DE102010034108A1 - Nanographenschichten und -partikel und Schmierstoffe, die diese enthalten - Google Patents

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Abstract

Es wird hier ein Verfahren zur Herstellung von mindestens einer Nanographenschicht offenbart. Das Verfahren umfasst das Auswählen von X Kohlenwasserstoffvorläufer und Y Wasserstoffgas (H2), so dass das Verhältnis von X/Y in einem Bereich von 0,5 bis 1 liegt, wobei der Kohlenwasserstoffvorläufer mindestens eines von CH4, C2H2 oder C3H8 umfasst. Das Verfahren umfasst außerdem das Unterziehen des Kohlenwasserstoffvorläufers einer chemischen Gasphasenabscheidung unter Verwendung des Wasserstoffgases und Argongases (Ar). Dies führt dazu, dass i) der Kohlenwasserstoffvorläufer nach der folgenden Reaktionsgleichung mit dem Wasserstoffgas und dem Argongas (Ar) reagiert:
X Kohlenwasserstoffvorläufer + Y H2 + Z Ar →
2X Graphen + (Y + 2X) H2 + Z Ar,
wobei Z in einem Bereich von 5·(X + Y) bis 10·(X + Y) liegt und ii) der Kohlenwasserstoffvorläufer zerfällt und sich unter Bildung der mindestens einen Nanographenschicht selbst assembliert.

Description

  • FACHGEBIET
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft allgemein Nanographenschichten, Nanographenpartikel und Schmierstoffe, die Nanographenschichten oder -partikel enthalten.
  • HINTERGRUND
  • Das Gleiten und die Bewegung von Teilen in Herstellungsverfahren sowie in Antriebsstrang- und Getriebesystemen von Fahrzeugmotoren werden durch Berücksichtigung tribologischer Eigenschaften verbessert. Reibungsverringerung bei Bearbeitungsverfahren wird üblicherweise durch vollständiges Überspülen der bearbeiteten Oberfläche mit Metallbearbeitungsschmierstoffen erreicht, welche Reibung verringern und als Kühlmittel wirken. In den letzten Jahren wurde als Alternative zu solchen Überspülverfahren Minimalmengenschmierung (MMS) angewendet. MMS-Schmierstoffe enthalten üblicherweise einen Nebel eines ölbasierten Schmierstoffs in minimaler Menge anstelle der größeren Mengen, die bei herkömmlichen Bearbeitungsschmierstoffen angewendet werden.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Es wird ein Verfahren zur Herstellung von mindestens einer Nanographenschicht offenbart. Das Verfahren umfasst das Auswählen von X Kohlenwasserstoffvorläufer und Y Wasserstoffgas (H2), so dass das Verhältnis von X/Y in einem Bereich von 0,5 bis 1 liegt, wobei der Kohlenwasserstoffvorläufer mindestens eines von CH4, C2H2 oder C3H8 umfasst. Das Verfahren umfasst außerdem das Unterziehen des Kohlenwasserstoffvorläufers einer chemischen Gasphasenabscheidung unter Verwendung des Wasserstoffgases und von Argongas (Ar). Dies führt dazu, dass i) der Kohlenwasserstoffvorläufer mit dem Wasserstoffgas und dem Argongas (Ar) nach der folgenden Reaktionsgleichung reagiert: X Kohlenwasserstoffvorläufer + Y H2 + Z Ar → 2 X Graphen + (Y + 2 X) H2 + Z Ar, wobei Z in einem Bereich von 5·(X + Y) bis 10·(X + Y) liegt, und ii) der Kohlenwasserstoffvorläufer zerfällt und unter Bildung der mindestens einen Nanographenschicht selbstassembliert.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Eigenschaften und Vorteile der vorliegenden Offenbarung werden anhand der folgenden ausführlichen Beschreibung und der Zeichnungen deutlich, in denen sich gleiche Ziffern auf ähnliche, aber unter Umständen nicht identische Bestandteile beziehen. Der Kürze halber sind Referenzziffern oder Eigenschaften mit einer bereits beschriebenen Funktion unter Umständen in Verbindung mit weiteren Zeichnungen, in denen sie auftauchen, nicht beschrieben.
