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Die Erfindung betrifft eine Projektionsvorrichtung und ein Verfahren zum Betreiben einer Projektionsvorrichtung.
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Stand der Technik
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Die
DE 10 2004 060 576 A1 beschreibt ein Verfahren sowie einen Bildprojektor zur Bildprojektion, bei denen ein Projektionsstrahl in der Intensität moduliert und durch Ablenkung an einem zweiachsigen Scanner zur Erzeugung eines Bildes über eine Projektionsfläche geführt wird.
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Bei dem dort beschriebenen Verfahren wird während der Bildprojektion jeweils ein momentaner Positionswert ermittelt, der einer momentanen Position des Projektionsstrahls auf der Projektionsfläche zugeordnet ist, eine der momentanen Position zugeordnete lokale Bildinformation aus einem Bildspeicher ausgelesen wird und der Projektionsstrahl entsprechend der ausgelesenen lokalen Bildinformation in der Intensität eingestellt wird.
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Die
DE 10 2005 002 190 A1 beschreibt einen Scanner zum Erfassen eines Oberflächenreliefs eines Objektes. Der dort beschriebene Scanner umfasst einen Projektor, der ausgebildet ist, einen Lichtstrahl in einer Beleuchtungszeile über das Oberflächenrelief zu führen, um eine beleuchtete Stelle auf dem Oberflächenrelief zu erhalten, wobei der Projektor ferner dazu ausgebildet ist, ein Projektionssignal auszugeben, aus dem eine Position des Lichtstrahles in der Beleuchtungszeile ableitbar ist.
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Ferner umfasst der dort beschriebene Scanner einen Kollektor mit einem zu Schwingungen in zwei Dimensionen anregbaren Kollektormikrospiegel und einem punktförmigen Lichtdetektor, wobei der Kollektormikrospiegel derart in eine erste Richtung der Beleuchtungszeile und in eine von der ersten Richtung verschiedene zweite Richtung schwingbar angeordnet ist, dass eine Reflexion der beleuchteten Stelle innerhalb eines Abtastbereiches des Mikroscannerspiegels durch denselben auf den punktförmigen Lichtdetektor abbildbar ist.
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Ferner ist bei dem dort beschriebenen Scanner der Kollektor dazu ausgebildet, ein Detektionssignal auszugeben, aus dem eine Position der beleuchteten Stelle in der ersten und zweiten Richtung ableitbar ist.
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Mikrospiegel-Projektoren werden besonders für miniaturisierte Projektoren verwendet. Dabei kommen ein- und zweiachsige Mikrospiegel-Projektoren zum Einsatz. Um eine hohe Robustheit der Mikrospiegel-Projektoren zu erreichen, wird ein den Mikrospiegel-Projektor hermetische verschließender Glasverschluss verwendet, welcher Reflexionen, die in der Projektionsfläche reflektiert werden können, erzeugt.
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Offenbarung der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung schafft eine Projektionsvorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 und ein Verfahren zum Betreiben einer Projektionsvorrichtung gemäß Patentanspruch 8.
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Vorteile der Erfindung
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Die Idee der vorliegenden Erfindung liegt darin, eine Projektionsvorrichtung mit einer abgedichteten hermetischen transparente Schnittstelle bereitzustellen, mit welcher ein hohes Kontrastverhältnis für anspruchsvolle Anwendungen, wie etwa ein Head-up-Display, kurz HUD, oder ein Anzeigefeld in Blickrichtung oder eine Blickfeldanzeige, erreichbar ist. Dabei wird das hohe Kontrastverhältnis durch ein Auswählen eines geeigneten Teilbereiches aus einem Gesamtprojektionsbereich erreicht. Somit wird das Bild durch die Projektionsvorrichtung lediglich in dem Teilbereich des Gesamtprojektionsbereiches projiziert, welcher ein entsprechend hohes Kontrastverhältnis ermöglicht.
