JP6422645B2 - プロジェクション装置及び該プロジェクション装置の動作方法 - Google Patents

Description

本発明はプロジェクション装置と該プロジェクション装置の動作方法に関している。

DE 10 2004 060 576 A1明細書からは画像プロジェクションのための画像プロジェクタ装置及びその方法が公知である。ここでは、投影ビームが二軸型スキャナにおいてその強度を変調され、さらに偏向されて投影面上で画像を形成すべく誘導されている。

ここに開示されている方法では、投影面上の投影ビームの目下の位置に対応してそれぞれ１つの目下の位置情報値が求められ、この目下の位置情報に対応する局所的画像情報が画像メモリから読み出され、読み出された局所的画像情報に相応して投影ビームの強度が設定されている。

DE 10 2005 002 190 A1明細書からは、対象の表面凸部を検出するためのスキャナが開示されている。ここに開示されているスキャナはプロジェクタを含み、該プロジェクタは、表面凸部上で照明箇所を維持するために、光ビームを表面凸部に関する照明ラインに誘導するように構成されている。このプロジェクタはさらに投影信号を送出するようにも構成されており、この投影信号からは照明箇所における光ビームの位置が導出可能である。

さらに前述のスキャナは、２つのディメンションで振動を誘起し得るコレクタマイクロミラーと点状の光検出器とを備えたコレクタを含んでいる。前記コレクタマイクロミラーはマイクロスキャナミラーの走査範囲内の照明箇所の反射が前記ミラーによって点状の光検出器上にマッピングされるように、照明ラインの第１の方向と該第１の方向とは異なる第２の方向に振動可能に配置されている。

さらに前述したスキャナでは、コレクタは検出信号を送出するように構成されている。この信号からは第１及び第２の方向における照明箇所の位置が導出可能である。

マイクロミラープロジェクタは特に小型化されたプロジェクタに用いられる。その際には単軸若しくは２軸型のマイクロミラープロジェクタが使用される。このマイクロミラープロジェクタの高い堅牢性を達成するために、マイクロミラープロジェクタを気密に密閉するガラス性密閉器が用いられるが、この密閉器は投影面に反射しかねない複数の反射を発生させる。

DE 10 2004 060 576 A1 DE 10 2005 002 190 A1

本発明の課題は、従来技術における欠点に鑑みこれを解消すべく改善を行うことである。

前記課題は本発明により、レーザー装置と、設定調整可能なマイクロミラー装置と、計算装置とを有し、前記レーザー装置は、レーザービームを生成するように構成されており、前記設定調整可能なマイクロミラー装置は、投影領域を前記マイクロミラー装置の全投影領域の部分領域として設定調整し、かつ前記投影領域内でのレーザービームの変更により投影面上で画像を形成するように構成されており、前記計算装置は、前記投影面上に形成された画像の予め定められるコントラスト値が設定調整された投影領域について達成されるように、前記設定調整可能なマイクロミラー装置と前記レーザー装置とを駆動制御するように構成されて解決される。

また前記課題は本発明により、レーザー装置によりレーザービームを生成するステップと、設定調整可能なマイクロミラー装置の投影領域を、マイクロミラー装置の全投影領域の部分領域として設定調整するステップと、投影面上に画像を形成するために、投影領域内にレーザービームを偏向させ、投影面上に生成される画像の予め設定されるコントラスト値を設定調整された投影領域について達成するために、設定調整可能なマイクロミラー装置とレーザー装置の駆動制御を行うステップによって解決される。

本発明は、要求の多い適用領域、例えばヘッドアップディスプレイ（いわゆるＨＵＤ）、又は視線方向表示ディスプレイ、又は視野方向表示ディスプレイのような適用領域に対して高いコントラスト比が達成可能となる気密に密閉された透過型インターフェースを備えたプロジェクション装置を提供することに基づいている。ここでの高いコントラスト比は、全投影領域からの適切な部分領域の選択によって達成される。それによりこの画像はプロジェクション装置によって全投影領域のうちの、相応に高いコントラスト比が可能な一部の領域においてのみ投影される。