  • 1 ist eine schematische Darstellung der chemischen Struktur einer Nanographenschicht,
  • 2A und 2B sind Transmissionselektronenmikroskopische Aufnahmen, die Nanographenschichten zeigen, welche durch das/die hier offenbarte(n) Verfahre(n) gebildet wurden,
  • 3A und 3B sind rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen, die Nanographenschichten zeigen, welche durch das/die hier offenbarte(n) Verfahre(n) gebildet wurden,
  • 4 ist ein Schaubild, in dem der Reibungskoeffizient (Y-Achse) gegen Umdrehungen (X-Achse) für einen Schmierstoff aufgetragen ist, der die hier offenbarten Nanographenpartikel enthält, und für einen Schmierstoff, der die hier offenbarten Nanographenpartikel nicht enthält,
  • 5 ist ein Schaubild, in dem der durchschnittliche Reibungskoeffizient (Y-Achse) gegen die Zeit in Stunden (Y-Achse) für Schmierstoffe aufgetragen ist, die verschiedene Mengen der hier offenbarten Nanographenpartikel enthalten, und
  • 6A und 6B zeigen ”Reibungsspur”-Schaubilder für einen Schmierstoff, der keine der hier offenbarten Nanographenpartikel enthält (6A), und für einen Schmierstoff, der die hier offenbarten Nanographenpartikel enthält (6B).
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Obwohl Minimalmengenschmierungsverfahren (MMS-Verfahren) sehr erfolgreich sein können, können außergewöhnliche Bearbeitungsbedingungen unter anderem zu hoher thermischer Belastung führen, die durch gängige MMS-Schmierstoffe nicht ausgeglichen werden kann. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben erkannt, dass durch Einarbeiten von Nanographen, (welches durch die hier offenbarten Ausführungsformen gebildet wird), in solche Schmierstoffe viele der negativen Wirkungen, die bei Verfahren auftreten, in denen MMS-Schmierstoffe allein angewendet werden, verringert oder verhindert werden können. Zum Beispiel verringern die hier offenbarten nanographenhaltigen Schmierstoffe vorteilhafterweise die bei Verfahren, bei denen übliche MMS-Schmierstoffe (d. h. ohne Nanographen) verwendet werden, typischerweise erforderliche Schleifkraft, verbessern die Oberflächenrauheit und Verschleißfestigkeit einer dem Schmierstoff ausgesetzten Oberfläche verglichen mit Oberflächen, die üblichen MMS-Schmierstoffen ausgesetzt sind, und verringern oder verhindern das Verbrennen eines Werkstücks, das sonst auftreten kann, wenn übliche MMS-Schmierstoffe verwendet werden.
  • Typischerweise wird mit ”Graphen” eine Einzelschicht aus Kohlenstoffatomen bezeichnet, die dicht in einer Benzolringstruktur gepackt sind, und der Begriff wird häufig verwendet, um die Eigenschaften vieler kohlenstoffbasierter Materialien einschließlich Graphit, größere Fullerene, Nanoröhren usw. zu beschreiben (z. B. werden Kohlenstoffnanoröhren gewöhnlich als Graphenblätter betrachtet, die zu nanometergroßen Zylindern aufgerollt sind).” (Novoselov. K. S. et al., "Electric Field Effect in Atomically Thin Carbon Films" Science 306, 666 (2004) doi: 10.1126/science.1102896.). Eine Graphenschicht liegt typischerweise in der Form eines Einzelschichtblatts mit einer Dicke im Nanometerbereich vor. Die typische chemische Struktur einer solchen Graphenschicht ist in der 1 abgebildet. Insbesondere zeigt diese Fig. die typische Nanographen-Einzelschicht, die eine Reihe hexagonaler Benzolringe umfasst, die in einer Einzelschicht miteinander verbunden sind.
  • In einer Ausführungsform des hier offenbarten Verfahrens wird mindestens eine Nanographenschicht gebildet, indem gasförmige Kohlenwasserstoffvorläufer der chemischen Gasabscheidung (CVD) unterzogen werden. Ganz allgemein zerfällt bzw. zerfallen während des Abscheidungsverfahrens der/die Kohlenwasserstoffvorläufer und selbst assemblieren unter Bildung der Nanographenschicht. Die Reaktion zwischen dem Kohlenwasserstoffvorläufer und weiteren Gasen läuft gemäß der folgenden chemischen Gleichung ab: X Kohlenwasserstoffvorläufer + Y H2 + Z Ar → 2X Graphen + (Y + 2X) H2 + Z Ar
  • Es wird davon ausgegangen, dass die Auswahl des Verhältnisses von Kohlenwasserstoffvorläufer zu Wasserstoffgas einen Einfluss auf die Bildung des Nanographens hat. In einer Ausführungsform liegt das Verhältnis X/Y in einem Bereich von 0,5 bis 1 und Z in einem Bereich von 5·(X + Y) bis 10·(X + Y). Das Auswählen der Menge des Vorläufers und der weiteren Gase innerhalb dieser Bereiche ermöglicht es, dass der Kohlenwasserstoffvorläufer zerfällt und sich unter Bildung der mindestens einen Nanographenschicht selbst assembliert.
