DE102013109210A1

DE102013109210A1 - Evakuierbare Kammer, insbesondere mit einem Spülgas spülbare Beladeschleuse

Info

Publication number: DE102013109210A1
Application number: DE102013109210.1A
Authority: DE
Inventors: wird später genannt werden Erfinder
Original assignee: Aixtron SE
Current assignee: Aixtron SE
Priority date: 2013-08-20
Filing date: 2013-08-26
Publication date: 2015-02-26

Abstract

Die Erfindung betrifft eine evakuierbare Kammer (1), sowie ein Verfahren zum Spülen einer evakuierbaren Kammer, insbesondere Beladeschleuse oder Prozesskammer mit einem Gaseinlass (2), durch den ein mittels einer Gaseinspeiseleitung (4) bereitgestelltes Spülgas in die Kammer (1) einspeisbar ist, mit einem Gasauslass (3), durch den mittels einer Gasaustrittsleitung (11) und einer daran angeschlossenen Pumpe (15) das Spülgas aus der Kammer (1) absaugbar ist, und mit einem Drucksensor (20) sowie einer Druckregeleinrichtung (19), um den Druck in der Kammer (1) auf einem vorgegebenen Wert zu halten. Um die Vorrichtung kostengünstig weiterzubilden und ein hierzu geeignetes Verfahren anzugeben, wird ein in der Gaseinspeiseleitung (4) angeordneter Massenflussregler (5) vorgeschlagen, welcher mit der Regeleinrichtung (19) derart zusammenwirkt, dass bei unbeeinflusster Saugleistung der Pumpe (15) durch Variation des eingespeisten Massenflusses der Druck auf dem vorgegebenen Wert gehalten wird.

