DE102009042921B4 - Halbleiterbauelement - Google Patents
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Abstract
Halbleiterbauelement (300), umfassend:eine Formstruktur (305), die einen Hohlraum (315) definiert,mehrere, in die Formstruktur (305) eingeformte separate Zuleitungen (303a, 303b, 303c), undeinen in dem Hohlraum (315) an der Formstruktur (305) über mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) angebrachten Chip (307),wobei sich die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) in einem Überlappungsgebiet (3099) in einer Projektion orthogonal zu einer Chiphauptfläche zumindest teilweise mit dem Chip (307) überlappen,wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) derart nach oben gebogen sind, dass sie innerhalb des Hohlraums (315) an freiliegenden Abschnitten an der Formstruktur (305) freiliegen, wobei der Chip (307) mittels verbindender Elemente (319) mit den freiliegenden Abschnitten der mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) elektrisch verbunden ist,wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) an gegenüberliegenden Seiten aus der Formstruktur (305) herausragen,wobei die Formstruktur (305) eine ausgeformte erste Isolierschicht (311) definiert, die den Chip (307) von den mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) trennt, undwobei der Chip (307) mit Hilfe eines Klebers (313) an der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angebracht ist und der Kleber (313) eine klebende zweite Isolierschicht bildet, die zwischen dem Chip (307) und der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angeordnet ist.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterbauelements.
- Im Gefolge von zunehmender Funktionsintegration in Halbleiterbauelementen ist die Notwendigkeit, in den Halbleiterbauelementen erzeugte Wärme effizienter abzuleiten, dringend. Gleichzeitig besteht ein Bedarf zur Verbesserung der Zuverlässigkeit, Reduzieren der Größe und zum Senken von Herstellungskosten. Viele der Aufgaben können erfüllt werden, indem die Weise verbessert wird, auf die die Halbleiterchips gekapselt werden. Die US 2007 / 0 126 916 A1 offenbart ein Halbleiterbauelement mit einer Formstruktur, die einen Hohlraum definiert, mehreren Zuleitungen, die in die Formstruktur eingeformt sind und in dem Hohlraum mit einem Chip verbunden sind. Weitere Halbleiterbauelemente sind in der US 2003 / 0 020 147 A1 der US 2007 / 0 251 328 A1 und der US 6 696 753 B2 offenbart.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbleiterbauelement zu schaffen, das eine effiziente Ableitung der in dem Halbleiterbauelement erzeugten Wärme ermöglicht. Ferner soll ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Halbleiterbauelements angegeben werden.
- Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabenstellung wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
- Erfindungsgemäß wird ein Halbleiterbauelement bereitgestellt, das mehrere getrennte (separate), in eine Formstruktur (Moldstruktur) eingeformte Zuleitungen (Leads, Pins) und einen an der Formstruktur über mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen angebrachten Chip umfasst.
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1A und1B zeigen ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements, das mehrere in eine Formstruktur eingeformte Zuleitungen und einen an der Formstruktur angebrachten Chip umfasst. -
2 zeigt ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements, das mehrere, in eine Formstruktur eingeformte separate Zuleitungen umfasst, wobei ein Chip mit Hilfe eines Klebers an der Formstruktur angebracht ist. -
3 zeigt ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements, das mehrere in eine Formstruktur eingeformte separate Zuleitungen und einen durch die Formstruktur definierten Hohlraum umfasst. -
4A und4B zeigen eine erfindungsgemäße Ausführungsform eines Halbleiterbauelements, das mehrere, in eine Formstruktur eingeformte separate Zuleitungen umfasst, einen Hohlraum definierend, wobei ein Chip an der Formstruktur angebracht ist, und Bonddrähte, die den Chip mit den mehreren separaten Zuleitungen innerhalb dieses Hohlraums verbinden. - Die beiliegenden Zeichnungen sind aufgenommen, um ein eingehenderes Verständnis der vorliegenden Erfindung zu vermitteln und sind in diese Anmeldung aufgenommen und stellen einen Teil dieser dar. Die Zeichnungen veranschaulichen die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung der Erläuterung der Prinzipien der Erfindung. Andere Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und viele der damit einhergehenden Vorteile der vorliegenden Erfindung lassen sich ohne weiteres erkennen, wenn sie durch Bezugnahme auf die folgende ausführliche Beschreibung besser verstanden werden. Die Elemente der Zeichnungen sind relativ zueinander nicht notwendigerweise maßstabsgetreu. Gleiche Bezugszahlen bezeichnen entsprechende ähnliche Teile.
