DE102009046183A1 - Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung Download PDF

Info

Publication number
DE102009046183A1
DE102009046183A1 DE102009046183A DE102009046183A DE102009046183A1 DE 102009046183 A1 DE102009046183 A1 DE 102009046183A1 DE 102009046183 A DE102009046183 A DE 102009046183A DE 102009046183 A DE102009046183 A DE 102009046183A DE 102009046183 A1 DE102009046183 A1 DE 102009046183A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
multilayer substrate
winding
metallization
insulating layer
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102009046183A
Other languages
English (en)
Inventor
Bernhard Strzalkowski
Marco Seibt
Ulrich Michael Georg Schwarzer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies Austria AG
Original Assignee
Infineon Technologies Austria AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies Austria AG filed Critical Infineon Technologies Austria AG
Publication of DE102009046183A1 publication Critical patent/DE102009046183A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/2804Printed windings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F17/0013Printed inductances with stacked layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/041Printed circuit coils
    • H01F41/046Printed circuit coils structurally combined with ferromagnetic material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/165Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed inductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F17/0013Printed inductances with stacked layers
    • H01F2017/002Details of via holes for interconnecting the layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F2017/0066Printed inductances with a magnetic layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0296Conductive pattern lay-out details not covered by sub groups H05K1/02 - H05K1/0295
    • H05K1/0298Multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0183Dielectric layers
    • H05K2201/0187Dielectric layers with regions of different dielectrics in the same layer, e.g. in a printed capacitor for locally changing the dielectric properties
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/08Magnetic details
    • H05K2201/083Magnetic materials
    • H05K2201/086Magnetic materials for inductive purposes, e.g. printed inductor with ferrite core
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09654Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
    • H05K2201/09672Superposed layout, i.e. in different planes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/4902Electromagnet, transformer or inductor