Description

Die Erfindung betrifft eine evakuierbare Kammer, insbesondere Beladeschleuse oder Prozesskammer einer CVD-Beschichtungsanlage mit einem Gaseinlass, durch den ein mittels einer Gaseinspeiseleitung bereitgestelltes Spülgas in die Kammer einspeisbar ist, mit einem Gasauslass, durch den mittels einer Gasaustrittsleitung und einer daran angeschlossenen Pumpe das Spülgas aus der Kammer absaugbar ist, und mit einem Drucksensor sowie einer Druckregeleinrichtung, um den Druck in der Kammer auf einem vorgegebenen Wert zu halten.
Beschichtungsanlagen in der Halbleitertechnik wie sie beispielsweise in der DE 101 59 702 A1 oder in der DE 10 2010 000 447 A1 dargestellt sind, besitzen ein oder mehrere Behandlungskammern, in denen insbesondere bei einem niedrigen Totaldruck Beschichtungsschritte durchgeführt werden, wobei auf Substraten, die auf Substrathaltern angeordnet sind, Schichten abgeschieden werden. Die Beschichtungskammern werden mit Hilfe einer Transferkammer beladen. In der Transferkammer kann ein Niedrigdruck herrschen. In der Transferkammer befindet sich bevorzugt ein Inertgas. Um die Transferkammer mit Substrate tragenden Substrathaltern zu beladen bzw. zu entladen dient eine Beladeschleuse, die ein Kammervolumen besitzt, welches in der Regel mehrere 100 Liter beträgt. Die Beladeschleuse besitzt eine zur Transferkammer weisende Tür und eine zur Außenumgebung, der Atmosphäre weisende Tür. Beim Beladen werden vorbereitete Substrate auf einem Substrathalter in die Schleuse geladen. Bevor die Schleuse auf den Druck der Transferkammer gebracht wird, muss die Schleuse eine Mehrzahl von Spülzyklen durchfahren, um die Feuchtigkeit aus der Kammer zu pumpen. Dies kann unter gleichzeitigem Aufheizen der Substrate erfolgen. Danach werden die Substrate in die Transferkammer gebracht. Beim Entladen werden die Substrate bzw. der die Substrate tragende Substrathalter aus der Transferkammer in die Beladeschleuse geladen. Da die Substrate bei erhöhten Temperaturen bearbeitet werden, sind diese bzw. der sie tragende Substrathalter noch heiß. Eine Kühlung findet in der Beladeschleuse statt, wobei ein Spülgas in die Beladeschleuse eingespeist wird, welches mittels einer Pumpe dort abgesaugt wird. Durch das konstante Spülen der Beladeschleuse werden Substanzen, die von den heißen Substraten abdampfen, aus der Beladeschleuse transportiert. Dies erfolgt für eine Zeit von etwa ein bis drei Stunden, wobei der Totaldruck in der Prozesskammer auf einem festen Wert gehalten wird. Beim gattungsgemäßen Verfahren wird ein konstanter Spülgasfluss in die Kammer eingespeist. Der Druck wird mit einem Drucksensor gemessen. Die Regeleinrichtung steuert die Pumpleistung beispielsweise durch Verstellen eines Schmetterlingsventils derart, dass der Druck durch Variation der Saugleistung auf einem festen Wert gehalten wird.
Die US 2010/0301011 A1 beschreibt ein Verfahren zum Erzeugen und Stabilisieren eines Unterdrucks in einer Prozesskammer, bei dem eine Druckkontrollkammer verwendet wird, die in Strömungsrichtung der Prozesskammer nachgeordnet ist. Der Druck in der Druckkontrollkammer wird dadurch konstant gehalten, dass über eine Bypassleitung ein Bypassgasstrom in die Druckkontrollkammer eingeleitet wird, dessen Massenfluss variiert wird. Eine Gasversorgungseinrichtung, bei der ein Druck in einem Massenflusssensor durch Variation eines Gasflusses konstant gehalten wird, zeigt die US 6,273,954 B2 .
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine gattungsgemäße Vorrichtung kostengünstig weiterzubilden und ein hierzu geeignetes Verfahren anzugeben.
Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung. Zunächst und im Wesentlichen wird ein in der Gaseinspeiseleitung angeordneter Massenflussregler vorgeschlagen, welcher mit der Regeleinrichtung zusammenwirkt. Zufolge dieser Ausgestaltung kann auf das steuerbare Drosselventil vor der Pumpe, mit der die Pumpleistung variiert werden kann, verzichtet werden. Bei unbeeinflusster Saugleistung der Pumpe soll durch Variation des eingespeisten Massenflusses der Druck auf dem vorgegebenen Wert gehalten werden. Zufolge dieser Ausgestaltung kann auf das beim Stand der Technik erforderliche Schmetterlingsventil verzichtet werden, welches, da es sich um ein mechanisches Verschleißteil handelt, einer regelmäßigen Wartung bedarf.
