DE102014201622A1 - Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements - Google Patents

Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements Download PDF

Info

Publication number
DE102014201622A1
DE102014201622A1 DE102014201622.3A DE102014201622A DE102014201622A1 DE 102014201622 A1 DE102014201622 A1 DE 102014201622A1 DE 102014201622 A DE102014201622 A DE 102014201622A DE 102014201622 A1 DE102014201622 A1 DE 102014201622A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mirror
layer stack
mirror element
curvature
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102014201622.3A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Hartmut Enkisch
Peter Huber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102014201622.3A priority Critical patent/DE102014201622A1/de
Priority to PCT/EP2015/051791 priority patent/WO2015114043A1/de
Priority to JP2016549378A priority patent/JP6550066B2/ja
Priority to CN201580004334.9A priority patent/CN105917255B/zh
Priority to EP15705920.5A priority patent/EP3100083B1/de
Publication of DE102014201622A1 publication Critical patent/DE102014201622A1/de
Priority to US15/225,328 priority patent/US10423073B2/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/10—Mirrors with curved faces
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/062—Devices having a multilayer structure
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
    • G21K2201/064—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements having a curved surface

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
DE102014201622.3A 2014-01-30 2014-01-30 Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements Ceased DE102014201622A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014201622.3A DE102014201622A1 (de) 2014-01-30 2014-01-30 Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements
PCT/EP2015/051791 WO2015114043A1 (de) 2014-01-30 2015-01-29 Verfahren zum herstellen eines spiegelelements
JP2016549378A JP6550066B2 (ja) 2014-01-30 2015-01-29 ミラー素子を製造する方法
CN201580004334.9A CN105917255B (zh) 2014-01-30 2015-01-29 制造反射镜元件的方法
EP15705920.5A EP3100083B1 (de) 2014-01-30 2015-01-29 Verfahren zum herstellen eines spiegelelements
US15/225,328 US10423073B2 (en) 2014-01-30 2016-08-01 Method for producing a mirror element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014201622.3A DE102014201622A1 (de) 2014-01-30 2014-01-30 Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102014201622A1 true DE102014201622A1 (de) 2015-08-20

Family

ID=52574101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102014201622.3A Ceased DE102014201622A1 (de) 2014-01-30 2014-01-30 Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10423073B2 (https=)
EP (1) EP3100083B1 (https=)
JP (1) JP6550066B2 (https=)
CN (1) CN105917255B (https=)
DE (1) DE102014201622A1 (https=)
WO (1) WO2015114043A1 (https=)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015225510A1 (de) * 2015-12-16 2017-01-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102019202222A1 (de) * 2019-02-19 2020-08-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Ablenkspiegel aus Diamant sowie Verfahren zur Herstellung
WO2025012094A1 (de) 2023-07-13 2025-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Aktuierbare spiegel-baugruppe
WO2025087653A1 (de) * 2023-10-24 2025-05-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches element und euv-lithographiesystem
DE102024205025A1 (de) * 2024-05-29 2025-12-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikro-elektro-mechanisch bewegbares Element und System

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3065536B1 (fr) * 2017-04-20 2019-07-12 Alpao Miroir deformable a courbure variable et procede de fabrication d'un miroir associe
CN107143756B (zh) * 2017-06-14 2020-05-08 上海安茗科技中心(有限合伙) 灯具
EP3703114A1 (en) * 2019-02-26 2020-09-02 ASML Netherlands B.V. Reflector manufacturing method and associated reflector
DE102023200603A1 (de) 2023-01-26 2024-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen einer Spiegelanordnung, sowie Beschichtungsanlage
DE102023205340A1 (de) 2023-06-07 2024-12-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements, sowie optisches Element und Beschichtungsanlage
JP7519150B1 (ja) 2024-04-11 2024-07-19 合同会社北海道環境・エネルギー研究所 柱面体作製方法及びその作製方法を用いて作製された柱面体
DE102024207651A1 (de) * 2024-08-12 2026-02-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Mikrospiegelelements und mikro-elektro-mechanisches System