本発明によるプロジェクション装置の実施形態を概略的に示した図 本発明によるプロジェクション装置の別の実施形態を概略的に示した図 本発明によるプロジェクション装置のさらに別の実施形態を概略的に示した図 本発明を説明するためのプロジェクション装置の全投影領域の図表を概略的に示した図 本発明を説明するためのプロジェクション装置の全投影領域の図表を概略的に示した図 本発明のさらに別の実施形態による、設定可能なマイクロミラー装置を概略的に示した図 本発明を説明するためのプロジェクション装置の全投影領域の概略的な関係図 本発明のさらに別の実施形態によるプロジェクション装置の動作方法のフローチャートを示した図

本発明の有利な実施形態及び改善形態は、従属請求項並びに図面に基づく以下の明細書の説明に記載される。

本発明の有利な実施形態によれば、設定調整可能なマイクロミラー装置が、レーザープロジェクション又はイメージングへの利用のために、カプセル化されたマイクロミラースキャナとして構成されている。この局所的真空環境の伴うカプセル化されたマイクロミラースキャナとしてのマイクロミラー装置の動作は、ガス分子によるマイクロミラーの動きの減衰を低減するように作用する。これにより低い駆動電圧と広い走査角度のもとでも最大頻度ないし最大速度の走査が可能となる。

本発明の実施形態によれば、設定調整可能なマイクロミラー装置が、レーザープロジェクション又はイメージングへの利用のために、単軸型若しくは二軸型のマイクロミラースキャナとして構成されている。これにより有利には走査中の画像投影のもとで迅速な画像形成が達成される。

本発明の有利な実施形態によれば、プロジェクション装置が、ヘッドアップディスプレイのためのレーザープロジェクション装置として構成されている。これにより有利には重要な情報がヘッドアップディスプレイの視野内に投影されるようになる。

本発明の別の有利な実施形態によれば、前記投影領域がプロジェクション装置の動作データに依存して設定可能である。このことは、投影領域がプロジェクション装置の動作データに最適に適合化することを可能にさせる。

本発明のさらに別の有利な実施形態によれば、前記投影領域が前記マイクロミラー装置の全投影領域の部分領域の予め設定可能なコントラスト値データに依存して設定可能である。これにより、プロジェクション装置のユーザーからそのつどの画像投影の投影領域毎に望まれるコントラスト値が個別に設定可能になる。

本発明の有利な実施形態によれば、形成された画像の予め設定されるコントラスト値が、プロジェクション装置から形成された画像の角度領域に依存して設定される。これにより、予め設定されるコントラスト値がそのつどの画像投影の角度領域に有利に適合化される。

前述した実施形態や改善形態は相互に任意に組み合わせてもよい。

本発明のさらに可能な構成、改善構成及び実施態様には、前述した特徴又は以下の明細書で実施例に基づいて説明する特徴のまだ詳細には挙げられていない組み合わせも含まれる。

添付の図面は、本発明の実施形態のさらなる理解を促すために、本発明の原理と構想を詳細に説明する以下の記載に関連して用いられるべきである。

別の実施態様や多くの利点もこれらの図面に関連して明らかとなる。なお図中に示されている個々の構成要素は必ずしも相互間で縮尺通りに示されているわけではないことも述べておく。

これらの図面中、機能の同じ構成部品、構成要素、方法ステップには矛盾しない限り、同じ符号が付されている。

図１には本発明による実施形態のプロジェクション装置の概略図が示されている。

図１に示されているプロジェクション装置１００には設定調整可能な２つのマイクロミラー装置１０が含まれており、これらのマイクロミラー装置１０は、保護ガラス装置６２の形態のそれぞれ１つの密閉されたカプセル状部を有しており、そこでは散乱光によるアーチファクトが散乱光反射ＳＲとして形成される。

