DE102009032697B3 - Mehrschichtkörper - Google Patents

Mehrschichtkörper Download PDF

Info

Publication number
DE102009032697B3
DE102009032697B3 DE102009032697A DE102009032697A DE102009032697B3 DE 102009032697 B3 DE102009032697 B3 DE 102009032697B3 DE 102009032697 A DE102009032697 A DE 102009032697A DE 102009032697 A DE102009032697 A DE 102009032697A DE 102009032697 B3 DE102009032697 B3 DE 102009032697B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
area
zones
grid
microstructure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102009032697A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102009032697C5 (de
Inventor
Andreas Dr. Schilling
Wayne Robert Dr. Tompkin
Achim Dr. Hansen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OVD Kinegram AG
Original Assignee
OVD Kinegram AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=42665042&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE102009032697(B3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by OVD Kinegram AG filed Critical OVD Kinegram AG
Priority to DE102009032697.9A priority Critical patent/DE102009032697C5/de
Priority to CN201080036021.9A priority patent/CN102725148B/zh
Priority to PCT/EP2010/004057 priority patent/WO2011003558A1/de
Priority to EP10728614.8A priority patent/EP2451650B2/de
Priority to MX2012000307A priority patent/MX2012000307A/es
Priority to CA2767389A priority patent/CA2767389C/en
Priority to AU2010268786A priority patent/AU2010268786B2/en
Priority to JP2012518801A priority patent/JP5674781B2/ja
Priority to US13/382,453 priority patent/US9770934B2/en
Priority to RU2012104541/12A priority patent/RU2540389C2/ru
Priority to TW099122124A priority patent/TWI525004B/zh
Publication of DE102009032697B3 publication Critical patent/DE102009032697B3/de
Publication of DE102009032697C5 publication Critical patent/DE102009032697C5/de
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328Diffraction gratings; Holograms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/21Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose for multiple purposes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29Securities; Bank notes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/351Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0037Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0056Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1861Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
    • B42D2035/20
    • B42D2035/44

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Finance (AREA)
  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Mehrschichtkörper (1) mit einer ersten Schicht (13) mit einer Vielzahl von opaken und/oder reflektiven ersten Zonen (21), die jeweils durch ein oder mehrere transparente zweite Zonen (22) voneinander getrennt sind. Die ersten Zonen (21) sind als Mikrobilder mit einer kleinsten Abmessung von weniger als 100 µm ausgeformt und gemäß eines Mikrobildrasters mit einer Beabstandung benachbarter Mikrobilder in einer ersten Raumrichtung von weniger als 300 µm angeordnet. Der Mehrschichtkörper weist eine unterhalb der ersten Schicht (13) angeordneten zweite Schicht (14) aus einem transparenten Material, und eine unterhalb der zweiten Schicht (14) angeordneten Reflexionsschicht (15) auf. Die zweite Schicht (14) weist eine Vielzahl von dritten Zonen (23) auf, in denen jeweils eine Mikrostruktur (17) in die von der ersten Schicht abgewandte Grenzfläche der zweiten Schicht (14) zur Reflexionsschicht abgeformt ist, die mit der Reflexionsschicht (15) belegt ist. Jede der Mikrostrukturen (17) ist so ausgestaltet, dass sie senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht aufgespannte Ebene aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone (23) einfallendes Licht auf einen Bereich der ersten Schicht rückreflekiert und/oder rückbeugt, dessen Fläche um mindestens den Faktor 10 kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone (23) ist. Die Mikrostrukturen (17) sind gemäß einem Mikrostrukturraster mit einer Beabstandung benachbarter ...

Description

  • Die Erfindung betrifft einen Mehrschichtkörper, insbesondere ein mehrschichtiges Sicherheitselement zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten oder Verpackungen oder Waren.
  • Sicherheitsdokumente werden zur Absicherung häufig mit Sicherheitselementen versehen, die eine Überprüfung der Echtheit des Sicherheitsdokuments ermöglichen und einen Schutz gegenüber einer Nachbildung des Sicherheitsdokuments bieten. Hierbei ist es bekannt, als Sicherheitselemente mehrschichtige Folienelemente einzusetzen, welche auf das Trägersubstrat des Sicherheitsdokuments appliziert werden und optisch variable Effekte zeigen. So offenbart beispielsweise die EP 0 330 733 A1 oder die EP 0 064 067 A1 derartige Folienelemente, welche beugungsoptische Strukturen aufweisen, die für die Generierung des optisch variablen Effekts verantwortlich sind. Nachteilig ist hier jedoch, dass Sicherheitselemente, die auf derartigen Strukturen beruhen, in großer Zahl in Umlauf sind und somit die durch derartige Strukturen erzielbaren optisch variablen Effekte vielfach verwendet werden.
  • Der Erfindung liegt nun die Aufgabenstellung zugrunde, einen verbesserten Mehrschichtkörper bereitzustellen, der neuartige optisch variable Effekte zeigt.