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06186418A (ja) * 1992-06-30 1994-07-08 Victor Co Of Japan Ltd ダイクロイックミラーの製造方法
US6011646A (en) 1998-02-20 2000-01-04 The Regents Of The Unviersity Of California Method to adjust multilayer film stress induced deformation of optics
WO2004029692A2 (en) 2002-09-25 2004-04-08 Rosemount Aerospace Inc. Micro mirror structure with flat reflective coating
WO2005026843A2 (en) 2003-09-12 2005-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
US7056627B2 (en) 2002-08-23 2006-06-06 Hoya Corporation Method of manufacturing a reflection type mask blank and method of manufacturing a reflection type mask
DE102005044716A1 (de) 2005-09-19 2007-04-05 Carl Zeiss Smt Ag Aktives optisches Element
US20080153010A1 (en) * 2006-11-09 2008-06-26 Asahi Glass Company., Ltd. Method for depositing reflective multilayer film of reflective mask blank for euv lithography and method for producing reflective mask blank for euv lithography
US20080166534A1 (en) 2005-02-28 2008-07-10 Nikon Corporation Optical Element and Method for Manufacturing Optical Element
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
DE102008042212A1 (de) 2008-09-19 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Reflektives optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
DE10314212B4 (de) * 2002-03-29 2010-06-02 Hoya Corp. Verfahren zur Herstellung eines Maskenrohlings, Verfahren zur Herstellung einer Transfermaske
US20110001947A1 (en) 2008-02-15 2011-01-06 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography
DE102009033511A1 (de) 2009-07-15 2011-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Mikrospiegelanordnung mit Anti-Reflexbeschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE102011003357A1 (de) 2011-01-31 2012-08-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
WO2013077430A1 (ja) 2011-11-25 2013-05-30 旭硝子株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクおよびその製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58217901A (ja) * 1982-06-14 1983-12-19 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 透過型光学部材
JPH09197124A (ja) * 1996-01-23 1997-07-31 Nippon Electric Glass Co Ltd ダイクロイックミラー
US6110607A (en) * 1998-02-20 2000-08-29 The Regents Of The University Of California High reflectance-low stress Mo-Si multilayer reflective coatings
AU5932500A (en) * 1999-07-22 2001-02-13 Corning Incorporated Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method and mask devices
JP3939132B2 (ja) * 2000-11-22 2007-07-04 Ｈｏｙａ株式会社 多層膜付き基板、露光用反射型マスクブランク、露光用反射型マスクおよびその製造方法、並びに半導体の製造方法
US6737201B2 (en) 2000-11-22 2004-05-18 Hoya Corporation Substrate with multilayer film, reflection type mask blank for exposure, reflection type mask for exposure and production method thereof as well as production method of semiconductor device
JP4320970B2 (ja) * 2001-04-11 2009-08-26 株式会社ニコン 多層膜反射鏡の製造方法
US7314688B2 (en) * 2002-09-11 2008-01-01 Hoya Corporation Method of producing a reflection mask blank, method of producing a reflection mask, and method of producing a semiconductor device
JP3806711B2 (ja) * 2002-09-11 2006-08-09 Ｈｏｙａ株式会社 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法
US20050026332A1 (en) * 2003-07-29 2005-02-03 Fratti Roger A. Techniques for curvature control in power transistor devices
WO2006092919A1 (ja) * 2005-02-28 2006-09-08 Nikon Corporation 光学素子及び光学素子の製造方法
JP2007108194A (ja) * 2005-10-11 2007-04-26 Canon Inc 多層膜ミラーの製造方法、光学系の製造方法、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2008109060A (ja) * 2005-11-10 2008-05-08 Asahi Glass Co Ltd Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法、ならびにｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法
WO2007055401A1 (en) * 2005-11-10 2007-05-18 Asahi Glass Company, Limited Method for depositing reflective multilayer film of reflective mask blank for euv lithography and method for producing reflective mask blank for euv lithography
JP2007193131A (ja) * 2006-01-19 2007-08-02 Seiko Epson Corp 光学部品の製造方法
JP2007329368A (ja) 2006-06-09 2007-12-20 Canon Inc 多層膜ミラー、評価方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2008101916A (ja) * 2006-10-17 2008-05-01 Canon Inc 多層膜光学素子
JP4269189B2 (ja) * 2007-03-16 2009-05-27 フジノン株式会社 光学素子、光学膜平面化方法及び光学素子の製造方法
US8194322B2 (en) 2007-04-23 2012-06-05 Nikon Corporation Multilayer-film reflective mirror, exposure apparatus, device manufacturing method, and manufacturing method of multilayer-film reflective mirror
WO2009016658A1 (en) * 2007-07-27 2009-02-05 Galileo Avionica S.P.A. Preliminary controlled pre-deformation treatment for the production of mirrors
CN102422225B (zh) * 2009-03-06 2014-07-09 卡尔蔡司Smt有限责任公司 用于微光刻的照明光学系统与光学系统
CN102565901B (zh) 2010-12-17 2014-06-04 北京兆阳光热技术有限公司 一种曲面反射镜及其制造方法
CN102759765B (zh) * 2011-04-28 2014-11-05 北京兆阳光热技术有限公司 一种曲面反射镜及其制造方法
DE102011084117A1 (de) * 2011-10-07 2013-04-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektives optisches Element für den EUV-Wellenlängenbereich, Verfahren zur Erzeugung und zur Korrektur eines solchen Elements, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Element und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06186418A (ja) * 1992-06-30 1994-07-08 Victor Co Of Japan Ltd ダイクロイックミラーの製造方法
US6011646A (en) 1998-02-20 2000-01-04 The Regents Of The Unviersity Of California Method to adjust multilayer film stress induced deformation of optics
DE10314212B4 (de) * 2002-03-29 2010-06-02 Hoya Corp. Verfahren zur Herstellung eines Maskenrohlings, Verfahren zur Herstellung einer Transfermaske
US7056627B2 (en) 2002-08-23 2006-06-06 Hoya Corporation Method of manufacturing a reflection type mask blank and method of manufacturing a reflection type mask
WO2004029692A2 (en) 2002-09-25 2004-04-08 Rosemount Aerospace Inc. Micro mirror structure with flat reflective coating
WO2005026843A2 (en) 2003-09-12 2005-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
US20080166534A1 (en) 2005-02-28 2008-07-10 Nikon Corporation Optical Element and Method for Manufacturing Optical Element
DE102005044716A1 (de) 2005-09-19 2007-04-05 Carl Zeiss Smt Ag Aktives optisches Element
US20080153010A1 (en) * 2006-11-09 2008-06-26 Asahi Glass Company., Ltd. Method for depositing reflective multilayer film of reflective mask blank for euv lithography and method for producing reflective mask blank for euv lithography
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
US20110001947A1 (en) 2008-02-15 2011-01-06 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography
DE102008042212A1 (de) 2008-09-19 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Reflektives optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102009033511A1 (de) 2009-07-15 2011-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Mikrospiegelanordnung mit Anti-Reflexbeschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE102011003357A1 (de) 2011-01-31 2012-08-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
WO2013077430A1 (ja) 2011-11-25 2013-05-30 旭硝子株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクおよびその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
translation JP H06 - 186 418 A

