in the US 2008/0204682 A1 US 2008/0204682 A1 offenbart wird. is disclosed. Die Infrarotlichtquelle The infrared light source 240 240 erzeugt als Heizstrahlung Infrarotstrahlung generated as heat radiation infrared radiation 244 244 . , Die IR-Strahlung The IR radiation 244 244 breitet sich in Richtung eines fotoelektronischen Sensors propagates in the direction of a photo-electronic sensor 245 245 aus. out. In diesem Strahlengang ist hintereinander eine Vielzahl von schwenkbaren Umlenkspiegeln In this beam path behind the other a plurality of pivotable deflecting mirrors 248 248 angeordnet. arranged. In einer ersten Drehposition befindet sich ein jeweiliger der schwenkbaren Umlenkspiegel In a first rotational position, there is a respective one of the pivotable deflection mirror 248 248 außerhalb des Strahlengangs der IR-Strahlung outside the beam path of the IR radiation 244 244 und lässt diese in Richtung des fotoelektrischen Sensors and takes them in the direction of the photoelectric sensor 245 245 passieren. happen. In einer zweiten Drehposition lenkt jeder der Umlenkspiegel In a second rotational position of each deflecting mirror directs the 248 248 die IR-Strahlung IR radiation 244 244 derart um, dass diese in einen jeweiligen Lichtwellenleiter so that these in a respective optical waveguide 250 250 eingekoppelt wird. is coupled. Durch den Lichtwellenleiter By the optical waveguide 250 250 wird die IR-Strahlung is the IR radiation 244 244 zu einer Bestrahlungseinheit an irradiation unit 238 238 geführt. guided. Für jede Bestrahlungseinheit For each irradiation unit 238 238 ist ein Umlenkspiegel is a deflection mirror 248 248 und ein Lichtwellenleiter and an optical waveguide 250 250 vorgesehen. intended.
  • In einer Bestrahlungseinheit In an irradiation unit 238 238 durchläuft die IR-Strahlung passes through the IR radiation 244 244 nach Austritt aus dem Lichtwellenleiter after emerging from the optical waveguide 250 250 zunächst eine erste Kondensorlinse First, a first condenser lens 252 252 und anschließend einen Strahlteiler and then a beam splitter 254 254 . , Der Strahlteiler The beam splitter 254 254 lenkt einen geringen Anteil der IR-Strahlung directs a small proportion of the IR radiation 244 244 auf einen fotoelektrischen Sensor on a photoelectric sensor 256 256 . , Der weitaus größere Anteil der IR-Strahlung By far the greater proportion of the IR radiation 244 244 tritt durch eine zweite Kondensorlinse passes through a second condenser lens 258 258 aus der Bestrahlungseinheit from the irradiation unit 238 238 aus und bestrahlt einen bestimmten Bereich der Linse and irradiating a predetermined portion of the lens 28 28 . , Dazu werden alle Bestrahlungseinheiten These are all radiation units 238 238 von einer geeignet ausgebildeten Halterung by a suitably shaped bracket 260 260 entsprechend ausgerichtet gehalten. kept correspondingly aligned. Die Intensität der Bestrahlung und somit die Temperaturerhöhung ist für jeden Bereich bzw. jede Zone auf der Linse The intensity of the irradiation and thus the temperature increase for each area or zone on the lens 28 28 direkt von der Dauer und Häufigkeit abhängig, mit der der jeweilige Umlenkspiegel directly dependent on the duration and frequency with which the respective deflection mirror 248 248 die IR-Strahlung IR radiation 244 244 in den entsprechenden Lichtwellenleiter in the corresponding optical fiber 250 250 einkoppelt. couples. Die Intensität der IR-Strahlung lässt sich durch die fotoelektrischen Sensoren The intensity of the IR radiation can be achieved by the photoelectric sensors 256 256 für jede Zone erfassen. recorded for each zone.
  • 10 10 zeigt eine schematische Ansicht der Bestrahlung der Linse shows a schematic view of the irradiation of the lens 28 28 durch die Bestrahlungseinheiten by the irradiation units 238 238 gemäß according to 9 9 zur Erzeugung einer Temperaturverteilung mit unterschiedlichen Temperaturen in verschiedenen lokalen Zonen to produce a temperature distribution of different temperatures in different local zones 246 246 der Linse the lens 28 28 . , Große Kreise symbolisieren eine hohe Intensität der Bestrahlung und kleinere Kreise eine geringere Intensität. Large circles represent a high intensity irradiation and smaller circles a lower intensity. Ebenfalls dargestellt ist ein beispielhafter Querschnitt Also shown is an exemplary cross-sectional 264 264 des Belichtungsstrahlengangs the exposure beam path 48 48 , welcher im dargestellten Fall asymmetrisch ist. Which is asymmetrical in the illustrated case. Auch die Belichtungsstrahlung führt zu einer, in diesem Fall unerwünschten, Temperaturerhöhung im Bereich des Querschnitts Also, the exposing radiation resulting in an undesirable in this case, temperature rise in the area of ​​the cross section 264 264 . , Durch eine Temperaturerhöhung verändern sich temperaturabhängige optische Eigenschaften des Linsenmaterials, wie beispielsweise der Brechungsindex. By a temperature increase, temperature-dependent optical properties of the lens material, such as the refractive index change. Durch eine geeignete Bestrahlung der Linse By suitable irradiation of the lens 28 28 mit den Bestrahlungseinheiten with the radiation units 238 238 lassen sich durch die Belichtungsstrahlung induzierte Veränderungen der optischen Eigenschaften der Linse are represented by the exposure radiation induced changes in the optical properties of the lens 28 28 kompensieren. compensate.
  • Der in in 1 1 dargestellte optische Manipulator illustrated optical manipulator 336 336 ist gemäß einem Ausführungsbeispiel als strombeheizter bzw. strombetriebener thermischer Manipulator ausgebildet und enthält als optische Elemente eine transparente erste optische Platte is formed according to an embodiment of a current-heated or current-operated thermal manipulator and includes as optical members a transparent first optical disk 338 338 und eine transparente zweite optische Platte and a transparent second optical disk 340 340 . , Die optischen Platten The optical disks 338 338 , . 340 340 sind senkrecht zur optischen Achse are perpendicular to the optical axis 34 34 im Strahlengang des Projektionsobjektivs in the beam path of the projection lens 22 22 angeordnet und lassen sich jeweils lokal über sehr kleine elektrisch leitende und ohmsche Strukturen beheizen. arranged and can be heated locally in each case for very small electrically conductive and resistive structures. Zwischen den optischen Platten Between the optical disks 338 338 , . 340 340 ist ein Spalt A gap 342 342 ausgebildet, durch den zur Kühlung eine Luftströmung formed by the air flow for cooling 344 344 geführt wird. to be led.
  • 11 11 zeigt die erste optische Platte shows the first optical disk 338 338 in einer schematischen Ansicht. in a schematic view. Die Platte The plate 338 338 enthält eine zweidimensionale Matrix aus separat beheizbaren Zonen contains a two-dimensional matrix of separate heatable zones 346 346 . , In diesem Ausführungsbeispiel weist die erste optische Platte In this embodiment, the first optical disk 338 338 eine 14×14-Matrix von Zonen a 14 x 14 matrix of zones 346 346 auf. on. Dabei sind Here are 96 96 separat beheizbare Zonen separately heated zones 346 346 optisch wirksam im Strahlengang optically active in the beam path 48 48 des Projektionsobjektivs the projection lens 22 22 angeordnet. arranged. Die zweite optische Platte The second optical disk 340 340 ist entsprechend ausgebildet, so dass der optische Manipulator is formed accordingly, so that the optical manipulator 336 336 insgesamt a total of 192 192 beheizbare Zonen heated zones 346 346 im Strahlengang in the beam path 48 48 aufweist. having. Alternativ ist auch eine andere Anzahl, Anordnung und Form der Zonen Alternatively, a different number, arrangement and shape of the zones 346 346 möglich, zB können die Zonen radial angeordnet oder als Streifen oder kreisbogenförmig ausgebildet sein. possible, for example, may be radially arranged or formed as stripes or circular arc-shaped zones. Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen weist die erste optische Platte According to further embodiments, the first optical disk 338 338 eine Matrix mit mindestens 5×5 Zonen, insbesondere eine Matrix mit mindestens 10×10 Zonen, beispielsweise eine Matrix mit 10×10 Zonen oder eine Matrix mit 21×21 Zonen auf. a matrix with at least 5 x 5 zones, in particular a matrix comprising at least 10 x 10 zones, for example a matrix having 10 x 10 zones or a matrix of 21 × 21 zones.
  • Eine Beheizung der Zonen Heating of the zones 346 346 erfolgt stets so, dass sich gegenüber der Umgebungstemperatur kältere und wärmere Bereiche insgesamt ausgleichen. always takes place so that relative to the ambient temperature to compensate for colder and warmer areas as a whole. Zusätzlich werden Zonen In addition, zones 346 346 am Rand der optischen Platten at the edge of the optical disks 338 338 , . 340 340 mit thermischem Kontakt zu anderen Komponenten der Projektionsobjektivs with thermal contact to other components of the projection objective 22 22 aktiv auf Umgebungstemperatur beheizt. actively heated to ambient temperature. Auf diese Weise wird eine thermische Neutralität des optischen Manipulators In this way, a thermal neutrality of the optical manipulator 336 336 gewährleistet. guaranteed.
  • Die optischen Platten The optical disks 338 338 , . 340 340 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 sind in diesem Ausführungsbeispiel als planparallele Quarzplatten ausgebildet. are formed as plane-parallel quartz plates in this embodiment. Alternativ kann der optische Manipulator zB nur eine optische Platte, mehr als zwei optische Platten, nicht planparallele Platten oder eine oder mehrere Linsen oder dergleichen mit einer Vielzahl von beheizbaren Zonen enthalten. Alternatively, the optical manipulator can, for example, only an optical disc more than two optical disks, not plane-parallel plates, or one or more lenses or the like having a plurality of heated zones.
  • In Quarz führt bei einer Wellenlänge von In leads quartz at a wavelength of 193 193 nm eine Temperaturerhöhung zu einer Erhöhung des Brechungsindex. nm, a temperature increase in an increase in the refractive index. Dieser Effekt ist ua die Ursache für Wellenfrontfehler durch Linsenaufheizung (engl. Lens Heating). This effect is, inter alia, the cause of wavefront aberration by the lens heating (engl. Lens Heating). Bei dem optischen Manipulator In the optical manipulator 336 336 wird dieser Effekt zur Erzeugung einer Wellenfrontdeformation verwendet, welche einen momentan auftretenden Wellenfrontfehler in dem Projektionsobjektiv This effect is used to generate a wavefront deformation which a wavefront error currently occurring in the projection lens 22 22 kompensiert. compensated.
  • Durch die hohe Anzahl von Zonen Due to the high number of zones 346 346 lässt sich der optische Manipulator allows the optical manipulator 336 336 sehr flexibel zur Kompensation einer Vielzahl verschiedener, während des Betriebs auftretender oder sich ändernder Wellenfrontfehler verwenden. use very flexible to compensate for a variety of different, occurring during operation or changing wavefront error.