  • Diese Aufgabe wird von einem Mehrschichtkörper gelöst, welcher eine erste Schicht mit einer Vielzahl von opaken und/oder reflektiven ersten Zonen aufweist, die jeweils durch ein oder mehrere transparente zweite Zonen voneinander getrennt sind, wobei die ersten Zonen als Mikrobilder mit einer kleinsten Abmessung von weniger als 100 μm ausgeformt sind und gemäß eines Mikrobildrasters mit einer Beabstandung benachbarter Mikrobilder in einer ersten Raumrichtung von weniger als 300 μm angeordnet sind und wobei durch das Mikrobildraster ein erstes Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse x1 und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse y1 aufgespannt wird, welcher eine unterhalb der ersten Schicht angeordnete zweite Schicht aus einem transparenten Material und eine unterhalb der zweiten Schicht angeordnete Reflexionsschicht aufweist, wobei die zweite Schicht eine Vielzahl dritter Zonen aufweist, in denen jeweils eine Mikrostruktur in die von der ersten Schicht abgewandte Grenzfläche der zweiten Schicht zur Reflexionsschicht abgeformt ist, die mit der Reflexionsschicht belegt ist, wobei jede der Mikrostrukturen so ausgestaltet ist, dass die senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht aufgespannten Ebene aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone einfallende Licht auf einen Bereich der ersten Schicht rückreflektiert und/oder rückbeugt, dessen Fläche um mindestens einen Faktor 10 kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone ist, wobei die Mikrostrukturen gemäß einem Mikrostrukturraster mit einer Beabstandung benachbarter Mikrostrukturen in einer zweiten Raumrichtung von weniger als 300 μm angeordnet sind, durch welches ein zweites Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse x2 und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse y2 aufgespannt ist, und wobei in einem ersten Bereich des Mehrschichtkörpers die Mikrobilder des Mikrobildrasters und die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters sich überlagernd in fester Lage zueinander angeordnet sind und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter dritter Zonen bestimmte Mikrostrukturabstand und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter erster Zonen bestimmte Mikrobildabstand sich voneinander in zumindest einer dritten Raumrichtung im ersten Bereich um nicht mehr als 10% unterscheidet.
  • Durch die Erfindung wird ein Mehrschichtkörper mit einem neuartigen optisch variablen Effekt bereitgestellt. Es hat sich überraschenderweise gezeigt, dass durch Wahl der oben angegebenen Abmessungen und der Verwendung der oben angegebenen, speziellen Mikrostrukturen abhängig vom Betrachtungswinkel unterschiedliche Teilbereich der jeweiligen Mikrobilder sichtbar werden und sich aufgrund der oben beschriebenen Gestaltung des Mikrostrukturrasters und der relativen Anordnung des Mikrostrukturrasters und des Mikrobildrasters der in benachbarten Zonen generierte optisch variable Eindruck für den menschlichen Betrachter miteinander verschmilzt und somit ein dreidimensionaler, optisch variabler Bildeindruck oder ein optisch variabler Bildeindruck mit Tiefenwirkung von hoher Brillanz sichtbar wird. Weiter zeichnet sich der erfindungsgemäße Mehrschichtkörper dadurch aus, dass er einen sehr hohen Schutz gegenüber Nachahmung und Nachbildung aufweist. So kann das Sicherheitselement weder durch holographische Kopiertechniken noch durch mechanisches Abformen von an der Oberfläche des Mehrschichtkörpers vorhandenen Oberflächenstrukturen kopiert werden.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen bezeichnet.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung beträgt im ersten Bereich der Flächenanteil der ersten Zonen an der Gesamtfläche der ersten und zweiten Zonen zwischen 40 und 2%, insbesondere zwischen 20 und 10%.
  • Hierdurch wird der Vorteil erzielt, dass der optisch variable Effekt des Mehrschichtkörpers besonders prägnant und lichtstark zur Geltung kommt.
  • Weiter ist es vorteilhaft, dass im ersten Bereich die von den ersten Zonen belegte Fläche mindestens um den Faktor 4 kleiner, insbesondere um den Faktor 10 bis 20 kleiner als die von der dritten Zone belegte Fläche ist. Weiter ist es vorteilhaft, wenn die von den ersten Zonen belegte Fläche um nicht mehr als den Faktor 50 kleiner als die von den dritten Zonen belegte Fläche ist. Weiter ist es vorteilhaft, wenn im ersten Bereich die von jeder der ersten Zonen belegte Fläche jeweils um die vorgenannten Faktoren kleiner als die von der jeweilig zugeordneten dritten Zone belegte Fläche ist. Durch diese Maßnahmen wird ebenfalls erreicht, dass der von dem Mehrschichtkörper generierte optisch variable Effekt besonders lichtstark und prägnant in Erscheinung tritt.
  • Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der zweiten Schicht zwischen 5 μm und 150 μm und/oder ist die Reflexionsschicht von der ersten Schicht zwischen 5 μm und 150 μm im ersten Bereich beabstandet. Der mittlere Abstand zwischen der ersten Schicht und der Reflexionsschicht beträgt hierbei im ersten Bereich vorzugsweise zwischen 15 μm und 75 μm. Untersuchungen haben gezeigt, dass bei einer derartigen Beabstandung der den optisch variablen Effekt generierenden Schichten eine besonders prägnante Blickwinkelabhängigkeit des optisch variablen Effekts erreicht wird.
  • Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung werden die Mikrostrukturen jeweils so ausgebildet und/oder die Schichtdicke der zweiten Schicht so gewählt, dass die Mikrostrukturen senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht aufgespannten Ebene aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone einfallendes Licht auf einen Bereich der ersten Schicht rückreflektiert und/oder rückbeugt, dessen Fläche um einen Faktor im Bereich von 10 bis 10.000 kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone ist. Entspricht die Breite oder Länge des Bereichs, auf den das Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, im Wesentlichen der Breite bzw. Länge der jeweiligen dritten Zone, so wird der vorgenannte Faktor vorzugsweise aus dem Bereich 10 bis 200, weiter bevorzugt aus dem Bereich 15 bis 30 ausgewählt. Ist der Bereich, auf den das Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird in zwei unterschiedlichen Richtungen, insbesondere in zwei senkrecht aufeinander stehenden Richtungen in seinen Abmessungen gegenüber den Abmessungen in den entsprechenden Richtungen der jeweiligen dritten Zonen verringert, so wird der vorgenannte Faktor vorzugsweise aus dem Bereich 50 bis 10.000, weiter bevorzugt aus dem Bereich 150 bis 2.500 ausgewählt. Vorzugsweise wird dieser Faktor weiter so gewählt, dass die Fläche, auf die das einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, um den Faktor 50 kleiner als die Fläche der jeweils zugeordneten ersten Zone ist. Durch eine derartige Auslegung der Mikrostrukturen, insbesondere in Bezug auf die Schichtdicke der zweiten Schicht wird ein besonders konturscharfer und lichtstarker optisch variabler Effekt durch den Mehrschichtkörper generiert.
  • Vorzugsweise sind die dritten Zonen in Form eines Vielecks, insbesondere in Form eines Rechtecks ausgeformt. Es ist jedoch auch möglich, dass die dritten Zonen eine runde oder ellipsenförmige Außenkontur besitzen. Besonders vorteilhaft ist eine dreieck-, viereck- oder achteckförmige Formgebung der dritten Zonen, da hierdurch ein nahtloser Übergang zwischen benachbarten dritten Zonen und damit eine besonders lichtstarke Ausbildung des optisch variablen Effekts erzielt werden kann.
  • Die Mikrostrukturen sind gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung als diffraktive Strukturen ausgebildet, insbesondere als diffraktive Strukturen mit einer Spatialfrequenz von mehr als 300 Linien/mm, weiter bevorzugt von mehr als 1000 Linien/mm ausgebildet.
  • Die Mikrostrukturen können als diffraktive oder refraktive Mikrostrukturen ausgebildet sein. Es kann sich hierbei insbesondere um Linear- oder Kreuzgitter im Linienzahlbereich von 100 Linien/mm bis 4.000 Linien/mm handeln. Weiter kann es sich um isotrope oder anisotrope Mattstrukturen, Kinoformstrukturen, Blazegitter oder um eine Kombination der vorgenannten Strukturen handeln.
  • Die Reliefform und Spatialfrequenz der Mikrostruktur ist hierbei innerhalb des Bereichs der jeweiligen dritten Zone unterschiedlich gewählt, sodass das auf die dritte Zone einfallende Licht in verschiedenen Bereichen der dritten Zone unterschiedlich rückgebeugt wird und somit – wie oben bereits beschrieben – das von der Mikrostruktur auf der ersten Schicht rückgebeugte Licht eine Fläche einnimmt, die mindestens um den Faktor 10 kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone ist.
  • Vorzugsweise besitzt der Bereich, auf den das Licht durch die Mikrostruktur rückgebeugt wird, die Formgebung der jeweiligen dritten Zone und der Flächenschwerpunkt dieses Bereichs deckt sich mit dem Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zone. Es ist jedoch auch möglich, dass sich die Formgebung dieses Bereichs von der Formgebung der jeweiligen dritten Zone unterscheidet und auch die Flächenschwerpunkte des Bereichs und der jeweiligen dritten Zone sich nicht überdecken.
  • Die Mikrostrukturen können beispielsweise als Kinoform ausgebildet werden, welches über die oben beschriebene Beugungscharakteristik verfügt. Gemäß eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung wird die Spatialfrequenz der Mikrostruktur und/oder die Flankenneigung einer Flanke der Mikrostruktur im Bereich der dritten Zone variiert, um so durch die ortsabhängig unterschiedliche Beugung des einfallenden Lichts den oben beschriebenen Effekt zu erzielen. So wird beispielsweise die Spatialfrequenz der Mikrostruktur so gewählt, dass diese im Bereich des Flächenschwerpunkts der jeweiligen dritten Zone eine Frequenz von 0 Linien/mm bis 10 Linien/mm besitzt und sich die Spatialfrequenz der Mikrostruktur ausgehend von dem Flächenschwerpunkt in zumindest eine Raumrichtung erhöht, beispielsweise linear oder quadratisch erhöht. Weiter ist es auch möglich, dass die Mikrostruktur im Bereich des Flächenschwerpunkts in einer Richtung unmoduliert ist, d. h. keine Spatialfrequenz besitzt, oder moduliert ist und eine Spatialfrequenz zwischen 0,05 Linien/mm bis 10 Linien/mm besitzt.