プロジェクション装置１００はさらに例えばレーザー装置２０と計算装置３０を含んでいる。

レーザー装置２０は、例えばレーザービームＬを発生するように設計されている。このレーザー装置２０はマルチカラーレーザー光源として構成されていてもよい。その場合には、それぞれ赤色、緑色、青色のスペクトル色のレーザービームを発するシングルレーザー光源が複数備えられる。

設定可能なマイクロミラー装置１０は、ＭＥＭＳ"micro-electro-mechanical system"又はＭＯＥＭＳ"micro-optoelectro-mechanical-system"として構成されてもよい。

前記設定可能なマイクロミラー装置１０は、例えば投影領域ＰＢがマイクロミラー装置１０の全投影領域ＧＢの部分領域ＴＢとして設定され、投影領域ＰＢ内のレーザービームＬの偏向によって画像Ｂが投影面ＰＦ上に形成されるように設計されている。

前記２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０は、レーザー照射又はイメージング処理に使用するための、２つの１軸型マイクロミラースキャナで構成されていてもよいし、２軸型マイクロミラースキャナで構成されていてもよい。さらに前記２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０の各々が、密閉されカプセル化されたＭＥＭＳ型ミラースキャナとして構成されてもよいし、ＭＯＥＭＳ型ミラースキャナとして構成されてもよい。

前記の２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０のウエハ平面上のＭＥＭＳ型及びＭＯＥＭＳ型システムの密閉されたカプセル状部は、ＭＥＭＳ型（若しくはＭＯＥＭＥＳ型）構成素子の、あらゆる種類の異物からの安全でかつ簡単に得られる永続的な保護に結び付くと共に、設定調整可能なマイクロミラー装置１０の制約のない機能性を可能にする。

計算装置３０は、例えば、設定調整された投影領域ＰＢについて投影面ＰＦ上で形成された画像Ｂの予め設定されたコントラスト値が達成できるように、設定調整可能なマイクロミラー装置１０が駆動制御されるように設計される。

その場合前記２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０の第１のマイクロミラー装置１０は、画像Ｂを垂直方向に走査できるように設計され、前記２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０の第２のマイクロミラー装置１０は画像Ｂを水平方向に走査できるように設計される。

前記２つのマイクロミラー装置１０は、画像Ｂを全投影領域ＧＢ全体に亘って連続的に走査される。いずれにせよレーザー装置２０のレーザービームＬが、全投影領域ＧＢの部分領域ＴＢの走査の期間中にのみ生成され、それによって画像Ｂが部分領域ＴＢの範囲内にだけ投影される。

保護ガラス装置６２は、設定調整可能なマイクロミラー装置１０が密閉されて気密にカプセル化されるように設計されている。ここでの保護ガラス装置６２は、ケーシング保持装置５０によって固定可能である。このケーシング保持装置５０は当該プロジェクション装置１００の部分ケーシングユニットとして構成されていてもよい。その場合にはプロジェクション装置１００の個々のコンポーネント、例えば保護ガラス装置６２又は設定調整可能なマイクロミラー装置１０又は計算装置３０などの固定に用いられる。

前記２つの設定調整可能なマイクロミラー装置１０は、図１に示されているように当該のプロジェクション装置１００内部で用いられていてもよい。但し、投影面ＰＦへの画像Ｂの投影の際には、複数の結像エラーが発生し得る。この結像エラーないし収差は、プロジェクション装置１００の理想的な光学的結像位置からのずれを表し、このずれは、例えば保護ガラス装置６２を用いた前記設定調整可能なマイクロミラー装置１０のカプセル状部などの光学系によって引き起こされる。

その際には乱反射した散乱光の他に散乱光反射ＳＲも発生し得る。これらの散乱光反射ＳＲは、例えば保護ガラス装置６２の屈折性のガラス表面において生じる。それにより異彩な光のしみが発生する。前記の散乱光反射ＳＲは、物理的な理由から完全に回避することができないものであるが、しかしながらこの反射は、保護ガラス装置６２の反射表面のさらなるコーティング処理や反射防止膜によって大幅に低減することが可能である。