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1A und1B zeigen schematisch ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements1 , das mehrere in eine Formstruktur (Moldstruktur)5 eingeformte separate (getrennte) Zuleitungen (Leads, Pins)3a ,3b ,3c und einen an der Formstruktur5 über mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c angebrachten Chip7 umfasst.1A veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleiterbauelements1 entlang der in1B gezeigten Linie 1A-1A', während1B einen Querschnitt des Bauelements1 entlang der in 1A gezeigten Linie 1B-1B' in einer zu dem Querschnitt von1A orthogonalen Ebene offenbart. In1B wurde der Chip7 mit einer gestrichelten Linie gezeichnet, da er sich außerhalb der durch die Linie 1B-1B' definierten Ebene befindet. -
1A und1B zeigen 3 separate in eine Formstruktur5 eingeformte Zuleitungen3a ,3b ,3c und einen an der Formstruktur5 angebrachten Chip7 . Die Anzahl der mehreren separaten Leitungen3a ,3b ,3c kann von drei verschieden sein. Es kann sich je nach der Anwendung um eine beliebige Zahl größer als zwei handeln. Der Ausdruck „separat“ bezieht sich auf die Tatsache, dass die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c elektrisch voneinander getrennt sind. Bei einer Ausführungsform können mehrere separate Zuleitungen3a ,3b ,3c integral mit einem Systemträger (Leadframe) (oder mit einem aus einem Array aus Systemträgern bestehenden Systemträgerstreifen) gewesen sein, bis sie nach dem Ausformen von diesem Systemträger (oder Systemträgerstreifen) abgeschnitten wurden. Die Verwendung von Systemträgern ist praktisch, da er ein großes Array von Zuleitungen in Position halten kann, bis die Formstruktur das Halten der Zuleitungen übernehmen kann. - Die mehreren separaten Zuleitungen
3a ,3b ,3c können als externe Kontakte für das Empfangen von Spannungen oder Strömen von der Außenseite des Halbleiterbauelements1 zum Chip7 oder zum Empfangen von Spannungen oder Strömen vom Chip7 zur Außenseite des Halbleiterbauelements1 verwendet werden. Die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c können auch als eine mechanische Stütze dienen, um den Chip7 bezüglich einer Platine oder eines Substrats an seiner Stelle zu halten, an der oder an dem die mehreren separaten Zuleitungen angebracht werden. Beispielsweise können bei einer Ausführungsform die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c Teil eines Durchgangslochbauelements (THD - Through-Hole-Device) sein, wo die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c durch Durchgangslöcher einer gedruckten Leiterplatte eingeführt und danach daran gelötet werden. Bei einer anderen Ausführungsform können die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c Teil eines Oberflächenmontagebauelements (SMD - Surface-Mount-Device) sein, wo die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c an die Oberfläche einer gedruckten Leiterplatte gelötet werden, ohne die Zuleitungen durch ein Durchgangsloch einzuführen. - Die Formstruktur
5 kann je nach der Anwendung eine beliebige Gestalt besitzen. Die Gestalt der Formstruktur5 wird üblicherweise durch die Gestalt der Form bestimmt, in der die Formstruktur5 ausgeformt worden ist. Das Ausformen wird üblicherweise durchgeführt, indem flüssiges Formmaterial (Moldmaterial) unter Druck in eine geschlossene zweiteilige Form eingefüllt wird. Nach der Erhärtung des flüssigen Formmaterials in der Form werden die beiden Teile der zweiteiligen Form auseinandergenommen, um das ausgeformte Bauelement herauszunehmen. - Bei einer Ausführungsform kann das flüssige Formmaterial ein einfaches Polymer sein. Bei einer anderen Ausführungsform kann das flüssige Formmaterial ein duroplastisches Epoxidharz sein, das mit einem Füllmaterial (z.B. 70-90 Gew.-% Siliziumoxid) und einem organischen Härter (z.B. 5-25 Gew.-%) gefüllt ist. Zum Verflüssigen wird das Formmaterial auf eine Temperatur von etwa 180°C erhitzt. Die Erhärtung tritt ein, indem das verflüssigte Polymer sich auf etwa Raumtemperatur abkühlen kann.