  • In einer Ausführungsform reagieren und/oder zerfallen die Vorläufer auf der Oberfläche der CVD-Kammer oder auf einer Substratoberfläche und erzeugen so eine gewünschte Nanographenschicht oder -schichten. Es wird davon ausgegangen, dass in der bzw. den hier offenbarten Ausführungsform(en) Nanographenpartikel aus einer Einzelschicht oder aus mehreren Schichten des Nanographens hergestellt werden können. Die Dauer des Abscheidungsverfahrens ist einer der Faktoren, die bestimmen, wie viele Nanographenpartikel gewonnen werden können. Des Weiteren führen ein höheres Strömungsverhältnis des kohlenstoffhaltigen Vorläufers und eine niedrigere Wachstumstemperatur dazu, dass mehr Schichten der Graphen-Basisebenen zu einem einzigen Partikel erzeugt werden. Tatsächlich sind die durch das hier offenbarte Abscheidungsverfahren gebildeten Graphenprodukte alle in gewisser Weise Graphenschichten. Einige der Graphenschichten sind gebogen oder gekrümmt worden (was unten näher beschrieben wird) und weisen somit eine partikelartige Form auf. Diese Nanographenpartikel können mit einem zerknüllten Blatt Papier verglichen werden, dass, obwohl es ursprünglich wie eine ebene Schicht geformt ist, wie ein Ball geformt wird, wenn es zerknüllt wird.
  • Es wird davon ausgegangen, dass, wenn flüchtige Nebenprodukte zusammen mit der bzw. den Nanographenschicht(en) erzeugt werden, solche Nebenprodukte von der Nanographenschicht wegströmen können, während Gas durch die Reaktionskammer strömt. In einer Ausführungsform kann eines der Nebenprodukte zusätzliches Wasserstoffgas sein, das aus den zerfallenen Kohlenwasserstoffen (nicht einschränkende Beispiele hierfür umfassen CH4, C2H2 oder C3H8) gebildet wird.
  • In einer Ausführungsform werden die Nanographenschichten unter Anwendung eines Mikrowellenplasma-CVD-Verfahrens erzeugt. Bei dieser Variante der CVD wird Plasma verwendet, um die Geschwindigkeit der chemischen Reaktion der Vorläufer zu erhöhen. Die erhöhte Reaktionsgeschwindigkeit ermöglicht es, dass die Abscheidung bei niedrigeren Temperaturen abläuft.
  • In einer anderen Ausführungsform werden solche Nanographenschichten durch Heißdraht-CVD erzeugt. Bei dieser Variante der CVD wird ein heißer Faden oder Draht verwendet, um den chemischen Zerfall der Ausgangsgase zu unterstützen.
  • In einer weiteren Ausführungsform und wie oben erwähnt wird die mindestens eine Nanographenschicht auf eine Substratoberfläche abgeschieden. Es wird davon ausgegangen, dass jedes geeignete Substrat verwendet werden kann, das bis zu ca. 900°C (d. h. der maximalen Verarbeitungstemperatur für die verwendeten CVD-Verfahren) beständig ist. Es wird weiter davon ausgegangen, dass das Substrat dazu dient, die Nanographenpartikel bzw. -schichten während der Abscheidung zu sammeln, und somit jedes geeignete Substrat verwendet werden kann. Nicht einschränkende Beispiele für solche Substrate umfassen Siliziumdioxidscheiben, Substrate aus rostfreiem Stahl und Nickelsubstrate.