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015225510A1 (de) * 2015-12-16 2017-01-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US10598921B2 (en) 2015-12-16 2020-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102019202222A1 (de) * 2019-02-19 2020-08-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Ablenkspiegel aus Diamant sowie Verfahren zur Herstellung
DE102019202222B4 (de) 2019-02-19 2023-08-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Ablenkspiegel aus Diamant sowie Verfahren zur Herstellung
WO2025012094A1 (de) 2023-07-13 2025-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Aktuierbare spiegel-baugruppe
DE102023206689A1 (de) 2023-07-13 2025-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Aktuierbare Spiegel-Baugruppe
WO2025087653A1 (de) * 2023-10-24 2025-05-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches element und euv-lithographiesystem
DE102024205025A1 (de) * 2024-05-29 2025-12-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikro-elektro-mechanisch bewegbares Element und System

Also Published As

Publication number Publication date
EP3100083A1 (de) 2016-12-07
WO2015114043A1 (de) 2015-08-06
CN105917255A (zh) 2016-08-31
EP3100083B1 (de) 2019-08-14
US10423073B2 (en) 2019-09-24
JP2017506363A (ja) 2017-03-02
JP6550066B2 (ja) 2019-07-24
CN105917255B (zh) 2019-10-25
US20160342093A1 (en) 2016-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3100083B1 (de) Verfahren zum herstellen eines spiegelelements
DE102019219289A1 (de) Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102014219755A1 (de) Reflektives optisches Element
DE102016201445A1 (de) Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102015207153A1 (de) Wellenfrontkorrekturelement zur Verwendung in einem optischen System
DE102015225510A1 (de) Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102012206153A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102015200328A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für einemikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
EP4212962A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines optischen elements in einem optischen system für die mikrolithographie
DE102021213679A1 (de) Verfahren zum Erzeugen einer lokalen Dickenänderung einer Beschichtung, Spiegel und EUV-Lithographiesystem
DE102016210794A1 (de) Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Betrieb der optischen Anordnung
DE102021200790A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie Spiegel und optisches System
WO2023242060A1 (de) Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system
WO2015018560A2 (de) Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
WO2026037704A1 (de) Verfahren zur herstellung eines mikrospiegelelements und mikro-elektro-mechanisches system
DE102015223795A1 (de) Verfahren zum Bearbeiten eines optischen Elements
DE102018203241A1 (de) Optisches Element, sowie Verfahren zur Korrektur der Wellenfrontwirkung eines optischen Elements
DE102011006003A1 (de) Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102014219648A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements
WO2024033083A1 (de) Verfahren zur stabilisierung einer klebstoffverbindung einer optischen baugruppe, optische baugruppe und projektionsbelichtungsanlage für die halbleiterlithographie
DE102023205964A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie optisches System
DE102021208664A1 (de) Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
DE102022204833A1 (de) Optisches system, lithographieanlage und verfahren zum herstellen eines optischen systems
DE102011084650A1 (de) Diffraktive optische Elemente für EUV-Strahlung
DE102023206061B4 (de) Verfahren zum Korrigieren eines Oberflächenfehlers an einem Spiegel

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final