- Bei der Ausführungsform ist die Formstruktur
5 ein Quader (siehe1A und1B) mit einer definierten Dicke, einer Länge und einer Breite. Bei einer Ausführungsform sind Länge und Breite des Quaders darauf angepasst, so groß zu sein oder größer als Länge und Breite des Chips7 , der an der Formstruktur5 angebracht werden soll. In diesem Fall kann die Hauptoberfläche der Formstruktur5 den Chip7 ganz aufnehmen. Wenn beispielsweise der Chip einen Bereich aufweist, der durch eine Chiplänge von 2 mm und eine Chipbreite von 1 mm gegeben ist, kann die Formstruktur5 eine Länge von 2,5 mm und eine Breite von 1,5 mm aufweisen. - Bei einer Ausführungsform werden die mehreren separaten Zuleitungen
3a ,3b ,3c in die Formstruktur5 eingeformt, indem Abschnitte der mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c in den Formhohlraum eingeführt werden, bevor flüssiges Formmaterial in den Formhohlraum gefüllt wird. In diesem Fall kann das Formmaterial um die eingeführten Abschnitte der mehreren separaten Zuleitungen3 herum fließen, so dass es sich mit den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c nach der Erhärtung des Formmaterials verzahnt. Auf diese Weise kann die erhärtete Formstruktur5 die mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c zueinander in Position halten. -
1A zeigt weiterhin den Chip7 als an der Formstruktur5 über den drei separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c angebracht. Der Chip7 kann ein Halbleiterchip sein, zum Beispiel ein Siliziumchip. Bei einer Ausführungsform kann der Chip7 eine integrierte Schaltung umfassen. Bei einer Ausführungsform kann der Chip7 einen Sensor umfassen, zum Beispiel eine Membran zum Erfassen von Druck- oder Akustiksignalen, einen Foto-Sensor zum Detektieren von Licht, einen Gassensor zum Detektieren einer Gaskomponente und dergleichen. Bei einer Ausführungsform kann der Chip7 eine lichtemittierende Komponente umfassen, zum Beispiel eine Laserdiode. -
1A und1B zeigen, dass der Chip7 sich über der Formstruktur5 befindet, d.h. mehrere separate Zuleitungen3a ,3b ,3c überlappen in einem Überlappungsgebiet9 zumindest teilweise mit dem Chip7 in einer Projektion orthogonal zu der Chiphauptfläche. In1A und1B besteht das Überlappungsgebiet9 aus den drei getrennten Überlappungsgebietssegmenten9a ,9b ,9c . - Die
1A und1B zeigen weiterhin eine ausgeformte Isolierschicht11 , die durch die ausgeformte Schicht definiert wird, die den Chip7 von den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c trennt. Die Dicke D der ausgeformten Isolierschicht11 definiert den Mindestabstand zwischen dem Chip7 und den jeweiligen mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c . Je kleiner die Dicke D, umso besser ist die Wärmeableitung von dem Chip7 zu den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c . Beispielsweise kann, um eine gute Wärmeableitung vom Chip7 zu mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c zu erhalten, die Dicke D kleiner ausgeführt werden als zum Beispiel 1000 Mikrometer. Bei einer Ausführungsform kann die ausgeformte Isolierschicht11 eine Dicke D von 100 Mikrometern oder sogar noch kleiner aufweisen. Andererseits kann eine untere Dickenbegrenzung durch eine Maximalspannung zwischen mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c und Chip7 gegeben werden, die die ausgeformte Isolierschicht11 bei Bauelementbetrieb aushalten muss. Zum Aushalten beispielsweise einer Spannung von 10 V sollte eine ausgeformte Isolierschicht11 , die aus einem duroplastischen Epoxidharz hergestellt ist, dicker als 10 Mikrometer sein. Natürlich hängt eine optimale Dicke D von der Anwendung, der Art des Formmaterials und der geometrischen Gestalt der Formstruktur und der Zuleitungen ab. Dementsprechend kann die Dicke D stark variieren. -