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Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie aus der Beschreibung unter Bezugnahme auf die Figuren.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung als ein gekapselter Mikrospiegel-Scanner für Laser-Projektions- oder Bildgebungs-Anwendungen ausgebildet ist. Der Betrieb der Mikrospiegeleinrichtung als gekapselter Mikrospiegel-Scanner mit einer lokalen Vakuum-Umgebung führt vorteilhaft zu einer Verringerung der Dämpfung der Bewegung der Mikrospiegel durch Gasmoleküle, wodurch höchstfrequentes Scannen auch bei weiten Scanwinkeln selbst bei niedrigen Antriebsspannungen ermöglicht wird.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung als ein einachsiger oder zweiachsiger Mikrospiegel-Scanner für Laser-Projektions- oder Bildgebungs-Anwendungen ausgebildet ist. Dadurch kann vorteilhaft ein schneller Bildaufbau bei der scannenden Bildprojektion erreicht werden.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Projektionsvorrichtung als eine Laser-Projektionsvorrichtung für eine Blickfeldanzeige ausgebildet ist. Dadurch können vorteilhaft wichtigen Informationen in ein Sichtfeld der Blickfeldanzeige projiziert werden.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Projektionsbereich in Abhängigkeit von Betriebsdaten der Projektionsvorrichtung einstellbar ist. Dies erlaubt vorteilhaft, den Projektionsbereich optimal an die Betriebsdaten der Projektionsvorrichtung anzupassen.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Projektionsbereich in Abhängigkeit von vorgebaren Kontrastwertdaten von Teilbereichen des Gesamtprojektionsbereiches der Mikrospiegeleinrichtung einstellbar ist. Dadurch können von einem Benutzer der Projektionsvorrichtung für den jeweiligen Projektionsbereich der Bildprojektion gewünschte Kontrastwerte individuell vorgegeben werden.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der vorgegebene Kontrastwert des erzeugten Bildes in Abhängigkeit eines Winkelbereichs des von der Projektionsvorrichtung erzeugten Bildes vorgegeben ist. Dadurch kann der vorgegebene Kontrastwert vorteilhaft an den jeweiligen Winkelbereich der Bildprojektion angepasst werden.
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Die beschriebenen Ausgestaltungen und Weiterbildungen lassen sich beliebig miteinander kombinieren.
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Weitere mögliche Ausgestaltungen, Weiterbildungen und Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale der Erfindung.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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Die beiliegenden Zeichnungen sollen ein weiteres Verständnis der Ausführungsformen der Erfindung vermitteln. Sie veranschaulichen Ausführungsformen und dienen im Zusammenhang mit der Beschreibung der Erklärung von Prinzipien und Konzepten der Erfindung.
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Andere Ausführungsformen und viele der genannten Vorteile ergeben sich im Hinblick auf die Zeichnungen. Die dargestellten Elemente der Zeichnungen sind nicht notwendigerweise maßstabsgetreu zueinander gezeigt.
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Es zeigen:
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1 eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;
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2 eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;
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3 eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;
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4 eine schematische Darstellung eines Diagramms eines Gesamtprojektionsbereichs der Projektionsvorrichtung zur Erläuterung der Erfindung;
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5 eine schematische Darstellung einer einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;
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6 eine schematische Darstellung eines Diagramms eines Gesamtprojektionsbereichs der Projektionsvorrichtung zur Erläuterung der Erfindung; und
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7 eine schematische Darstellung eines Flussdiagramms eines Verfahrens zum Betreiben einer Projektionsvorrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
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In den Figuren der Zeichnung bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder funktionsgleiche Elemente, Bauteile, Komponenten oder Verfahrensschritte, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
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Die 1 zeigt eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
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Die in der 1 dargestellte Projektionsvorrichtung 100 umfasst zwei einstellbare Mikrospiegeleinrichtungen 10, welche jeweils eine hermetische Verkapselung in Form einer Schutzglaseinrichtungen 62 aufweisen, an welchen sich Streulichtartefakte als Streulicht-Reflexionen SR ausbilden.
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Die Projektionsvorrichtung 100 umfasst beispielsweise ferner eine Lasereinrichtung 20 und eine Rechnereinrichtung 30.
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Die Lasereinrichtung 20 ist beispielsweise dazu ausgelegt, einen Laserstrahl L zu erzeugen. Die Lasereinrichtung 20 kann als eine mehrfarbige Laserquelle ausgebildet sein und eine Mehrzahl von Einzellaserquellen aufweisen, welche Laserstrahlung mit einer roten, grünen oder blauen Spektralfarbe erzeugen.
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Die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 kann als MEMS oder MOEMS, auf Englisch micro-electro-mechanical system oder micro-optoelectro-mechanical system, auf Deutsch mikroelektronisches System oder optoelektronisches System, ausgebildet sein.