In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Saugleistung der Pumpe von einer ersten, hohen Saugleistung auf eine zweite, geringe Saugleistung vermindert werden kann. Die beiden Saugleistungen unterscheiden sich bevorzugt um mindestens einen Faktor fünf, besonders bevorzugt um mindestens einen Faktor zehn. Wird die Pumpe mit einer hohen Saugleistung betrieben, so kann die Kammer schnell, beispielsweise von Atmosphärendruck auf einen Druck im Millibar-Bereich, insbesondere im Bereich zwischen 1 und 50 mBar abgepumpt werden. Wird die Pumpe mit der zweiten Saugleistung betrieben, so ist der maximale Massenfluss, der unbeeinflussten Pumpe geringer als der maximale Massenfluss, der mit dem Massenflussregler in die Kammer einspeisbar ist. Zufolge dessen kann durch eine entsprechende Erhöhung des Massenflusses der Druck in der Kammer angehoben bzw. durch eine Verminderung des Massenflusses durch den Massenflussregler in der Kammer abgesenkt werden. Das Umschalten zwischen erster Saugleistung und zweiter Saugleistung kann über eine Bypassschaltung erfolgen, wobei zur Erzielung der ersten, hohen Saugleistung eine Hauptgasleitung mit einem großen Querschnitt zwischen Pumpe und Gasauslass geschaltet ist. Alternativ zur Hauptgasleitung kann ein Bypass zwischen Gasauslass und Pumpe geschaltet werden, der einen geringeren Querschnitt als die Hauptleitung aufweisen kann oder in dem eine Drossel, insbesondere mit einem konstanten Querschnitt sitzt. Bevorzugt kann eine weitere Bypassschaltung vorgesehen sein, mit der eine Versorgungsleitung, durch die Stickstoff, Wasserstoff oder ein anderes Inertgas strömen kann, wahlweise über eine Hauptleitung oder über den Massenflussregler mit dem Gaseinlass verbindbar ist. Ist die Versorgungsleitung über den Massenflussregler mit dem Gaseinlass verbunden, wird durch die Gaseinspeiseleitung ein geringer Massenfluss, der aber einstellbar ist, in die Kammer eingespeist. Mittels einer Ventilanordnung kann die Versorgungsleitung unmittelbar über eine Hauptleitung mit der Gaseinspeiseleitung bzw. dem Gaseinlass verbunden werden. Es strömt dann ein erheblich größerer Massenfluss durch den Gaseinlass in die Prozesskammer ein. In der Hauptleitung kann aber auch ein weiterer Massenflussregler vorgesehen sein, dessen maximale Durchflussmasse aber erheblich größer, mindestens um einen Faktor fünf, insbesondere um einen Faktor zehn größer ist als der Massenflussregler in der Bypassleitung. Durch die Bypassschaltungen lässt sich die Kammer in kurzer Zeit fluten bzw. in kurzer Zeit abpumpen. Bei reduzierter Saugleistung und Einspeisung des Spülgases durch den Massenflussregler kann über längere Zeit hindurch ein konstanter Druck im Bereich zwischen 50 und 100 mBar in der Kammer aufrechterhalten werden, wobei stetig ein Spülgas durch die Kammer hindurch fließt. Die Kammer besitzt bevorzugt zwei Tore, wobei ein Tor zu einer Transferkammer und ein weiteres Tor zur Außenumgebung weist. Alternativ zum Bypass zwischen Gasauslass und Pumpe kann die Drehzahl der Pumpe aber auch in zwei Bereichen einstellbar sein, so dass die Pumpe in einem ersten, hohen Drehzahlbereich mit der ersten, hohen Saugleistung betrieben wird und in einem zweiten, geringeren Drehzahlbereich mit der zweiten Saugleistung betrieben wird. Diese Variante bringt den Vorteil, dass sich der Lärmpegel und die verbrauchte elektrische Leistung vermindert, wenn die erfindungsgemäße Vorrichtung im Spülbetrieb betrieben wird. Mit der erfindungsgemäßen Lösung ist eine kostenoptimierte, anwenderfreundliche und wartungsarme Alternative zum Stand der Technik geschaffen worden. Der Kammerdruck wird jetzt mit Hilfe der Regelung eines Massenflussreglers auf einem im Wesentlichen konstanten Wert gehalten. Dazu wird mit einem Drucksensor der aktuelle Kammerdruck erfasst und an einen Regler, bei dem es sich bevorzugt um einen PI-Regler handelt, weitergeleitet. Der Massenflussregler fungiert als Stellglied und verändert mit dem Fluss den Druck innerhalb der Kammer. Mit dem Massenflussregler wird ein Inertgas, beispielsweise Stickstoff in die Kammer geleitet. Um den Medienverbrauch, also den Verbrauch an Stickstoff zu minimieren, sollte der Fluss am Gasauslass reduziert werden. Dies kann durch eine entsprechende Drossel, also eine Blende im Bypass erfolgen. Die Flussreduzierung kann aber auch durch eine Verminderung der Pumpendrehzahl erfolgen. Mit der erfindungsgemäßen Ausgestaltung ist darüber hinaus auch die Einstellung eines konstanten Spülflusses möglich. Dann wird mittels des Massenflussreglers lediglich ein konstanter Spülfluss in die Kammer eingeleitet. Dabei kann die Pumpe ebenfalls mit unbeeinflusster Saugleistung arbeiten.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
