DE102013204391B3 - Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator - Google Patents

Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator Download PDF

Info

Publication number
DE102013204391B3
DE102013204391B3 DE201310204391 DE102013204391A DE102013204391B3 DE 102013204391 B3 DE102013204391 B3 DE 102013204391B3 DE 201310204391 DE201310204391 DE 201310204391 DE 102013204391 A DE102013204391 A DE 102013204391A DE 102013204391 B3 DE102013204391 B3 DE 102013204391B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
manipulator
projection
plane
field
radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE201310204391
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Heiko Feldmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE201310204391 priority Critical patent/DE102013204391B3/de
Priority to KR1020157028476A priority patent/KR101804651B1/ko
Priority to PCT/EP2014/051613 priority patent/WO2014139719A1/en
Priority to JP2015561991A priority patent/JP6339117B2/ja
Priority to CN201480022474.4A priority patent/CN105122142B/zh
Priority to TW103108993A priority patent/TWI539244B/zh
Application granted granted Critical
Publication of DE102013204391B3 publication Critical patent/DE102013204391B3/de
Priority to US14/838,532 priority patent/US9651872B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G03F7/70266—Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
DE201310204391 2013-03-13 2013-03-13 Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator Active DE102013204391B3 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201310204391 DE102013204391B3 (de) 2013-03-13 2013-03-13 Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
KR1020157028476A KR101804651B1 (ko) 2013-03-13 2014-01-28 파면 조작기를 갖는 투영 렌즈
PCT/EP2014/051613 WO2014139719A1 (en) 2013-03-13 2014-01-28 Projection lens with wavefront manipulator
JP2015561991A JP6339117B2 (ja) 2013-03-13 2014-01-28 波面マニピュレータを有する投影レンズ
CN201480022474.4A CN105122142B (zh) 2013-03-13 2014-01-28 具有波前操纵器的投射镜头
TW103108993A TWI539244B (zh) 2013-03-13 2014-03-13 具有波前操縱器之投射透鏡
US14/838,532 US9651872B2 (en) 2013-03-13 2015-08-28 Projection lens with wavefront manipulator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201310204391 DE102013204391B3 (de) 2013-03-13 2013-03-13 Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102013204391B3 true DE102013204391B3 (de) 2014-05-28

Family

ID=50679242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE201310204391 Active DE102013204391B3 (de) 2013-03-13 2013-03-13 Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6339117B2 (ko)
KR (1) KR101804651B1 (ko)
CN (1) CN105122142B (ko)
DE (1) DE102013204391B3 (ko)
TW (1) TWI539244B (ko)
WO (1) WO2014139719A1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014221504A1 (de) 2014-10-23 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102014226269A1 (de) 2014-12-17 2016-06-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Wellenfrontmesseinrichtung, Projektionsobjektiv mit einer solchen Messeinrichtung und mit einer solchen Messeinrichtung zusammenwirkender optischer Wellenfrontmanipulator
DE102015201020A1 (de) * 2015-01-22 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Manipulator sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
US20170068165A1 (en) * 2014-05-14 2017-03-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Optimum arrangement of actuator and sensor points on an optical element
CN111240010A (zh) * 2020-01-08 2020-06-05 北京理工大学 一种用于自由曲面测量的可变形镜面形设计方法及装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015209051B4 (de) 2015-05-18 2018-08-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102016205619A1 (de) 2016-04-05 2017-10-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Abschwächungsfilter für Projektionsobjektiv, Projektionsobjektiv mit Abschwächungsfilter für Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage mit Projektionsobjektiv
JP6744984B2 (ja) 2016-08-11 2020-08-19 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． 波面の可変コレクタ
DE102017209440A1 (de) * 2017-06-02 2018-12-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102019204285A1 (de) * 2019-03-27 2020-10-01 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Objektiv für ein Mikroskop
CN112525496B (zh) * 2020-12-07 2021-11-02 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种巡天望远镜波前曲率传感方法、装置、设备及介质
CN116710847A (zh) 2021-01-19 2023-09-05 卡尔蔡司Smt有限责任公司 设置投射曝光系统的方法、投射曝光方法以及用于微光刻的投射曝光系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851304A2 (en) * 1996-12-28 1998-07-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and device manufacturing method
WO2005026843A2 (en) * 2003-09-12 2005-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
WO2005069055A2 (en) * 2004-01-14 2005-07-28 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
US7830611B2 (en) * 2005-07-25 2010-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2011120821A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for operating a projection exposure apparatus with correction of imaging aberrations induced by the mask