2 zeigt schematisch ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements100 , das dem Beispiel der1A und1B ähnlich sein kann. Beispielsweise können der Chip107 , mehrere separate Zuleitungen103a ,103b ,103c (in2 ist nur die Zuleitung103b gezeigt) und das Überlappungsgebiet109 identisch sein mit dem Chip7 , den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c und dem Überlappungsgebiet9 der1A und1B . Anders als bei der Offenbarung in1A und1B jedoch zeigt2 an, dass der Chip107 mit Hilfe einer klebenden Isolierschicht113 mit einer Dicke D an der Formstruktur105 angebracht ist. Die klebende Isolierschicht113 trennt den Chip107 von den mehreren separaten Zuleitungen103a ,103b ,103c . Bei dieser Ausführungsform kann die klebende Isolierschicht113 eine oder mehrere der mehreren separaten Zuleitungen103a ,103b ,103c bedecken oder berühren. Je kleiner die Dicke D der klebenden Isolierschicht113 ist, umso besser ist der Wärmetransfer von dem Chip107 zu den mehreren separaten Zuleitungen103a ,103b ,103c . - Bei einer Ausführungsform ist der Kleber
113 ein elektrisch isolierender Kleber, zum Beispiel ein Epoxid, ein Flüssigkristallpolymer (LCP - Liquid Crystal Polymer) usw. Wenn die klebende Isolierschicht113 aus einem elektrisch isolierenden Material hergestellt ist, kann die klebende Isolierschicht113 zwei Zwecken dienen, d.h. zum elektrischen Isolieren des Chips107 von den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c und zum Befestigen des Chips107 an der Formstruktur105 . In diesem Fall wird zum elektrischen Isolieren des Chips107 gegenüber den mehreren separaten Zuleitungen103a ,103b ,103c kein Formmaterial benötigt. Dies ermöglicht es, dass der Abstand D der klebenden Isolierschicht113 lediglich durch die Weise begrenzt wird, auf die die klebende Isolierschicht113 aufgebracht wird. Typische Dicken können im Bereich zwischen 50 und 250 Mikrometer liegen, zum Beispiel 10 Mikrometer. -
3 zeigt schematisch ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel eines Halbleiterbauelements200 , das dem Beispiel von1A und1B ähnlich sein kann. Beispielsweise können der Chip207 , die mehreren separaten Zuleitungen203a ,203b ,203c (in3 ist nur die Zuleitung203b gezeigt), das Überlappungsgebiet209 und die ausgeformte Isolierschicht211 der Dicke D identisch sein mit dem Chip7 , den mehreren separaten Zuleitungen3a ,3b ,3c , dem Überlappungsgebiet9 und der ausgeformten Isolierschicht11 der1A und1B . - Andererseits ist im Unterschied von der Offenbarung in
1A und1B die Formstruktur205 so gestaltet, dass sie einen Hohlraum215 definiert, und der Chip207 ist an der Formstruktur205 in diesem Hohlraum angebracht. In3 wird der Hohlraum215 durch einen Basisabschnitt205a definiert, an dem der Chip207 angebracht ist, und einen Wandabschnitt205b , der den Chip207 umgibt, um den Chip207 zu schützen. Wie in den vorausgegangenen Ausführungsformen kann der Chip207 mit Hilfe einer Kleber- oder Haftschicht an der Formstruktur205 angebracht werden. - Bei einer Ausführungsform kann der Wandabschnitt