  • In der nachfolgenden Beschreibung wird sowohl auf In the following description, both 1 1 als auch auf as well as 11 11 Bezug genommen. Reference is made. Die nachfolgend in Bezug auf den optischen Manipulator The below with respect to the optical manipulator 336 336 vorgenommene Beschreibung des Betriebs des Manipulators kann in den meisten Teilen analog auf den optischen Manipulator made description of the operation of the manipulator can be analog in most parts on the optical manipulator 136 136 mit einem deformierbaren Spiegel oder den optischen Manipulator with a deformable mirror or the optical manipulator 236 236 mit einer Infrarotbeheizung übertragen werden. are transmitted with an infrared heating. Der optische Manipulator The optical manipulator 336 336 enthält weiterhin eine Aktuierungseinrichtung further comprises an actuating device 350 350 zum Einstellen eines vorgegebenen Temperaturprofils für beide optische Platten for setting a predetermined temperature profile for both optical disks 338 338 , . 340 340 . , Ein solches Temperaturprofil gibt für jede Zone Such a temperature profile is for each zone 346 346 beider optischer Platten both optical disks 338 338 , . 340 340 Temperaturwerte oder entsprechende Werte, wie etwa eine Heizleistung in W/m 2 als Stellweg vor. Temperature values or equivalent values, such as a heating power in W / m 2 as the travel range before. Die Temperaturprofile stellen somit Stellwegvektoren dar. Die Aktuierungseinrichtung The temperature profiles thus represent Stellwegvektoren. The actuating device 350 350 versorgt jede Zone supplies each zone 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 mit einem entsprechenden Heizstrom zur Einstellung des vorgegebenen Stellwegvektors und kann zusätzlich die Kühlung durch die Luftströmung with a corresponding heating current to adjust the predetermined Stellwegvektors and cooling can additionally by the air flow 344 344 regeln. regulate.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage The projection exposure system 10 10 enthält weiterhin eine Manipulatorsteuerung further comprises a manipulator controller 52 52 zum Steuern eines oder mehrerer der optischen Manipulatoren for controlling one or more of optical manipulators 136 136 , . 236 236 und and 336 336 für eine Kompensation von während des Betriebs auftretenden oder sich ändernden Wellenfrontfehlern. for a compensation of occurring during operation or changing wavefront errors. Die Manipulatorsteuerung The manipulator control 52 52 umfasst ein Bestimmungsmodul comprises a determination module 54 54 für momentan vorliegende Wellenfrontfehler und einen Stellweggenerator for present actual wavefront error and a Stellweggenerator 56 56 zum Generieren eines zur Korrektur des vorliegenden Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors. to generate an appropriate correction of this wavefront error Stellwegvektors. Der generierte Stellwegwegvektor kann neben Stellwegen für einen oder mehrere der in The generated Stellwegwegvektor, besides travel ranges for one or more of the in 1 1 dargestellten optischen Manipulatoren optical manipulators shown 136 136 , . 236 236 und and 336 336 auch Stellwege für andere Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage also travel ranges for other manipulators of the projection exposure system 10 10 enthalten, zB auch für nicht in contain, for example, for not 1 1 dargestellte Positionierungseinrichtungen oder Deformationseinrichtungen optischer Elemente Positioning means or deformation devices of optical elements shown 28 28 des Projektionsobjektivs the projection lens 22 22 . , Nachstehend wird die Generierung eines Stellwegvektors am Beispiel des optischen Manipulators Hereinafter, the generation of a Stellwegvektors the example of the optical manipulator 336 336 unter Bezugnahme auf die in with reference to the in 11 11 dargestellte optische Platte illustrated optical disk 338 338 beschrieben. described. Das beschriebene Prinzip kann analog auf die Generierung eines Stellwegvektors für den optischen Manipulator The principle described can be analogous to the generation of a Stellwegvektors for the optical manipulator 136 136 , den optischen Manipulator , The optical manipulator 236 236 oder einen anderen optischen Manipulator übertragen werden. or other optical manipulator are transmitted.
  • Das Bestimmungsmodul The determination module 54 54 führt zur Bestimmung eines momentan vorliegenden Wellenfrontfehlers entweder eine Messung aus oder führt eine Extrapolation auf Grundlage zuvor gemessener Wellenfrontfehler und weiterer Parameter, wie zB Umgebungsdruck und dergleichen aus. takes for determining a currently present wavefront error either a measurement or performs extrapolation on the basis of previously measured wavefront aberration and other parameters such as ambient pressure and the like. Eine derartige Extrapolation kann darüber hinaus zB auf Grundlage zuvor gemessener Wellenfrontfehler sowie eines Modells, welches Lens-Heating bzw. Spiegelaufheizung vorhersagt, erfolgen. Such an extrapolation may, for example, predicts on the basis of previously measured wavefront error, and a model which lens heating or heating mirror beyond done. Die Messung eines Wellenfrontfehlers erfolgt inbesondere interferometrisch mit einem Wellenfrontsensor The measurement of a wavefront error occurs in particular interferometrically with a wavefront sensor 58 58 , welcher in die Positionierungsvorrichtung , Which in the positioning device 32 32 integriert ist. is integrated. Eine Vorrichtung zur interferometrischen Bestimmung von Wellenfronten wird zB in der An apparatus for the interferometric determination of wave fronts, for example, in the US 2002/0001088 A1 US 2002/0001088 A1 beschrieben. described. Das Bestimmungsmodul The determination module 54 54 zerlegt einen gemessenen Wellenfrontfehler zB numerisch in Zernikepolynome bis zur Ordnung n = 64. Alternativ kann auch eine andere Ordnung, insbesondere 36, 49 oder 100, oder eine Zerlegung in ein anderes, vorzugsweise orthonormales Funktionensystem verwendet werden. splits a measured wavefront aberration, for example, numerically in Zernike polynomials up to the order n = 64. Alternatively, can also be used a different order, in particular 36, 49 or 100, or a decomposition into another, preferably orthonormal function system. Die Zernike-Koeffizienten oder entsprechende andere Koeffizienten eines gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers werden anschließend für den Stellweggenerator The Zernike coefficients or other appropriate coefficients of a measured or extrapolated wavefront error are then for the Stellweggenerator 56 56 bereitgestellt. provided.
  • Der Stellweggenerator the Stellweggenerator 56 56 generiert gemäß einer Ausführungsform auf Grundlage der Zernike-Koeffizienten oder anderer geeigneter Parameter eines gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers einen Stellwegvektor mit Stellwegen für jede Zone generated according to an embodiment based on the Zernike coefficients or other suitable parameters of a measured or extrapolated wavefront error with a Stellwegvektor adjustment paths for each zone 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und für weitere Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and for other manipulators of the projection exposure system 10 10 , wie etwa für jede Zone Such as for each zone 146 146 des optischen Manipulators the optical manipulator 136 136 oder für jede Zone or for each zone 246 246 des optischen Manipulators the optical manipulator 236 236 . , Der Stellwegvektor wird dabei vom Stellweggenerator derart konfiguriert, dass die Wellenfront des Projektionsobjektivs The Stellwegvektor is configured from this Stellweggenerator such that the wave front of the projection lens 22 22 an eine Sollwellenfront angenähert wird. is approximated to a target wave front. Die Sollwellenfront kann gemäß einer Ausführungsform durch an den einzelnen Feldpunkten in der Bildebene The desired wave front, according to one embodiment, by at the individual field points in the image plane 26 26 vorliegende sphärische Wellenfronten definiert sein, wobei die Einhüllende dieser Wellenfronten entlang der Bildebene This spherical wavefronts be defined, wherein the envelope of this wavefronts along the image plane 26 26 eine ebene Wellenfront ergibt. a plane wave front is obtained. Eine derartige Sollwellenfront wird im Rahmen dieser Anmeldung als Referenzwellenfront bezeichnet. Such a target wavefront is referred to in this application as a reference wavefront. Die Annäherung der tatsächlichen Wellenfront an die Referenzwellenfront bedeutet eine Minimierung des Wellenfrontfehlers des Projektionsobjektivs The approximation of the actual wavefront to the reference wavefront means a minimization of the wavefront error of the projection lens 22 22 . ,
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Sollwellenfront, an welche die Wellenfront des Projektionsobjektivs According to another embodiment, the target wavefront to which the wavefront of the projection lens 22 22 unter Verwendung des Stellwegvektors angenähert wird, durch eine von der Referenzwellenfront gezielt abweichende Wellenfront definiert. Is approximated using the Stellwegvektors defined by a specific difference from the reference wavefront wavefront. Eine derartige gezielt abweichende Sollwellenfront kann mittels sogenannten Imaging-Enhancement-Verfahren bestimmt werden. Such a specific difference target wavefront can be determined by means of so-called imaging enhancement method. Hierbei werden gezielt an die im Einzelfall abzubildenden Maskenstrukturen angepasste Wellenfrontabweichungen festgelegt, die es ermöglichen, die entsprechenden Maskenstrukturen mit höherer Auflösung abzubilden. Here, specifically adapted to the imaged in individual cases mask structures wavefront deviations are determined, which make it possible to image the respective mask patterns with higher resolution.
  • Die Generierung des Stellwegvektors erfolgt durch einen stellweggenerierenden Optimierungsalgorithmus der beispielsweise auf Basisfunktionen für jede Zone If the generation of the Stellwegvektors by a stellweggenerierenden optimization algorithm for example on the basis functions for each zone 346 346 mit einer 3×3-Matrix, 5×5-Matrix oder 7×7-Matrix zur Berücksichtigung einer Wärmeleitung in benachbarte Zonen with a 3 × 3 matrix, 5 x 5 matrix or 7 × 7 matrix to take account of heat conduction in adjacent zones 346 346 basiert. based. Der Optimierungsalgorithmus kann auf dem Fachmann bekannten Algorithmen, zB Singulärwertzerlegung (SVD) oder Tikhonov-Regularisierung, beruhen. The optimization algorithm may be known to those skilled in algorithms, such as singular value decomposition (SVD) or Tikhonov regularization, is based.