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Die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 ist beispielsweise dazu ausgelegt, einen Projektionsbereich PB als einen Teilbereich TB eines Gesamtprojektionsbereiches GB der Mikrospiegeleinrichtung 10 einzustellen und durch ein Ablenken des Laserstrahls L innerhalb des Projektionsbereiches PB ein Bild B auf einer Projektionsfläche PF zu erzeugen.
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Die zwei einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 können als zwei einachsige oder als ein zweiachsiger Mikrospiegel-Scanner für Laser-Projektions- oder Bildgebungs-Anwendungen ausgebildet sein. Ferner kann jede der zwei einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 als ein hermetisch verkapselter MEMS- oder MOEMS Spiegel-Scanner ausgeführt werden.
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Die hermetische Verkapselung des MEMS und MOEMS Systems auf Wafer-Ebene der beiden einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 führt zu einem sicheren und einfach erzielten dauerhaften Schutz des MEMS-Bauelementes vor Kontamination aller Art und erlaubt somit eine uneingeschränkte Funktionstüchtigkeit der einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10.
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Die Rechnereinrichtung 30 ist beispielsweise dazu ausgelegt, die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 derart anzusteuern, dass mit dem eingestellten Projektionsbereich PB ein vorgegebener Kontrastwert des auf der Projektionsfläche PF erzeugten Bildes B erreichbar ist.
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Ein erste der zwei einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 ist dabei dazu ausgelegt, das Bild B in vertikaler Richtung abzurastern. Die zweite der zwei einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 ist dazu ausgelegt, das Bild B in horizontaler Richtung abzurastern.
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Die beiden Mikrospiegeleinrichtungen 10 rastern das Bild B kontinuierlich über den Gesamtprojektionsbereiches GB ab. Allerdings wird der Laserstahl L von der Lasereinrichtung 20 nur während des Abrasterns des Teilbereiches TB des Gesamtprojektionsbereiches GB erzeugt und somit nur ein Bild B innerhalb des Teilbereiches TB projiziert.
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Die Schutzglaseinrichtungen 62 sind dazu ausgebildet, die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 hermetisch dicht zu verkapseln. Dabei können die Schutzglaseinrichtungen 62 durch Gehäusehalterungseinrichtung 50 fixiert werden. Die Gehäusehalterungseinrichtung 50 können als Teilgehäuseeinheiten der Projektionsvorrichtung 100 ausgebildet sein und dienen dem Fixieren von einzelnen Komponenten der Projektionsvorrichtung 100, wie etwa den Schutzglaseinrichtungen 62 oder der einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 oder der Rechnereinrichtung 30.
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Wie in der 1 dargestellt können zwei einstellbare Mikrospiegeleinrichtungen 10 in der Projektionsvorrichtung 100 verwendet werden. Beim Projizieren des Bildes B auf der Projektionsfläche PF treten jedoch mehrere Abbildungsfehler auf. Diese Abbildungsfehler oder Aberrationen stellen Abweichungen von der idealen optischen Abbildung der Projektionsvorrichtung 100 dar, welche durch optische Systeme, wie etwa eine Verkapselung der einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 mittels der Schutzglaseinrichtungen 62 bewirkt werden.
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Dabei können neben diffusem Streulicht auch Streulicht-Reflexionen SR auftreten. Streulicht-Reflexionen SR entstehen beispielsweise an brechenden Glasoberflächen der Schutzglaseinrichtungen 62. Dadurch können auffällige Lichtflecke auf dem Bild B entstehen. Die Streulicht-Reflexionen SR lassen sich aus physikalischen Gründen nicht völlig vermeiden, aber sie können ferner durch eine Antireflexbeschichtung der Schutzglaseinrichtungen 62 oder eine Vergütung der reflektierenden Oberflächen der Schutzglaseinrichtungen 62 stark reduziert werden.
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Die Oberflächen der Schutzglaseinrichtungen 62 wirken dabei zumindest teilweise wie ein Spiegel. Durch die teilweise reflektierenden Oberflächen werden die Streulicht-Reflektionen SR generiert.