205b auch als eine Basis für einen Deckel (in3 nicht gezeigt), der auf dem Wandabschnitt205b platziert werden kann, um um den Chip207 herum einen hermetisch abgedichteten Hohlraum auszubilden, dienen. In diesem Fall kann die Höhe des Wandabschnitts205b größer sein als die Dicke des Chips. Wenn beispielsweise die Dicke des Chips207 500 Mikrometer beträgt, dann kann die Höhe des Wandabschnitts205b 1000 Mikrometer betragen, um einen flachen Deckel zu berücksichtigen und Drahtverbindungen, die den Chip mit den mehreren separaten Zuleitungen203a ,203b ,203c verbinden. Mit einem Deckel, der den Hohlraum215 abdichtet, kann der Chip207 vor mechanischem und chemischem Umgebungsstress geschützt werden. Ein hermetisch abgedichteter Hohlraum kann nützlich sein, wenn empfindliche Bonddrähte verwendet werden, um den Chip207 mit den mehreren separaten Zuleitungen203a ,203b ,203c zu verbinden, und wenn die Bonddrähte vor mechanischer Zerstörung geschützt werden müssen. - Ein hermetisch abgedichteter Hohlraum kann auch nützlich sein, wo sich das Ausformen eines Chips in Formmaterial wegen des hohen mechanischen Stresses (Spannung) verbietet, der durch die vergrößerte Grenzfläche zwischen dem eingebetteten Chip und der einbettenden Formstruktur auf den Chip verursacht wird. Beispielsweise können Halbleiterchips, die integrierte Schaltungen, Drucksensoren, Beschleunigungssensor, magnetische Sensoren, Gassensoren oder andere Sensoren umfassen, gegenüber einem mechanischen Stress anfällig sein, der an der Grenzfläche mit dem Formmaterial verursacht wird, und deshalb werden sie oftmals statt dessen in einem Hohlraum platziert.
- Die
4A und4B zeigen schematisch eine erfindungsgemäße Ausführungsform eines Halbleiterbauelements300 mit sechs separaten Zuleitungen303a ,303b ,303c ,303d ,303e ,303f , die in eine Formstruktur305 eingeformt sind. Die Formstruktur305 besteht aus einem Basisabschnitt305a und einem Wandabschnitt305b , um einen Hohlraum315 zu definieren. Weiterhin ist ein Chip307 im Hohlraum315 am Basisabschnitt305a über den sechs separaten Zuleitungen303a ,303b ,303c ,303d ,303e ,303f angebracht.4A veranschaulicht den Querschnitt des Halbleiterbauelements300 entlang der in4B gezeigten Linie 4A-4A', während4B einen Querschnitt des Halbleiterbauelements300 entlang der in4A gezeigten Linie 4B-4B' in einer Ebene orthogonal zum Querschnitt von4A offenbart. - Die
4A und4B zeigen, dass der Chip307 mit einem elektrisch isolierenden Kleber angebracht ist, der eine klebende Isolierschicht313 zwischen dem Chip307 und dem Basisabschnitt305a bildet. Die Dicke der klebenden Isolierschicht313 kann im Bereich von 5 bis 250 Mikrometer liegen, z.B. typischerweise 10 Mikrometer. Die4A und4B offenbaren weiterhin ein Überlappungsgebiet309 , das aus sechs überlappenden Gebietssegmenten309a ,309b ,309c ,309d ,309e ,309f besteht. Weiterhin offenbaren die4A und4B eine ausgeformte Isolierschicht311 zwischen der klebenden Isolierschicht313 und den mehreren separaten Zuleitungen303a bis303f innerhalb des Überlappungsgebiets309 . Die Dicke der ausgeformten Isolierschicht311 kann je nach Chip und Formmaterial im Bereich von zum Beispiel 100 Mikrometer liegen. Die klebende Isolierschicht313 und die ausgeformte Isolierschicht311 stellen zusammen eine Isolierschicht dar, die einerseits dick genug ist, um eine gegebene elektrische Mindestdurchschlagsspannung sicherzustellen, und andererseits dünn genug ist, um das effiziente Ableiten von Wärme von dem Chip307 zu den sechs separaten Zuleitungen303a bis303f zu gestatten. Da der Chip307 über allen sechs separaten Zuleitungen303a bis303f angebracht ist, können alle sechs Zuleitungen gleichermaßen an der Wegleitung der Wärme zu der Platine beteiligt sein, an die die sechs separaten Zuleitungen des Halbleiterbauelements300 gelötet sind. - Die