前記保護ガラス装置６２の表面は、少なくとも部分的にミラーのような作用をする。そのためこのような部分的に反射する表面によって散乱光反射ＳＲが形成される。

反射防止膜（Anti-Reflex-Coating）を用いることによって、散乱光反射ＳＲは、レーザービーム強度のほぼ１％以下に抑えることが可能となる。保護ガラス装置６２の反射表面がぐらぐらと傾かなければ散乱光反射ＳＲは画像Ｂ内に収まる。

設定調整可能な第１のマイクロミラー装置１０の反射表面からの散乱光反射ＳＲは、設定調整可能な第２のマイクロミラー装置１０によって水平方向に反射される。それにより、光学的なアーチファクトとして水平線が画像Ｂ内に形成される。

設定調整可能な第２のマイクロミラー装置１０の反射表面からの散乱光反射ＳＲは、鉛直方向に反射される。それにより、光学的なアーチファクトとして垂直線が画像Ｂ内に形成される。

それ故散乱光反射ＳＲは全体的に十字状のアーチファクトを画像Ｂ上に形成する。

画像Ｂは、多数の画素のマトリックスとして形成される。それ故垂直線の強度は、画像Ｂの列の数によって制御され、水平線の強度は、画像Ｂの行の数によって制御される。

表面における反射強度が１％で、列の数が８５０の場合、垂直線の強度はまだ、８５０×０.０１＝８.５である。それにより、散乱光反射ＳＲは１つの画素の平均輝度よりも８.５倍明るい。それ故に散乱光反射ＳＲを回避するために、この領域が画像投影面からマスキングされる。

レーザービームＬ１，Ｌ２，Ｌ３は、所望の理想的な光学的結像に相応し、投影領域ＰＢ内の様々な走査角度を表す。

例えばレーザービームＬ１は、第２のマイクロミラー装置１０によって極限まで右方向へそれた位置に偏向されたレーザービームを表している。またレーザービームＬ２は、第２のマイクロミラー装置１０によって零位置に偏向されたレーザービームを表す。レーザービームＬ３は、第２のマイクロミラー装置１０によって極限まで左方向にそれた位置に偏向されたレーザービームを表す。

プロジェクション装置１００はさらに記憶装置４０を有している。この記憶装置４０は前記計算装置３０に連結されている。記憶装置４０内には、例えばマイクロミラー装置１０の全投影領域ＧＢの部分領域ＴＢの予め設定可能なコントラスト値のデータが記憶されている。ここでの部分領域ＴＢは投影領域ＰＢとして前記計算装置３０から選択される。

前記計算装置３０と前記記憶装置４０は、例えばプロセッサユニットとして、あるいはその他の電子的なデータ処理ユニットとして構成されている。計算装置３０は例えばプロセッサの他に、周辺機能のためのユニットも１つのチップ上に統合されているマイクロコントローラとして構成されている。

図２には、本発明のさらに別の実施形態によるプロジェクション装置が概略的に示されている。

図１に示されている実施形態とは異なって、図２に示されている実施形態では、プロジェクション装置１００が、進行方向に散乱光反射ＳＲを伴う保護ガラス装置６２を有している。

図２に示された散乱光反射ＳＲは、設定調整可能なマイクロミラー装置１０における偏向の後で２つの保護ガラス装置６２の裏側表面によって生成されている。そのため図１に示されている散乱光反射ＳＲのような強度ではそれほど持続せず、集中的でもないが、それにもかかわらず画像Ｂのコントラストは低減される。

設定調整可能な第２のマイクロミラー装置１０の散乱光反射ＳＲは画像Ｂ内に投影される。保護ガラス装置６２の傾斜に基づいて、散乱光反射ＳＲは、画像Ｂの中央領域内では結像されない。