  • Die hohe Anzahl von Zernike-Koeffizienten, die hohe Anzahl von Stellwegen bzw. Manipulatorfreiheitsgraden und die dabei einzuhaltenden Randbedingungen, wie zB die thermische Neutralität des optischen Manipulators The high number of Zernike coefficients, the high number of adjustment paths or manipulator degrees of freedom and thereby to be observed boundary conditions, such as the thermal neutrality of the optical manipulator 336 336 , führt zu einem sehr komplexen Optimierungsproblem, das für sich in der Regel nicht mehr in Echtzeit während des Belichtungsbetriebs der Projektionsbelichtungsanlage , Resulting in a very complex optimization problem that in itself is usually not in real time during the exposure operation of the projection exposure system 10 10 gelöst werden kann. can be solved. Daher werden in einem Speicher Therefore, in a memory 60 60 des Stellweggenerators the Stellweggenerators 56 56 zuvor ermittelte Stellwegvektoren für bestimmte Wellenfrontfehler, beispielsweise für bestimmte Zernike-Koeffizienten gespeichert. previously determined Stellwegvektoren for certain wavefront error, for example, saved for certain Zernike coefficient. Diese werden bei einer Generierung eines Stellwegs von dem Optimierungsalgorithmus zur Lösung des Optimierungsproblems berücksichtigt. These are included in a generation of a positional displacement of the optimization algorithm to solve the optimization problem. Auf diese Weise ist eine Stellweggenerierung durch den Stellweggenerator In this way a Stellweggenerierung is through the Stellweggenerator 56 56 in Echtzeit während des Belichtungsbetriebs der Projektionsbelichtungsanlage in real time during the exposure operation of the projection exposure system 10 10 möglich. possible.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage The projection exposure system 10 10 enthält weiterhin eine Zonenprüfeinheit further includes a Zonenprüfeinheit 62 62 zum Überprüfen der Funktionstüchtigkeit jeder Zone To check the functionality of each zone 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 . , Insbesondere prüft die Zonenprüfeinheit In particular, the checks Zonenprüfeinheit 62 62 , ob bei jeder Zone Whether, in each zone 346 346 die Stellwege und damit die Temperatur innerhalb eines vorgegebenen Sollstellwertbereichs einstellbar sind. the adjustment travel and thus the temperature within a predetermined target control value range are adjustable. Eine Ursache für eine Stellwegeinschränkung bei den beheizbaren Zonen A cause for a Stellwegeinschränkung in the heated zones 346 346 kann eine fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale zweier benachbarter Zonen an erroneous DC circuit of the control signals of two adjacent zones 346a 346a , . 346b 346b in Gestalt eines elektrischen Kurzschlusses zwischen den zwei benachbarten Zonen in the form of an electrical short between the two adjacent zones 346a 346a , . 346b 346b sein. be. Hierdurch werden beide Zonen In this way, both zones 346a 346a , . 346b 346b stets mit der gleichen Heizleistung betrieben. always operated with the same heat output. Es lässt sich nur ein einheitlicher Stellweg für die Zonen There can be only a single actuator travel for zones 346a 346a , . 346b 346b einstellen. to adjust. Eine weitere Ursache für eine Stellwegeinschränkung kann eine während des Betriebs auftretende oder bereits vor Inbetriebnahme vorhandene fehlerhafte Widerstandscharakteristik einer Zone Another cause for a Stellwegeinschränkung may occurring during operation or before commissioning existing faulty resistance characteristic of a zone 346c 346c sein. be. Die außerhalb der Toleranz liegende Widerstandscharakteristik kann insbesondere zu einem eingeschränkten Stellwegbereich führen. The resistance characteristic lying outside the tolerance may in particular lead to a limited actuation path.
  • Detektiert die Zonenprüfeinheit Detects the Zonenprüfeinheit 62 62 einen Kurzschluss zwischen den Zonen a short-circuit between zones 346a 346a , . 346b 346b , gibt sie als Einschränkungsparameter für die kurzgeschlossenen Zonen They are as limiting parameters for the shorted zones 346a 346a , . 346b 346b einen einheitlichen Stellweg vor. a uniform adjustment path before. Das gilt analog bei dem unter Bezugnahme auf die in This applies analogously in which with reference to the in 7 7 dargestellte Ausführungsform beschriebenen Kurzschluss zweier benachbarter Steuerelektroden Short-circuit between two adjacent control electrodes described embodiment illustrated 192 192 . , Stellt die Zonenprüfeinheit Sets the Zonenprüfeinheit 62 62 einen eingeschränkten Stellwegbereich auf Grund einer fehlerhaften Widerstandscharakteristik fest, gibt sie als Einschränkungsparameter für die fehlerhafte Zone a limited actuation path due to an erroneous resistance characteristic determined, they are as a limitation parameters for the defective zone 346b 346b einen maximal zulässigen Stellweg vor. a maximum allowable adjustment path before. Im Fall des optischen Manipulators In the case of the optical manipulator 136 136 kann die Zonenprüfeinheit can Zonenprüfeinheit 62 62 zu einer entsprechenden Prüfung der Aktuatorcharakteristik jeder Zone des deformierbaren Spiegels to a corresponding check of the actuator characteristics of each zone of the deformable mirror 70 70 ausgebildet sein. be formed. Auch kann die Zonenprüfeinheit Also, the Zonenprüfeinheit 62 62 zu einer Prüfung der Aktuatorcharakteristik jeder Zone des optischen Manipulators to an examination of the actuator characteristics of each zone of the optical manipulator 236 236 mit einer Infrarotbeheizung konfiguriert sein. be configured with an infrared heating.
  • Stellwegeinschränkungen auf Grund von defekten Zonen Stellwegeinschränkungen due to defective zones 346a 346a , . 346b 346b , . 346c 346c führen bei einem generierten Stellwegvektor mit einem nicht vollständig ausführbaren Stellweg für eine oder mehrere dieser Zonen result in a generated Stellwegvektor with a not fully executable actuating path for one or more of these zones 346a 346a , . 346b 346b , . 346c 346c zu einer fehlerhaften Einstellung des optischen Manipulators to an erroneous setting of the optical manipulator 336 336 und somit zu einer mangelhaften Kompensation eines vorhandenen Wellenfrontfehlers. and thus to a lack of compensation for an existing wavefront error. Es können auch neue Wellenfrontfehler induziert werden. It can also be induced new wavefront error. Eine Anpassung des Optimierungsalgorithmus zur Stellweggenerierung an die Stellwegeinschränkungen wäre mit einem sehr großen Zeitaufwand verbunden. An adaptation of the optimization algorithm for Stellweggenerierung the Stellwegeinschränkungen would involve a huge amount of time. Der bei einer Anpassung des Optimierungsalgorithmus an die Stellwegeinschränkungen benötigte große Zeitaufwand ist insbesondere darin begründet, dass die vom Optimierungsalgorithmus genutzten, für bestimmte Wellenfrontfehler vorgegebenen Stellwegvektoren keine Gültigkeit mehr hätten und durch zeitaufwändige Lösung eines komplexen Optimierungsproblems komplett neu ermittelt werden müssten. The need to Stellwegeinschränkungen in an adaptation of the optimization algorithm large amount of time is particularly due to the fact that the applications used by the optimization algorithm specified for particular wavefront error Stellwegvektoren could no longer valid and should be determined by time-consuming solution to a complex optimization problem from scratch.
  • Eine Überprüfungsvorrichtung An inspection device 64 64 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 ermittelt daher zunächst, ob für eine oder mehrere Zonen therefore first determines whether one or more zones 346 346 ein Einschränkungsparameter vorgegeben ist und überprüft anschließend bei jedem generierten Stellwegvektor die Stellwege für Zonen a restriction parameter is set, and then checked at each generated Stellwegvektor the adjustment paths for zones 346a 346a , . 346b 346b , . 346c 346c mit vorgegebenem Einschränkungsparameter auf Durchführbarkeit. with a given constraint parameters for feasibility. Stellt die Überprüfungsvorrichtung Sets the checking device 64 64 einen nicht ausführbaren Stellweg für eine oder mehrere der Zonen mit vorgegebener Einschränkung fest, wird eine entsprechende Korrektur des generierten Stellwegvektors ausgelöst. a non-executable actuating path for one or more of the zones having a predetermined fixed restriction is triggered a corresponding correction of the generated Stellwegvektors. Beispiele für nicht vollständig ausführbare Stellwege sind etwa unterschiedliche Stellwege für die kurzgeschlossenen Zonen Examples of non-fully executable adjustment paths are as different travel ranges for the shorted zones 346a 346a , . 346b 346b oder ein über den eingeschränkten Stellwegbereich hinausgehender Stellweg für die fehlerhafte Zone or going beyond the limited actuation path adjustment path for the faulty zone 346c 346c . , Zusätzlich kann die Überprüfungsvorrichtung In addition, the checking device 64 64 bei jedem generierten Stellwegvektor alle Stellwege für vollfunktionsfähige Zonen at each generated Stellwegvektor all travel ranges for full-featured zones 346 346 auf Einhaltung des Sollstellwegbereichs überprüfen. check on compliance with the Sollstellwegbereichs. Bei einem fehlerhaft generierten, über den Sollstellwegbereich hinausgehenden Stellweg wird ebenfalls eine Korrektur ausgelöst. With a faulty generated, beyond the Sollstellwegbereich travel range is also triggered a correction. Im Fall der Generierung eines Stellwegvektors für einen der optischen Manipulatoren In the case of generation of a Stellwegvektors for one of the optical manipulators 136 136 und and 236 236 kann die Überprüfungsvorrichtung , the checking device 64 64 die bezüglich der Zonen with respect to the zones 146 146 bzw. or. 246 246 geltenden Stellwege auf Einhaltung des entsprechenden Sollstellwegbereichs überprüfen. Check applicable adjustment paths for compliance with the relevant Sollstellwegbereichs. Die Zonenprüfeinheit the Zonenprüfeinheit 62 62 sowie die Überprüfungseinrichtung as well as the testing device 64 64 können auch zu einer sogenannten Prüfeinrichtung zusammengefasst sein. can also be combined to form a so-called test facility.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage The projection exposure system 10 10 enthält ferner eine Korrektureinrichtung further includes a correction device 66 66 zum Korrigieren des generierten Stellwegvektors bei Vorliegen eines oder mehrerer nicht vollständig ausführbarer Stellwege. for correcting the generated Stellwegvektors in the presence of one or more not fully executable adjustment paths. Die Korrektureinrichtung The correction means 66 66 prüft zunächst, ob in einem Speicher first checks whether in memory 68 68 bereits ein Korrekturwertvektor für den oder die nicht ausführbaren Stellwege vorliegt. already a correction value vector for or are not executable adjustment paths present. Falls einer vorliegt, wird dieser für die Korrektur des generierten Stellwegvektors verwendet. If one is present, this is used for correcting the generated Stellwegvektors.
  • Andernfalls oder alternativ prüft die Korrektureinrichtung Otherwise, or alternatively said correcting means verifies 66 66 , ob in dem Speicher Whether in the memory 68 68 ein Basiskorrekturvektor für die durch den Einschränkungsparameter vorgegebene Einschränkung und die Zone bzw. Zonen vorliegt. a base correction vector for the predetermined restriction by the restriction parameter and the zone or zones is present. Der Basiskorrekturvektor stellt einen Korrekturwertvektor für eine Basisstörung bezüglich der Zone bzw. Zonen und der vorliegenden Einschränkung dar. Falls ein Basiskorrekturvektor vorliegt, ermittelt die Korrektureinrichtung The base correction vector represents a correction value vector for a base with respect to the interference zone or zones and the present limitations. If a base is present correction vector, determines the correction device 66 66 einen geeigneten Skalierungsfaktor auf Grundlage des generierten Stellwegvektors, insbesondere des oder der nicht ausführbaren Stellwege. an appropriate scale factor on the basis of the generated Stellwegvektors, in particular of the or of said non executable adjustment paths. Anschließend berechnet die Korrektureinrichtung Then calculates the correction device 66 66 durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor den Korrekturwertvektor. by scaling the basic correction vector with the determined scaling factor the correction value vector.
  • Zusätzlich kann die Korrektureinrichtung zum Berechnen eines Basiskorrekturvektors ausgebildet sein. In addition, the correction device can be designed for calculating a base correction vector.
  • Sowohl der Korrekturwertvektor als auch der Basiskorrekturvektor enthalten Werte für alle Stellwege des generierten Stellwegvektors. Both the correction value vector and the base correction vector contain values ​​for all travel ranges of the generated Stellwegvektors. Durch Addieren des jeweiligen Korrekturwerts des Korrekturwertvektors zum entsprechenden Stellweg des generierten Stellwegvektors erzeugt die Korrektureinrichtung By adding the respective correction value of the correction value corresponding to the vector adjustment path of the generated Stellwegvektors the correction means generates 66 66 einen korrigierten Stellwegvektor. a corrected Stellwegvektor.