  • In einer Ausführungsform kann/können die hierdurch entstandene(n) Nanographenschicht bzw. -schichten durch Selbstkrümmen der Nanographenschichten zu Partikeln geformt werden. Dies kann durch Heraufsetzen der Strömungsgeschwindigkeit des Argongases und durch Herabsetzen der Strömungsgeschwindigkeit des Wasserstoffgases erreicht werden. Allgemein haben die Kanten der Graphen-Basisebenen viele nichtpaarige Bindungen, die thermodynamisch instabil sind. Die Anpassung der Ar- und der H2-Strömungsgeschwindigkeiten bewirkt, dass sich die Basisebene selbst krümmt, so dass sich die nichtpaarigen Bindungen unter Bildung von C-C-Bindungen miteinander verbinden können. Diese Krümmung der Nanographenschicht(en) führt zur Bildung eines Partikels bzw. von Partikeln.
  • Die durch chemische Gasphasenabscheidung gebildete(n) Nanographenschicht(en) und -partikel können zur Verwendung in verschiedenen industriellen Anwendungen in Schmierstoffen dispergiert werden. Es wird davon ausgegangen, dass entweder die Schichten selbst oder die aus den Schichten gewonnenen Partikel in einen wünschenswerten Schmierstoff eingearbeitet werden können. Es wird angenommen, dass die Morphologie der Schichten oder Partikel sich, nachdem sie dem Schmierstoff zugesetzt wurden, nicht ändert. Die Menge des in dem Schmierstoff dispergierten Nanographens liegt in einem Bereich von ca. 0,05 Gewichtsprozent bis ca. 5 Gewichtsprozent. In einer anderen Ausführungsform liegt das Nanographen in einer Menge in einem Bereich von ca. 0,5 Gewichtsprozent bis ca. 1 Gewichtsprozent vor. Wenn Mengen als ”ca. ein bestimmtes Gewichtsprozent” angegeben werden, umfasst das ”ca.” allgemein ± 0,1 Gewichtsprozent. Nicht einschränkende Beispiele für solche Schmierstoffe umfassen MMS-Schmierstoffe, Kühlmittel, Kraftübertragungsschmierstoffe, Antriebsstrangsschmierstoffe usw. In einem Beispiel sind die Schmierstoffe pflanzliche Fettalkohole, pflanzliche Fettsäuren oder Mischungen daraus. In einem anderen Beispiel ist der Schmierstoff Acculube®-LB-2000. In einem weiteren Beispiel ist der Schmierstoff Shell® Oil Lubricant SAE 5W-30 SG-Klasse.
  • Die Eigenschaften des Graphens ermöglichen es, dass die Schicht(en) und/oder Partikel ohne die Anwendung zusätzlicher Dispergiermittel oder Lösungsmittel in solche Schmierstoffe eingearbeitet und darin geeignet dispergiert werden können. Es wird angenommen, dass das Nanographen ohne zusätzliche Dispergiermittel oder Lösungsmittel in dem Schmierstoff dispergiert, weil es die Wechselwirkung zwischen den Pi-Bindungen auf den Nanographenpartikeln oder Nanographenschichten und den funktionellen Gruppen in den Fettalkoholen bzw. Fettsäuren in den Schmierstoffen ermöglicht, dass die Dispersion leicht abläuft.
  • Die durch das hier offenbarte Verfahren gebildete(n) Nanographenschicht bzw. -partikel hat bzw. haben ein Elastizitätsmodul in einem Bereich von 0,9 bis 1,2 TPa, eine Bruchfestigkeit in einem Bereich von 90 bis 150 GPa und eine Wärmeleitfähigkeit in einem Bereich von 4,84 × 103 bis 5,30 × 103 Wm–1K–1. In einer anderen Ausführungsform können die Nanographenschicht bzw. -partikel eine Wärmeleitfähigkeit von bis zu 3,0 × 103 Wm–1K–1 haben.
  • Die aus der/n Nanographenschicht(en) gebildeten Nanographenpartikel weisen dieselben Eigenschaften auf wie die Schichten, einschließlich beispielsweise der hohen Wärmeleitfähigkeit (bis zu 5.300 Wm–1K–1) und der oben dargelegten ausgezeichneten mechanischen Eigenschaften. In einem Beispiel haben die einzelnen Partikel eine Wärmeleitfähigkeit von bis zu 5.300 Wm–1K–1 für eine spezifische Oberfläche von bis zu ca. 3.000 m2/g (z. B. 2.675 m2/g).