4A und4B zeigen weiter, das die sechs separaten Zuleitungen303a bis303f nach oben gebogen sind, um innerhalb des Hohlraums315 sichtbar zu werden. Dies soll einen Bereich innerhalb des Hohlraums315 bereitstellen, wo verbindende Elemente319 , zum Beispiel Bonddrähte, mit den Zuleitungen verbunden werden können, um den Chip307 elektrisch mit den jeweiligen sechs separaten Zuleitungen303a bis303f zu verbinden. Bei einer Ausführungsform sind die verbindenden Elemente319 Bonddrähte; es können jedoch auch andere verbindende Elemente wie Bondband, Clips usw. verwendet werden. - Die
4A und4B zeigen weiterhin, das die sechs separaten Zuleitungen303a bis303f durch den Wandabschnitt305b geführt sind, damit sie sich zur Außenseite des Package erstrecken. Bei einer Ausführungsform der4A und4B sind die sechs separaten Zuleitungen303a bis303f an der Außenseite zweimal in entgegengesetzten Richtungen gebogen, um Zuleitungen mit einer Knickflügelform zu erhalten, die an die Oberfläche einer gedruckten Leiterplatte gelötet werden können. Natürlich können die Zuleitungen je nach der Anwendung auch auf andere Weisen oder überhaupt nicht gebogen sein. -
4A zeigt weiterhin einen Deckel317 , der an den oberen Rand des Wandabschnitts305b anschließt, um den Hohlraum315 hermetisch abzudichten. Der Deckel317 ist eine flache Abdeckung, die an den Rand des Wandabschnitts305b angebracht wird, nachdem der Chip307 an den Basisabschnitt305a geklebt worden ist und nachdem Bonddrähte319 zum Verbinden des Chips307 mit den Zuleitungen303a bis303f innerhalb des Hohlraums315 angebracht worden sind. Mit dem am Wandabschnitt305b der Formstruktur305 angebrachtem Deckel317 ist der Hohlraum315 hermetisch abgedichtet, um den Chip307 vor mechanischen oder chemisch schädlichen Umgebungen zu schützen. - In den
4A und4B ist nicht gezeigt, dass der Chip307 mit einer gelartigen Substanz bedeckt sein kann. Wegen der weichen Konsistenz eines Gels kann ein Gel dazu verwendet werden, die empfindliche Oberfläche des Chips zu schützen, ohne für die Chipoberfläche einen Stress zu verursachen. Ein Gel kann beispielsweise verwendet werden, wenn die empfindliche Membran eines Siliziummikrophons oder eines Silizium-Drucksensors geschützt wird. - Wenngleich hierin spezifische Ausführungsformen dargestellt und beschrieben worden sind, versteht der Durchschnittsfachmann, dass eine Vielzahl alternativer und/oder äquivalenter Implementierungen für die gezeigten und beschriebenen spezifischen Ausführungsformen substituiert werden können, ohne von dem Schutzbereich der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
- Während die hierin dargestellten Ausführungsformen beispielsweise mehrere separate Zuleitungen mit drei oder sechs separaten Zuleitungen offenbaren, können Halbleiterbauelemente zwei, vier, fünf, sieben, zehn oder sogar Hunderte von separaten Zuleitungen aufweisen, ohne von dem Schutzbereich der Erfindung abzuweichen.