Abstract

Beschrieben werden eine Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und ein Verfahren zum Herstellen einer solchen Vorrichtung. Die Vorrichtung umfasst: ein Mehrschichtsubstrat mit einer ersten Wicklung eines magnetischen Bauelements, die in einer ersten Metallisierungsschicht des Mehrschichtsubstrats ausgebildet ist; eine erste elektrisch isolierende Schicht, die oberhalb der ersten Metallisierungsschicht gebildet ist; einen ersten Durchgangskontakt, der in der elektrisch isolierenden Schicht ausgebildet ist, wobei der erste Durchgangskontakt die erste Wicklung an ein auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnetes Schaltungselement koppelt; eine in dem Mehrschichtsubstrat ausgebildete Aussparung; und ein Polymer, das eine ferromagnetische Komponente umfasst, die auf eine Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Wicklung und in der Vertiefung aufgebracht ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft allgemein das Herstellen magnetischer Bauelemente, und insbesondere das Herstellen eines magnetischen Bauelements, wie beispielsweise einer Spule oder eines Transformators, auf einem Substrat, wie beispielsweise einer Leiterplatte oder einem Halbleitersubstrat.
  • Mit zunehmender Komplexität und zunehmendem Integrationsgrad elektronischer Produkte besteht ein zunehmender Bedarf nach verteilten und unabhängigen Leistungswandleranordnungen, wie z. B. Lastpunkt-Spannungsquellen (point-of-load voltage sources), die geregelte Spannungen für die üblicherweise verwendeten hochintegrierten Halbleiterbauelemente zur Verfügung stellen. Hochintegrierte Halbleiterbauelemente benötigen üblicherweise spezielle Versorgungsspannungen. Die Leistungswandleranordnungen müssen ökonomisch sein und müssen so geringe Abmessungen besitzen, dass sie den Größen- und Mobilitätsanforderungen dieser Produkte, wie tragbarer und kompakter Produkte, wie z. B. Mobiltelefone oder Personalcomputer, genügen.
  • Ein Leistungswandler (power converter) umfasst üblicherweise diskrete magnetische Bauelemente, wie z. B. Transformatoren und Spulen, die notwendig sind, um eine hohe Leistungswandlungseffizienz zu erreichen. Solche magnetischen Bauelemente bestehen üblicherweise aus elektrisch leitenden Wicklungen, einem Körper (Spulenkörper) der die Windungen trägt, und einem ferromagnetischen Kern, wobei der Kern bei einem gegebenen Strom durch die Windungen einen ausreichend hohen Pegel der magnetischen Flussdichte bewirkt. Eine solche Anordnung wird üblicherweise zur Verbindung mit anderen Schaltungsele menten auf einer Leiterplatte (printed wiring board, PWB) montiert.
  • Bei einem bekannten Verfahren zum Herstellen magnetischer Bauelemente werden planare Windungen verwendet, die direkt in vergrabenen Metallisierungsebenen einer Leiterplatte hergestellt werden. Beispiele für magnetische Kerne, die bei solchen Strukturen verwendet werden können, sind Kerne mit einer ”EI”- oder ”EE”-Form, die nach den entsprechenden Formen der Buchstaben ”E” und ”I” benannt sind und die beispielsweise durch Firmen wie Epcos oder Philips hergestellt werden. Zum Einfügen und zum Befestigen solcher Kerne an einer Leiterplatte müssen Öffnungen mit komplexen und präzisen Formen in die Leiterplatte gefräst werden. Das Fräsen solcher Öffnungen in einer Leiterplatte ist üblicherweise in kostenintensiverer mechanischer Vorgang als beispielsweise das Bohren von Löchern. Um geringe physikalische Abmessungen zu erreichen, werden Leistungswandler mit diskreten magnetischen Bauelementen auch in IC-Gehäusen hergestellt, wie dies in Geoff Jones: „Minature Solutions for Voltage Isolation", Texas Instruments' Analog Applications Journal, 3Q2005, Seiten 13–17 beschreiben ist. Ein Beispiel für einen solchen Leistungswandler ist der Leistungswandler DCR010505 von Texas Instruments, Inc. Allerdings sind solche Leistungswandler üblicherweise größer als es der Markt für kompakte Schaltungselemente, speziell für Niedrigleistungsanwendungen (low power applications), erfordert, und sie werden zu Kosten hergestellt, die nicht den Anforderungen an Produktionen mit hohen Stückzahlen genügen.
  • Um Spulen und Transformatoren mit geringen Abmessungen herzustellen, wurden Studien bezüglich der Verwendung vergrabener Kupferleitungen, die mit Schichten aus einem ferromagnetischen Material umgeben sind, durchgeführt, wie z. B. die von K. Yamaguchi, et al. in der Veröffentlichung „Characteristic of a Thin Film Microtransformer with Circular Spiral Coils", IEEE Transactions an Magnetics, Vol. 29, Nor. 5, September 1993, beschriebene Studie. Der von Yamaguchi beschriebene Herstellungsprozess umfasst das Abscheiden eines gesputterten magnetischen Films, der dann unter Verwendung eines Fotolacks strukturiert wird. Kupferwindungen werden mittels eines galvanischen Prozesses (electroplating process) abgeschieden, um ein kompaktes Design zu erreichen. Aufgrund der Komplexität der Herstellungsschritte, die notwendig sind, um ein funktionsfähiges Produkt zu erhalten, ist der Gesamtprozess allerdings nicht geeignet für eine Produktion von hohen Stückzahlen bei geringen Kosten.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement zur Verfügung zu stellen, die kompakt und kostengünstig realisiert werden kann und die die Nachteile herkömmlicher derartiger Vorrichtungen vermeidet, und ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Vorrichtung zur Verfügung zu stellen.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung nach Anspruch 1 und durch ein Verfahren nach Anspruch 13 gelöst. Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind Gegenstand von Unteransprüchen.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel werden eine Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und ein zugehöriges Verfahren zur Verfügung gestellt. Gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel umfasst die Vorrichtung ein Mehrschichtsubstrat mit einer erste Wicklung, die in einer ersten Metallisierungsebene des Mehrschichtsubstrats ausgebildet ist, eine erste elektrisch isolierende Schicht, die oberhalb der ersten Metallisierungsebene angeordnet ist, und einen ersten Durchgangskontakt (via), der in der ersten elektrisch isolierenden Schicht ausgebildet ist. Der erste Durchgangskontakt koppelt die erste Wicklung an ein Bauelement, das auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnet ist. In dem Mehrschichtsubstrat ist eine Vertiefung angeordnet, und ein Polymer bzw. eine Polymerlösung, das/die eine ferromagnetische Komponente enthält, ist auf eine Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Windung und in der Vertiefung aufgebracht. Die Polymerlösung ist vorzugsweise ein Epoxid, es kann jedoch auch eine andere Polymerlösung verwendet werden. Die ferromagnetische Komponente umfasst vorzugsweise nanokristalline Nickel-Zink-Ferrite, es können jedoch auch andere ferromagnetische Materialien verwendet werden.
  • Bei einem Ausführungsbeispiel geht die Vertiefung nicht vollständig durch das Mehrschichtsubstrat. Vorzugsweise wird die Polymerlösung in einer auf der Oberfläche des Mehrschichtsubstrats angeordneten Form abgeschieden, um dadurch die Form der Polymerlösung nach dem Trocknen vorzugeben. Das Mehrschichtsubstrat kann eine Leiterplatte sein. Bei einem Ausführungsbeispiel ist eine integrierte Schaltung auf der Leiterplatte angeordnet, die elektrisch mit der ersten Wicklung gekoppelt ist. Bei einem Ausführungsbeispiel kann die Anordnung als Leistungswandleranordnung ausgebildet sein. Bei einem Ausführungsbeispiel ist eine zweite Isolationsschicht auf dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der ersten Metallisierungsebene angeordnet, und eine zweite Wicklung des magnetischen Bauelements ist in einer zweiten Metallisierungsebene des Mehrschichtsubstrats ausgebildet, um weitere Windungen einer Wicklung des magnetischen Bauelements zu bilden. Die zweite Metallisierungsebene ist in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Isolationsschicht ausgebildet, und ein zweiter Durchkontakt ist in der zweiten Isolationsschicht gebildet. Der zweite Durchkontakt koppelt die zweite Wicklung elektrisch an die erste Wicklung. Vorzugsweise sind die ersten und zweiten Durchkontakte metallische Durchkontakte.
  • Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist eine dritte Isolationsschicht in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Metallisierungsebene angeordnet, und eine dritte Metallisierungsebene ist in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der dritten Isolationsschicht ausgebildet. In der dritten Metallisierungsebene ist eine weitere Wicklung des magnetischen Bauelements ausgebildet, die dielektrisch von der ersten Wicklung isoliert ist, um die elektrisch isolierten Transformatorwicklungen zu bilden. Ein dritter Durchkontakt ist in der dritten Isolationsschicht ausgebildet, um eine elektrische Kopplung der weiteren Wicklung an ein zweites auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnetes Schaltungselement zu bilden.
  • Bei einem Ausführungsbeispiel ist das Mehrschichtsubstrat ein Halbleitersubstrat, und das Schaltungselement ist eine integrierte Schaltung, die auf dem Mehrschichtsubstrat ausgebildet ist.
  • Details von einem oder von mehreren Ausführungsbeispielen der Erfindung werden anhand der beigefügten Zeichnungen und der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Andere Merkmale, Aufgaben und Vorteile der Erfindung werden offensichtlich anhand der Beschreibung und der Zeichnungen und anhand der Ansprüche. In den Zeichnungen bezeichnen gleiche Bezugszeichen im Allgemeinen gleiche Komponenten in den unterschiedlichen Darstellungen. Zum Zwecke einer kurzen Darstellung sind die einzelnen Bezugszeichen jedoch nur einmal erläutert. Zum besseren Verständnis der Erfindung wird nun auf die nachfolgende Beschreibung im Zusammenhang mit den beigefügten Figuren Bezug genommen.