1 ein Blockschaltbild eines ersten Ausführungsbeispiels,
2 ein Blockschaltbild eines zweiten Ausführungsbeispiels.
Über eine Versorgungsleitung 10 wird ein Spülmedium, beispielsweise Wasserstoff oder Stickstoff in eine Gaseinspeiseleitung 4 geleitet. Dies kann entweder über eine Hauptleitung 7 oder über einen Bypass 6 erfolgen. Über die Ventile 8, 9 kann der mit der Versorgungsleitung 10 eingespeiste Gasfluss entweder durch die Hauptleitung 7 oder durch den Bypass 6 in die Gaseinspeiseleitung 4 geschaltet werden. Die Ventile 8, 9 bilden eine Umschaltventilanordnung, also gewissermaßen ein Dreiwegeventil.
In der Bypassleitung 6 sitzt ein Massenflussregler 5, der beispielsweise eine Kapazität von 10 slm besitzt. Mit dem Massenflussregler 5 kann somit ein Massenfluss im Bereich zwischen im Wesentlichen 0 und 10 Standardlitern in die Gaseinspeiseleitung 4 eingespeist werden. Durch die Hauptleitung 7 kann ein Massenfluss von beispielsweise 100 Standardliter pro Minute in die Gaseinspeiseleitung 4 eingespeist werden.
Die Gaseinspeiseleitung 4 mündet in eine Kammer 1. Es handelt sich hierbei um eine Beladeschleuse einer Beschichtungsanlage, die zwei Tore 22, 23 aufweist, durch die ein Substrathalter 24, auf dem Substrate 25 liegen, in die Kammer 1 hinein- bzw. aus der Kammer 1 herausgebracht werden können. Die Gaseinspeiseleitung 4 mündet in einen Gaseinlass 2 der Kammer 1, bei dem es sich um einen Diffusor handelt, dessen Aufgabe im Wesentlichen eine Reduzierung der Gasströmung ist.
Bei der in den Zeichnungen dargestellten Kammer kann es sich aber auch um die Kammer einer Beschichtungseinrichtung handeln, also um eine Prozesskammer, in der Halbleiterbehandlungsschritte durchgeführt werden. Beispielsweise kann in der Kammer 1 auf einem oder mehreren Substraten eine Schicht abgeschieden werden. Hierzu werden durch den Gaseinlass 2 durch nicht dargestellte Zuleitungen Prozessgase in die Prozesskammer 1 eingeleitet, die sich in der Prozesskammer pyrolytisch zerlegen können, so dass sich auf den Substratoberflächen eine Schicht abscheidet.
Das in die Kammer 1 eingespeiste Spülgas kann durch einen Gasauslass 3 die Kammer 1 verlassen. An den Gasauslass 3 ist eine Gasaustrittsleitung 11 angeschlossen, die wahlweise über eine Hauptleitung 14 oder über einen Bypass 13 mit einer Vakuumpumpe 15 verbunden werden kann. Über die Hauptleitung 14 kann ein hoher Massenfluss, beispielsweise 100 Standardliter pro Minute aus der Kammer 1 abgesaugt werden. Zwischen Hauptleitung 14 oder Bypassleitung 13 kann mittels der Ventile 16, 17 umgeschaltet werden. Die beiden Ventile 16, 17 bilden zusammen eine Ventilanordnung und gewissermaßen zusammen ein Dreiwegeventil.
In der Bypassleitung 13 befindet sich eine Ringblende 12, die die maximale Saugleistung auf etwa 5 slm reduziert. Vor der Pumpe 15 kann sich noch ein weiteres Ventil 18 befinden. In der Gaseinspeiseleitung 4 befindet sich zusätzlich ein Differenzdrucksensor 21, mit dessen Hilfe der Druck innerhalb der Kammer 1 zum Öffnen des zur Atmosphäre weisenden Tors 22 auf Atmosphärendruck bringbar ist.
Mittels des Drucksensors 20 wird der Druck in der Kammer 1 gemessen. Dieser Druckwert wird an eine Regeleinrichtung 19 geleitet, die den vom Drucksensor 20 gemessenen Druck mit einem Sollwert vergleicht. Entsprechend der Sollwert/Istwert-Abweichung wird der Massenfluss durch den Massenflussregler 5 variiert, so dass sich innerhalb der Kammer 1 ein dem Sollwert entsprechender Druck einstellt.
Die Gaseinspeisung kann auf zwei verschiedene Weisen erfolgen, nämlich einerseits durch die Hauptleitung 7, wozu das Ventil 8 geschlossen und das Ventil 9 geöffnet wird, oder durch den Bypass 6, wozu das Ventil 8 geöffnet und das Ventil 9 geschlossen wird. Die Pumpe 15 kann auf zwei Betriebsweisen betrieben werden, nämlich einmal bei geöffnetem Ventil 16 und geschlossenem Ventil 17, bei dem der Gasfluss durch die Hauptleitung 14 strömt oder bei geschlossenem Ventil 16 und geöffnetem Ventil 17, bei dem der Gasfluss durch den Bypass 13 und durch die Drossel 12 hindurchströmt.