  • Es wird angenommen, dass das angewendete CVD-Verfahren zu dem Vorhandensein dieser verbesserten Eigenschaften in den Nanographenpartikeln bzw. -schichten beiträgt. Die oben erörterten Eigenschaften, welche die Nanographenschicht(en) und -partikel aufweisen, können die industriellen Anwendungen, in denen sie verwendet werden, verbessern. Durch Einarbeiten der Nanographenschicht(en) (oder daraus gebildeter Partikel) in einen Schmierstoff, weist der Schmierstoff ebenfalls die wünschenswerten Eigenschaften des Nanographens auf. Als Ergebnis können in Anwendungen, in denen der nanographenhaltige Schmierstoff verwendet wird, das tribologische Verhalten und/oder die Werkzeugbeständigkeit verbessert werden. Tatsächlich haben, wie in den unten aufgeführten Beispielen gezeigt, tribologische Labortests unter Anwendung von MMS-Schmierstoffen mit Zusatz von (durch das hier offenbarte Verfahren gebildeten) Nanographenpartikeln verglichen mit herkömmlichen Metallbearbeitungsschmierstoffen, (die kein solches Nanographen enthalten), eine signifikante Verbesserung von tribologischem Verhalten und Werkzeugbeständigkeit gezeigt. Zum Beispiel kann das Anwenden der Schmierstoffe mit den Nanographenpartikeln bzw. -schichten darin mindestens eines von Reibung und Verschleiß verringern. Des Weiteren kann das Anwenden der Schmierstoffe mit den (Nanographen)partikeln bzw. -schichten darin außerdem die Wärmeleitfähigkeit der Oberfläche verbessern, auf die der Schmierstoff aufgebracht wird.
  • Es wird angenommen, dass, wenn die Nanographenschicht(en) und/oder -partikel als Zusatzstoff in andere Kühlmittel oder Kraftübertragungsschmierstoffe eingemischt werden, die Kühlleistung und das tribologisches Verhalten verbessert werden können, wenn solche Flüssigkeiten in dem Motor, in dem Getriebe und/oder in der Kraftübertragung verwendet werden. Aufgrund der niedrigeren Reibungs- und Verschleißeigenschaften können die hier offenbarten Nanographenpartikel auch herkömmlichen Antriebsstrangsschmierstoffen zugesetzt werden, um die Reibung und den Verschleiß in Fahrgestell- und Kraftübertragungssystemen zu verringern.
  • Um die Ausführungsformen) der vorliegenden Offenbarung zusätzlich zu veranschaulichen, werden die folgenden Beispiele angeführt. Es wird davon ausgegangen, dass diese Beispiele dem Zweck der Veranschaulichung dienen und nicht dahin auszulegen sind, dass sie den Schutzumfang von Ausführungsformen) der vorliegenden Offenbarung einschränken.
  • BEISPIELE
  • Beispiel 1
  • In einem Mikrowellenplasma-CVD-Verfahren wurden geschichtete Nanographenpartikel erzeugt. In dem CVD-Verfahren wurde C2H2 mit 40 Standardkubikzentimetern pro Minute (sccm), H2 mit 80 sccm und Ar mit 300 sccm eingesetzt. Die Temperatur des Verfahrens lag bei ca. 300°C. 2A und 2B zeigen Transmissionselektronenmikroskopische Aufnahmen von Nanographenschichten, die durch das oben beschriebene Mikrowellenplasma-CVD-Verfahren gebildet worden sind. 2A hat im Druck bei 7 Zoll eine 863.000-fache Vergrößerung und 2B hat im Druck bei 7 Zoll eine 3.450.000-fache Vergrößerung.
  • 3A und 3B zeigen rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen der Nanographenschichten, die durch das vorstehend beschriebene Mikrowellenplasma-CVD-Verfahren gebildet worden sind. 3A zeigt die Schichten in 25.000-facher Vergrößerung und 3B zeigt Schichten bei einer 100.000-fachen Vergrößerung.
  • Beispiel 2
  • Partikel aus den in dem Beispiel 1 gebildeten Nanographenschichten wurden anschließend in einem MMS-Schmierstoff, Accu-Lube® LB-2000 (ITW Rocol®, Nordamerika) dispergiert. Ein beispielhafter Schmierstoff enthielt 1 Gew.-% der Nanographenpartikel und ein anderer beispielhafter Schmierstoff enthielt 0,2 Gew.-% der Nanographenpartikel. Tribologische Labortests zeigten bei Anwendung des MMS-Schmierstoffs mit dem darin dispergierten Nanographen verglichen mit den herkömmlichen Metallbearbeitungsschmierstoffen ohne Nanographen eine signifikante Verbesserung von tribologischem Verhalten und Werkzeugbeständigkeit. Als Vergleichsbeispiel wurde der MMS-Schmierstoff ohne Nanographen (d. h. mit 0 Gew.-% Nanographenpartikeln) ebenfalls solchen Tests unterzogen.