  • 1A, 1B, 1C zeigen Draufsichten, in denen jeweils die Form und die Anordnung von spiralförmigen, planaren Spulen in einer oberen Metallschicht, einer unteren Metallschicht und deren Anordnung relativ zueinander dargestellt sind, die gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung realisiert sind.
  • 2 zeigt eine Draufsicht auf eine elektrische Anordnung mit einem magnetischen Bauelement, das spiralförmige Wicklungen aufweist, die in einer zweiseitigen Lei terplatte angeordnet sind, und die gemäß einem Ausführungsbeispiel realisiert sind.
  • 3 zeigt eine Querschnittsdarstellung eines planaren Transformators, der auf einer vierschichtigen Leiterplatte ausgebildet ist, gemäß einem Ausführungsbeispiel.
  • 4 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die die gemäß einem Ausführungsbeispiel die Verwendung von Formen zum Formen von magnetischen Schichten, die über planaren Wicklungen abgeschieden sind, zeigt.
  • 5 zeigt eine Querschnittsdarstellung, die die Struktur eines magnetischen Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel zeigt, wobei eine magnetische Schicht auf einem Halbleitersubstrat angeordnet ist.
  • 6 veranschaulicht einen Transformator gemäß einem Ausführungsbeispiel, der auf einem Halbleitersubstrat ausgebildet ist und der eine Primärwicklung aufweist, die in einer Metallisierungsebene gebildet ist und die dielektrisch von einer Sekundärwicklung, die in einer Metallisierungsebene realisiert ist, getrennt ist.
  • 7 zeigt eine vereinfachte schematische Darstellung eines Schaltwandlers, der ein Beispiel eines magnetischen Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst.
  • Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend in einem speziellen Zusammenhang beschrieben, nämlich im Zusammenhang mit ei nem magnetischen Bauelement das auf einem Substrat angeordnet ist und das planare Wicklungen aufweist, die ein durch eine gegossene ferromagnetische Struktur verstärktes magnetisches Feld erzeugen.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung können auf verschiedenste elektrische Leistungswandleranwendungen angewendet werden, wie z. B. auf einen integrierten isolierten oder nicht isolierten Leistungswandler, der dazu ausgebildet ist, eine elektrische Last zu versorgen. Andere Bauelemente, die ein magnetisches Element umfassen, können unter Verwendung der hierin beschriebenen erfinderischen Konzepte realisiert werden, wie z. B. Filteranordnungen, die dazu verwendet werden, die Frequenzcharakteristik eines analogen Signals zu formen.
  • Wie nachfolgend erläutert ist, werden Wicklungen eines kompakten, integrierten magnetischen Bauelements, wie beispielsweise eines Transformators oder einer Spule, auf einem Substrat, wie z. B. einer Leiterplatte (printed wiring board, PWB) oder einem Halbleitersubstrat, hergestellt. Die Wicklungen werden so strukturiert, dass keine zusätzlichen elektrisch leitenden Leitungen oder andere Verbindungen, wie z. B. Bonddrähte, benötigt werden um die Metallschichten, die die internen Wicklungen des magnetischen Bauelements bilden, miteinander zu verbinden, wodurch die Herstellung von Strukturen mit einem geringen Profil (low-Profile) möglich wird. Um den magnetischen Pfad der ferromagnetischen Schichten in verschiedene Bereiche der spiralförmigen Spulen, die die Wicklungen bilden, auszudehnen werden eine Anzahl von gebohrten Löchern und von Gräben hergestellt, die sich nicht notwendiger Weise durch das Substrat hindurch erstrecken. Die Wicklungsbereiche werden dann mit einer Polymerlösung überdeckt, das ein Weichferrit, wie beispielsweise das nanokristalline Ferrit FeSiBCuNb, oder ein nanokristallines Nickel-Zink-Ferrit, zum Herstellen des magnetischen Kerns des magnetischen Bauelements umfasst. Die Polymerlösung besitzt eine ausreichend niedrige Viskosität, so dass hergestellte Vertie fungen, d. h. die Löcher und die Gräben, gut gefüllt werden. Eine geeignete Polymerlösung ist beispielsweise I-8606M der Firma Asahi Kasei, und ein geeignetes pulverförmiges Ferrit ist beispielsweise ”Vitroperm” der Vacuumschmelze GmbH. Der relative Permeabilitätswert und die Sättigungsflussdichte der ferrithaltigen gegossenen Zusammensetzung sind abhängig von dem Anteil des Pulvers. Für ein Polymer mit niedriger Viskosität beträgt ein geeigneter Anteil für das Pulver beispielsweise zwischen 60% und 85% des Polymervolumens, ohne jedoch hierauf beschränkt zu sein; die relative Permeabilität des geformten Materials kann für den genannten Pulveranteil üblicherweise zwischen 10 und 40 variieren. Die Sättigungsflussdichte kann gemäß Kelly, A. E. et al.: "Plastic-Iron-Powder Distributed-Air-Gap Magnetic Material", IEEE Power Electronics Specialists Conference, 11. Juli 1990, Seiten 25–34 beschrieben werden durch die Gleichung: Bsat = Bsat-fill[x + (1 – x)ρpolfill(1)wobei
    Bsat-fill die Sättigungsflussdichte des Füllmaterials (Ferritpulvers),
    x den Anteil des Füllmaterials bezogen auf das Polyimid-Volumen (Polymervolumen),
    ρpol die Massedichte des Polyimids (Polymers),
    ρfill die Massedichte des Ferritpulvers
    bezeichnet.
  • Die geforderten Eigenschaften an den Magnetkern für eine optimale Leistungswandlung werden beeinflusst durch die Anzahl der Durchgangskontakte am Rand der Wicklungen und durch die Dicke der magnetischen Schicht. Für eine wirtschaftliche Imp lementierung der magnetischen Schaltung werden die Durchgangskontakte im mittleren Bereich des magnetischen Bauelements und auf Höhe der Wicklungen vorzugsweise mit derselben Größe hergestellt. Der Durchmesser und die Anzahl der Durchgangskontakte, die hergestellt werden, um die Polymerlösung aufzunehmen, sollte unter Berücksichtigung auf die zu erwartenden Strompegel in dem magnetischen Bauelement – unter Verwendung hinlänglich bekannter analytischer Verfahren – gewählt sein, um eine Sättigung des magnetischen Materials zu erreichen. Die Summe der Flächen der äußeren Durchgangskontakte ist vorzugsweise gleich der Fläche des großen Durchgangskontakts, der in der Mitte des magnetischen Bauelements vorhanden ist.
  • Die 1A, 1B und 1C veranschaulichen die Struktur und die Anordnung von spiralförmigen, planaren Spulen in einer oberen Metallisierungsebene bzw. Metallisierungsschicht (1A), einer unteren Metallisierungsebene bzw. Metallisierungsschicht (1B) und die Anordnung der Wicklungen relativ zueinander derart, dass eine Leiterplattenfläche der internen Metallisierungsebenen bzw. Metallisierungsschichten effizient genutzt ist (1C). Die Wicklungen bilden ein magnetisches Bauelement bilden, das gemäß einem Ausführungsbeispiel realisiert ist. Obwohl in den Figuren runde (bzw. kreisförmige) spiralförmige Strukturen für die Wicklungen dargestellt sind, können selbstverständlich auch andere Wicklungsstrukturen verwendet werden, ohne den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung zu verlassen, wie zum Beispiel hexagonale spiralförmige Strukturen. Die spiralförmigen Spulen der oberen 3 und der unteren 5 Metallisierungsebene sind mit entgegengesetztem geometrischem Wicklungssinn realisiert. Die inneren Enden der oberen Spule 3 und der unteren Spule 5 sind mittels eines Durchgangskontakts 18 miteinander gekoppelt. Dadurch ist eine gestapelte (stacked) Wicklung gebildet, wobei jede Ebene einen magnetischen Fluss mit der selben Orientierung erzeugt. Keine andere Verbindung ist notwendig, um die Anschlüsse der inneren Enden jeder Wicklung miteinander zu Verbinden. Hierdurch ist eine kompakte, ein kleines Profil aufweisende, planare Spule gebildet, wobei im Vergleich zu einer Wicklungsanordnung mit nur einer Ebene eine größere Anzahl von Windungen vorhanden ist. Entsprechend ist keine Verbindung notwendig, um den Mittenpunkt (mid-point) – oder einen anderen Abgriffspunkt – der Wicklung zu bilden. Die Spulenenden 15 und 16 sind an andere elektrischen. Schaltungen gekoppelt, zum Beispiel an die nachfolgend unter Bezugnahme auf die 2 und 3 erläuterte integrierte Schaltung IC1.
  • 2 veranschaulicht eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels einer elektrischen Schaltung, die ein magnetisches Bauelement mit spiralförmigen Wicklungen aufweist, die in einer zweiseitigen oder mehrschichtigen Leiterplatte 201 realisiert ist. Die Bezugszeichen 15 und 16 bezeichnen Verbindungen 15 und 16 zwischen den Wicklungen und einer integrierten Schaltung (IC1), die auf der Leiterplatte angeordnet ist. Die Wicklungen sind mit einer ferromagnetischen Schicht 101 bedeckt. Die ferromagnetische Schicht 101 füllt das innere Durchgangskontaktloch 14 und die äußeren Durchgangskontaktlöcher, wie zum Beispiel das äußere Durchgangskontaktloch 13. Die ferromagnetische Schicht 101 wird hergestellt durch Aufbringen einer Polymerlösung bzw. eines Polymers, wie beispielsweise eines Epoxid- oder eines anderen Kunststoffmaterials, das mit einem ferromagnetischen Pulver vermischt ist, sowie dies bereits oben beschrieben wurde.
  • 3 zeigt eine Querschnittsdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines planaren Transformators 302, der in einer vierschichtigen Leiterplatte 301 realisiert ist. Der Transformator umfasst die folgenden Schichten und Strukturen:
    • – Schichten 101 und 1011: ferromagnetische Schichten,
    • – Schicht 102: Isolationsschicht (die erste Passivierungsschicht über der ersten Metallisierungsebene der ersten Wicklung),
    • – Schicht 103: erste Metallisierungsschicht bzw. erste Metallisierungsebene der ersten Wicklung,
    • – Schicht 104: Isolationsschicht zwischen den ersten und den zweiten Metallisierungsebenen der ersten Wicklung,