- Während weiterhin die hierin dargestellten Ausführungsformen Chips offenbaren, die sich über allen der mehreren separaten Zuleitungen befinden, liegt es durchaus innerhalb des Schutzbereichs der Erfindung, dass sich der Chip
7 nur über zweien oder einem Bruchteil der Gesamtzahl von separaten Zuleitungen befindet. - Weiterhin erwähnen die hierin dargestellten Ausführungsformen zwar, dass der Deckel den jeweiligen Hohlraum hermetisch abdichten soll, doch kann der Deckel je nach der Anwendung auch eine oder mehrere Öffnungen aufweisen. Wenn beispielsweise der Chip einen Drucksensor oder ein Mikrophon umfasst, kann der Deckel eine oder mehrere Öffnungen aufweisen, damit der Chip Zugang zu dem Umgebungsdruck oder den Schallwellen außerhalb des Hohlraums hat.
- Allgemein soll diese Anmeldung alle Adaptionen oder Variationen der hierin erörterten spezifischen Ausführungsformen abdecken. Ein Beispiel einer Variation ist eine Halbbrückenkonfiguration mit zwei Freilaufdioden, parallel jeweils zu dem ersten und zu dem zweiten Leistungstransistor geschaltet. Deshalb soll die vorliegende Erfindung nur durch die Ansprüche und die Äquivalente davon beschränkt werden.
Claims (8)
- Halbleiterbauelement (300), umfassend: eine Formstruktur (305), die einen Hohlraum (315) definiert, mehrere, in die Formstruktur (305) eingeformte separate Zuleitungen (303a, 303b, 303c), und einen in dem Hohlraum (315) an der Formstruktur (305) über mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) angebrachten Chip (307), wobei sich die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) in einem Überlappungsgebiet (3099) in einer Projektion orthogonal zu einer Chiphauptfläche zumindest teilweise mit dem Chip (307) überlappen, wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) derart nach oben gebogen sind, dass sie innerhalb des Hohlraums (315) an freiliegenden Abschnitten an der Formstruktur (305) freiliegen, wobei der Chip (307) mittels verbindender Elemente (319) mit den freiliegenden Abschnitten der mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) elektrisch verbunden ist, wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) an gegenüberliegenden Seiten aus der Formstruktur (305) herausragen, wobei die Formstruktur (305) eine ausgeformte erste Isolierschicht (311) definiert, die den Chip (307) von den mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) trennt, und wobei der Chip (307) mit Hilfe eines Klebers (313) an der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angebracht ist und der Kleber (313) eine klebende zweite Isolierschicht bildet, die zwischen dem Chip (307) und der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angeordnet ist.
- Halbleiterbauelement (300) nach
Anspruch 1 , wobei die verbindenden Elemente (319) Bondrähte und/oder Bänder und/oder Clips sind. - Halbleiterbauelement (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Chip (307) einen Sensor umfasst.
- Halbleiterbauelement (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Chip (307) mit einer gelartigen Substanz bedeckt ist.
- Halbleiterbauelement (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Chip (307) über allen der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) angebracht ist.
- Halbleiterbauelement (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) zur Oberflächenmontage des Halbleiterbauelements (300) an einer Platine ausgebildet sind.
- Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements (300), umfassend: Bereitstellen von mehreren, in eine Formstruktur (305) eingeformten separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c), wobei die Formstruktur (305) einen Hohlraum (315) definiert; Anbringen eines Chips (307) an der Formstruktur (305) in dem Hohlraum (315) über mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c); und elektrisches Verbinden des Chips (307) mit den mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c), wobei sich die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) in einem Überlappungsgebiet (309) in einer Projektion orthogonal zu einer Chiphauptfläche zumindest teilweise mit dem Chip (307) überlappen, wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) derart nach oben gebogen sind, dass sie innerhalb des Hohlraums (315) an freiliegenden Abschnitten an der Formstruktur (305) freiliegen, wobei der Chip (307) mittels verbindender Elemente (319) mit den freiliegenden Abschnitten der mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) elektrisch verbunden wird, wobei die mindestens zwei der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) an gegenüberliegenden Seiten aus der Formstruktur (305) herausragen, wobei die Formstruktur (305) eine ausgeformte erste Isolierschicht (311) definiert, die den Chip (307) von den mindestens zweien der mehreren separaten Zuleitungen (303a, 303b, 303c) trennt, und wobei der Chip (307) mit Hilfe eines Klebers (313) an der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angebracht ist und der Kleber (313) eine klebende zweite Isolierschicht bildet, die zwischen dem Chip (307) und der ausgeformten ersten Isolierschicht (311) angeordnet ist.