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Mit einer Anti-Reflex-Beschichtung, kurz AR-Beschichtung, können die Streulicht-Reflektionen SR auf etwa 1% der Intensität des Laserstrahls reduziert werden. Wenn die reflektierenden Oberflächen der Schutzglaseinrichtungen 62 nicht gekippt werden, sind die Streulicht-Reflektionen SR im Bild B vorhanden.
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Die Streulicht-Reflektionen SR von der reflektieren Oberfläche der ersten einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 werden horizontal durch die zweite einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 reflektiert. Dadurch wird als optisches Artefakt eine horizontale Linie in dem Bild B erzeugt.
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Die Streulicht-Reflektionen SR von der reflektieren Oberfläche der zweiten einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 werden vertikal reflektiert. Dadurch wird als optisches Artefakt eine vertikale Linie in dem Bild B erzeugt.
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Die Streulicht-Reflektionen SR erzeugen daher insgesamt kreuzförmige Artefakte auf dem Bild B.
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Das Bild B ist als eine Matrix von Bildpunkten aufgebaut. Daher wird die Intensität der vertikalen Linien durch die Anzahl der Spalten des Bildes B beeinflusst, und die Intensität der horizontalen Linien wird durch die Anzahl der Zeilen des Bildes B beeinflusst.
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Bei einer Intensität der Reflexion an der Oberfläche von 1% und 850 Spalten ist die Intensität der vertikalen Linie noch 850 × 0,01 = 8,5. Somit sind die Streulichtreflexionen SR 8,5 mal heller als die durchschnittliche Helligkeit eines Bildpunktens. Daher werden zur Vermeidung der Streulicht-Reflektionen SR diese Bereiche aus der Bildprojektion ausgeblendet.
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Die Lasereinzelstrahlen L1, L2, L3 entsprechen einer gewünschten idealen optischen Abbildung und stellen verschiedene Scanwinkel innerhalb des Projektionsbereiches PB dar.
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Beispielsweise stellt der Lasereinzelstrahl L1 denjenigen Laserstrahl dar, wie er durch die zweite Mikrospiegeleinrichtung 10 in einer extrem nach rechts ausgelenkten Position abgelenkt wird. Der Lasereinzelstrahl L2 stellt denjenigen Laserstrahl dar, wie er durch die die zweite Mikrospiegeleinrichtung 10 in einer Nullstellung abgelenkt wird. Der Lasereinzelstrahl L3 stellt denjenigen Laserstrahl dar, wie er durch die zweite Mikrospiegeleinrichtung 10 in einer extrem nach links ausgelenkten Position abgelenkt wird.
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Die Projektionsvorrichtung 100 kann ferner eine Speichereinrichtung 40 aufweisen, welche mit der Rechnereinrichtung 30 gekoppelt ist. In der Speichereinrichtung 40 sind beispielsweise vorgebare Kontrastwertdaten von Teilbereichen TB des Gesamtprojektionsbereiches GB der Mikrospiegeleinrichtung 10 abgespeichert. Dabei können die Teilbereiche TB als Projektionsbereich PB von der Rechnereinrichtung 30 ausgewählt werden.
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Die Rechnereinrichtung 30 und die Speichereinrichtung 40 sind beispielsweise als eine Prozessoreinheit oder als eine sonstige elektronische Datenverarbeitungseinheit ausgebildet. Die Rechnereinrichtung 30 ist beispielsweise als ein Mikrocontroller, auch µController, ausgebildet, welcher neben einem Prozessor auch Einheiten für Peripheriefunktionen auf einem Chip vereint.
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Die 2 zeigt eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
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Abweichend von der in der 1 gezeigten Ausführungsform weist bei der in der 2 gezeigten Ausführungsform die Projektionsvorrichtung 100 Schutzglaseinrichtungen 62 mit Streulicht-Reflexionen SR in Vorwärtsrichtung auf.
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Die in der 2 gezeigten Streulicht-Reflexionen SR werden von der rückwärtigen Oberfläche beiden Schutzglaseinrichtungen 62 nach der Umlenkung an den einstellbaren Mikrospiegeleinrichtungen 10 erzeugt. Deshalb sind sie nicht so persistent und intensiv in ihrer Intensität wie die in der 1 gezeigten Streulicht-Reflexionen SR, aber sie reduzieren dennoch den Kontrast des Bildes B.