    • – Schicht 105: zweite Metallisierungsschicht bzw. zweite Metallisierungsebene der ersten Wicklung,
    • – Schicht 106: Substrat-/Isolationsschicht der Leiterplatte,
    • – Schicht 107: zweite Metallisierungsschicht bzw. zweite Metallisierungsebene der zweiten Wicklung,
    • – Schicht 108: Isolationsschicht zwischen den ersten und zweiten Metallisierungsebenen der zweiten Wicklung,
    • – Schicht 109: erste Metallisierungsschicht bzw. erste Metallisierungsebene der zweiten Wicklung,
    • – Schicht 1010: Isolationsschicht (die zweite Passivierungsschicht unterhalb der ersten Metallisierungsebene der zweiten Wicklung),
    • 12 und 18: Durchgangskontakte zwischen den oberen und unteren Metallisierungsebenen der ersten und zweiten Wicklungen,
    • 13: äußeres vollständig oder nicht vollständig durchgebohrtes Durchgangskontaktloch der Leiterplatte,
    • 14: inneres vollständig oder nicht vollständig durchgebohrtes Durchgangskontaktloch der Leiterplatte, und
    • 15 und 16: Enden, die die Verbindungen mit der ersten Wicklung bilden.
  • Um die Ferritschicht nicht in dem Bereich des Durchgangskontakts 13 zu sättigen, ist die Viskosität der Lösung vorzugsweise so gewählt, dass sie in dem Bereich des Durchgangskontakts 13 mit einer Dicke abgeschieden wird, die nicht geringer ist als ein vorgegebener Wert, wie beispielsweise der Abstand D, der in 3 dargestellt ist. Der Abstand D ist so gewählt, dass er die Sättigung der Magnetschicht einstellt; vorzugsweise ist er nicht geringer als der Durchmesser des Durchgangskontakts 13. Um eine erhöhte elektrische Spannungsfestigkeit zwischen den Wicklungen zu erreichen, sind die Löcher nicht vollständig durch die Leiterplatte gebohrt, wie dies durch die Abstandsdistanz d in 3 dargestellt ist. Der Abstand d kann auch dazu verwendet werden, den effektiven Transformatorluftspalt für den Pfad des magnetischen Flusses einzustellen.
  • 4 veranschaulicht eine Querschnittsdarstellung zur Veranschaulichung eines Beispiels für die Verwendung von Formen (molds) zum Formen und Einstellen der magnetischen Schichten oberhalb der planaren Wicklungen. Wie in 4 dargestellt ist, sind die Wicklungen des magnetischen Bauelements an integrierte Schaltungen IC1 und IC2 gekoppelt, beispielsweise durch das Wicklungsende 15, das mit einem Durchgangskontakt ausgebildet sein kann. Eine Form für die Polymerlösung ist oberhalb der oberen und unteren Oberflächen der Leiterplatte 1A angeordnet. Diese Form weist in dem dargestellten Beispiel obere und untere Abschnitte – die mit Bezugszeichen 19 bezeichnet sind – mit Öffnungen 20 auf. Die Polymerlösung, die die ferromagnetische Komponente enthält, wird über die Öffnungen 20 unter Druck eingebracht, um die Form und die Durchgangskontaktlöcher in der Leiterplatte zu füllen.
  • Durch Wahl der Höhe D und des Durchmessers diam der Form können die magnetischen und elektrischen Eigenschaften des Kerns eingestellt werden. Wenn die Polymerlösung mit der ferromagnetischen Komponente kontrolliert in die Durchgangskontakte 14 und 18 eingebracht wird, kann die Struktur des resultierende Ferritkerns mit reproduzierbaren magnetischen und elektrischen Eigenschaften hergestellt werden.
  • Das hierin beschriebene magnetische Bauelement kann wie folgt charakterisiert werden: Um eine hochwertige Spule mit ausreichend hohen induktivitätswerten für bestimmte Anwendungen zu erhalten, ist es nicht notwendig, dass der magnetische Fluss einer Wicklung vollständig in einer magnetischen Schicht liegt. Ein Teil des magnetischen Flusses (bzw. Feldes) kann in Luft oder in einem anderen nicht-ferromagnetischen Material verlaufen. Die effektive Permeabilität wird dennoch durch das Vorhandensein des ferromagnetischen Materials erhöht, was zu einer erhöhten Induktivität einer planaren Spulenwicklung führt, die in dem magnetischen Bauelement realisiert ist. Je länger der Pfad des magnetischen Feldes in einer ferromagnetischen Schicht verläuft, umso so größer ist die resultierende Induktivität des Bauelements. Auf diese Weise kann ein Induktivitätswert und eine Leistungsdichte eines magnetischen Bauelements mit einer planaren Wicklung wesentlich höher sein, als bei einem vergleichbaren Bauelement, das ohne ferromagnetisches Material realisiert ist.
  • 5 veranschaulicht eine Querschnittsdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Struktur eines magnetischen Bauelements, bei dem eine Magnetschicht auf einem Halbleitersubstrat 21 gebildet ist. Das magnetische Bauelement ist mittels Durchgangskontakten, die durch Isolationsschichten des Halbleiterbauelements verlaufen, an eine integrierte Schaltung 501 gekoppelt. Anders als bei den in den 4 und 5 dargestellten magnetischen Bauelementen verläuft das magnetische Feld des in 6 dargestellten Bauelements weniger innerhalb einer hochpermeablen magnetischen Schicht, wie beispielsweise den in den 3 und 4 dargestellten magnetischen Schichten 101 und 1011, sondern verläuft weiter über niedrigpermeable Wege wie zum Beispiel die Wege zwischen den Gräben 13 und 14. Dennoch kann ein ausreichend hochpermeabler Pfad erhalten werden, um ein praktikables hochfrequentes Bauelement zu erhalten. Die Gräben 13 und 14 können unter Verwendung von Ätztechniken für integrierte Schaltungen geätzt werden, die grundsätzlich bekannt sind, wie beispielsweise – ohne jedoch darauf beschränkt zu sein – durch Abscheiden einer Fotolackschicht, Strukturieren der Fotolackschicht, reaktives Ionenätzen (reactive-ion-etching), und das Abscheiden einer Metallschicht an den Seitenwänden der so hergestellten Löcher und Gräben, während der Prozessschritte nach dem Herstellen der Schichten 102 bis 106 auf dem Halbleitersubstrat 21. Dann wird die magnetische Schicht 121 abgeschieden und strukturiert. Das Abscheiden einer dünnen magnetischen Schicht kann unter Verwendung eines Hochfrequenz-(HF)-Sputterverfahrens in einem PVD-Prozess (PVD = Plasma Vacuum Deposition) erfolgen. Das Strukturieren der Schicht kann unter Verwendung eines Fotolack-Abhebeverfahrens (photoresist lift-off method) erfolgen. Ein anderes Verfahren ist die direkte Abscheidung eines Fotolacks, der ein magnetisches Pulver enthält, um die Gräben aufzufüllen und um die obere magnetische Schicht zu erzeugen. Die Dicke der Schicht kann über die Rotationsgeschwindigkeit des Wafers eingestellt werden. Die Strukturierung des Fotolacks erfolgt dann. Die verbleibende Fotolackschicht wird vorzugsweise nicht verascht. An Stelle des letzten Fotolacks kann die Polyimidschicht verwendet werden, die das magnetische Pulver enthält. Auf diese Weise entsteht eine magnetische Schaltung, bei der ein magnetisches Feld eine kompakte, planare Windung umgibt, wobei das magnetische Feld teilweise innerhalb einer hochpermeablen ferromagnetischen Struktur geführt ist. Die magnetischen Feldlinien, die zwischen den Gräben, wie beispielsweise den Gräben 13 und 14, geführt sind, sind durch die Isolation 104 und 106 und das Substrat 21 eines Halbleiterbauelements geführt. Es ist auch möglich, die Durchgangskontakte 13 und 14 vollständig durch das Substrat zu ätzen. In diesem Fall wird der Kopplungsfaktor zwischen der Primär- und der Sekundär wicklung größer, ebenso wie die Induktivität der Primärwicklung.
  • 6 veranschaulicht einen auf einem Halbleitersubstrat 21 gebildeten Transformator mit einer Primärwicklung, die in Metallisierungsebenen 103 und 105 gebildet sind, und die dielektrisch von einer Sekundärwicklung, die in die Metallisierungsebene 107 und 108 gebildet ist, getrennt ist. Wie in 5 dargestellt ist, kann das magnetische Bauelement mittels Durchgangskontakten, die durch die Isolationsschichten des Halbleiterbauelements verlaufen, an eine auf dem oder in dem Substrat gebildete integrierte Schaltung gekoppelt sein. Ähnlich zu dem in 5 dargestellten magnetischen Bauelement verläuft der magnetische Fluss des in 6 dargestellten Bauelements nur teilweise innerhalb einer hochpermeablen magnetischen Schicht.
  • 7 veranschaulicht eine vereinfachte schematische Darstellung eines Schaltwandlers 700, der ein magnetisches Bauelement Lfilter aufweist, das gemäß eines Ausführungsbeispiel der Erfindung realisiert sein kann. Der Schaltwandler 700 – ein Leistungswandler – ist ein Anwendungsbeispiel für ein magnetisches Bauelement, wie beispielsweise die Spule Lfilter, mit geringem Profil, das an Schaltungselemente auf einer Leiterplatte oder einem anderen Substrat, wie beispielsweise einem Halbleitersubstrat gekoppelt ist. Der Leistungswandler umfasst einen Controller 700, der als integrierte Schaltung realisiert sein kann und der die Ausgangsspannung des Leistungswandlers regelt. Der Leistungswandler erzeugt eine Gleichspannung für eine Last Rload (nicht dargestellt), die an Ausgangsanschlüsse 703 und 704 gekoppelt sein kann. Obwohl der dargestellte Leistungswandler eine Tiefsetzstellertopologie (buck converter topology) aufweist, sei darauf hingewiesen, dass selbstverständlich auch andere Leistungswandlertopologien vom Schutzbereich der vorliegenden Erfindung umfasst sind.
  • Dem Leistungswandler ist eine Eingangsgleichspannung Vinput von einer elektrischen Spannungsquelle 702 an einem Eingang zugeführt, und er erzeugt eine geregelte Ausgangsspannung Voutput an Ausgangsanschlüssen 703 und 704. Entsprechend des Prinzips einer Tiefsetzstellertopologie ist die Ausgangsspannung Voutput üblicherweise kleiner als die Eingangsspannung Vinput, so dass durch den Schaltbetrieb des Leistungsschalters Q die Ausgangsspannung Voutput geregelt werden kann.