散乱光反射ＳＲの幾何学形態については、以下で説明する図６に示されている。画像Ｂの走査の際には設定調整可能なマイクロミラー装置１０が図２に示されているように右方から開始されて図３に示されているように零位置を介して左方の最大偏向位置まで傾斜される。さらにレーザービームＬ２から出発して散乱光反射ＳＲが投影面ＰＦ上に示される。

図２に示されているさらに別の参照符号は、図１に基づいた説明のところで既に説明しているので、ここでのさらなる説明は省く。

図３には本発明のさらに別の実施形態によるプロジェクション装置が概略的に示されている。

図１に示された実施形態とは異なって図３に示されている実施形態では、プロジェクション装置１００が、零位置に位置付けされた保護グラス装置６２を有している。ここでも散乱光反射ＳＲは発生している。

図３に示されているさらに別の参照符号も、図１に基づいた説明のところで既に説明しているので、ここでのさらなる説明は省く。

図４及び５には本発明の説明のためにプロジェクション装置の全投影領域の図表が示されている。

Ｘ軸には、画像Ｂの位置座標のＸ座標がｍｍ単位で示されており、Ｙ軸は画像Ｂの位置座標のＹ座標を再現している。種々異なるグレー値は、当該図表に隣接して示されているスケールに応じて当該ダイヤグラム内でそのつどの位置座標の強度値を再現している。

図４及び５には、保護ガラス装置６２によって形成された多様な散乱光反射ＳＲを伴って画像Ｂとして投影された点状マトリックスＰＭのシミュレーションが示されている。この強度スケールは対数尺スケールであり、相対的な強度において、より濃厚なグレー値は、より高い強度値に相応している。規則的な点状マトリックスＰＭの形態で配置されている複数の点は、直接投影された点である。それらのうちからずれの生じている点は、散乱光反射ＳＲに基づくものであり、点状マトリックスＰＭの直接投影された点の強度の約１/１００の値を有している。

コントラスト値として、左方側の第１の部分領域Ｂ１においては、複数の散乱光反射ＳＲによって、およそ２００：１の関係の係数値しか達成されない。

投影された画像Ｂの右方側の第２の部分領域Ｂ２上では目立った散乱光反射ＳＲは存在していない。この第２の部分領域Ｂ２におけるコントラスト値は、理想的なケースにおいては１００００：１の関係までのコントラスト値を達成し得る。

図６には、本発明のさらに別の実施形態による設定調整可能なマイクロミラー装置の概略図が示されている。

図６には第２のマイクロミラー装置１０において発生した反射ＳＲが詳細に描写されており、ここでは特に、入射レーザービームLinと反射レーザービームLrflとの間の角度が示されている。

設定調整可能なマイクロミラー装置１０の実施形態の詳細も図６に描写される。ここでは、入射されたレーザービームLinのレーザー経過と反射されたレーザービームLrflのレーザー経過とが描写されている。

図６中に示されている角度は以下のように定義される。すなわち、
α＝入射レーザービームLinと零位置のミラー表面ＳＯの法線ＮＯＳとの間の角度
β＝零位置のミラー表面ＳＯの法線に対する任意の位置に変更されたミラー表面ＳＯの法線間の角度
γ＝零位置のミラー表面ＳＯの法線ＮＯＳに対するガラス板の法線ＮＯＧ間の角度
θ＝零位置のミラー表面ＳＯの法線ＮＯＳに対する走査方向の角度
φ＝反射レーザービームLrflと零位置のミラー表面ＳＯの法線との間の角度である。

入射されるレーザービームLinが、設定調整可能なマイクロミラー装置１０のミラー表面ＳＯによって反射された後では、レーザービームＬのさらなるビーム経過において散乱光反射ＳＲが、ガラス板で構成された保護ガラス装置６２において発生する。

保護ガラス装置６２の表面において、反射されたレーザービームLrflは部分的にθ＋２γの角度で再帰反射ないし逆反射（zurueckreflektieren）される。反射されたレーザービームLrflは改めてマイクロミラー装置１０のミラー表面ＳＯから方向変換され、再び投影画像Ｂの方向へ偏向される。これにより画像Ｂのコントラスト値が減少し、低下する。