  • Es wurde unter Verwendung eines Stifts aus einer Aluminiumlegierung Al319 eine Versuchsreihe durchgeführt, bei welcher der Stift gegen ein mit nanokristallinem Diamant beschichtetes Werkzeugmaterial reibte. Der Reibungskoeffizient wurde als eine Funktion der Umdrehungszahl des Stifts gemessen, wenn der oben beschriebene MMS-Schmierstoff (Accu-Lube® LB-2000) mit Nanographen (1 Gew.-%) eingesetzt wurde und wenn der MMS-Schmierstoff (Accu-Lube® LB-2000) ohne Nanographen eingesetzt wurde. 4 ist ein Schaubild der aus diesen Versuchen enthaltenen Daten. Speziell ist in 4 der Reibungskoeffizient (Y-Achse) gegen die Umdrehungen (X-Achse) aufgetragen. Wie abgebildet, ist der Reibungskoeffizient herabgesetzt, wenn das Nanographen in dem Schmierstoff enthalten ist.
  • Beispiel 3
  • Eine andere Versuchsreihe wurde mit einer Zylinderbohrung aus Gusseisen durchgeführt, die gegen einen Kolbenring reibte. Dieses Mal wurden die Versuche unter Anwendung von Shell® Oil Lubricant SAE 5W-30 SG-Klasse als dem MMS-Schmierstoff durchgeführt. Vergleichstests wurden anschließend mit dem MMS-Schmierstoff (d. h. Shell® Oil Lubricant SAE 5W-30 SG-Klasse) mit Nanographen darin durchgeführt sowie mit demselben Typ MMS-Schmierstoff (Shell® Oil Lubricant SAE 5W-30 SG-Klasse) ohne Nanographen darin. Der durchschnittliche Reibungskoeffizient wurde für den MMS-Schmierstoff mit 1 Gew.-% Nanographen, den MMS-Schmierstoff mit 0,2 Gew.-% Graphen und einen MMS-Schmierstoff mit 0% Graphen als eine Funktion der Zeit gemessen. Die 5 ist ein Schaubild der aus diesen Versuchen enthaltenen Daten. Speziell ist in der 5 der durchschnittliche Reibungskoeffizient (Y-Achse) gegen die Zeit (in Stunden, auf der X-Achse dargestellt) aufgetragen. Wie abgebildet, ist der Reibungskoeffizient über die Zeit für den Schmierstoff mit Nanographen niedriger als für das Vergleichsbeispiel, den Schmierstoff ohne Nanographen.
  • Die 6A und 6B zeigen ”Reibungsspur”-Schaubilder für die mit Schmierstoff mit 0 Gew.-% Nanographen geschmierte Bohrung bzw. die mit Schmierstoff mit 1 Gew.-% Nanographen geschmierte Bohrung, die oben mit Bezug auf die Schaubilder in 5 beschrieben wurden. Sowohl in der 6A als auch in der 6B ist die getestete Fläche, nachdem sie dem in dem Schaubild in der 5 aufgetragenen Scheuertest unterzogen wurde, die ”Reibungsspur” links von der schwarzen Linie. Sowohl in der 6A als auch in der 6B ist die ursprüngliche Fläche vor dem Versuch als die ”ursprüngliche Oberfläche wie gehont” bezeichnet. Unterschiedliche Oberflächenhöhen in den ”Reibungsschaubildern” sind in einer von drei Farben, rot, grün, und blau, dargestellt. Die gemessenen spezifischen Höhenbereiche sind auf der Farbskala (mit roten, grünen und blauen Abschnitten) rechts neben jedem ”Reibungsspur”-Schaubild in den 6A und 6B angegeben. Die 6A zeigt die Ergebnisse vor und nach dem Versuch unter Anwendung des Schmierstoffs ohne Nanographenpartikel. Dagegen zeigt die 6B die Ergebnisse vor und nach dem Versuch unter Anwendung des Schmierstoffs mit Nanographenpartikeln. Ra, wie in den beiden Fig. angegeben, gibt den Rauheitsgrad der Reibungsspur-Oberflächen an. Es ist deutlich, dass der Ra-Wert (und die Oberflächenhöhe in um insgesamt in Bezug auf die Farbskala rechts von jedem Schaubild) für die ”Reibungsspur” in der 6B höher ist (Ra = 345 nm) als für die ”Reibungsspur” in der 6A (Ra = 274 nm). Dies weist darauf hin, dass das Einreiben der Oberfläche mit Schmierstoff, der die Nanographenpartikel enthält, dazu führte, dass während des Scheuertests weniger Material auf der Oberfläche abgenutzt wurden. Die verschiedenen Farben (rot, grün und blau) geben verschiedene Niveaus der Oberflächenhöhe an.
  • Obwohl mehrere Ausführungsformen ausführlich beschrieben wurden, ist es für Fachleute offensichtlich, dass die offenbarten Ausführungsformen modifiziert werden können. Daher ist die vorstehende Beschreibung als beispielhaft und nicht einschränkend zu betrachten.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Nicht-Patentliteratur
    • Novoselov. K. S. et al., ”Electric Field Effect in Atomically Thin Carbon Films” Science 306, 666 (2004) doi: 10.1126/science.1102896. [0012]

Claims (10)

  1. Verfahren zur Herstellung mindestens einer Nanographenschicht, wobei das Verfahren umfasst: das Auswählen von X Kohlenwasserstoffvorläufer und Y Wasserstoffgas (H2), so dass das Verhältnis von X/Y in einem Bereich von 0,5 bis l liegt, wobei der Kohlenwasserstoffvorläufer mindestens eines von CH4, C2H2 und C3H8 umfasst, und das Unterziehen des Kohlenwasserstoffvorläufers einer chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) unter Verwendung des Wasserstoffgases und von Argongas (Ar), wodurch i) der Kohlenwasserstoffvorläufer mit dem Wasserstoffgas und dem Argongas (Ar) gemäß der folgenden Reaktionsgleichung reagiert: X Kohlenwasserstoffvorläufer + Y H2 + Z Ar → 2X Graphen + (Y + 2X)H2 + Z Ar, wobei Z in einem Bereich von 5·(X + Y) bis 10·(X + Y) liegt und ii) der Kohlenwasserstoffvorläufer zerfällt und sich unter Bildung der mindestens einen Nanographenschicht selbst assembliert.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die mindestens eine Nanographenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats, das sich in einer CVD-Kammer befindet, die zur Ausführung der chemischen Gasphasenabscheidung verwendet wird, abgeschieden wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Substrat bis mindestens 900°C beständig ist.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, welches außerdem das Verringern von mindestens einem von Reibung und Verschleiß einer Oberfläche und das Verbessern der Wärmeleitfähigkeit der Oberfläche durch: Abscheiden einer vorbestimmten Menge der mindestens einen Nanographenschicht in einen Schmierstoff, wobei die vorbestimmte Menge in einem Bereich von ca. 0,05 Gewichtsprozent bis ca. 5 Gewichtsprozent liegt, und Anwenden des Schmierstoffs angrenzend an die Oberfläche umfasst.
  5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die chemische Gasphasenabscheidung Plasma-CVD, Heißdraht-CVD oder eine Mischung daraus ist.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die mindestens eine Nanographenschicht ein Elastizitätsmodul in einem Bereich von 0,9 bis 1,2 TPa, eine Bruchfestigkeit in einem Bereich von 90 bis 150 GPa und eine Wärmeleitfähigkeit in einem Bereich von 4,84 × 103 bis 5,30 × 103 Wm–1K–1 aufweist.
  7. Verfahren nach Anspruch 1, welches außerdem umfasst: Bilden mindestens eines Nanographenpartikels aus der mindestens einen Nanographenschicht und Dispergieren von mehreren des mindestens einen Nanographenpartikels in einem Schmierstoff.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei das Bilden des mindestens einen Nanographenpartikels aus der mindestens einen Nanographenschicht das Selbstkrümmen der mindestens einen Nanographenschicht durch Anpassen des Durchflussverhältnisses zwischen dem Argongas und dem Wasserstoffgas umfasst, wodurch bewirkt wird, dass sich die mindestens eine Nanographenschicht selbst krümmt, um thermodynamisch instabile nichtpaarige Bindungen auf ihrer Oberfläche unter Bildung von C-C-Bindungen und unter Bildung des mindestens einen Nanographenpartikels zu verbinden.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Anpassen des Durchflussverhältnisses von Argongas zu Wasserstoffgas das Heraufsetzen des Argongasdurchflusses und das Herabsetzen des Wasserstoffgasdurchflusses umfasst.
  10. Verfahren nach Anspruch 7, wobei das Dispergieren der Nanographenpartikel in dem Schmierstoff ohne ein Dispergiermittel oder ein zusätzliches Lösungsmittel erreicht wird.
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8388924B2 (en) 2011-04-21 2013-03-05 The Aerospace Corporation Method for growth of high quality graphene films
KR101332796B1 (ko) * 2011-05-03 2013-11-25 한국과학기술원 그래핀의 제조 방법 및 그래핀의 제조 장치
US8486363B2 (en) * 2011-09-30 2013-07-16 Ppg Industries Ohio, Inc. Production of graphenic carbon particles utilizing hydrocarbon precursor materials
CN102604714A (zh) * 2012-02-26 2012-07-25 南昌航空大学 一种石墨烯润滑薄膜的制备方法
GB201205801D0 (en) 2012-03-30 2012-05-16 Isis Innovation Process
KR101817260B1 (ko) 2013-02-22 2018-01-11 삼성전자주식회사 그래핀-나노소재 복합체, 이를 채용한 전극 및 전기소자, 및 상기 그래핀-나노소재 복합체의 제조방법
US8957003B2 (en) * 2013-05-16 2015-02-17 Enerage Inc. Modified lubricant
CN103266306B (zh) * 2013-05-22 2015-11-18 宜昌后皇真空科技有限公司 一种用pvd技术制备石墨烯或超薄碳膜的方法
CN103289802A (zh) * 2013-06-05 2013-09-11 扬州大学 一种石墨烯润滑脂的制备方法
CN104449973B (zh) * 2014-11-30 2017-12-15 中南大学 一种含层片状纳米粒子的高温模锻润滑剂
ITTO20150243A1 (it) * 2015-05-07 2016-11-07 Itt Italia Srl Materiale di attrito, in particolare per la fabbricazione di una pastiglia freno, e metodo di preparazione associato
WO2017059195A1 (en) * 2015-09-30 2017-04-06 Northwestern University Lubrication material using self-dispersed crumpled graphene balls as additives in oil for friction and wear reduction
US9997334B1 (en) * 2017-02-09 2018-06-12 Lyten, Inc. Seedless particles with carbon allotropes
WO2020191449A1 (en) * 2019-03-27 2020-10-01 Graphene Manufacturing Australia Pty Ltd Enhanced coolant
CA3208460A1 (en) * 2021-01-20 2022-07-28 Graphene Manufacturing Group Ltd Enhanced lubricant composition

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2711580B2 (ja) * 1990-01-12 1998-02-10 アルプス電気株式会社 成形金型の製造方法
AU2001245786A1 (en) * 2000-03-17 2001-10-03 Hyperion Catalysis International Inc. Carbon nanotubes in fuels and lubricants
CA2405176C (en) 2000-05-11 2009-02-03 Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Ministerof National Defence Process for preparing carbon nanotubes
US20020160111A1 (en) 2001-04-25 2002-10-31 Yi Sun Method for fabrication of field emission devices using carbon nanotube film as a cathode
JP3606855B2 (ja) 2002-06-28 2005-01-05 ドン ウン インターナショナル カンパニー リミテッド 炭素ナノ粒子の製造方法
US7071258B1 (en) 2002-10-21 2006-07-04 Nanotek Instruments, Inc. Nano-scaled graphene plates
US7431965B2 (en) 2002-11-01 2008-10-07 Honda Motor Co., Ltd. Continuous growth of single-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition
US20070215253A1 (en) 2006-03-17 2007-09-20 Dasch Jean M Dissipating friction and heat during machining
US8617650B2 (en) 2006-09-28 2013-12-31 The Hong Kong University Of Science And Technology Synthesis of aligned carbon nanotubes on double-sided metallic substrate by chemical vapor depositon
US7776445B2 (en) * 2007-08-14 2010-08-17 Korea Institute Of Science And Technology Graphene-diamond hybrid material and method for preparing same using chemical vapor deposition
CN101285175B (zh) * 2008-05-29 2010-07-21 中国科学院化学研究所 化学气相沉积法制备石墨烯的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Novoselov. K. S. et al., "Electric Field Effect in Atomically Thin Carbon Films" Science 306, 666 (2004) doi: 10.1126/science.1102896.

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Publication number Publication date
US20110046026A1 (en) 2011-02-24
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CN101993062A (zh) 2011-03-30

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