  • Die Aktuierungseinrichtung the actuating device 50 50 stellt anschließend die Heizleistung für alle Zonen then, the heating power for all zones 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwertvektors ein. corresponding to the travel ranges of the corrected manipulated variable vector a. Auf diese Weise wird bei dem optischen Manipulator In this way, according to the optical manipulator 336 336 trotz einer oder mehrerer defekter Zonen die von dem generierten Stellwegvektor vorgegebene optische Wirkung eingestellt. in spite of one or more defective areas, the predetermined set of the generated Stellwegvektor optical effect. Auch bei den anderen Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage With the other manipulators of the projection exposure system 10 10 , wie etwa dem optischen Manipulator Such as the optical manipulator 136 136 oder dem optischen Manipulator or the optical manipulator 236 236 , erfolgt eine Einstellung gemäß entsprechender Stellwege des korrigierten Stellwegvektors. , A setting is made according to respective travel ranges of the corrected Stellwegvektors.
  • Eine weitere Beschreibung der Funktionsweise und des Zusammenwirkens der Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage A further description of the operation and interaction of the components of the projection exposure system 10 10 und insbesondere auch der Berechnung der Basiskorrekturvektoren und der Skalierungsfaktoren erfolgt nachfolgend zusammen mit der Beschreibung zweier Ausführungsbeispiele des Verfahrens zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage. and in particular also the calculation of the basic correction vectors and the scaling factors is carried out below together with the description of two embodiments of the method for controlling a projection exposure apparatus.
  • In In 12 12 wird ein Flussdiagramm zur Veranschaulichung eines ersten Ausführungsbeispiels des Verfahrens zum Steuern der Projektionsbelichtungsanlage is a flow diagram illustrating a first embodiment of the method for controlling the projection exposure apparatus 10 10 dargestellt. shown. Das Verfahren dient zum Steuern der Projektionsbelichtungsanlage The method is used for controlling the projection exposure apparatus 10 10 bei Vorliegen eines elektrischen Kurzschlusses zwischen zwei benachbarten Zonen in the presence of an electrical short circuit between two adjacent zones 346a 346a , . 346b 346b des strombeheizten optischen Manipulators of the current-heated optical manipulator 336 336 . , Durch den Kurzschluss lassen sich beide Zonen By shorting the two zones can be 346a 346a , . 346b 346b nur mit gleicher Heizleistung bzw. gleichem Stellweg betreiben. operate with the same heating power or the same travel range.
  • Das Verfahren lässt sich somit auch bei anderen Manipulatoren mit einer Vielzahl von separat einstellbaren Zonen und einem durch eine Störung bedingten einheitlichen Stellweg für zwei benachbarte Zonen anwenden, zB beim Manipulator Thus, the process can also be applied in other manipulators having a plurality of separately adjustable zones and one caused by a disturbance uniform adjustment path for two adjacent zones, for example when Manipulator 136 136 mit einem adaptiven Spiegel with an adaptive mirror 70 70 oder beim Manipulator or the manipulator 236 236 mit einer Beheizung durch Infrarotlicht. with a heating by means of infrared light.
  • In einem ersten Schritt S01 erfolgt in einem Rechner eine Berechnung von Basiskorrekturvektoren für eine Vielzahl von möglichen oder allen möglichen Kurzschlüssen zwischen zwei benachbarten Zonen In a first step S01, a calculation of base correction vectors for a plurality of possible or all possible short circuits between two adjacent zones in a computer is made 346 346 . , Dabei können beispielsweise Kurzschlüsse zwischen bestimmten Zonen Here, for example, short circuits between certain zones 346 346 auf Grund der Struktur der Leiterbahnen ausgeschlossen oder für wahrscheinlicher als andere erachtet werden. excluded due to the structure of the interconnects or more likely than others to be considered. Zur Berechnung eines Basiskorrekturvektors für einen Kurzschluss wird zunächst eine Basisdifferenz zwischen den zwei beteiligten Zonen To calculate a basic correction vector for a short, first a basic difference between the two zones involved 346 346 festgelegt. established. Beispielsweise wird für die erste Zone als Stellweg der Mittelwert des Sollstellwegbereichs und für die zweite Zone ein maximal möglicher Stellweg verwendet. For example, a maximum possible adjustment path is used for the first zone as the travel of the mean value of the Sollstellwegbereichs and for the second zone. So kann bei einem Sollstellwegbereich für alle Zonen unter Berücksichtigung der Kühlung von zB –65 W/m 2 bis +65 W/m 2 für die erste Zone 0 W/m 2 und für die zweite Zone 65 W/m 2 festgelegt werden. Thus, in a Sollstellwegbereich can for all zones taking into account the cooling of, for example -65 W / m 2 to + 65 W / m 2 for the first zone 0 W / m 2 and for the second zone 65 W / m 2 are set. Weiterhin werden für alle anderen Zonen 346 von beiden optischen Platten Furthermore, for all the other zones 346 of the two optical plates 338 338 , . 340 340 maximale Stellwegbereiche festgelegt, zB +/–20 W/m 2 und +/–0,1 K. set maximum Stellwegbereiche, eg +/- 20 W / m 2 and +/- 0.1 K.
  • Anschließend werden Stellwege für alle anderen Zonen Then, travel ranges for all other zones 346 346 durch Lösen des folgenden Optimierungsproblems bestimmt: Einhaltung der festgelegten maximalen Stellbereiche für alle anderen Zonen determined by solving the following optimization problem: compliance with the specified maximum setting ranges for all other zones 346 346 von beiden optischen Platten of two optical disks 338 338 , . 340 340 , Festlegung der vorgegeben Werte für die erste und die zweite Zone entsprechend der Basisdifferenz, und minimale Aberration durch die beiden optischen Platten , Determining the set values ​​for the first and the second zone corresponding to the base difference, and minimal aberration by the two optical plates 338 338 , . 340 340 . , Zusätzlich können die Stellmöglichkeiten anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage In addition, the storage facilities of other manipulators of the projection exposure system can 10 10 berücksichtigt werden. be considered. Der Basiskorrekturvektor enthält dann auch Korrekturwerte für die anderen Manipulatoren. The base correction vector then contains correction values ​​for the other manipulators. Zur Lösung des Optimierungsproblems kann beispielsweise ein auf quadratischer Programmierung beruhender Algorithmus (QuadProg), eine sequentielle quadratische Programmierung (engl. SQP: Sequential-Quadratic-Programming), eine Tikhonov-Regularisierung und/oder eine Hansen L-Kurven-Methode eingesetzt werden. (Engl. SQP: Sequential Quadratic Programming) to the solution of the optimization problem a value based on quadratic programming algorithm (quadprog), a sequential quadratic programming may, for example, a Tikhonov regularization and / or a Hansen L-curve method can be used.
  • Alternativ lassen sich auch andere Basisdifferenzen, wie zB eine um den Mittelwert des Sollstellwegbereichs ausgebildete Differenz, wie zB –1 W/m 2 für die erste Zone und +1 W/m 2 für die zweite Zone oder verwenden. Alternatively, also have other base differences, such as using a trained around the mean of the difference Sollstellwegbereichs such as -1 W / m 2 for the first zone and +1 W / m 2 for the second zone or. Ebenso ist bei bereits generierten Stellwegen s1 für die erste Zone und s2 für die zweite Zone eine Festlegung der Basisdifferenz durch (s1 – s2)/2 für die erste Zone und (s2 – s1)/2 für die zweite Zone möglich. Also, with already generated adjustment paths s1 and s2 for the first zone, a determination of the base difference by (s1 - s2) for the second zone / 2 for the first zone, and (s2 - s1) / 2 for the second zone possible. Der so ermittelte Basiskorrekturvektor lässt sich unter Verwendung des Mittelwerts (s1 + s2)/2 als Stellweg für die erste und zweite Zone unmittelbar als Korrekturwertvektor einsetzen. The base correction vector determined in this way can be using the mean value (s1 + s2) / 2 used as a positioning travel for the first and second zone directly as a correction value vector. Mit diesen Vorgaben lässt sich somit auch direkt ein Korrekturwertvektor berechnen. With these specifications can thus be directly a correction value vector calculated.
  • Ohne Berücksichtigung der anderen Manipulatoren kompensieren die so bestimmten Stellwege für die anderen Zonen Excluding the other manipulators so compensate for the particular adjustment paths for the other zones 346 346 die optische Wirkung der vorgegeben Stellwege für die erste und zweite Zone. the optical effect of the specified adjustment paths for the first and second zone. Umgekehrt induzieren die Stellwege der anderen Zonen bei gleichem Stellweg für die erste und zweite Zone eine optische Wirkung, welche der wegen des Kurzschlusses nicht einstellbaren Basisdifferenz entspricht. Conversely, the adjustment paths of the other zones to induce an optical action which corresponds to the short circuit due to the non-adjustable base, with the same difference travel range for the first and second zone. Der ermittelte Basiskorrekturvektor lässt sich durch geeignetes Skalieren für andere Differenzen zwischen den Stellwegen der ersten Zone und zweiten Zone anpassen. The base correction vector detected can be adjusted by appropriately scaling for other differences between the adjustment paths of the first zone and second zone.
  • In einem zweiten Schritt S02 werden die ermittelten Basiskorrekturwerte für die Projektionsbelichtungsanlage In a second step S02, the determined based correction values ​​for the projection exposure system are 10 10 in dem Speicher in the memory 68 68 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 bereitgestellt. provided. Sie können so unmittelbar nach Auftreten eines Kurzschlusses für eine Korrektur des generierten Stellwegvektors verwendet werden. They can be used immediately after occurrence of a short circuit for a correction of the generated Stellwegvektors way. Alternativ können die Basiskorrekturwerte auch in einem anderen Speicher gespeichert und über ein Netzwerk bereitgestellt werden. Alternatively, the base correction values ​​can also be stored in another memory and provided over a network.
  • Wird bei einer Überprüfung S03 der Zonen If during an inspection of the zones S03 346 346 durch die Zonenprüfeinheit by the Zonenprüfeinheit 62 62 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 ein Kurzschluss zwischen zwei Zonen a short circuit between two zones 346a 346a , . 346b 346b detektiert, gibt die Zonenprüfeinheit detected indicates the Zonenprüfeinheit 62 62 als Einschränkungsparameter für die kurzgeschlossenen Zonen as limiting parameter for the short-circuited zone 346a 346a , . 346b 346b einen einheitlichen Stellweg vor. a uniform adjustment path before. Somit wird das Korrigieren von generierten Stellwegvektoren aktiviert. Thus, the correcting generated Stellwegvektoren is activated. In einem alternativen Ausführungsbeispiel kann die Berechnung des Basiskorrekturvektors erst jetzt, beispielsweise durch die Korrektureinrichtung In an alternative embodiment, the calculation of the basic correction vector can only now, for example, by the correction means 66 66 erfolgen. respectively.
  • In einem vierten Schritt S04 wird eine Messung oder eine Extrapolation des momentan vorliegenden Wellenfrontfehlers durch das Bestimmungsmodul In a fourth step S04 is a measurement or an extrapolation of the currently present wavefront error by the determining module 54 54 während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage during operation of the projection exposure system 10 10 ausgeführt. executed. Der gemessene oder extrapolierte Wellenfrontfehler wird anschließend an den Stellweggenerator The measured or extrapolated wavefront error is subsequent to the Stellweggenerator 56 56 weitergeleitet. forwarded.
  • Anschließend erfolgt ein Generieren S05 eines Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone Then, a generation takes place S05 a Stellwegvektors with travel ranges for each zone 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und für weitere Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and for other manipulators of the projection exposure system 10 10 durch den Stellweggenerator by the Stellweggenerator 56 56 . , Das Generieren der Stellwege erfolgt auf Grundlage des gemessenen oder extrapolierten momentanen Wellenfrontfehlers des Projektionsobjektivs The generation of the adjustment paths is performed based on the measured or extrapolated current wavefront error of the projection lens 22 22 in der weiter oben beschrieben Weise. in the manner described above.