マイクロミラー装置１０の走査角度に対応する傾斜角度と、散乱光反射ＳＲの角度との間の角度差分δは、以下の関係式、
δ＝θ0−φ0＝（α−４β＋２γα）−（α＋−２β）＝２γ−２β
から得られる。

部分領域ＴＢ（これは全投影領域ＧＢに関して二次の散乱光反射ＳＲによる影響を受けない領域である）は、以下のような比率ないし関係値ｒ、
ｒ＝（γ−β）／（２β）
から得られる。

この関係値ｒは、ガラス板の勾配γとマイクロミラー装置１０の走査角度に対応する傾斜角度βにのみ依存する。ここでは約１／３の関係値ｒを達成するために、前記２つの角度β及びγに対して適切な値が選択される。

それにより、例えば画像フォーマット１６：９（これは画像の長さ（１６）に対する高さ（９）の比を表している）の画像Ｂは、１６倍の関係値ｒでもって投影され得る。

図７には、本発明を説明するための投影装置の全投影領域の関係図が示されている。

ここでは画像Ｂの可及的に高いコントラスト値を達成するために、設定調整可能なマイクロミラー装置１０の投影領域ＰＢがマイクロミラー装置１０の全投影領域ＧＢの部分領域として設定調整される。

図８には本発明のさらに別の実施形態によるプロジェクション装置の動作方法のフローチャートが概略的に示されている。

ここでは第１の方法ステップＳ１として、レーザー装置２０によるレーザービームＬの生成が行われる。

次に第２の方法ステップＳ２として、マイクロミラー装置１０の全投影領域ＧＢの部分領域として、設定調整可能なマイクロミラー装置１０の投影領域ＰＢの設定調整が行われる。

次に第３の方法ステップＳ３として、画像Ｂを投影面ＰＦ上に形成するために、前記投影領域ＰＢ内でレーザービームＬの偏向が行われ、さらに、投影面上に生成された画像Ｂの予め設定されたコントラスト値を調整された投影領域ＰＢについて達成するために、設定調整可能なマイクロミラー装置１０とレーザー装置２０の駆動制御が行われる。

前記の方法ステップは、反復的若しくは再帰的に、任意の順序で繰り返されてもよい。

本発明は前述したようないくつかの有利な実施形態に基づいて説明をしてきたが、このことは本願発明が前述の実施形態に限定されることを意味するものではない。それどころか本発明の態様については多岐に亘る変更が可能なものである。とりわけ本発明は、本発明の核心から逸脱することなく多種多様な方式での変更若しくは改善が可能であることを述べておく。

１０ マイクロミラー装置
２０ レーザー装置
３０ 計算装置
４０ 記憶装置
５０ ケーシング保持装置
６２ 保護ガラス装置
１００ プロジェクション装置
ＧＢ 全投影領域
ＰＢ 投影領域
ＰＦ 投影面
Ｂ 画像
Ｌ レーザービーム

Claims (8)