  • Während eines ersten Abschnitts eines hochfrequenten Schaltzyklus des Schaltwandlers wird der Leistungsschalter Q, der als Leistungs-MOSFET realisiert sein kann, als Reaktion auf ein Gate-Ansteuersignal GD leitend angesteuert, um dadurch die Eingangsspannung Vinput an die Filterspule Lfilter zu koppeln und dadurch einen Stromfluss durch die Filterspule Lfilter zu ermöglichen. Während des ersten Abschnitts des hochfrequenten Schaltzyklus steigt ein durch die Ausgangsfilterspule Lfilter fließender Strom an, wenn ein Strom vom Eingang zum Ausgang fließt. Eine Wechselspannungskomponente des Spulenstroms wird durch den Ausgangsfilterkondensator Cfilter ausgefiltert.
  • Während eines komplementären Abschnitts des Schaltzyklus wird der Leistungsschalter Q in einen nicht-leitenden Zustand überführt und eine Freilaufdiode Dfr, die an die Filterspule Lfilter gekoppelt ist, wird in Vorwärtsrichtung gepolt. Die Diode Dfr ermöglicht einen Strompfad zum Aufrechterhalten eines kontinuierlich durch die Filterspule Lfilter fließenden Stromes. Während des komplementären Abschnitts des Schaltzyklus nimmt der durch die Filterspule Lfilter Strom ab. Allgemein wird zur Regelung der Ausgangsspannung Voutput des Leistungswandlers die Dauer des ersten Abschnitts des hochfrequenten Schaltzyklus des Leistungsschalters Q eingestellt.
  • Dem Controller 701 des Leistungswandlers sind die Ausgangsspannung Voutput des Leistungswandlers und eine gewünschte Systemspannung zugeführt. Der Controller 701 stellt die Dauer des ersten Abschnitts des hochfrequenten Schaltzyklus ein, um die Ausgangsspannung Voutput auf die gewünschte Systemspannung zu regeln.
  • Gemäß dem bisher beschriebenen Konzept umfasst ein Mehrschichtsubstrat eine erste Wicklung eines magnetischen Bauelements, die in einer ersten Metallisierungsebene des Mehrschichtsubstrats ausgebildet ist, eine erste elektrisch isolierende Schicht, die oberhalb der ersten Metallisierungsebene ausgebildet ist, und einen ersten Durchgangskontakt, der in der ersten elektrisch isolierenden Schicht angeordnet ist. Der erste Durchgangskontakt koppelt die erste Wicklung an ein auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnetes Schaltungselement. In dem Mehrschichtsubstrat ist eine Vertiefung ausgebildet, und eine Polymerlösung, die eine ferromagnetische Komponente umfasst, ist auf eine Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Wicklung und in der Vertiefung aufgebracht. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Polymerlösung ein Epoxid. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die ferromagnetische Komponente ein nanokristallines Nickel-Zink-Ferrit. Bei einem Ausführungsbeispiel reicht die Vertiefung nicht vollständig durch das Mehrschichtsubstrat. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Polymerlösung in eine Form eingebracht, die auf einer Oberfläche des Mehrschichtsubstrats angeordnet ist und die die Form der Polymerlösung nach dem Aushärten vorgibt. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Mehrschichtsubstrat eine Leiterplatte. Bei einem Ausführungsbeispiel ist eine integrierte Schaltung auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnet, die elektrisch mit der ersten Wicklung gekoppelt ist. Bei einem Ausführungsbeispiel ist die Anordnung eine Leistungswandleranordnung. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist eine zweite Isolationsschicht auf dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der ersten Metallisierungsebene angeordnet, und eine zweite Wicklung des magnetischen Bauelements ist in einer zweiten Metallisierungsebene des Mehrschichtsubstrats ausgebildet. Die zweite Metallisierungsebene ist in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Isolati onsschicht gebildet, und ein zweiter Durchgangskontakt ist in der zweiten Isolationsschicht angeordnet. Der zweite Durchgangskontakt koppelt die zweite Wicklung elektrisch an die erste Wicklung. Bei einem Ausführungsbeispiel sind der erste Durchgangskontakt und der zweite Durchgangskontakt metallische Durchgangskontakte. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel ist eine dritte Isolationsschicht in den Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Metallisierungsebene angeordnet, und eine dritte Metallisierungsebene ist in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der dritten Isolationsschicht angeordnet. In der dritten Metallisierungsebene ist eine weitere Wicklung des magnetischen Bauelements, die elektrisch von der ersten Wicklung isoliert ist, gebildet. Ein dritter Durchgangskontakt ist in der dritten Isolationsschicht ausgebildet, um eine elektrische Kopplung der weiteren Wicklung an ein weiteres Schaltungselement, das auf dem Mehrschichtsubstrat angeordnet ist, zu bilden. Bei einem Ausführungsbeispiel ist das Mehrschichtsubstrat ein Halbleitersubstrat, und das Schaltungselement ist eine auf dem Mehrschichtsubstrat gebildete integrierte Schaltung.
  • Ein anderes Ausführungsbeispiel betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Verfahren das Herstellen einer ersten Wicklung eines magnetischen Bauelements in einer ersten Metallisierungsschicht bzw. Metallisierungsebene. Das Verfahren umfasst außerdem das Herstellen einer ersten elektrisch isolierenden Schicht oberhalb der ersten Metallisierungsebene, und das Anordnen eines Schaltungselements auf oder in dem Mehrschichtsubstrat. Das Verfahren umfasst außerdem das Herstellen eines ersten Durchgangskontakts in der ersten elektrisch isolierenden Schicht, um die erste Wicklung an das Schaltungselement zu koppeln, und das Herstellen eines Vertiefung in dem Mehrschichtsubstrat. Das Verfahren umfasst außerdem das Abscheiden Polymerlösung bzw. eines Polymers, die eine ferromagnetische Komponente umfasst, auf einer Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Wicklung und in der Aus sparung. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die Polymerlösung ein Epoxid. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die ferromagnetische Komponente nanokristalline Nickel-Zink-Ferrite. Bei einem Ausführungsbeispiel erstreckt sich die Aussparung nicht vollständig durch das Mehrschichtsubstrat. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Verfahren außerdem das Anordnen einer Form auf der Oberfläche des Substrats und das Einbringen der Polymerlösung in der Form. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Mehrschichtsubstrat eine Leiterplatte. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die Anordnung eine Leistungswandleranordnung.
  • Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Verfahren außerdem das Herstellen einer zweiten Isolationsschicht auf dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der ersten Metallisierungsebene, und das Herstellen einer zweiten Wicklung des magnetischen Bauelements in einer zweiten Metallisierungsebene, die unterhalb der zweiten Isolationsschicht angeordnet ist, und das Herstellen eines zweiten Durchgangskontakts in der zweiten Isolationsschicht, um die zweite Wicklung elektrisch an die erste Wicklung zu koppeln. Bei einem Ausführungsbeispiel sind die ersten und zweiten Durchgangskontakte metallische Durchgangskontakte. Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst das Verfahren außerdem das Herstellen einer dritten Isolationsschicht in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Metallisierungsebene und das Herstellen einer weitere Wicklung in einer dritten Metallisierungsebene, die in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der dritten Isolationssicht angeordnet ist, wobei die weitere Wicklung des magnetischen Bauelements in der dritten Metallisierungsebene elektrisch von der ersten Wicklung isoliert ist. Das Verfahren umfasst außerdem und das Anordnen eines weiteren Schaltungselements auf oder in dem Mehrschichtsubstrat. Das Verfahren umfasst außerdem das Herstellen eines dritten Durchgangskontakts in der dritten Isolationsschicht, um eine elektrische Kopplung der weiteren Wicklung an das weitere Schaltungselement zu erhalten. Bei einem Ausführungsbeispiel ist das Mehrschichtsub strat als Halbleitersubstrat ausgebildet, und das Schaltungselement ist eine integrierte Schaltung, die auf oder in dem Mehrschichtsubstrat angeordnet ist.
  • Gemäß der vorangehenden Beschreibung sind die Wicklungen des magnetischen Bauelements in Metallisierungsebenen bzw. Metallisierungsschichten ausgebildet. In diesem Zusammenhang sei darauf hingewiesen, dass die Wicklungen zwar aus einem Metall bestehen können, dass sie jedoch auch aus einem anderen elektrisch leitenden Material bestehen können, wie z. B. einem hochdotierten polykristallinen Halbleitermaterial, wie Polysilizium. ”Metallisierungsebene” bzw. ”Metallisierungsschicht” steht also synonym für eine ”Leiterebene” bzw. ”Leiterschicht”, also eine Ebene oder Schicht, in der ein elektrisch leitendes Material angeordnet ist.
  • Obwohl Konzepte zum Herstellen eines Bauelements mit einem magnetischen Element und zugehörige Verfahren für Leistungswandleranwendungen beschrieben wurden, sei darauf hingewiesen, dass andere Anwendungen dieser Konzepte, wie zum Beispiel analoge Filter ebenfalls vorgesehen werden können.
  • Abschließend sei noch darauf hingewiesen, dass Merkmale, die im Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel erläutert wurden auch dann mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele kombiniert werden können, wenn dies nicht explizit erläutert wurde.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Nicht-Patentliteratur
    • - Geoff Jones: „Minature Solutions for Voltage Isolation”, Texas Instruments' Analog Applications Journal, 3Q2005, Seiten 13–17 [0004]
    • - K. Yamaguchi, et al. in der Veröffentlichung „Characteristic of a Thin Film Microtransformer with Circular Spiral Coils”, IEEE Transactions an Magnetics, Vol. 29, Nor. 5, September 1993 [0005]
    • - Kelly, A. E. et al.: ”Plastic-Iron-Powder Distributed-Air-Gap Magnetic Material”, IEEE Power Electronics Specialists Conference, 11. Juli 1990, Seiten 25–34 [0022]