  • In einem sechsten Schritt S06 ermittelt die Überprüfungsvorrichtung In a sixth step S06, the checking device determines 64 64 zunächst, ob ein Einschränkungsparameter bezüglich eines Kurzschlusses zwischen zwei Zonen first check whether a constraint parameters with respect to a short circuit between two zones 346 346 vorliegt. is present. Ist ein Kurzschluss für zwei Zonen If a short circuit for two zones 346a 346a , . 346b 346b vorgegeben, findet anschließend eine Überprüfung der für die kurzgeschlossenen Zonen given, then a review of the for shorted zones 346a 346a , . 346b 346b generierten Stellwege auf Gleichheit durch die Überprüfungsvorrichtung generated travel ranges for equality by the checking device 64 64 statt. instead of.
  • Falls die generierten Stellwege der kurzgeschlossenen Zonen If the generated adjustment paths of the shorted zones 346a 346a , . 346b 346b gleich sind oder sich weniger als eine vorgegebene Differenz unterscheiden, erfolgt eine Einstellung S07 aller Zonen are the same or differ less than a predetermined difference, an adjustment S07 is carried out of all zones 46 46 des optischen Manipulators the optical manipulator 36 36 und auch anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and other manipulators of the projection exposure system 10 10 entsprechend den Stellwegen des generierten Stellwegvektors zur Kompensation des gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers. according to the adjustment paths of the generated Stellwegvektors to compensate for the measured or extrapolated wavefront error.
  • Falls die generierten Stellwege der kurzgeschlossenen Zonen If the generated adjustment paths of the shorted zones 346a 346a , . 346b 346b sich um mehr als eine vorgegebene Differenz unterscheiden, erfolgt ein Korrigieren S08 des generierten Stellwegvektors durch die Korrektureinrichtung differ by more than a predetermined difference, then a correction of the generated S08 Stellwegvektors by the correcting means 66 66 . , Hierfür wird zunächst der in dem Speicher For this purpose, initially in the memory 68 68 bereitgestellte Basiskorrekturvektor für die kurzgeschlossenen Zonen provided basic correction vector for the shorted zones 346a 346a , . 346b 346b ermittelt. determined. Anschließend erfolgt eine Berechnung des Skalierungsfaktors S mittels der Differenz der generierten Stellwege s1 und s2 für die kurzgeschlossenen Zonen Subsequently, a calculation of the scaling factor S by means of the difference of the generated adjustment paths s1 and s2 for the short-circuited zone 346a 346a , . 346b 346b und dem Nominalwert N des Basiskorrekturvektors: S = (s1 – s2)/N. and the nominal value N of the base correction vector S = (s1 - s2) / N. Der Nominalwert entspricht der für die Berechnung des Basiskorrekturvektors verwendeten Basisdifferenz. The nominal value corresponds to the basic difference used for the calculation of the basic correction vector.
  • Zur Berechnung des Skalierungsfaktors kann in einer alternativen Ausführung anstelle der direkten Differenz der Stellwege s1 und s2 eine mit weiteren Parametern der Zonen For the calculation of the scaling factor, in an alternative embodiment, instead of the direct difference between the regulating distances s1 and s2 one with other parameters of the zones 46 46 gewichtete Differenz zur Berücksichtigung dieser Parameter verwendet werden. weighted difference to account for such parameters are used. Beispielsweise wird bei strombeheizten Zonen mit der Heizleistung P als Stellweg der Skalierungsfaktor S mittels einer gewichteten Differenz ΔP und der Basisdifferenz P N als Nominalwert mit S = ΔP/P N berechnet. For example, .DELTA.P is calculated and the base difference P N as a nominal value with .DELTA.P = S / P N in current-heated zones of the heating power P as a travel range of the scale factor S by means of a weighted difference. ΔP kann dabei eine mit den maximal möglichen Heizleistungen der Zonen z1 und z2 gewichtete Differenz zur Berücksichtigung der Widerstandscharakteristik einzelner Zonen darstellen: .DELTA.P can represent a weighted with the maximum possible heating powers of the zones Z1 and Z2 difference to account for the resistance characteristic of individual zones: ΔP = [P m (z1)·(P NP (z2) + P UC (z2)) – P m (z2)·(P NP (z1) + P UC (z1))]/[P m (z1) + P m (z2)] .DELTA.P = [P m (z1) · (P NP (z2) + P UC (z2)) - P m (z2) * (P NP (z1) + P UC (z1))] / [P m (z1) + P m (z2)]
  • P m (z): P m (z):
    Maximal mögliche Heizleistung der kurzgeschlossenen Zonen z1, z2; Maximum heating power of the short-circuited zone z1, z2; P NP (z): Für einen neutralen Zustand des Manipulators vorgegebene Heizleistung der Zonen z1 und z2; P NP (z): For a predetermined neutral state of the manipulator heating power of the zones Z1 and Z2; und and
    P UC (z): UC P (z):
    Zur Kompensation eines Wellenfrontfehlers vorgegebene Heizleistung für die Zonen z1 und z2. For compensating a wavefront error predetermined for the heating zones Z1 and Z2.
  • Durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor wird der Korrekturwertvektor bestimmt. the correction value vector is determined by scaling the basic correction vector with the determined scale factor. Anschließend wird ein korrigierter Stellwegvektor durch komponentenweises Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den Stellwerten des generierten Stellwegvektors berechnet. Subsequently, a corrected Stellwegvektor is computed by component-wise adding the correction values ​​of the correction value vector of the manipulated variables of the generated Stellwegvektors. Für die kurzgeschlossenen Zonen For the short-circuited zone 346a 346a , . 346b 346b wird als Stellweg in dem korrigierten Stellwegvektor entweder der Mittelwert (s1 + s2)/2 der generierten Stellwege bei einer Basisdifferenz von Stellwegen um den Mittelwert des Sollstellwegbereichs, oder der generierte Stellweg für die erste Zone is as actuating path in the corrected Stellwegvektor either the mean value (s1 + s2) / 2 of the generated adjustment paths at a base difference between the adjustment paths around the mean of the Sollstellwegbereichs, or the generated adjustment path for the first zone 346a 346a bei einer Basisdifferenz aus Mittelwert und maximalem Wert des Sollstellwegbereichs festgesetzt. fixed at a base difference between the average value and maximum value of the Sollstellwegbereichs.
  • Anschließend erfolgt in Schritt S09 eine Einstellung aller Zonen Subsequently, in step S09, a setting of all zones 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und auch anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and other manipulators of the projection exposure system 10 10 entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers. corresponding to the travel ranges of the corrected Stellwegvektors to compensate for the measured or extrapolated wavefront error.
  • In In 13 13 wird ein Flussdiagram zur Veranschaulichung eines zweiten Ausführungsbeispiels des Verfahrens zum Steuern der Projektionsbelichtungsanlage is a flow diagram illustrating a second embodiment of the method for controlling the projection exposure apparatus 10 10 dargestellt. shown. Das Verfahren dient zum Steuern der Projektionsbelichtungsanlage The method is used for controlling the projection exposure apparatus 10 10 bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone when there is a faulty zone 346c 346c mit einer außerhalb der Toleranz liegenden Widerstandscharakteristik. with an out-of-tolerance resistance characteristic. Hierdurch wird insbesondere ein eingeschränkter Stellwegbereich der Zone This will in particular a limited actuation path of the zone 346c 346c verursacht, wodurch bestimmte generierte Stellwege für die Zone caused, whereby certain generated adjustment paths for the zone 346c 346c nicht vollständig ausführbar sind. are not fully executable. Das Verfahren lässt sich somit auch bei anderen Manipulatoren mit einer Vielzahl von separat einstellbaren Zonen und einer fehlerhaften Zone mit eingeschränktem Stellwegbereich anwenden, wie beispielsweise beim Manipulator The method therefore can be applied with a limited actuation path for other manipulators having a plurality of separately adjustable zones and a defective area, such as in the manipulator 136 136 mit einem adaptiven Spiegel oder dem Manipulator with an adaptive mirror or the manipulator 236 236 mit einer Beheizung durch Infrarotlicht. with a heating by means of infrared light.
  • In einem ersten Schritt S11 erfolgt bereits bei der Herstellung der optischen Platten In a first step S11 already been done in the manufacture of the optical disks 338 338 , . 340 340 oder des optischen Manipulators or the optical manipulator 336 336 eine Überprüfung aller Zonen a review of all areas 346 346 auf Vorliegen eines eingeschränkten Stellwegbereichs auf Grund einer außerhalb des Sollbereichs liegenden Widerstandscharakteristik. for the presence of a limited travel range due to an out of range resistance characteristic.
  • Wird ein eingeschränkter Stellwegbereich bei einer Zone If a reduced actuation path in a zone 346c 346c festgestellt, erfolgt in einem zweiten Schritt S12 eine Berechnung eines Basiskorrekturvektors für die fehlerhafte Zone determined in a second step S12, a calculation of a correction vector based on the defective zone 346c 346c . , Dazu wird zunächst ein maximaler Korrekturstellweg bestimmt. To a maximum Korrekturstellweg is determined. Beispielsweise wird als maximaler Korrekturstellweg der nicht ausführbare Anteil eines maximalen Sollstellwegs festgelegt. For example, the non-executable portion of a target maximum adjustment path is defined as the maximum Korrekturstellweg. Zusätzlich werden für alle anderen Zonen In addition, for all other zones 346 346 von beiden optischen Platten of two optical disks 338 338 , . 340 340 maximale Stellwegbereiche festgelegt, zB +/–20 W/m 2 und +/–0,1 K für jede Zone. set maximum Stellwegbereiche, eg +/- 20 W / m 2 K and +/- 0.1 for each zone.
  • Anschließend werden Stellwege für alle anderen Zonen Then, travel ranges for all other zones 346 346 durch Lösen des folgenden Optimierungsproblems bestimmt: Einhaltung der festgelegten maximalen Stellbereiche für alle anderen Zonen determined by solving the following optimization problem: compliance with the specified maximum setting ranges for all other zones 346 346 von beiden optischen Platten of two optical disks 338 338 , . 340 340 , Festlegung des maximalen Korrekturstellwegs für die defekte Zone , Determining the maximum correction adjustment path for the defective zone 346c 346c , und minimale Aberration durch die beiden optischen Platten , And minimal aberration by the two optical plates 338 338 , . 340 340 . , Zusätzlich können die Stellmöglichkeiten anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage In addition, the storage facilities of other manipulators of the projection exposure system can 10 10 berücksichtigt werden. be considered. Der Basiskorrekturvektor enthält dann auch Korrekturwerte für die anderen Manipulatoren. The base correction vector then contains correction values ​​for the other manipulators. Zur Lösung des Optimierungsproblems kann beispielsweise ein auf quadratischer Programmierung beruhender Algorithmus (QuadProg), eine sequentielle quadratische Programmierung (engl. SQP: Sequential-Quadratic-Programming), eine Tikhonov-Regularisierung und/oder eine Hansen L-Kurven-Methode eingesetzt werden. (Engl. SQP: Sequential Quadratic Programming) to the solution of the optimization problem a value based on quadratic programming algorithm (quadprog), a sequential quadratic programming may, for example, a Tikhonov regularization and / or a Hansen L-curve method can be used.