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Die Streulicht-Reflexionen SR der zweiten einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 werden innerhalb des Bildes B projiziert. Aufgrund der Verkippung der Schutzglaseinrichtungen 62 werden die Streulicht-Reflexionen SR nicht innerhalb eines zentralen Bereiches des Bilds B abgebildet.
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Die Geometrie der Streulicht-Reflektionen SR wird in der nachfolgenden 6 detailgetreuer dargestellt. Bei dem Abrastern des Bildes B wird die einstellbare Mikrospiegeleinrichtung 10 beginnend von rechts, wie in 2 dargestellt, über eine Nullstellung, wie in 3 dargestellt bis zu einer maximalen Auslenkung nach links verkippt. Ausgehend von dem Lasereinzelstrahl L2 sind ferner Streulicht-Reflexionen SR auf der Projektionsfläche PF dargestellt.
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Die weiteren in der 2 dargestellten Bezugszeichen sind bereits in der zu der 1 zugehörigen Figurenbeschreibung beschrieben und werden daher nicht weiter erläutert.
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Die 3 zeigt eine schematische Darstellung einer Projektionsvorrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
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Abweichend von der in der 1 gezeigten Ausführungsform weist bei der in der 3 gezeigten Ausführungsform die Projektionsvorrichtung 100 Schutzglaseinrichtungen 62, welche in Nullstellung positioniert sind. Dabei treten Streulicht-Reflexionen SR auf.
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Die weiteren in der 3 dargestellten Bezugszeichen sind bereits in der zu der 1 zugehörigen Figurenbeschreibung beschrieben und werden daher nicht weiter erläutert.
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Die 4 zeigt eine schematische Darstellung eines Diagramms eines Gesamtprojektionsbereichs der Projektionsvorrichtung zur Erläuterung der Erfindung.
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Auf der X-Achse ist die X-Koordinate einer Ortskoordinate des Bildes B in mm dargestellt, die Y-Achse gibt die Y-Koordinate der Ortskoordinate des Bildes B wieder. Unterschiedliche Grauwerte geben den Intensitätswert der jeweiligen Ortskoordinaten in dem Diagramm entsprechend der neben dem Diagramm dargestellten Skala wieder.
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Die 4 zeigt eine Simulation einer als Bild B projizierten Punktmatrix PM mit der durch die Schutzglaseinrichtungen 62 erzeugten vielfältigen Streulicht-Reflexionen SR. Die Intensitätsskala ist logarithmisch und dunklere Grauwerte entsprechen einem höheren Intensitätswert in relativer Intensität. Die in Form der regelmäßigen Punktmatrix PM angeordneten Punkte sind die direkt projizierten Punkte. Die davon abweichenden Punkte sind Punkte, welche auf Streulicht-Reflexionen SR basieren und etwa 1/100 der Intensität der direkt projizierten Punkte der Punktmatrix PM aufweisen.
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Als Kontrastwert kann im linken, ersten Teilbereich B1 durch die Mehrzahl von Streulicht-Reflexionen SR lediglich ein Wert von ungefähr einem Faktor von 200:1 erreicht werden.
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Auf dem rechten, zweiten Teilbereich B2 des projizierten Bildes B gibt es keine merklichen Streulicht-Reflexionen SR. Der Kontrastwert in diesem zweiten Teilbereich B2 kann im Idealfall einen Kontrastwert von bis zu 10000:1 erreichen.
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Die 5 zeigt eine schematische Darstellung einer einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
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Die 5 stellt die an der zweiten Mikrospiegeleinrichtung 10 auftretenden Reflektionen SR im Detail dar und stellt dabei insbesondere die Winkel zwischen dem einfallenden Laserstrahl Lin einen reflektierten Laserstrahl Lrfl dar.
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Eine Ausführungsform einer einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 ist detailliert in 6 dargestellt. Dabei ist der Strahlverlauf von einem einfallenden Laserstrahl Lin und einem reflektierten Laserstrahl Lrfl dargestellt.
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Die in der 5 gezeigten Winkel sind wie folgt definiert:
α ist der Winkel zwischen dem einfallenden Laserstrahl Lin und der Normalen NOS der Spiegeloberfläche SO in Nullstellung.
β ist der Winkel zwischen der Normalen der in einer beliebigen Position ausgelenkten Spiegeloberfläche SO relativ zu der Normalen der Spiegeloberfläche SO in Nullstellung.