Claims (23)

  1. Vorrichtung die aufweist: ein Mehrschichtsubstrat mit einer ersten Wicklung eines magnetischen Bauelements, die in einer ersten Metallisierungsebene (103) des Mehrschichtsubstrats ausgebildet ist; eine erste elektrisch isolierende Schicht (102), die oberhalb der ersten Metallisierungsebene (103) gebildet ist; einen ersten Durchgangskontakt, der in der elektrisch isolierenden Schicht ausgebildet ist, wobei der erste Durchgangskontakt die erste Wicklung an ein auf oder in dem Mehrschichtsubstrat angeordnetes Schaltungselement (IC1) koppelt; eine in dem Mehrschichtsubstrat ausgebildete Aussparung (14); und eine Polymer (101), das eine ferromagnetische Komponente umfasst, die auf eine Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Wicklung und in der Vertiefung (14) angeordnet ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das Polymer ein Epoxid enthält.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die ferromagnetische Komponente ein nanokristallines Nickel-Zink-Ferrit umfasst.
  4. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der sich die Aussparung (14) nicht vollständig durch das Mehrschichtsubstrat erstreckt.
  5. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der das Polymer in eine auf die Oberfläche des Mehrschichtsubstrats aufgebrachte Form (19) eingebracht ist.
  6. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der das Mehrschichtsubstrat eine Leiterplatte umfasst.
  7. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem das Schaltungselement eine integrierte Schaltung ist.
  8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem das Mehrschichtsubstrat ein Halbleitersubstrat aufweist, und bei dem das Schaltungselement eine in dem Mehrschichtsubstrat angeordnete integrierte Schaltung umfasst.
  9. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, die eine Leistungswandleranordnung umfasst.
  10. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, die weiterhin aufweist: eine zweite Isolationsschicht (104), die in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der ersten Metallisierungsebene (103) angeordnet ist; eine zweite Wicklung des magnetischen Bauelements, die in einer zweiten Metallisierungsebene (105) des Mehrschichtsubstrats ausgebildet ist, wobei die zweite Metallisierungsebene (195) in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Isolationsschicht (104) ausgebildet ist; und einen zweiten Durchgangskontakt (18), der in der zweiten Isolationsschicht (104) gebildet ist, wobei der zweite Durchgangskontakt (18) die zweite Wicklung elektrisch an die erste Wicklung koppelt.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 10, bei der die ersten und zweiten Durchgangskontakte metallische Durchgangskontakte sind.
  12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, die weiterhin aufweist: eine dritte Isolationsschicht (106), die in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Metallisierungsebene (105) angeordnet ist; wenigstens eine dritte Metallisierungsebene (107, 109), die in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der dritten Isolationsschicht (106) angeordnet ist, wobei in der wenigstens einen dritten Metallisierungsebene (107, 108) eine weitere Wicklung des magnetischen Bauelements gebildet ist, die von der ersten Wicklung isoliert ist; ein weiteres Schaltungselement (IC2), das elektrisch an die weitere Wicklung gekoppelt ist.
  13. Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung, wobei das Verfahren aufweist: Herstellen einer ersten Wicklung eines magnetischen Bauelements in einer ersten Metallisierungsebene (103) eines Mehrschichtsubstrats; Herstellen einer ersten elektrischen isolierenden Schicht (102) oberhalb der ersten Metallisierungsebene; Anordnen eines Schaltungselements (IC1) auf oder in dem Mehrschichtsubstrat; Herstellen eines ersten Durchgangskontakts in der ersten elektrisch isolierenden Schicht (102), um die erste Wicklung an das Schaltungselement (IC1) zu koppeln; Herstellen einer Aussparung (14) in dem Mehrschichtsubstrat; und Abscheiden eines Polymers, das eine ferromagnetische Komponente umfasst, auf einer Oberfläche des Mehrschichtsubstrats oberhalb der ersten Wicklung und in der Aussparung (14).
  14. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem das Polymer ein Epoxid enthält.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, bei dem die ferromagnetische Komponente nanokristalline Nickel-Zink-Ferrite enthält.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, bei dem die Aussparung (14) nicht vollständig durch das Mehrschichtsubstrat reicht.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 16, das außerdem das Anordnen einer Form (19) auf der Oberfläche des Mehrschichtsubstrats und das Einbringen des Polymers in die Form (19) umfasst.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, bei dem das Mehrschichtsubstrat eine Leiterplatte aufweist.
  19. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 18, bei dem die Anordnung eine Leistungswandleranordnung umfasst.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, das weiterhin aufweist: Herstellen einer zweiten Isolationsschicht (104) in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der ersten Metallisierungsebene (103); Herstellen einer zweiten Wicklung des magnetischen Bauelements in einer zweiten Metallisierungsebene (105), die unterhalb der zweiten Isolationsschicht (104) angeordnet ist; und Herstellen eines zweiten Durchgangskontakts (18) in der zweiten Isolationsschicht (104), um die zweite Wicklung elektrisch an die erste Wicklung zu koppeln.
  21. Verfahren nach Anspruch 20, bei dem der erste Durchgangskontakt und der zweite Durchgangskontakt (18) metallische Durchgangskontakte sind.
  22. Verfahren nach Anspruch 13, das weiterhin aufweist: Herstellen einer dritten Isolationsschicht (106) in dem Mehrschichtsubstrat unterhalb der zweiten Metallisierungsebene (105); Herstellen einer weiteren Wicklung des magnetischen Bauelements, die elektrisch von der ersten Wicklung isoliert ist, in wenigstens einer dritten Metallisierungsebene (107, 109); Anordnen eines weiteren Schaltungselements auf dem Mehrschichtsubstrat; und Herstellen eines dritten Durchgangskontakts, der die weitere Wicklung an das weitere Schaltungselement koppelt.
  23. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem das Mehrschichtsubstrat ein Halbleitersubstrat umfasst, und bei dem das Schaltungselement eine in dem Mehrschichtsubstrat angeordnete integrierte Schaltung umfasst.
DE102009046183A 2008-10-31 2009-10-29 Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung Pending DE102009046183A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/262,816 US8446243B2 (en) 2008-10-31 2008-10-31 Method of constructing inductors and transformers
US12/262,816 2008-10-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102009046183A1 true DE102009046183A1 (de) 2010-05-06