  • Die Stellwege des so ermittelten Basiskorrekturvektors erzeugen eine optische Wirkung des optischen Manipulators The adjustment travel of the base correction vector determined in this way produce an optical effect of the optical manipulator 336 336 , welche dem nicht ausführbaren Anteil eines maximalen Stellwegs für die fehlerhafte Zone entspricht. Which corresponds to the non-executable proportion of a maximum actuating path for the faulty zone. Der Basiskorrekturvektor lässt sich durch geeignetes Skalieren an andere nicht vollständig ausführbare Stellwege für die fehlerhafte Zone The base correction vector can be achieved by appropriate scaling of other not fully executable adjustment paths for the faulty zone 346c 346c anpassen. to adjust.
  • In einem dritten Schritt S13 wird der optische Manipulator In a third step S13, the optical manipulator is 336 336 zusammen mit dem ermittelten Basiskorrekturvektor für die Projektionsbelichtungsanlage bereitgestellt. provided together with the determined base correction vector for the projection exposure apparatus. Dabei erfolgt ein Speichern des Basiskorrekturvektors in dem Speicher In this case, storing the base correction vector is in the memory 68 68 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 10 10 . , Zusätzlich wird als Einschränkungsparameter ein eingeschränkter, maximal möglicher Stellweg für die Zone In addition, as a limitation parameter is a limited, maximum possible travel range for the zone 346c 346c eingestellt. set. Diese kann zB mittels der Zonenprüfeinheit This can, for example, by means of the Zonenprüfeinheit 62 62 ausgeführt werden. be executed. Es erfolgt somit eine Aktivierung der Korrektur von generierten Stellwegvektoren. There is thus an activation of the correction of generated Stellwegvektoren.
  • Anschließend erfolgt während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage Subsequently, during operation of the projection exposure system 10 10 eine Messung oder Extrapolation S14 des momentan vorliegenden Wellenfrontfehlers des Projektionsobjektivs a measurement or extrapolation S14 the currently present wavefront error of the projection lens 22 22 und eine Generierung S15 eines Stellwegvektors. and a generation of a Stellwegvektors S15. Diese Schritte entsprechen denen des Ausführungsbeispiels nach These steps correspond to those of the embodiment of 3 3 . ,
  • In einem sechsten Schritt S16 erfolgt zunächst eine Prüfung auf Vorliegen eines Einschränkungsparameters mit einem eingeschränkten maximalen Stellweg für eine Zone In a sixth step S16, first a check is made for the presence of a restriction parameter with a limited maximum travel for a zone 346 346 durch die Überprüfungsvorrichtung by the checking device 64 64 . , Liegt eine Einschränkung bezüglich des maximalen Stellwegs für eine Zone Is a limitation on the maximum actuator travel for a zone 346c 346c vor, findet anschließend eine Überprüfung des für die fehlerhafte Zone before, then find a review of the faulty zone 346c 346c generierten Stellwegvektors auf Überschreitung des eingeschränkten maximalen Stellwegs für Zone Stellwegvektors generated in excess of the limited maximum adjustment path for Zone 346c 346c statt. instead of.
  • Falls der generierte Stellweg der fehlerhaften Zone If the generated travel of the faulty zone 346c 346c den eingeschränkten maximalen Stellweg nicht überschreitet, erfolgt eine Einstellung S17 aller Zonen the limited maximum travel does not exceed a setting S17 is carried out of all zones 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und auch anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and other manipulators of the projection exposure system 10 10 entsprechend den Stellwegen des generierten Stellwegvektors zur Kompensation des gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers. according to the adjustment paths of the generated Stellwegvektors to compensate for the measured or extrapolated wavefront error.
  • Falls der generierte Stellweg der fehlerhaften Zone If the generated travel of the faulty zone 346c 346c den eingeschränkten maximalen Stellweg überschreitet, erfolgt ein Korrigieren S18 des generierten Stellwegvektors durch die Korrektureinrichtung exceeds the limited maximum travel, is carried out correcting the generated S18 Stellwegvektors by the correcting means 66 66 . , Es wird zunächst der in dem Speicher It is first in the memory 68 68 bereitgestellte Basiskorrekturvektor für die fehlerhafte Zone provided basic correction vector for the faulty zone 346c 346c ermittelt. determined. Anschließend erfolgt eine Berechnung eines Skalierungsfaktors S mittels der Differenz Δs zwischen dem generierten Stellweg und dem eingeschränkten maximalen Stellweg, und dem Nominalwert N des Basiskorrekturvektors: S = Δs/N. This is followed by a calculation of a scale factor S by means of the difference between the generated .DELTA.s travel and the limited maximum travel, and the nominal value N of the base correction vector: S = .DELTA.s / N. Der Nominalwert entspricht dem bei der Berechnung des Basiskorrekturvektors verwendeten maximalen Korrekturstellweg. The nominal value corresponds to the maximum Korrekturstellweg used in the calculation of the basic correction vector. Durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor erfolgt die Bestimmung des Korrekturwertvektors. By scaling the basic correction vector with the calculated scaling factor determining the correction value vector is. Anschließend wird ein korrigierter Stellwegvektor durch komponentenweises Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den Stellwerten des generierten Stellwegvektors berechnet. Subsequently, a corrected Stellwegvektor is computed by component-wise adding the correction values ​​of the correction value vector of the manipulated variables of the generated Stellwegvektors. Für die fehlerhafte Zone For the faulty zone 346c 346c wird als Stellweg in dem korrigierten Stellwegvektor der eingeschränkte maximale Stellweg festgelegt. is set as the travel range in the corrected Stellwegvektor the limited maximum travel.
  • In Schritt S19 erfolgt schließlich eine Einstellung aller Zonen In step S19, finally, a setting is made for each zone 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und auch anderer Manipulatoren der Projektionsbelichtungsanlage and other manipulators of the projection exposure system 10 10 entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des gemessenen oder extrapolierten Wellenfrontfehlers. corresponding to the travel ranges of the corrected Stellwegvektors to compensate for the measured or extrapolated wavefront error.
  • Die nach Schritt S12 berechneten Basiskorrekturvektoren lassen sich in einem weiteren Ausführungsbeispiel des Verfahrens auch zur Kompensation einer Stellwegabschneidung in Folge einer Übersteuerung durch einen über den maximalen Sollstellweg hinausgehenden, generierten Stellweg verwenden. The calculated according to step S12 base correction vectors can be used by an beyond the maximum Sollstellweg, generated travel range in a further embodiment of the method also to compensate for a Stellwegabschneidung as a result of clipping. Dabei erfolgt zunächst eine Überprüfung aller Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Überschreitung des maximalen Sollstellwegs. Here, first a review of all travel ranges of the generated Stellwegvektors on exceeding the maximum target the travel. Falls eine Überschreitung vorliegt, wird analog zu Schritt S18 ein Basiskorrekturvektor für die betroffene Zone If an excess is present, is prepared analogously to step S18, a basic correction vector for the affected zone 346 346 ermittelt, ein Skalierungsfaktor bestimmt und ein Korrekturwertvektor berechnet. determines a scaling factor, and calculating a correction value vector. Bei der Ermittlung des Skalierungsfaktors wird nun anstelle des eingeschränkten maximalen Stellwegs der maximale Sollstellweg verwendet. In the determination of the scaling factor, the maximum Sollstellweg is now used instead of the limited maximum adjustment path. Anschließend erfolgt eine Einstellung aller Zonen Followed by a cessation of all zones 346 346 des optischen Manipulators the optical manipulator 336 336 und weiterer Manipulatoren gemäß Schritt S19. and other manipulators according to step S19.
  • Die vorstehende Beschreibung beispielhafter Ausführungsformen ist exemplarisch zu verstehen. The foregoing description of exemplary embodiments, by way of example to understand. Die damit erfolgte Offenbarung ermöglicht es dem Fachmann einerseits, die vorliegende Erfindung und die damit verbundenen Vorteile zu verstehen, und umfasst andererseits im Verständnis des Fachmanns auch offensichtliche Abänderungen und Modifikationen der beschriebenen Strukturen und Verfahren. The disclosure thus carried out enables the skilled man on the one hand, to understand the present invention and the advantages associated with and includes the other hand, in the understanding of the skilled artisan also obvious alterations and modifications of the structures and methods described. Daher sollen alle derartigen Abänderungen und Modifikationen, insoweit sie in den Rahmen der Erfindung gemäß der Definition in den beigefügten Ansprüchen fallen, sowie Äquivalente vom Schutz der Ansprüche abgedeckt sein. Therefore all such alterations and modifications insofar as they come within the scope of the invention as defined in the appended claims, and equivalents be covered from the scope of the claims.
  • Bezugszeichenliste LIST OF REFERENCE NUMBERS
  • 10 10
    Projektionsbelichtungsanlage Projection exposure system
    12 12
    Maske mask
    14 14
    Substrat substratum
    16 16
    Strahlungsquelle radiation source
    18 18
    Beleuchtungssystem lighting system
    20 20
    optisches Element des Beleuchtungssystems optical element of the illumination system
    22 22
    Projektionsobjektiv projection lens
    24 24
    Objektebene object level
    26 26
    Bildebene image plane
    28 28
    Linse des Projektionsobjektivs of the projection objective lens
    30 30
    Positionierungsvorrichtung Maske Positioning device mask
    32 32
    Positionierungsvorrichtung Substrat Positioning device substrate
    34 34
    optische Achse optical axis
    48 48
    Strahlengang beam path
    52 52
    Manipulatorsteuerung manipulator control
    54 54
    Bestimmungsmodul determination module
    56 56
    Stellweggenerator Stellweggenerator
    58 58
    Wellenfrontsensor Wavefront sensor
    60 60
    Speicher Stellweggenerator memory Stellweggenerator
    62 62
    Zonenprüfeinheit Zonenprüfeinheit
    64 64
    Überprüfungsvorrichtung Checking device
    66 66
    Korrektureinrichtung corrector
    68 68
    Speicher Storage
    70 70
    Spiegel des Projektionsobjektivs Mirror of the projection lens
    136 136
    optischer Manipulator optical manipulator
    136a 136a
    optischer Manipulator optical manipulator
    136b 136b
    optischer Manipulator optical manipulator
    136c 136c
    optischer Manipulator optical manipulator
    138 138
    Manipulationseinrichtung manipulation device
    140 140
    Aktuator actuator
    142 142
    Rückseite Spiegel rear mirror
    144 144
    reflektierende Beschichtung reflective coating
    145 145
    Spiegelhalterung mirror mount
    146 146
    Zone Zone
    148 148
    Gehäuse casing
    150 150
    Drucksensor pressure sensor
    152 152
    Antriebselement driving element
    154 154
    Feder feather
    156 156
    Kontaktelement contact element
    158 158
    optische Achse des Spiegels optical axis of the mirror
    160 160
    Trägerplatte support plate
    162 162
    Ausnehmung recess
    164 164
    Spiegelpfosten mirror post
    166 166
    Positionssensor position sensor
    168 168
    L-förmiger Hebel L-shaped lever
    170 170
    Verbindungselement connecting element
    172 172
    Feder feather
    174 174
    Befestigungselement fastener
    176 176
    hervorstehendes Teil des Spiegels projecting part of the mirror
    180 180
    piezoelektrische Schicht piezoelectric layer
    182 182
    Substrat substratum
    184 184
    elektrische Leitung electrical line
    185 185
    erste Kontaktfläche first contact surface
    186 186
    zweite Kontaktfläche second contact surface
    188 188
    Durchkontaktierung via
    190 190
    Isolationsschicht insulation layer
    192 192
    Steuerelektroden control electrodes
    194 194
    Gegenelektrode counter electrode
    196 196
    Schutzschicht protective layer
    236 236
    optischer Manipulator optical manipulator
    238 238
    Bestrahlungseinheit irradiation unit
    240 240
    Infrarotlichtquelle Infrared light source
    244 244
    IR-Strahlung IR radiation
    245 245
    fotoelektrischer Sensor photoelectric sensor
    246 246
    Zone Zone
    248 248
    Umlenkspiegel deflecting
    250 250
    Lichtwellenleiter optical fiber
    252 252
    erste Kondensorlinse first condenser lens
    254 254
    Strahlteiler beamsplitter
    256 256
    fotoelektrischer Sensor photoelectric sensor
    258 258
    zweite Kondensorlinse second condenser
    260 260
    Halterung holder
    264 264
    Querschnitt Belichtungsstrahlengang Section exposure beam path
    336 336
    optischer Manipulator optical manipulator
    338 338
    erste optische Platte first optical disk
    340 340
    zweite optische Platte second optical disk
    342 342
    Spalt gap
    344 344
    Luftströmung airflow
    346 346
    beheizbare Zone heated zone
    346a 346a
    kurzgeschlossene Zone shorted zone
    346b 346b
    kurzgeschlossene Zone shorted zone
    346c 346c
    fehlerhafte Zone faulty zone
    350 350
    Aktuierungseinrichtung actuating device
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Claims (22)

  1. Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage ( A method for controlling a projection exposure system ( 10 10 ) für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv ( ) (For microlithography with a projection lens 22 22 ) sowie mindestens einem in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs ( ) And at least one (in a beam path of the projection objective 22 22 ) angeordneten optischen Manipulator ( ) Located optical manipulator ( 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ), welcher eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs ( ) Having a plurality of a cross-section of the beam path ( 48 48 ) verteilten Zonen ( ) Distributed zones ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang ( ) With individual optical effect (in the beam path 48 48 ) aufweist, umfassend die Schritte: – Bestimmen eines Wellenfrontfehlers in einem Bildfeld der Projektionsbelichtungsanlage ( ), Comprising the steps of: - determining a wavefront error in an image field of the projection exposure system ( 10 10 ); ); – Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone ( - Generate a suitable correction of the wavefront error Stellwegvektors with travel ranges for each zone ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) mittels eines stellweggenerierenden Optimierungsalgorithmus auf Grundlage des bestimmten Wellenfrontfehlers; ) By means of a stellweggenerierenden optimization algorithm based on the particular wavefront error; – Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone des optischen Manipulators; - determining a parameter with respect to restriction of the travel of at least one zone of the optical manipulator; – Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit unter Berücksichtigung des ermittelten Einschränkungsparameters und Ausführen der folgenden Schritte bei Vorliegen einer Einschränkung in der Ausführbarkeit: Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen des optischen Manipulators auf Grundlage des Einschränkungsparameters und des generierten Stellwegvektors, Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Korrektur der Stellwege des generierten Stellwegvektors anhand der entsprechenden Korrekturwerte des Korrekturwertvektors, und Einstellen der optischen Wirkung aller Zonen ( - check of the adjustment paths of the generated Stellwegvektors for execution in consideration of the determined restriction parameter, and performing the following steps if there is a limitation in the executability of: obtaining a correction value vector with correction values ​​for several of the areas of the optical manipulator on the basis of the restriction parameter and the generated Stellwegvektors, determining a Stellwegvektors corrected by correcting the adjustment paths of the generated Stellwegvektors on the basis of respective correction values ​​of the correction value vector, and adjusting (the optical effect of all zones 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. ) Of the optical manipulator with the aid of the corrected Stellwegvektors for the compensation of the wavefront error.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Einschränkungsparameter einen maximal zulässigen Stellweg für mindestens eine Zone ( The method of claim 1, wherein the restriction parameter (a maximum allowable travel range for at least one zone 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) vorgibt. ) Pretends.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, weiterhin umfassend ein Prüfen einer Aktuatorcharakteristik der Zonen ( A method according to claim 1 or 2, further comprising a testing an actuator characteristics of zones comprising: ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) auf Einhaltung einer Sollvorgabe für einen Stellwegbereich und Festlegen des Einschränkungsparameters auf einen maximal zulässigen Stellweg für eine fehlerhafte Zone ( ) (On adherence to a target specification for an actuation path and setting the constraint parameter to a maximum travel range of an erroneous zone 346c 346c ) mit einer von der Sollvorgabe abweichenden Aktuatorcharakteristik. ) With a direction deviating from the nominal specification actuator characteristics.
  4. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, wobei der optische Manipulator ( Method according to one of the preceding claims, wherein the optical manipulator ( 136 136 ) einen deformierbaren Spiegel ( ) A deformable mirror ( 136a 136a , . 136b 136b , . 136c 136c ) umfasst, die Zonen jeweils deformierbare Bereiche einer reflektierenden Beschichtung des Spiegels sind, und ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone des deformierbaren Spiegels durch eine Deformierung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors erfolgt. ), Which zones are each deformable areas of a reflective coating of the mirror, and adjusting the optical power for each zone of the deformable mirror by a deformation corresponding to the travel ranges of the corrected Stellwegvektors occurs.
  5. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, wobei der optische Manipulator ( Method according to one of the preceding claims, wherein the optical manipulator ( 236 236 ) eine Bestrahlungseinrichtung ( ) Irradiating means ( 238 238 ) sowie ein in einem Strahlengang ( ) As well as a (in an optical path 48 48 ) des Projektionsobjektivs ( () Of the projection objective 22 22 ) angeordnetes optisches Element ( ) Disposed optical element ( 28 28 ) umfasst, die Zonen ( ), Which zones ( 246 246 ) auf dem optischen Element ( ) (On the optical element 28 28 ) von der Bestrahlungseinrichtung jeweils separat mit Strahlung einer Wellenlänge, welche von einer Belichtungswellenlänge der Projektionsbelichtungsanlage ( ) Of the irradiation device in each case separately with radiation having a wavelength which (of an exposure wavelength of the projection exposure apparatus 10 10 ) abweicht, derart bestrahlt werden, dass aufgrund einer Aufheizung der Zonen die optische Wirkung zur Kompensation des Wellenfrontfehlers erzielt wird. ) Deviates be irradiated in such a way that due to a heating of the zones, the optical effect for the compensation of the wavefront error is achieved.
  6. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, wobei die jeweilige optische Wirkung der Zonen ( Method according to one of the preceding claims, wherein the respective optical effect of the zones ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) mittels jeweiliger Steuersignale einstellbar ist und wobei weiterhin ein Prüfen auf eine fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale zweier Zonen erfolgt und der Einschränkungsparameter bei Vorliegen einer fehlerhaften Gleichschaltung einen einheitlichen Stellweg für die beiden betroffenen Zonen vorgibt. ) Is adjustable by means of respective control signals and further wherein said checking is performed on an erroneous DC circuit of the control signals of two zones and the restriction parameter in the presence of a faulty DC circuit provides a harmonized adjustment path for the two affected zones.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei der optische Manipulator als deformierbarer Spiegel ( The method of claim 6, wherein the optical manipulator (as a deformable mirror 136c 136c ) konfiguriert ist, bei dem die optische Wirkung der Zonen ( ) Is configured in which the optical effect of the zones ( 146 146 ) mittels an einer piezoelektrischen Schicht ( ) (By means of a piezoelectric layer 180 180 ) anliegenden Steuerelektroden ( ) Applied control electrodes ( 192 192 ) individuell einstellbar ist, und die fehlerhafte Gleichschaltung der Steuersignale zweier Zonen durch einen Kurzschluss zweier benachbarter Steuerelektroden erfolgt. ) Is individually adjustable, and carried the faulty DC circuit of the control signals of two zones by a short circuit between two adjacent control electrodes.
  8. Verfahren nach Anspruch 6, wobei der optische Manipulator ( The method of claim 6, wherein the optical manipulator ( 336 336 ) als strombetriebener thermischer Manipulator konfiguriert ist, bei dem die Steuersignale zur Einstellung der optischen Wirkung der Zonen ( ) Is configured as a current-operated thermal manipulator, wherein the control signals (for adjusting the optical power of the zones 346 346 ) durch individuelle elektrische Beheizung der Zonen erzeugt werden, wobei weiterhin das Prüfen auf ein fehlerhaftes Gleichschalten der Steuersignale zweier Zonen ein Prüfen auf einen elektrischen Kurzschluss in der Beheizung zweier benachbarter Zonen ( ) Are generated by individual electric heating of the zones, where further testing for a faulty direct switching of the control signals of two zones, a check (an electrical short circuit in the heating of two adjacent zones 346a 346a , . 346b 346b ) umfasst, der bewirkt, dass beide Zonen ( ), Which causes both zones ( 346a 346a , . 346b 346b ) gleich stark beheizt werden, und der Einschränkungsparameter bei Vorliegen eines Kurzschlusses einen einheitlichen Stellweg für die beiden benachbarten Zonen ( ) Are equally heated, and the restriction parameters in case of a short circuit, a uniform adjustment path for the two adjacent zones ( 346a 346a , . 346b 346b ) vorgibt. ) Pretends.
  9. Verfahren nach einem der vorgehenden Ansprüche, wobei das Beschaffen des Korrekturwertvektors eine Auswahl eines Korrekturwertvektors aus einer Vielzahl von für die Projektionsbelichtungsanlage ( Method according to one of the preceding claims, wherein obtaining the correction value vector a selection of a correction value vector of a plurality of (for the projection exposure apparatus 10 10 ) in einem Speicher ( ) (In a memory 68 68 ) bereitgestellten Korrekturwertvektoren umfasst. includes) correction value vectors provided.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Beschaffen des Korrekturwertvektors ein Ermitteln eines Basiskorrekturvektors mit Basisstellwegen auf Grundlage des Einschränkungsparameters, ein Ermitteln eines Skalierungsfaktors auf Grundlage des generierten Stellwegvektors und des ermittelten Basiskorrekturvektors, sowie ein Berechnen des Korrekturwertvektors durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor umfasst. Method according to one of claims 1 to 8, wherein the acquiring of the correction value vector determining a basic correction vector with base adjustment paths on the basis of the restriction parameter, determining a scaling factor based on the generated Stellwegvektors and the base correction vector found, and calculating the correction value vector by scaling the basic correction vector with the includes determined scaling factor.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Ermitteln des Basiskorrekturvektors eine Auswahl eines Basiskorrekturvektors aus einer Vielzahl von für die Projektionsbelichtungsanlage ( The method of claim 10, wherein determining the base correction vector, a selection of a base correction vector of a plurality of (for the projection exposure apparatus 10 10 ) in einem Speicher ( ) (In a memory 68 68 ) bereitgestellten Basiskorrekturvektoren umfasst. includes) base correction vectors provided.