  • Weiter kann beispielsweise die Flankenneigung der zum Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zone orientierten Flanke der Strukturelemente der Mikrostruktur ausgehend von dem Flächenschwerpunkt in zumindest einer Raumrichtung erhöhten werden, d. h. das diese Flanke in den Randbereichen der dritten Zone besonders steil und in dem zentralen Bereich der dritten Zone besonders flach ist. Diese Maßnahmen können auch miteinander kombiniert werden und es ist auch möglich, dass das Minimum der Flankenneigung/Spatialfrequenz nicht im Bereich des Flächenschwerpunkts, sondern auch in einem Randbereich der dritten Zone liegt.
  • Als Mikrostruktur kann beispielsweise eine durch folgende 1D-Phasenfunktion definierte Mikrostruktur verwendet werden:
    Figure 00070001
  • Ph:
    Phasenfunktion
    wl:
    Designwellenlänge
    fl:
    Fokuslänge
    x:
    Orts-Koordinate
  • Die Linienzahlverteilung ergibt sich aus der Phasenfunktion durch Ableitung nach der Ortskoordinate.
  • Weiter ist es auch möglich, dass es sich bei den Mikrostrukturen um ein Blaze-Gitter mit im Wesentlichen dreieckförmigen Strukturelementen handelt. Hierbei ist vorteilhafter Weise vorgesehen, dass in einem ersten Bereich der dritten Zone und in einem zweiten Bereich der dritten Zone die Strukturelemente des Blaze-Gitters um 180° zueinander verdrehen angeordnet sind, d. h. die geneigten Flächen der Strukturelemente einander zugewandt sind. Vorzugsweise ist die erste Zone hierbei in zwei etwa gleich große Teilbereiche durch eine Trennlinie geteilt, welche durch den Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zonen läuft, wobei in dem einen Teilbereich und in dem anderen Teilbereich die Strukturelemente um 180° gegeneinander verdreht angeordnet sind. Weiter ist es auch möglich, dass der Azimuthwinkel des Blaze-Gitters kontinuierlich variiert. So ist es beispielsweise möglich, dass ein Blaze-Gitter verwendet wird, welches ausgehend von dem Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zone in sämtliche Raumrichtungen eine konstante Spatialfrequenz aufweist, sodass die Strukturelemente jeweils eine kreisringförmige Form in der von dem Mehrschichtkörper aufgespannten Fläche aufweisen.
  • Weiter ist es auch möglich, dass die Mikrostruktur ein im Wesentlichen durch Reflektion wirkende Struktur ist. Um die gewünschten, ortsabhängig unterschiedlichen Reflektionseigenschaften der Mikrostruktur im jeweiligen dritten Bereich zu erzielen, ist die Mikrostruktur hierbei vorzugsweise so ausgeformt, dass sich die lokale Strukturtiefe der Mikrostruktur, d. h. die lokale Schichtdicke der Replizierlackschicht, nach Abformung der Mikrostruktur vorzugsweise ausgehend von dem Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zone in zumindest eine Raumrichtung erniedrigt. Beispielsweise wird hierbei die Strukturtiefe der Mikrostruktur wie folgt gewählt:
    Figure 00090001
  • H:
    Strukturtiefe
    R:
    Krümmungsradius
    X:
    Orts-Koordinate
  • Die Funktion H(x) beschreibt hierbei die Strukturtiefe in jeweils einer der dritten Zonen, d. h. eine Periode der in der zweiten Schicht abgeformten Mikrostruktur.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung ist jede der dritten Zonen im ersten Bereich von einer oder mehreren vierten Zonen umgeben, in denen die Reflektionsschicht nicht vorgesehen ist. Hierdurch wird es möglich, den Mehrschichtkörper mit einem zusätzlichen, in Transmission wirkenden Sicherheitsmerkmal zu versehen. Vorzugsweise ist hierzu der Mehrschichtkörper im Bereich der vierten Zone transparent ausgebildet. Bei entsprechender Wahl der vierten Zonen ist es weiter auch möglich, dass der optisch variable Effekt des Mehrschichtkörpers nicht nur in Auflichtbetrachtung, sondern auch in Durchlichtbetrachtung sichtbar wird. Hierbei ist es weiter vorteilhaft, im Bereich der vierten Zone weitere Mikrostrukturen vorzusehen, welche das im Bereich der vierten Zone von der Unterseite des Mehrschichtkörpers einfallende Licht streuen und/oder in Richtung der dritten Zonen ablenken.
  • Weiter ist es auch möglich, dass die Reflektionsschicht in den dritten Zonen und/oder in den vierten Zonen als transparente Reflektionsschicht ausgeführt ist. Die Reflektionsschicht kann hierzu beispielsweise aus einer transparenten metallischen Schicht oder mikrostrukturierten metallischen Schicht oder auch aus einer dielektrischen Schicht mit einem hohen Brechungsindex bestehen, beispielsweise als HRI-Schicht ausgestaltet sein (HRI = High Refraction Index). Bei geeigneter Parameterwahl dieser transparenten Reflektionsschicht kann das im Wesentlichen gleiche optische Merkmal sowohl in Transmission als auch in Reflektion betrachtet werden.
  • Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, dass die erste Schicht von einer Metallschicht gebildet wird, wobei das Metall der Metallschicht in den ersten Zonen vorgesehen und in den zweiten Zonen nicht vorgesehen ist.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung ist in der zur zweiten Schicht orientierten unteren Grenzfläche der ersten Schicht in den ersten Zonen eine erste diffraktive Oberflächenstruktur abgeformt. Bei der ersten diffraktiven Oberflächenstruktur handelt es sich beispielsweise um ein Hologramm oder Kinegram®, welches beispielsweise blickwinkelabhängig unterschiedliche Motive oder Bewegungseffekte zeigt. Weiter ist es auch möglich, dass es sich bei der diffraktiven Oberflächenstruktur um eine Beugungsstruktur nullter Ordnung, um ein einfaches Beugungsgitter oder um eine Mattstruktur handelt. Durch eine derartige Ausgestaltung lassen sich interessante optisch variable Effekte generieren, welche aus der Überlagerung des durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung des Mehrschichtkörpers bewirkten optisch variablen Effekts mit dem durch die erste diffraktive Oberflächenstruktur bewirkten optisch variablen Effekt erzielt werden. Ein zusätzlicher Schutz gegenüber Kopierung und Nachahmung wird hierbei dadurch erzielt, dass die erste diffraktive Oberflächenstruktur der zweiten Schicht zugewandt ist und somit dessen optische Wirkung nur indirekt über die Mikrostrukturen dem Betracht vermittelt wird, was die Reproduzierung der ersten diffraktiven Oberflächenstruktur sehr erschwert.
  • Vorteilhaft ist hierbei weiter, wenn die Bereiche der ersten Zonen in denen die erste diffraktive Oberflächenstruktur abgeformt ist, auf ihrer von der zweiten Schicht abgewandten Seite mit einer Abdeckschicht versehen sind, welche verhindert, dass die optisch variable Wirkung der ersten diffraktiven Oberflächenstruktur von der Oberseite des Mehrschichtkörpers direkt sichtbar ist.
  • Gemäß eines weiter bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung ist in den zweiten Zonen eine zweite diffraktive Oberflächenstruktur abgeformt, die sich von der ersten diffraktiven Oberflächenstruktur unterscheidet. Bei dieser in Transmission wirkenden Oberflächenstrukturen handelt es sich bevorzugt um eine Oberflächenstruktur, welche das einfallende Licht in einer speziellen Winkellage auf die dritten Zonen ablenkt oder welche einen optisch variablen Effekt generiert, welcher als Hintergrund für den durch den erfindungsgemäßen Mehrschichtkörper generierten optisch variablen Effekt wirkt.
  • Die erste Schicht kann beispielsweise aus einer Metallschicht, aus Schichten unterschiedlicher Metalle, aus einer Schicht bestehend aus einer Druckfarbe, aus einer eingefärbten Photoresistschicht (negativer/positiver Photoresist), aus einem Dünnschichtsystem oder einer Kombination solcher Schichten bestehen. Eine metallische Schicht besteht hierbei vorzugsweise aus Al, Ag, Cu, Au, Chrom oder einer Legierung mit solchen Metallen.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung besteht die erste Schicht aus zwei oder mehreren übereinander angeordneten Teilschichten. Bei diesen Teilschichten handelt es sich insbesondere um Schichten, die aus der Gruppe: Metallschicht, HRI-Schicht (HRI = High Refraction Index), Replizierlackschicht und Farbschicht ausgewählt sind. So ist es beispielsweise möglich, dass die erste Schicht aus der Abfolge einer Farblackschicht, einer Replizierlackschicht mit abgeformter erster diffraktiver Oberflächenstruktur und einer Metallschicht besteht, die in den ersten Zonen vorgesehen und in den zweiten Zonen nicht vorgesehen ist.
  • Vorzugsweise ist in die von der zweiten Schicht abgekehrten Oberfläche der ersten Schicht oder einer Teilschicht der ersten Schicht in den ersten Zonen eine dritte diffraktive Oberflächenstruktur abgeformt. Die zweite Schicht ist weitervorzugsweise so ausgestaltet, dass der optische Effekt der dritten diffraktiven Oberflächenstruktur nur auf das auf die Oberseite der ersten Schicht fallende Licht wirkt, nicht jedoch auf das auf die Unterseite der ersten Schicht fallende Licht wirkt. Dies kann beispielsweise dadurch erzielt werden, dass unterhalb der diffraktiven Oberflächenstruktur eine Abdeckschicht, insbesondere eine metallische Schicht vorgesehen ist, oder das unterschiedliche Oberflächenstrukturen in die obere und die untere Grenzfläche der ersten Schicht abgeformt sind, beispielsweise die dritte Oberflächenstruktur in die obere Grenzfläche und die erste Oberflächenstruktur in die untere Grenzfläche der ersten Schicht zu den benachbarten Schichten abgeformt sind.