Das in der 2 dargestellte Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von dem in der 1 dargestellten Ausführungsbeispiel im Wesentlichen lediglich durch die Verwirklichung der beiden voneinander verschiedenen Saugleistungen der Pumpe 15. Die Saugleistung der Pumpe 15 wird durch Änderung der Pumpendrehzahl erzielt. Wird die Pumpe 15 mit einer hohen Drehzahl von beispielsweise 4.000 bis 5.500 rpm betrieben, so leistet die Pumpe eine erste hohe Saugleistung. Wird die Pumpe hingegen mit einer reduzierten Drehzahl, beispielsweise im Bereich von 1.000 bis 4.000 rpm betrieben, so arbeitet sie mit einer zweiten Saugleistung, die mindestens um einen Faktor fünf geringer ist als die erste Saugleistung. Mit der hohen Saugleistung kann die Kammer 1 innerhalb kurzer Zeit evakuiert werden.
Mit der hohen Einspeiseleistung durch die Hauptleitung 7 kann die Kammer 1 innerhalb kurzer Zeit von einem Niedrigdruckbereich auf einen Atmosphärendruckbereich geflutet werden.
Sind die beiden Bypässe 13, 6 geschaltet, so kann der Druck in der Kammer in einem Bereich zwischen 50 und 100 mBar dadurch konstant gehalten werden, dass der Massenfluss durch den Massenflussregler 5 variiert wird. Dabei ist der maximale durch den Massenflussregler 5 hindurchfließende Massenfluss größer als der bei einem Atmosphärendruck oder einem konstanten Niedrigdruck durch den Bypass 13 hindurchfließende Massenfluss, so dass durch Variation des Massenflusses der Druck innerhalb der Kammer 1 in einem Bereich zwischen 50 und 100 mBar bei unbeeinflusster Saugleistung der Pumpe einstellbar ist.
Mit den zuvor beschriebenen Vorrichtungen lässt sich folgendes Verfahren ausführen: In einem ersten Verfahrensschritt wird der Druck in der Kammer 1 auf Atmosphärendruck gebracht. Hierzu kann das Ventil 18 geschlossen werden. Das Ventil 8 wird geschlossen und das Ventil 9 wird geöffnet. Die Kammer 1 wird dadurch mit Spülgas geflutet. Zeigt der Differenzdrucksensor 21 das Erreichen des Atmosphärendrucks an, wird das Ventil 9 geschlossen und das Ventil 8 geöffnet, so dass nur noch ein geringer Spülgasfluss durch den Gaseinlass 2 in die Kammer 1 strömt. Sodann wird das Tor 22 geöffnet und ein innerhalb der Kammer 1 angeordneter Substrathalter 24 mit darauf aufliegenden Substraten 25 aus der Kammer 1 entnommen. Ein vorbereiteter Substrathalter 24 mit zu beschichtenden Substraten 25 wird durch die Toröffnung des Tores 22 in die Kammer 1 gebracht. Nach Schließen des Tores 22 wird innerhalb von mehreren Pump-Spül-Zyklen der Druck in der Kammer 1 auf 1 mBar bzw. knapp unter Atmosphärendruck gebracht. Hierzu werden zum Evakuieren der Kammer 1 die Ventile 8 und 16 geöffnet und die Ventile 9 und 17 geschlossen. Zum Fluten der Kammer 1 werden die Ventile 8, 16 geschlossen und die Ventile 9, 17 geöffnet.
In einem nachfolgenden Spülschritt wird die Kammer 1 mit Stickstoff gespült. Hierzu wird das Ventil 16 geschlossen und das Ventil 17 geöffnet, so dass die Pumpe 15 mit einer verminderten Saugleistung arbeitet. Das Ventil 9 ist geschlossen und das Ventil 8 ist geöffnet, so dass über den Bypass 6 ein kontrollierter Stickstoffmassenfluss in die Prozesskammer 1 geleitet wird, mit dem bei einem vorbestimmten Totaldruck das etwa 450 Liter große Volumen der Prozesskammer 1 gespült wird.
Nach Beendigung dieses Spülschritts wird der Druck in der Kammer 1 auf den Druck der nicht dargestellten Transferkammer gebracht, so dass das Tor 23 geöffnet wird, durch welches dann der Substrathalter 24 mit dem darauf aufliegenden Substraten 25 in die Transferkammer gebracht werden kann. Aus der Transferkammer werden dann prozessierte Substrate 25 die auf einem Substrathalter 24 liegen in die Kammer 1 gebracht. In der zuvor beschriebenen Weise können dann mehrere Spülschritte stattfinden.
Unter Kammer 1 versteht die Beschreibung einen gasdicht nach außen verschlossenen Hohlraum, der mit Gas spülbar bzw. evakuierbar ist. Der Hohlraum kann für die verschiedensten Zwecke verwendet werden. Die Erläuterungen erfolgten anhand des Verwendungszwecks der Kammer für eine Beladeschleuse. Die Kammer kann aber auch als Prozesskammer für einen CVD-Prozess, als Aufbewahrungskammer für in Magazinen gestapelte Substrate oder als Transferkammer ausgebildet sein, in der ein Transfermechanismus angeordnet ist, mit dem Substrate oder mit Substraten bestückte Suszeptoren zwischen an die Transferkammer angeschlossenen Kammern ausgetauscht werden können.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren in ihrer fakultativ nebengeordneten Fassung eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.
Bezugszeichenliste