Family

ID=42063228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009046183A Pending DE102009046183A1 (de) 2008-10-31 2009-10-29 Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (2)

Country Link
US (2) US8446243B2 (de)
DE (1) DE102009046183A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9565764B2 (en) 2013-12-17 2017-02-07 Mitsubishi Electric Corporation Inductor and MMIC
DE102020207860A1 (de) 2020-06-25 2021-12-30 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Induktives Bauelement mit einem partikelgefüllten Spulenkern
DE102020209543A1 (de) 2020-07-29 2022-02-03 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Leiterplatte mit einer ferromagnetischen Schicht

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8633792B2 (en) * 2009-09-09 2014-01-21 Koninklijke Philips N.V. Electronic device having a base part including a soft magnetic layer
US8513771B2 (en) * 2010-06-07 2013-08-20 Infineon Technologies Ag Semiconductor package with integrated inductor
TWM406265U (en) * 2010-10-02 2011-06-21 Domintech Co Ltd Inductance IC chip packaging multi-layer substrate
ITTO20110295A1 (it) * 2011-04-01 2012-10-02 St Microelectronics Srl Dispositivo ad induttore integrato ad elevato valore di induttanza, in particolare per l'uso come antenna in un sistema di identificazione a radiofrequenza
US9921640B2 (en) * 2012-09-28 2018-03-20 Intel Corporation Integrated voltage regulators with magnetically enhanced inductors
US8952489B2 (en) * 2012-10-09 2015-02-10 Infineon Technologies Ag Semiconductor package and method for fabricating the same
US9431473B2 (en) 2012-11-21 2016-08-30 Qualcomm Incorporated Hybrid transformer structure on semiconductor devices
US10002700B2 (en) 2013-02-27 2018-06-19 Qualcomm Incorporated Vertical-coupling transformer with an air-gap structure
US9929038B2 (en) 2013-03-07 2018-03-27 Analog Devices Global Insulating structure, a method of forming an insulating structure, and a chip scale isolator including such an insulating structure
US9634645B2 (en) 2013-03-14 2017-04-25 Qualcomm Incorporated Integration of a replica circuit and a transformer above a dielectric substrate
US9177925B2 (en) * 2013-04-18 2015-11-03 Fairfchild Semiconductor Corporation Apparatus related to an improved package including a semiconductor die
CN104112727B (zh) * 2013-04-18 2018-06-05 费查尔德半导体有限公司 与包括半导体管芯的改进封装件相关的方法和装置
NL2011128C2 (nl) 2013-07-09 2015-01-12 Eco Logical Entpr B V Rotatie-inrichting, bijvoorbeeld een luchtverplaatser, zoals een ventilator, een propeller of een hefschroef, een waterturbine of een windturbine.
NL2011129C2 (nl) * 2013-07-09 2015-01-12 Eco Logical Entpr B V Compacte elektrische inrichting en daarop gebaseerde elektrodynamische luidspreker, elektromotor, roerinrichting en instelbare koppeling.
US9449753B2 (en) 2013-08-30 2016-09-20 Qualcomm Incorporated Varying thickness inductor
US10051741B2 (en) * 2013-11-06 2018-08-14 Qualcomm Incorporated Embedded layered inductor
DE102015000317A1 (de) 2014-01-10 2015-07-16 Fairchild Semiconductor Corporation Isolierung zwischen Halbleiterkomponenten
US9697938B2 (en) * 2014-01-17 2017-07-04 Marvell World Trade Ltd. Pseudo-8-shaped inductor
JP2015138935A (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 イビデン株式会社 プリント配線板
US9324489B2 (en) * 2014-03-31 2016-04-26 International Business Machines Corporation Thin film inductor with extended yokes
US9906318B2 (en) 2014-04-18 2018-02-27 Qualcomm Incorporated Frequency multiplexer
DE102014210013A1 (de) * 2014-05-26 2015-11-26 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Magnetische Platine und Verfahren zu deren Herstellung
US10236115B2 (en) * 2014-06-16 2019-03-19 Stmicroelectronics S.R.L. Integrated transformer
EP2988577A1 (de) * 2014-08-20 2016-02-24 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Leiterplatte
FR3040752B1 (fr) * 2015-09-08 2018-03-23 Sc2N Actionneur de vanne et vanne de circulation de fluide le comprenant
US9941565B2 (en) 2015-10-23 2018-04-10 Analog Devices Global Isolator and method of forming an isolator
US10204732B2 (en) 2015-10-23 2019-02-12 Analog Devices Global Dielectric stack, an isolator device and method of forming an isolator device
US10283257B2 (en) * 2016-01-08 2019-05-07 Qualcomm Incorporated Skewed co-spiral inductor structure
US9978696B2 (en) 2016-09-14 2018-05-22 Analog Devices, Inc. Single lead-frame stacked die galvanic isolator
US10930604B2 (en) 2018-03-29 2021-02-23 Semiconductor Components Industries, Llc Ultra-thin multichip power devices
US11044022B2 (en) 2018-08-29 2021-06-22 Analog Devices Global Unlimited Company Back-to-back isolation circuit
US11450469B2 (en) 2019-08-28 2022-09-20 Analog Devices Global Unlimited Company Insulation jacket for top coil of an isolated transformer
US11387316B2 (en) 2019-12-02 2022-07-12 Analog Devices International Unlimited Company Monolithic back-to-back isolation elements with floating top plate
US11452202B2 (en) 2020-12-16 2022-09-20 Raytheon Company Radio frequency filtering of printed wiring board direct current distribution layer