  • Durch eine derartige Ausgestaltung des Mehrschichtkörpers lassen sich weitere interessante optisch variable Effekte erzielen, wobei beispielsweise der durch die dritte diffraktive Oberflächenstruktur generierte optisch variable Effekt als Hintergrund für den neuartigen, durch den erfindungsgemäßen Mehrschichtkörper generierten optisch variablen Effekt wirkt.
  • Im Weiteren haben Untersuchungen überraschenderweise gezeigt, dass durch eine spezielle Ausgestaltung der dritten Oberflächenstruktur die Kontraststärke des neuartigen optisch variablen Effekts weiter verbessert werden kann. Wird als dritte Oberflächenstruktur eine Oberflächenstruktur mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der Strukturelemente von mehr als 0,5 und einer Spatialfrequenz von mehr als 2.000 Linien/mm gewählt, so kann eine Verbesserung des Kontrasts erzielt werden.
  • Weiter hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, dass eine vierte Schicht zwischen der ersten und zweiten Schicht vorgesehen ist, die transluzent ist oder eingefärbt ist.
  • Die Reflektionsschicht, mit der die Mikrostrukturen belegt sind, besteht vorzugsweise aus einer opaken Reflektionsschicht, beispielsweise einer Metallschicht. Es ist jedoch auch möglich, dass die Reflektionsschicht von einer transparenten Reflektionsschicht, beispielsweise von einer dielektrischen Schicht, beispielsweise einer HRI-Schicht (HRI = High Refraction Index), einer sehr dünnen und damit transparenten Metallschicht oder einer mikrostrukturierten Metallschicht gebildet wird. Weiter ist es auch möglich, dass in den vierten Zonen die Reflektionsschicht nicht vorgesehen ist oder dass die zweite Schicht Bereiche aufweist, in denen die Reflektionsschicht über unterschiedlich Reflektions- oder Transmissionseigenschaften verfügt. So ist es beispielsweise möglich, dass die zweite Schicht bereichsweise mit einer transparenten Reflektionsschicht und teilweise mit einer opaken Reflektionsschicht belegt ist. Hierbei ist die Flächenbelegung mit der transparenten Reflektionsschicht so zu wählen, dass mindestens 20% der Fläche mit einer opaken Reflektionsschicht belegt ist.
  • Es ist jedoch auch möglich, dass die gesamte zweite Schicht mit einer transparenten Reflektionsschicht belegt ist, um so beispielsweise unterhalb des generierten optisch variablen Effekts noch optisch variable Effekte von unter der Reflektionsschicht angeordneten Schichten, beispielsweise eines auf dem Zielsubstrat aufgebrachten Aufdrucks sichtbar zu machen.
  • Als opak wird hier eine Schicht betrachtet, welche eine Transmissivität von weniger als 1% besitzt. Als transparent wird eine Schicht betrachtet, welche eine Transmissivität von mindestens 50% besitzt. Die Transmissivitätsangaben beziehen sich hierbei vorzugsweise auf den Wellenlängenbereich, welcher für den menschlichen Betrachter sichtbar ist.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung sind die Koordinatenachsen y1 und die Koordinatenachse y2 sowie die Koordinatenachse x1 und die Koordinatenachse x2 in dem ersten Bereich jeweils parallel zueinander ausgerichtet. Parallel zueinander ausgerichtet bedeutet hierbei, dass die erste und die zweite Schicht im Rahmen der Fertigungstoleranz so zueinander ausgerichtet sind, dass die Koordinatenachsen y1 und y2 beziehungsweise x1 und x2 im Rahmen der Fertigungstoleranzen parallel zueinander verlaufen. Weiter ist im ersten Bereich der Mikrostrukturabstand und der Mikrobildabstand benachbarter Mikrostrukturen und Mikrobilder in Richtung zumindest einer Koordinatenachse so gewählt, dass sich der Mikrostrukturabstand und der Mikrobildabstand zwischen 0,5 und 10% voneinander unterscheiden.
  • Weiter ist es auch möglich, dass die Koordinatenachse y1 und die Koordinatenachse y2 sowie die Koordinatenachse x1 und die Koordinatenachse x2 im ersten Bereich jeweils einen Winkel zwischen 0,01° und 5° einschließen. Hierbei wird der Mikrostrukturabstand und der Mikrobildabstand benachbarter Mikrostrukturen und Mikrobilder bevorzugt identisch gewählt. Weiter ist es auch möglich, den Mikrostrukturabstand und Mikrobildabstand unterschiedlich zu wählen, insbesondere in dem vorgenannten Bereich zu wählen.
  • Bei einer derartigen Ausgestaltung des Mehrschichtkörpers lassen sich beim Kippen des Mehrschichtkörpers interessante Bewegungseffekte erzielen.
  • Die erste und zweite Raumrichtung entspricht vorzugsweise der Richtung der Koordinatenachse x1 oder y1 bzw. x2 oder y2.