1: Kammer
2: Gaseinlass
3: Gasauslass
4: Gaseinspeiseleitung
5: Massenflussregler
6: Bypass
7: Hauptleitung
8: Ventil
9: Ventil
10: Versorgungsleitung
11: Gasaustrittsleitung
12: Drossel
13: Bypass
14: Hauptleitung
15: Pumpe
16: Ventil
17: Ventil
18: Ventil
19: Regeleinrichtung
20: Drucksensor
21: Differenzdrucksensor
22: Tor
23: Tor
24: Substrathalter
25: Substrat

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 10159702 A1 [0002]
DE 102010000447 A1 [0002]
US 2010/0301011 A1 [0003]
US 6273954 B2 [0003]

Claims

Evakuierbare Kammer (1), insbesondere Beladeschleuse oder Prozesskammer mit einem Gaseinlass (2), durch den ein mittels einer Gaseinspeiseleitung (4) bereitgestelltes Spülgas in die Kammer (1) einspeisbar ist, mit einem Gasauslass (3), durch den mittels einer Gasaustrittsleitung (11) und einer daran angeschlossenen Pumpe (15) das Spülgas aus der Kammer (1) absaugbar ist, und mit einem Drucksensor (20) sowie einer Druckregeleinrichtung (19), um den Druck in der Kammer (1) auf einem vorgegebenen Wert zu halten, gekennzeichnet durch einen in der Gaseinspeiseleitung (4) angeordneten Massenflussregler (5), welcher mit der Regeleinrichtung (19) derart zusammenwirkt, dass bei unbeeinflusster Saugleistung der Pumpe (15) durch Variation des eingespeisten Massenflusses der Druck auf dem vorgegebenen Wert gehalten wird.
Kammer nach Anspruch 1 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Saugleistung der Pumpe von einer ersten Saugleistung auf eine zweite Saugleistung reduzierbar ist, die mindestens um einen Faktor fünf geringer ist als die erste Saugleistung, wobei der Maximalwert des mit dem Massenflussregler (5) in die Kammer einspeisbaren Massenflusses größer ist als der mit der zweiten Saugleistung aus der Kammer (1) absaugbare Massenfluss.
Kammer nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der durch den Gaseinlass (3) einspeisbare Massenfluss von einem ersten Massenfluss auf einen zweiten Massenfluss verminderbar ist, welcher um mindestens einen Faktor fünf geringer ist als der erste Massenfluss.
Kammer nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Einspeiseleitung (4) eine Hauptleitung (7) aufweist, durch die ein erster Massenfluss hindurchströmen kann und einen in Strömungsrichtung parallel zur Hauptleitung (7) angeordneten Bypass (6) aufweist, in dem sich der Massenflussregler (5) befindet, wobei die Hauptleitung (5) und der Bypass (6) wahlweise mittels einer Ventilanordnung (8, 9) zwischen eine Versorgungsleitung (10) und dem Gaseinlass (2) schaltbar ist.
Kammer nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen zweiten Bypass (13), der wahlweise mittels einer Ventilanordnung (16, 17) zu einer Hauptleitung (14) zwischen Gasauslass (3) und Pumpe (15) schaltbar ist, wobei der Bypass (13) eine Drossel (12) aufweist zur Begrenzung der Saugleistung.
Verfahren zum Spülen einer evakuierbaren Kammer (1) insbesondere gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Pumpe (15) unbeeinflusst mit konstanter Saugleistung Gas durch den Gasauslass (3) aus der Kammer (1) absaugt, welches massenflussgeregelt durch den Massenflussregler (5) durch einen Gaseinlass (2) in die evakuierbare Kammer (1) eingespeist wird, wobei der Ist-Druck innerhalb der Kammer (1) mit einem Drucksensor (20) gemessen wird und der gemessene Wert einer Druckregeleinrichtung (19) zur Verfügung gestellt wird, die den Ist-Druck mit einem Soll-Druck vergleicht und den Massenflussregler (5) derart ansteuert, dass durch Variation des eingespeisten Massenflusses der Ist-Druck auf den Soll-Druck geregelt wird.