γ ist der Winkel zwischen der Normalen NOG der Glasscheibe relativ zu der Normalen NOS der Spiegeloberfläche SO in Nullstellung.
θ ist der Winkel der Scan-Richtung relativ zu der Normalen NOS der Spiegeloberfläche SO in Nullposition.
φ ist der Winkel zwischen dem reflektierten Laserstrahl Lrfl und der Normalen der Spiegeloberfläche SO in Nullstellung.
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Nachdem der einfallende Laserstrahl Lin durch die Spiegeloberfläche SO der einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 reflektiert wird, treten im weiteren Strahlverlauf des Laserstrahls L Streulicht-Reflexionen SR an der als eine Glasscheibe ausgebildeten Schutzglaseinrichtungen 62 auf.
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Auf der Oberfläche der Schutzglaseinrichtungen 62 wird der reflektierte Laserstrahl Lrfl teilweise unter dem Winkel von θ + γ zurückreflektiert. Der reflektierte Laserstrahl Lrfl wird erneut von der Spiegeloberfläche SO der Mikrospiegeleinrichtung 10 umgelenkt und wieder in Richtung des projizierten Bildes B abgelenkt, wodurch der Kontrastwert des Bildes B abnimmt und sich verringert.
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Die Winkeldifferenz δ zwischen dem Scanwinkel und dem Winkel der Streulicht-Reflexionen SR ist gegeben durch: δ = θ0 – φ0 = (α – 4β + 2γα) – (α ± 2β) = 2γ – 2β
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Der Teilbereich TB, welcher nicht durch die sekundären Streulicht-Reflexionen SR in Bezug auf den Gesamtbereich GB beeinflusst ist, ist gegeben durch das Verhältnis r: r = (γ – β)/(2β)
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Diese Verhältnis r hängt somit nur vom der Neigung der Glasscheibe γ und dem Scanwinkel β ab. Dabei können zweckmäßige Werte für die beiden Winkel β und γ gewählt werden, um einen Verhältniswert von r von etwa 1/3 zu erreichen.
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Somit wird beispielsweise ein Bild B mit einem Bildformat von 16:9, wobei 16 auf die Länge und 9 auf die Höhe des Bildes bezogen ist, mit dem 16-fachen des Verhältnisses r projiziert.
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Die 6 zeigt eine schematische Darstellung eines Diagramms eines Gesamtprojektionsbereichs der Projektionsvorrichtung zur Erläuterung der Erfindung.
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Um einen möglichst hohen Kontrastwert des Bildes B zu erreichen, wird ein Projektionsbereich PB einer einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 als ein Teilbereich eines Gesamtprojektionsbereiches GB der Mikrospiegeleinrichtung 10 eingestellt.
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Die 7 zeigt eine schematische Darstellung eines Flussdiagramms eines Verfahrens zum Betreiben einer Projektionsvorrichtung gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
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Als ein erster Verfahrensschritt erfolgt ein Erzeugen S1 eines Laserstrahls L durch eine Lasereinrichtung 20.
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Als ein zweiter Verfahrensschritt erfolgt ein Einstellen S2 eines Projektionsbereiches PB einer einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 als einen Teilbereich eines Gesamtprojektionsbereiches GB der Mikrospiegeleinrichtung 10.
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Als ein dritter Verfahrensschritt erfolgt ein Ablenken S3 des Laserstrahls L innerhalb des Projektionsbereiches PB, um ein Bild B auf einer Projektionsfläche PF zu erzeugen und Ansteuern der einstellbaren Mikrospiegeleinrichtung 10 und der Lasereinrichtung 20, um mit dem eingestellten Projektionsbereich PB einen vorgegebenen Kontrastwert des auf der Projektionsfläche PF erzeugten Bildes B zu erreichen.
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Die Verfahrensschritte können dabei iterativ oder rekursiv in beliebiger Reihenfolge wiederholt werden.
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Obwohl die vorliegende Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele vorstehend beschrieben wurde, ist sie darauf nicht beschränkt, sondern auf vielfältige Art und Weise modifizierbar. Insbesondere lässt sich die Erfindung in mannigfaltiger Weise verändern oder modifizieren, ohne vom Kern der Erfindung abzuweichen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 102004060576 A1 [0002]
- DE 102005002190 A1 [0004]