1. レーザー装置（２０）と、
   設定調整可能なマイクロミラー装置（１０）と、
   前記マイクロミラー装置（１０）を密閉して気密にカプセル化するガラス板で構成された保護ガラス装置（６２）と、
   計算装置（３０）とを有し、
   前記レーザー装置（２０）は、レーザービーム（Ｌ）を生成するように構成されており、
   前記マイクロミラー装置（１０）は、投影領域（ＰＢ）を当該マイクロミラー装置（１０）の全投影領域（ＧＢ）の部分領域（ＴＢ）として設定調整し、かつ、前記投影領域（ＰＢ）内での前記レーザービーム（Ｌ）の偏向により投影面（ＰＦ）上で画像（Ｂ）を形成するように構成されており、
   前記全投影領域（ＧＢ）に関して二次の散乱光反射（ＳＲ）による影響を受けない領域である前記部分領域（ＴＢ）についての関係値（ｒ）であって、前記ガラス板の勾配（γ）と前記マイクロミラー装置（１０）の走査角度に対応する傾斜角度（β）とにより規定される関係値（ｒ＝（γ−β）／（２β））が所定値を達成することによって、前記投影面（ＰＦ）上に形成される画像（Ｂ）の予め設定されるコントラスト値が、設定調整された前記投影領域（ＰＢ）について達成されるように、前記計算装置（３０）は、前記マイクロミラー装置（１０）と前記レーザー装置（２０）とを駆動制御することによって、前記ガラス板の前記勾配（γ）との関係において前記マイクロミラー装置（１０）の前記傾斜角度（β）を設定調整するように構成されていることを特徴とするプロジェクション装置（１００）。
2. 前記マイクロミラー装置（１０）は、レーザープロジェクション又イメージングに利用するためのカプセル化されたマイクロミラースキャナとして構成されている、請求項１記載のプロジェクション装置（１００）。
3. 前記マイクロミラー装置（１０）は、レーザープロジェクション又はイメージングに利用するための単軸型若しくは二軸型のマイクロミラースキャナとして構成されている、請求項１または２記載のプロジェクション装置（１００）。
4. 前記プロジェクション装置（１００）は、ヘッドアップディスプレイのためのレーザープロジェクション装置として構成されている、請求項１から３いずれか１項記載のプロジェクション装置（１００）。
5. 前記投影領域（ＰＢ）は、前記プロジェクション装置（１００）の動作データに依存して設定調整可能である、請求項１から４いずれか１項記載のプロジェクション装置（１００）。
6. 前記投影領域（ＰＢ）は、前記マイクロミラー装置（１０）の前記全投影領域（ＧＢ）の前記部分領域（ＴＢ）の予め設定可能なコントラスト値データに依存して設定調整可能である、請求項１から５いずれか１項記載のプロジェクション装置（１００）。
7. 前記形成される画像（Ｂ）の前記予め設定されるコントラスト値は、前記プロジェクション装置（１００）によって形成される画像（Ｂ）の角度領域に依存して設定される、請求項１から６いずれか１項記載のプロジェクション装置（１００）。
8. レーザー装置（２０）と、設定調整可能なマイクロミラー装置（１０）と、前記マイクロミラー装置（１０）を密閉して気密にカプセル化するガラス板で構成された保護ガラス装置（６２）と、計算装置（３０）とを有するプロジェクション装置を動作するための方法であって、
   前記レーザー装置（２０）によりレーザービーム（Ｌ）を生成するステップ（Ｓ１）と、
   前記マイクロミラー装置（１０）の投影領域（ＰＢ）を、当該マイクロミラー装置（１０）の全投影領域（ＧＢ）の部分領域（ＴＢ）として設定調整するステップ（Ｓ２）と、
   投影面（ＰＦ）上に画像（Ｂ）を形成するために、前記マイクロミラー装置（１０）によって前記投影領域（ＰＢ）内に前記レーザービーム（Ｌ）を偏向させると共に、前記全投影領域（ＧＢ）に関して二次の散乱光反射（ＳＲ）による影響を受けない領域である前記部分領域（ＴＢ）についての関係値（ｒ）であって、前記ガラス板の勾配（γ）と前記マイクロミラー装置（１０）の走査角度に対応する傾斜角度（β）とにより規定される関係値（ｒ＝（γ−β）／（２β））が所定値を達成することによって、前記投影面（ＰＦ）上に生成される画像（Ｂ）の予め設定されるコントラスト値を、設定調整された前記投影領域（ＰＢ）について達成するために、前記マイクロミラー装置（１０）と前記レーザー装置（２０）の駆動制御を行うことによって、前記ガラス板の前記勾配（γ）との関係において前記マイクロミラー装置（１０）の前記傾斜角度（β）を設定調整するステップ（Ｓ３）とが含まれていることを特徴とする方法。

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