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5349743A (en) * 1991-05-02 1994-09-27 At&T Bell Laboratories Method of making a multilayer monolithic magnet component
US5781091A (en) * 1995-07-24 1998-07-14 Autosplice Systems Inc. Electronic inductive device and method for manufacturing
JP4030028B2 (ja) * 1996-12-26 2008-01-09 シチズン電子株式会社 Smd型回路装置及びその製造方法
US6320490B1 (en) * 1999-08-13 2001-11-20 Space Systems/Loral, Inc. Integrated planar transformer and inductor assembly
JP2002043520A (ja) * 2000-07-19 2002-02-08 Sony Corp 半導体装置及びその製造方法
DE10232642B4 (de) 2002-07-18 2006-11-23 Infineon Technologies Ag Integrierte Transformatoranordnung
US7915991B2 (en) * 2003-09-04 2011-03-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Fractional turns transformers with ferrite polymer core
CN1860833A (zh) * 2003-09-29 2006-11-08 株式会社田村制作所 多层层叠电路基板
TWI245430B (en) * 2004-02-04 2005-12-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Fabrication method of semiconductor package with photosensitive chip
DE102004036139B4 (de) * 2004-07-26 2008-09-04 Infineon Technologies Ag Bauelementanordnung mit einem planaren Transformator
US6980077B1 (en) * 2004-08-19 2005-12-27 Coldwatt, Inc. Composite magnetic core for switch-mode power converters
US7427910B2 (en) * 2004-08-19 2008-09-23 Coldwatt, Inc. Winding structure for efficient switch-mode power converters
US7209026B2 (en) * 2004-09-01 2007-04-24 Intel Corporation Integrated package inductor for integrated circuit devices
US7518480B1 (en) * 2006-08-03 2009-04-14 Rf Micro Devices, Inc. Printed circuit board inductor
US8247855B2 (en) * 2006-09-12 2012-08-21 Texas Instruments Incorporated Enhanced local interconnects employing ferroelectric electrodes
US8252615B2 (en) * 2006-12-22 2012-08-28 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system employing mold flash prevention technology
JP5045219B2 (ja) * 2007-04-27 2012-10-10 富士電機株式会社 マイクロトランスの製造方法
US20090008777A1 (en) * 2007-07-06 2009-01-08 Advanced Chip Engineering Technology Inc. Inter-connecting structure for semiconductor device package and method of the same
US7955868B2 (en) * 2007-09-10 2011-06-07 Enpirion, Inc. Method of forming a micromagnetic device
US20090153229A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-18 Andre Hanke Method for Signal Transmission between Semiconductor Substrates, and Semiconductor Component Comprising Such Semiconductor Substrates
US7579197B1 (en) * 2008-03-04 2009-08-25 Qualcomm Incorporated Method of forming a magnetic tunnel junction structure
US7781231B2 (en) * 2008-03-07 2010-08-24 Qualcomm Incorporated Method of forming a magnetic tunnel junction device
US7885105B2 (en) * 2008-03-25 2011-02-08 Qualcomm Incorporated Magnetic tunnel junction cell including multiple vertical magnetic domains
US7489226B1 (en) * 2008-05-09 2009-02-10 Raytheon Company Fabrication method and structure for embedded core transformers

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Geoff Jones: "Minature Solutions for Voltage Isolation", Texas Instruments' Analog Applications Journal, 3Q2005, Seiten 13-17
K. Yamaguchi, et al. in der Veröffentlichung "Characteristic of a Thin Film Microtransformer with Circular Spiral Coils", IEEE Transactions an Magnetics, Vol. 29, Nor. 5, September 1993
Kelly, A. E. et al.: "Plastic-Iron-Powder Distributed-Air-Gap Magnetic Material", IEEE Power Electronics Specialists Conference, 11. Juli 1990, Seiten 25-34

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9565764B2 (en) 2013-12-17 2017-02-07 Mitsubishi Electric Corporation Inductor and MMIC
DE102020207860A1 (de) 2020-06-25 2021-12-30 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Induktives Bauelement mit einem partikelgefüllten Spulenkern
DE102020209543A1 (de) 2020-07-29 2022-02-03 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Leiterplatte mit einer ferromagnetischen Schicht

Also Published As

Publication number Publication date
US8446243B2 (en) 2013-05-21
US20130241685A1 (en) 2013-09-19
US20100109123A1 (en) 2010-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009046183A1 (de) Vorrichtung mit einem magnetischen Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
DE60020011T2 (de) Integrierte Schaltung mit einer mikromagnetischer Vorrichtung und sein Herstellungsverfahren
DE102011084014B4 (de) Halbleiterbauelemente mit Magnetkerninduktoren und Verfahren zum Herstellen derselben
DE4306655C2 (de) Verfahren zum Herstellen eines planaren Induktionselements
DE10139707A1 (de) Leiterplatte
DE102011002795A1 (de) Signalübertragungsanordnung, Verfahren zu dessen Herstellung und Spannungswandler
DE102004002176A1 (de) Mikrominiatur-Stromrichter
DE10340391A1 (de) Induktor mit geringem Energieverlust
DE102016105096B4 (de) Halbleitervorrichtung mit einer in einer umverteilungsschicht ausgebildeten passiven komponente
DE102004011958A1 (de) Mikro-Stromrichter mit mehreren Ausgängen
DE102006022785A1 (de) Induktives Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines induktiven Bau-elements
DE102008003952A1 (de) Mikrominiatur-Umrichter
EP3547338A1 (de) Elektronisches bauelement und verfahren zu dessen herstellung
DE10002377A1 (de) Spule und Spulensystem zur Integration in eine mikroelektronische Schaltung sowie mikroelektronische Schaltung
DE102018113765B4 (de) Transformator mit einer durchkontaktierung für einen magnetkern
EP1168384A1 (de) Elektronisches Bauteil
DE112019006352T5 (de) Mehrschichtfilter, umfassend einen rückführsignalreduzierungsvorsprung
DE102005039379A1 (de) Magnetisches Bauelement mit Spiralspule(n), Arrays solcher Bauelemente und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102011082986A1 (de) Integrierte schaltkreisbaugruppe mit reduzierter parasitärerschleifeninduktivität
DE102013114155A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Induktorkerns für eine Chipanordnung und Chipanordnung
DE102014114205A1 (de) Planarer Miniaturtransformator
WO2015176919A1 (de) Mehrlagiges induktives passives bauelement und folienkörper zu dessen herstellung
DE10338471A1 (de) Miniaturisierte, magnetische Bauelemente und Verfahren zu ihrer Herstellung mit Hilfe von Wafer-Level-Technologie
EP1480500B1 (de) Leistungsversorgungsschaltung mit dreidimensional angeordneten Schaltungsträgern sowie Herstellungsverfahren
DE202018102673U1 (de) Induktive Komponente mit durch leitfähigen Klebstoff gebildetem Spulenleiter

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication