DE102010028488A1 - Substrate für Spiegel für die EUV-Lithographie und deren Herstellung - Google Patents
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012201075A1 (de) * | 2012-01-25 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Konfigurieren einer optischen Anordnung |
| DE102013221378A1 (de) * | 2013-10-22 | 2014-05-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Rohlings |
| DE102013219808A1 (de) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung |
| DE102014206765A1 (de) * | 2014-04-08 | 2015-10-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegelanordnung, Projektionsobjektiv und EUV-Lithographieanlage |
| WO2016026888A1 (en) * | 2014-08-21 | 2016-02-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
| DE102015225510A1 (de) | 2015-12-16 | 2017-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102016210794A1 (de) * | 2016-06-16 | 2017-04-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Betrieb der optischen Anordnung |
| WO2022171469A1 (de) * | 2021-02-15 | 2022-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur herstellung eines mehrteiligen spiegels einer projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie |
| DE102021213441A1 (de) | 2021-11-29 | 2022-09-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen systems |
| CN115145108A (zh) * | 2022-09-05 | 2022-10-04 | 上海传芯半导体有限公司 | Euv级衬底、euv掩模基版、euv掩模版及其制造方法 |
| DE102023200970A1 (de) * | 2023-02-07 | 2024-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches element mit polierschicht |
| DE102023209473A1 (de) * | 2023-09-27 | 2025-03-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen systems für eine lithographieanlage, substrat für eine optische komponente einer lithographieanlage und lithographieanlage |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5510308B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-06-04 | 旭硝子株式会社 | Ｅｕｖｌ光学部材用基材 |
| EP2598947B1 (en) | 2010-07-30 | 2020-04-29 | Carl Zeiss SMT GmbH | Euv exposure apparatus |
| FR2992313B1 (fr) * | 2012-06-21 | 2014-11-07 | Eurokera | Article vitroceramique et procede de fabrication |
| DE102013101328B3 (de) * | 2013-02-11 | 2014-02-13 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Rohling aus TiO2-SiO2-Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie sowie Verfahren für dessen Herstellung |
| DE102014219755A1 (de) * | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element |
| US9382151B2 (en) | 2014-01-31 | 2016-07-05 | Corning Incorporated | Low expansion silica-titania articles with a Tzc gradient by compositional variation |
| CN106029594B (zh) | 2014-02-21 | 2022-06-24 | 肖特股份有限公司 | 高均匀性玻璃陶瓷部件 |
| US20150239767A1 (en) * | 2014-02-26 | 2015-08-27 | Corning Incorporated | HEAT TREATING SILICA-TITANIA GLASS TO INDUCE A Tzc GRADIENT |
| EP3127144A4 (en) * | 2014-04-02 | 2018-02-28 | Zygo Corporation | Photo-masks for lithography |
| CN114582445B (zh) * | 2022-03-10 | 2024-06-21 | 湖南大学 | 一种超材料的优化方法、系统及设备 |
| US12117731B2 (en) * | 2022-12-13 | 2024-10-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus |
| DE102023212752A1 (de) * | 2023-12-14 | 2025-06-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen systems für eine lithographieanlage, substrat für eine optische komponente einer lithographieanlage und lithographieanlage |
| WO2025068034A2 (en) * | 2023-09-27 | 2025-04-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for producing an optical system for a lithography apparatus, substrate for an optical component of a lithography apparatus, and lithography apparatus |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5591682A (en) * | 1994-09-13 | 1997-01-07 | Kabushiki Kaisya Ohara | Low expansion transparent glass-ceramic |
| WO2005040925A1 (de) * | 2003-09-27 | 2005-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Euv-projektionsobjektiv mit spiegeln aus materialien mit unterschiedlichem vorzeichen der steigung der temperaturabhängigkeit des wärmeausdehnungskoeffizienten nahe der nulldurchgangstemperatur |
| US20060179879A1 (en) * | 2004-12-29 | 2006-08-17 | Ellison Adam J G | Adjusting expansivity in doped silica glasses |
| DE102004024808B4 (de) * | 2004-05-17 | 2006-11-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil zur Übertragung extrem kurzwelliger ultravioletter Strahlung |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8047023B2 (en) * | 2001-04-27 | 2011-11-01 | Corning Incorporated | Method for producing titania-doped fused silica glass |
| US20030125184A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Schott Glas | Glass ceramic product with variably adjustable zero crossing of the CTE-T curve |
| JP4792706B2 (ja) * | 2003-04-03 | 2011-10-12 | 旭硝子株式会社 | ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造方法 |
| JP4492123B2 (ja) * | 2004-01-05 | 2010-06-30 | 旭硝子株式会社 | シリカガラス |
| DE102004008824B4 (de) * | 2004-02-20 | 2006-05-04 | Schott Ag | Glaskeramik mit geringer Wärmeausdehnung sowie deren Verwendung |
| WO2006034775A1 (de) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Schott Ag | Verbundstruktur aus nullausdehnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer solchen |
| US20090107869A1 (en) * | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Eric Davis Child | Liquid-filled suspended-particle-scene gift card holder |
| EP2217539A4 (en) * | 2007-11-30 | 2015-07-01 | Corning Inc | LOW DILATION GLASS MATERIAL HAVING A LOW GRADIENT OF EXPANSION POWER |
| JP5428323B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2014-02-26 | 旭硝子株式会社 | ＴｉＯ２を含有するシリカガラス |
| WO2009107858A1 (en) * | 2008-02-26 | 2009-09-03 | Asahi Glass Co., Ltd. | Tio2-containing silica glass and optical member for euv lithography using high energy densities as well as special temperature controlled process for its manufacture |
| WO2009107869A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | Asahi Glass Co., Ltd. | Tio2-containing silica glass and optical member for lithography using the same |
| JP2010135732A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-06-17 | Asahi Glass Co Ltd | Ｅｕｖマスクブランクス用基板 |
| DE102010039779A1 (de) * | 2009-08-28 | 2011-03-24 | Corning Inc. | Glas mit geringer wärmeausdehnung für euvl-anwendungen |
| DE102009043680A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Rohling aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung |
| JP5510308B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-06-04 | 旭硝子株式会社 | Ｅｕｖｌ光学部材用基材 |
-
2010
- 2010-05-03 DE DE102010028488A patent/DE102010028488A1/de not_active Ceased
-
2011
- 2011-05-03 WO PCT/EP2011/057074 patent/WO2011138340A2/en not_active Ceased
- 2011-05-03 CN CN201180022451.XA patent/CN102934030B/zh active Active
- 2011-05-03 JP JP2013508482A patent/JP5934698B2/ja active Active
-
2012
- 2012-11-02 US US13/667,862 patent/US8870396B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5591682A (en) * | 1994-09-13 | 1997-01-07 | Kabushiki Kaisya Ohara | Low expansion transparent glass-ceramic |
| WO2005040925A1 (de) * | 2003-09-27 | 2005-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Euv-projektionsobjektiv mit spiegeln aus materialien mit unterschiedlichem vorzeichen der steigung der temperaturabhängigkeit des wärmeausdehnungskoeffizienten nahe der nulldurchgangstemperatur |
| DE102004024808B4 (de) * | 2004-05-17 | 2006-11-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil zur Übertragung extrem kurzwelliger ultravioletter Strahlung |
| US20060179879A1 (en) * | 2004-12-29 | 2006-08-17 | Ellison Adam J G | Adjusting expansivity in doped silica glasses |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| BENTLEY, J. Äet al.Ü: Matter Matters - Optical materials rise to the microlithography challenge. In: SPIECs oe magazine, October 2003, S. 26-28. * |
| BENTLEY, J. Äet al.Ü: Matter Matters - Optical materials rise to the microlithography challenge. In: SPIEČs oe magazine, October 2003, S. 26-28. |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9671703B2 (en) | 2012-01-25 | 2017-06-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical arrangement, EUV lithography apparatus and method for configuring an optical arrangement |
| DE102012201075A1 (de) * | 2012-01-25 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Konfigurieren einer optischen Anordnung |
| DE102013219808A1 (de) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung |
| US10732519B2 (en) | 2013-09-30 | 2020-08-04 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Mirror blank for EUV lithography without expansion under EUV radiation |
| DE102013221378A1 (de) * | 2013-10-22 | 2014-05-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Rohlings |
| DE102014206765A1 (de) * | 2014-04-08 | 2015-10-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegelanordnung, Projektionsobjektiv und EUV-Lithographieanlage |
| US9996015B2 (en) | 2014-08-21 | 2018-06-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure appararatus |
| WO2016026888A1 (en) * | 2014-08-21 | 2016-02-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
| DE102015225510A1 (de) | 2015-12-16 | 2017-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| US10598921B2 (en) | 2015-12-16 | 2020-03-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
| DE102016210794A1 (de) * | 2016-06-16 | 2017-04-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Betrieb der optischen Anordnung |
| WO2022171469A1 (de) * | 2021-02-15 | 2022-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur herstellung eines mehrteiligen spiegels einer projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie |
| DE102021201396A1 (de) | 2021-02-15 | 2022-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines mehrteiligen Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
| DE102021213441A1 (de) | 2021-11-29 | 2022-09-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen systems |
| CN115145108A (zh) * | 2022-09-05 | 2022-10-04 | 上海传芯半导体有限公司 | Euv级衬底、euv掩模基版、euv掩模版及其制造方法 |
| DE102023200970A1 (de) * | 2023-02-07 | 2024-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches element mit polierschicht |
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