  12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei das Ermitteln des Basiskorrekturvektors bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone ( The method of claim 10 or 11, wherein determining the base correction vector in the presence of an erroneous zone ( 346c 346c ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 336 336 ) mit einem von einer Sollvorgabe abweichenden Stellwegbereich die folgenden Schritte umfasst: – Bestimmen eines maximalen Korrekturstellwegs für die fehlerhafte Zone ( ) With a deviating from a desired specification actuation path comprising the steps of: - determining a maximum correction adjustment path for the faulty zone ( 346c 346c ) basierend auf der Sollvorgabe und des tatsächlichen Stellwegbereichs, – Bestimmen von maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen ( ) Based on the target setting and the actual travel range, - determining maximum Stellwegbereichen for all other zones ( 346 346 ) des Manipulators, und – Lösen eines Optimierungsproblems mit dem maximalen Korrekturstellweg der fehlerhaften Zone ( (Solving an optimization problem with the maximum Korrekturstellweg the faulty zone -) of the manipulator, and 346c 346c ), dem maximalen Stellwegbereichen aller anderen Zonen ( (), The maximum of all the other zones Stellwegbereichen 346 346 ) und einer minimalen oder vorgegebenen Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. ) And a minimum or predetermined aberration as constraints for determining the basis of the adjustment paths base correction vector.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei ein Prüfen einer Aktuatorcharakteristik der Zonen ( The method of claim 12, wherein a testing an actuator characteristics of the zones ( 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 336 336 ) zur Ermittlung eines Vorliegens einer fehlerhaften Zone und, bei Vorliegen einer fehlerhaften Zone ( ) (For determining an existence of a defective area and, in the presence of an erroneous zone 346c 346c ), das Berechnen eines Basiskorrekturvektors während der Herstellung des optischen Manipulators erfolgt, und der optische Manipulator zusammen mit dem berechneten Basiskorrekturvektor für die Projektionsbelichtungsanlage ( ), Calculating a base correction vector during the manufacture of the optical manipulator takes place, and the optical manipulator together with the calculated base correction vector for the projection exposure system ( 10 10 ) bereitgestellt wird. ) provided.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei das Ermitteln des Skalierungsfaktors bei Vorliegen einer fehlerhafte Zone ( The method of claim 12 or 13, wherein determining the scaling factor in the presence of a defective zone ( 346c 346c ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) mit einem von einer Sollvorgabe abweichenden Stellwegbereich auf einem Überschreitungswert des Stellwegbereichs durch den generierten Stellweg und einer Nominalauslegung des für die fehlerhafte Zone ermittelten Basiskorrekturvektors basiert. ) Based on a timeout value of the travel range by the generated travel and a nominal design of the base correction vector determined for the erroneous zone with a deviating from a desired specification actuation path.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, wobei die jeweilige optische Wirkung der Zonen ( Method according to one of claims 10 to 13, wherein the respective optical effect of the zones ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) mittels jeweiliger Steuersignale einstellbar ist und wobei weiterhin das Ermitteln des Basiskorrekturvektors umfasst: ein Berechnen eines Basiskorrekturvektors für zwei Zonen ( ) Is adjustable by means of respective control signals, and wherein further comprising determining the base correction vector: calculating a base correction vector for two zones ( 346a 346a , . 346b 346b ) des Manipulators ( () Of the manipulator 336 336 ), deren Steuersignale gleichgeschaltet sind, durch Lösen eines Optimierungsproblems mit vorgegebener Differenz zwischen unterschiedlichen Stellwegen für die zwei Zonen ( ), The control signals are equal connected (by solving an optimization problem with a predetermined difference between different travels for the two zones 346a 346a , . 346b 346b ) mit gleichgeschalteten Steuersignalen, maximalen Stellwegbereichen für alle anderen Zonen ( ) With the same dedicated control signals, maximum Stellwegbereichen (for all other zones 346 346 ) des optischen Manipulators und minimaler Aberration als Zwangsbedingungen zur Bestimmung der Basisstellwege des Basiskorrekturvektors. ) Of the optical manipulator and minimal aberration as constraints for determining the basis of the adjustment paths base correction vector.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei der optische Manipulator als deformierbarer Spiegel ( The method of claim 15, wherein the optical manipulator (as a deformable mirror 136c 136c ), bei dem die optische Wirkung der Zonen mittels an einer piezoelektrischen Schicht ( ), In which the optical effect of the zones by means of a piezoelectric layer ( 180 180 ) anliegenden Steuerelektroden ( ) Applied control electrodes ( 192 192 ) individuell einstellbar ist, oder als strombetriebener thermischer Manipulator ( ) Can be adjusted individually, or (as a current-operated thermal manipulator 336 336 ), bei dem die optische Wirkung der Zonen ( ), In which the optical effect of the zones ( 346 346 ) durch elektrische Beheizung individuell einstellbar ist, konfiguriert ist und das Berechnen des Basiskorrekturvektors für zwei benachbarte, elektrisch kurzgeschlossene Zonen des optischen Manipulators ( ) Is individually adjustable by electric heating, and is configured (calculating the base correction vector for two neighboring, electrically shorted zones of the optical manipulator 136c 136c , . 336 336 ) erfolgt. ) he follows.
  17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, wobei das Ermitteln des Skalierungsfaktors auf der Differenz der generierten Stellwege für die zwei Zonen ( The method of claim 15 or 16, wherein determining the scaling factor based on the difference of the generated adjustment paths for the two zones ( 346a 346a , . 346b 346b ) mit gleichgeschalteten Steuersignalen und einer Nominalauslegung des für die Zonen ( ) With the same dedicated control signals, and a nominal design of (for zones 346a 346a , . 346b 346b ) mit gleichgeschalteten Steuersignalen ermittelten Basiskorrekturvektors basiert. ) Base correction vector determined with the same dedicated control signals based.
  18. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, wobei der optische Manipulator ( Method according to one of the preceding claims, wherein the optical manipulator ( 336 336 ) eine für die Belichtungsstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage ( ) One (for the exposure radiation of the projection exposure apparatus 10 10 ) transparente Platte ( ) Transparent plate ( 338 338 ) enthält, deren optische Wirkung temperaturabhängig ist, die Zonen ( ) Whose optical effect is temperature dependent, the zones ( 346 346 ) jeweils separate, elektrisch beheizbare Bereiche der Platte ( ) Each separate, electrically heatable regions of the plate ( 338 338 ) sind, und ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone ( ), And adjusting the optical power for each zone ( 346 346 ) der transparenten Platte ( ) Of the transparent plate ( 338 338 ) durch eine Beheizung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors erfolgt. ) Is performed by a heating in accordance with the travel ranges of the corrected Stellwegvektors.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei der optische Manipulator ( The method of claim 18, wherein the optical manipulator ( 336 336 ) eine zweite, für die Belichtungsstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage ( ), A second (for the exposure radiation of the projection exposure apparatus 10 10 ) transparente Platte ( ) Transparent plate ( 340 340 ) enthält, deren optische Wirkung temperaturabhängig ist, weitere Zonen ( ) Whose optical effect is temperature dependent, additional zones ( 346 346 ) des Manipulators ( () Of the manipulator 336 336 ) jeweils separate, elektrisch beheizbare Bereiche der zweiten Platte ( ) Each separate, electrically heatable portions of the second plate ( 340 340 ) sind, und ein Einstellen der optischen Wirkung für jede Zone ( ), And adjusting the optical power for each zone ( 346 346 ) beider Platten ( ) Of both plates ( 338 338 , . 340 340 ) durch eine Beheizung entsprechend den Stellwegen des korrigierten Stellwegvektors erfolgt. ) Is performed by a heating in accordance with the travel ranges of the corrected Stellwegvektors.
  20. Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, enthaltend: – ein Projektionsobjektiv ( Projection exposure system for microlithography comprising: - a projection lens ( 22 22 ) zum Abbilden einer Maske ( ) (For imaging of a mask 12 12 ) aus einer Objektebene ( ) From an object plane ( 24 24 ) des Projektionsobjektivs in eine Bildebene ( ) Of the projection objective into an image plane ( 26 26 ) des Projektionsobjektivs; ) Of the projection lens; – mindestens einen optischen Manipulator ( - at least one optical manipulator ( 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) in einem Strahlengang des Projektionsobjektivs ( ) (In a beam path of the projection objective 22 22 ), wobei der optische Manipulator eine Vielzahl von über einen Querschnitt des Strahlengangs ( ), Wherein the optical manipulator (a plurality of a cross-section of the beam path 48 48 ) verteilten Zonen ( ) Distributed zones ( 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) mit individuell einstellbarer optischer Wirkung im Strahlengang ( ) With individual optical effect (in the beam path 48 48 ) aufweist; ) having; – ein Bestimmungsmodul ( - a determination module ( 54 54 ) zum Bestimmen eines Wellenfrontfehlers in einem Bildfeld der Projektionsbelichtungsanlage ( ) (For determining a wavefront error in an image field of the projection exposure apparatus 10 10 ); ); – einen Stellweggenerator ( - a Stellweggenerator ( 56 56 ) zum Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone ( ) (For generating a suitable correction to the wavefront error Stellwegvektors with adjustment paths for each zone 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) mittels eines stellweggenerierenden Optimierungsalgorithmus auf Grundlage des bestimmten Wellenfrontfehlers; ) By means of a stellweggenerierenden optimization algorithm based on the particular wavefront error; – eine Prüfeinrichtung ( - a test facility ( 62 62 , . 64 64 ) zum Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone ( ) (To determine a parameter relating to limitation of the travel for at least one zone 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) und zum Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit unter Berücksichtigung des ermittelten Einschränkungsparameters; ) And checking of the adjustment paths of the generated Stellwegvektors for execution in consideration of the restriction parameter determined; – eine Korrektureinrichtung ( - correcting means ( 66 66 ) zum Korrigieren des generierten Stellwegvektors bei einer Einschränkung der Ausführbarkeit mindestens eines Stellwegs, wobei die Korrektureinrichtung zum Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen ( ) For correcting the generated Stellwegvektors at a limitation of the feasibility of at least one actuator travel, wherein the correction means (for obtaining a correction value vector with correction values ​​for a plurality of zones 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators basierend auf dem Einschränkungsparameter und dem generierten Stellwegvektor und zum Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Korrektur der Stellwege des generierten Stellwegvektors anhand der entsprechenden Korrekturwerte des Korrekturwertvektors ausgebildet ist; ) Of the optical manipulator is constructed based on the restriction parameter, and the generated Stellwegvektor and for determining a corrected Stellwegvektors by correcting the adjustment paths of the generated Stellwegvektors on the basis of respective correction values ​​of the correction value vector; und – eine Aktuierungseinrichtung ( and - an actuating device ( 50 50 ) zum Einstellen aller Zonen ( ) (For setting all zones 146 146 , . 246 246 , . 346 346 ) des optischen Manipulators ( () Of the optical manipulator 136 136 , . 236 236 , . 336 336 ) mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. ) Using the corrected Stellwegvektors for the compensation of the wavefront error.
  21. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 20, wobei die Korrektureinrichtung ( Projection exposure apparatus according to claim 20, wherein said correcting means ( 66 66 ) zum Ermitteln eines Basiskorrekturvektors mit Basisstellwegen auf Grundlage des Einschränkungsparameters, zum Ermitteln eines Skalierungsfaktors auf Grundlage des generierten Stellwegvektors und zum Berechnen des Korrekturwertvektors durch Skalieren des Basiskorrekturvektors mit dem ermittelten Skalierungsfaktor ausgebildet ist. ) Is designed to determine a base correction vector with base adjustment paths on the basis of the restriction parameter, for determining a scaling factor based on the generated Stellwegvektors and for calculating the correction value vector by scaling the basic correction vector with the determined scale factor.
  22. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 20 oder 21, welche zum Ausführen eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 19 ausgebildet ist. Projection exposure apparatus according to claim 20 or 21, which is designed for carrying out a method according to any one of claims 1 to nineteenth
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