- Verfahren nach
Anspruch 7 , wobei ein Gel auf dem Chip (307) aufgebracht wird.
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102589753B (zh) * | 2011-01-05 | 2016-05-04 | 飞思卡尔半导体公司 | 压力传感器及其封装方法 |
JP5441956B2 (ja) * | 2011-05-26 | 2014-03-12 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止形電子制御装置及びその製造方法 |
TW201330332A (zh) * | 2012-01-02 | 2013-07-16 | Lextar Electronics Corp | 固態發光元件及其固態發光封裝體 |
US20140377915A1 (en) * | 2013-06-20 | 2014-12-25 | Infineon Technologies Ag | Pre-mold for a magnet semiconductor assembly group and method of producing the same |
DE102014105861B4 (de) * | 2014-04-25 | 2015-11-05 | Infineon Technologies Ag | Sensorvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Sensorvorrichtung |
JP6406235B2 (ja) * | 2015-12-16 | 2018-10-17 | オムロン株式会社 | 電子装置及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030020147A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-01-30 | Rohm Co., Ltd. | Method of making leadframe by mechanical processing |
US6696753B2 (en) * | 2002-05-17 | 2004-02-24 | Denso Corporation | Enhancement of wire bondability in semiconductor device package |
US20070126916A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Altus Technology Inc. | Image sensor chip packaging method |
US20070251328A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-11-01 | Honeywell International Inc. | Force sensor package and method of forming same |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5683944A (en) * | 1995-09-01 | 1997-11-04 | Motorola, Inc. | Method of fabricating a thermally enhanced lead frame |
US6159764A (en) * | 1997-07-02 | 2000-12-12 | Micron Technology, Inc. | Varied-thickness heat sink for integrated circuit (IC) packages and method of fabricating IC packages |
US6215175B1 (en) * | 1998-07-06 | 2001-04-10 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor package having metal foil die mounting plate |
TW428295B (en) * | 1999-02-24 | 2001-04-01 | Matsushita Electronics Corp | Resin-sealing semiconductor device, the manufacturing method and the lead frame thereof |
TW518729B (en) * | 2001-09-04 | 2003-01-21 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Quad flat non-leaded semiconductor package structure and manufacturing process |
JP2004179253A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Nec Semiconductors Kyushu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
US7495325B2 (en) * | 2005-05-05 | 2009-02-24 | Stats Chippac, Ltd. | Optical die-down quad flat non-leaded package |
TWI306658B (en) * | 2006-08-07 | 2009-02-21 | Chipmos Technologies Inc | Leadframe on offset stacked chips package |
-
2008
- 2008-09-26 US US12/238,468 patent/US7868430B2/en active Active
-
2009
- 2009-09-24 DE DE102009042921.2A patent/DE102009042921B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030020147A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-01-30 | Rohm Co., Ltd. | Method of making leadframe by mechanical processing |
US6696753B2 (en) * | 2002-05-17 | 2004-02-24 | Denso Corporation | Enhancement of wire bondability in semiconductor device package |
US20070126916A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Altus Technology Inc. | Image sensor chip packaging method |
US20070251328A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-11-01 | Honeywell International Inc. | Force sensor package and method of forming same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7868430B2 (en) | 2011-01-11 |
US20100078796A1 (en) | 2010-04-01 |
DE102009042921A1 (de) | 2010-04-29 |
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