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3303758B2 (ja) * 1996-12-28 2002-07-22 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
KR20050035890A (ko) 2002-08-23 2005-04-19 가부시키가이샤 니콘 투영 광학계, 포토리소그래피 방법, 노광 장치 및 그 이용방법
US7712905B2 (en) 2004-04-08 2010-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Imaging system with mirror group
EP2660854B1 (en) 2005-05-12 2017-06-21 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus and exposure method
CN101523294B (zh) * 2006-08-14 2012-08-08 卡尔蔡司Smt有限责任公司 具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法
JP5224218B2 (ja) * 2007-07-23 2013-07-03 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
JP2009277711A (ja) 2008-05-12 2009-11-26 Canon Inc 露光装置、補正方法及びデバイス製造方法
DE102011077784A1 (de) 2011-06-20 2012-12-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsanordnung
DE102015201020A1 (de) 2015-01-22 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Manipulator sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851304A2 (en) * 1996-12-28 1998-07-01 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and device manufacturing method
WO2005026843A2 (en) * 2003-09-12 2005-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
US20070165202A1 (en) * 2003-09-12 2007-07-19 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
WO2005069055A2 (en) * 2004-01-14 2005-07-28 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
US7830611B2 (en) * 2005-07-25 2010-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2011120821A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for operating a projection exposure apparatus with correction of imaging aberrations induced by the mask

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170068165A1 (en) * 2014-05-14 2017-03-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Optimum arrangement of actuator and sensor points on an optical element
US10025200B2 (en) * 2014-05-14 2018-07-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optimum arrangement of actuator and sensor points on an optical element
US10108094B2 (en) 2014-05-14 2018-10-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure apparatus with near-field manipulator
DE102014221504A1 (de) 2014-10-23 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
WO2016062466A1 (de) * 2014-10-23 2016-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie
DE102014226269A1 (de) 2014-12-17 2016-06-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Wellenfrontmesseinrichtung, Projektionsobjektiv mit einer solchen Messeinrichtung und mit einer solchen Messeinrichtung zusammenwirkender optischer Wellenfrontmanipulator
US10012911B2 (en) 2014-12-17 2018-07-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure apparatus with wavefront measuring device and optical wavefront manipulator
DE102015201020A1 (de) * 2015-01-22 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Manipulator sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
US9760019B2 (en) 2015-01-22 2017-09-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus
CN111240010A (zh) * 2020-01-08 2020-06-05 北京理工大学 一种用于自由曲面测量的可变形镜面形设计方法及装置
CN111240010B (zh) * 2020-01-08 2021-04-20 北京理工大学 一种用于自由曲面测量的可变形镜面形设计方法及装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014139719A1 (en) 2014-09-18
KR20150132293A (ko) 2015-11-25
JP2016510142A (ja) 2016-04-04
CN105122142A (zh) 2015-12-02
TWI539244B (zh) 2016-06-21
KR101804651B1 (ko) 2017-12-05
JP6339117B2 (ja) 2018-06-06
TW201504770A (zh) 2015-02-01
CN105122142B (zh) 2018-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102013204391B3 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
DE60209652T2 (de) Verfahren zur Messung der Aberration eines lithographischen Projektionssystems
EP1282011B1 (de) Reflektives Projektionsobjektiv für EUV-Photolithographie
DE102012202057B4 (de) Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement
DE102008064504B4 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102010029651A1 (de) Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Korrektur von durch rigorose Effekte der Maske induzierten Abbildungsfehlern
DE102015209051B4 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE10139177A1 (de) Objektiv mit Pupillenobskuration
DE102012010093A1 (de) Facettenspiegel
DE102010029905A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102009048553A1 (de) Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Umlenkspiegeln und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102014218474A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
DE102017209440A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102012212757A1 (de) Verfahren zum betreiben einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102010030089A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Mikro-Lithografie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
DE102020201098A1 (de) Abbildende Optik
DE102022211735A1 (de) Betriebssteuerungsverfahren für eine Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102016207487A1 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2018104178A1 (de) Katadioptrisches projektionsobjektiv und verfahren zu seiner herstellung
DE102011006003A1 (de) Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102018201457A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102015220144A1 (de) Optisches System und Lithographieanlage
DE102016205618A1 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012214052A1 (de) Mikrolithographisches Belichtungsverfahren, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102010003167A1 (de) Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Beleuchtungseinrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R020 Patent grant now final

Effective date: 20150303