  • Das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster kann im ersten Bereich als ein dimensionales Raster ausgebildet sein, d. h. das lediglich in eine Raumrichtung, in der ersten bzw. zweiten Raumrichtung, Mikrobilder bzw. Mikrostrukturen aufeinander folgen. Es ist jedoch auch möglich, dass das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster im ersten Bereich ein zweidimensionales Raster ausbilden, d. h. das Mikrobilder bzw. Mikrostrukturen in zwei Raumrichtungen aufeinander abfolgen und so beispielsweise in Richtung der Koordinatenachse y1 bzw. y2 und in Richtung der Koordinatenachse x1 bzw. x2 Mikrobilder bzw. Mikrostrukturen aufeinander abfolgen.
  • Der Rasterabstand des Mikrobildrasters und/oder des Mikrostrukturrasters ist gemäß einer Ausführungsform der Erfindung im ersten Bereich konstant gewählt, d. h. das der Mikrobildabstand in Richtung der Koordinatenachse x1 einen ersten konstanten Wert r1, der Mikrobildabstand in Richtung der Koordinatenachse y1 (beim zweidimensionalen Raster) einen konstanten Wert r2 besitzt (welcher jedoch von dem Wert r1 unterschiedlich sein kann) und/oder dass der Mikrostrukturabstand in Richtung der x2-Achse einen Wert r3 und der Mikrostrukturabstand in Richtung der y2-Achse einen konstanten Wert r4 (der unterschiedlich vom Wert r3 sein kann) besitzt.
  • Komplexe Bewegungseffekte lassen sich dadurch erzielen, dass der Rasterabstand des Mikrobildrasters und/oder des Mikrostrukturrasters sich im ersten Bereich in zumindest eine Raumrichtung ändert, beispielsweise stetig ändert. So wurden beispielsweise besonders interessante Bewegungseffekte bei einer Ausgestaltung des Mehrschichtkörpers beobachtet, bei der die Rasterabstände der Mikrobilder und/oder Mikrostrukturen in dem ersten Bereich in Richtung der Koordinatenachse x1 bzw. x2 konstant sind und die Rasterabstände der Mikrobilder beziehungsweise Mikrostrukturen in Richtung der Koordinatenachse x1 bzw. x2 in Abhängigkeit von der durch die Koordinatenachse y1 bzw. y2 bestimmte Koordinate y und/oder der durch die Koordinatenachse x1 bzw. x2 bestimmte Koordinate x gemäß einer Funktion F(x, y) variieren.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Längsachse der Mikrobilder gegenüber der Querachse der Mikrobilder durch eine Transformationsfunktion gestreckt, vorzugsweise um mehr als das zehnfache gestreckt. Vorzugsweise werden derart verzerrte Mikrobilder in Kombination mit dritten Zonen verwendet, die eine Breite von weniger als 300 μm und eine Länge von mehr als 300 μm, insbesondere eine Länge zwischen 2 mm und 100 mm aufweisen. Derartige Mehrschichtkörper zeichnen sich dadurch aus, dass die sich bei Betrachtung zeigende optisch variable Information sich deutlich von der Formgestaltung der ersten Zonen unterscheidet und damit die Nachahmung des durch den Mehrschichtkörper generierten optisch variablen Effekts weiter erschwert ist.
  • Die Mikrobilder des Mikrobildrasters können im ersten Bereich von identischen Mikrobildern gebildet werden. Komplexe Bewegungs-, Vergrößerungs- und Verkleinerungseffekte bei Kippen des Mehrschichtkörpers können dadurch generiert werden, dass die Mikrobilder des Mikrobildrasters in dem ersten Bereich von Mikrobildern gebildet sind, welche durch eine geometrische Transformation eines Grundbildes umfassend Drehung und/oder Vergrößerung oder Verkleinerung des Grundbilds und optionaler anschließender Verzerrung gemäß einer Transformationsfunktion gebildet sind. Weiter ist es auch möglich, dass ein erstes Grundbild über eine vorgegebene Bewegungsbahn durch eine geometrische Transformation in ein zweites Grundbild übergeht und dass sich so beispielsweise die jeweils benachbarten Mikrobilder geringfügig unterscheiden, gemäß der gewählten geometrischen Transformation.
  • Die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters in dem ersten Bereich werden vorzugsweise von identischen Mikrostrukturen gebildet. Zur Erzielung komplexer Bewegung-, Vergrößerungs- und Verkleinerungseffekte beim Kippen des Mehrschichtkörpers ist es jedoch auch möglich, dass sich zumindest zwei Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im ersten Bereich voneinander unterscheiden. Besonders vorteilhaft ist es hierbei, wenn sich die Bereiche der ersten Schicht, auf die das aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, in ihrer Fläche, Breite und/oder Länge gemäß einer Transformationsfunktion in Abhängigkeit von der Koordinate auf der x2- und/oder y2-Koordinatenachse ändern.
  • Als Transformationsfunktionen werden hierbei vorzugsweise eine abschnittsweise stetige und differenzierbare Funktion mit einer Beabstandung der Maxima von mehr als 300 μm gewählt.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung wird das erste und/oder zweite Koordinatensystem von einem Koordinatensystem mit kreis- oder schlangenlinienförmigen Koordinatenachsen gebildet. Hierdurch wird eine Nachbildung oder Nachahmung der von dem Mehrschichtkörper generierten optisch variablen Effekte weiter erschwert.
  • Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, dass der erste Bereich eine kleinste Flächenermessung von mehr als 300 μm besitzt, insbesondere eine kleinste Flächenabmessung von mehr als 3 mm besitzt.
  • Gemäß eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung weist der Mehrschichtkörper einen neben dem ersten Bereich angeordneten zweiten Bereich auf, der wie folgt ausgebildet ist. In dem zweiten Bereich sind die Mikrobilder des Mikrobildrasters und die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters ebenfalls in fester Lage zueinander angeordnet und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter dritter Zonen bestimmte Mikrostrukturabstand und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarten ersten Zone bestimmte Mikrobildabstand unterscheiden sich voneinander in zumindest einer dritten Raumrichtung im zweiten Bereich um nicht mehr als 10%. Weiter unterscheidet sich in dem zweiten Bereich das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster in einem oder mehreren Parameter, ausgewählt aus der Gruppe Mikrobildabstand, Mikrostrukturabstand, Ausrichtung der x1-, x2-, y1-, y2-Koordinatenachse und Verzerrung der Mikrobilder, gegenüber dem Mikrobildraster und/oder dem Mikrostrukturraster in dem ersten Bereich. Hierdurch wird erreicht, dass in dem ersten und zweiten Bereich unterschiedlich optisch variable Effekte generiert werden, wodurch ein besonders markantes und einprägsames Sicherheitsmerkmal von dem Mehrschichtkörper bereitgestellt wird. Neben dem zweiten Bereich kann der Mehrschichtkörper auch noch weitere Bereiche aufweisen, die wie der erste und zweite Bereich ausgebildet sind, sich jedoch in einem der vorgenannten Parameter des Mikrobildrasters und/oder des Mikrostrukturrasters von dem Mikrobildraster und/oder dem Mikrostrukturraster des ersten und zweiten Bereichs unterscheiden.
  • Der erste, zweite und weitere Bereich können hierbei auch jeweils eine spezielle Formgebung besitzen, durch die dem Betrachter eine spezielle weitere Information vermittelt wird, beispielsweise eine Formgebung in Form eines Symbols oder einer Zahlenfolge besitzen. Bezüglich der Ausgestaltung des zweiten Bereichs und der weiteren Bereiche wird auf obige Ausführung bezüglich der Ausgestaltung des ersten Bereichs verwiesen.
  • Besonders interessante, gegenläufige Bewegungseffekte lassen sich dadurch erzielen, dass in dem ersten Bereich die Differenz aus dem Mikrobildabstand und dem Mikrostrukturabstand positiv und in dem zweiten Bereich negativ ist. Weitere interessante optische Effekte lassen sich dadurch erzielen, dass die Mikrobilder des Mikrobildrasters in dem ersten Bereich und in dem zweiten Bereich sich voneinander unterscheiden oder das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster in Bezug auf eine der Koordinatenachsen zueinander einen Phasenversatz aufweisen. Weitere interessante optische Effekte lassen sich dadurch erzielen, dass die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im ersten Bereich sich von den Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im zweiten Bereich unterscheiden, insbesondere sich die Bereiche der ersten Schicht, auf die das aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, sich in ihrer Fläche, Breite und/oder Länge unterscheiden.
  • Vorzugsweise sind zwei oder mehr erste und zweite Bereiche abwechselnd nebeneinander angeordnet.
  • Gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels ist der Mehrschichtkörper ein Sicherheits- oder Wertdokument, insbesondere eine Banknote oder ein ID-Dokument oder ein Label für den Schutz von Waren, und weist so weiter auch ein Trägersubstrat auf. Das Trägersubstrat wird so beispielsweise von dem Papiersubstrat einer Banknote gebildet.
  • Als besonders vorteilhaft hat sich bei einer derartigen Ausbildung des Mehrschichtkörpers erwiesen, die erste und die zweite Schicht auf gegenüberliegenden Seiten des Trägersubstrats anzuordnen. So ist es beispielsweise gemäß eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung möglich, dass auf eine erste Seite eines transparenten Trägersubstrats, beispielsweise dem Trägersubstrat einer Polymer-Banknote oder eines ID-Dokuments, ein Körper umfassend die erste Schicht beispielsweise als Transferlage einer Transferfolie, insbesondere einer Heißprägefolie appliziert wird. Auf die gegenüberliegende zweite Seite des Trägersubstrats wird beispielsweise ebenfalls mittels einer Transferfolie ein Körper umfassend die zweite Schicht und die Reflektionsschicht appliziert. Weiter ist es auch möglich, dass auf ein Laminat umfassend eine Trägerfolie und die erste Schicht oder die zweite Schicht und die Reflektionsschicht ein Köper umfassend die zweite Schicht und die Reflektionsschicht bzw. die erste Schicht appliziert wird, insbesondere als Transferlage einer Transferfolie appliziert wird. Hierdurch wird bewirkt, dass die nicht unerhebliche Schichtdicke des Trägersubstrats die Beabstandung der ersten Schicht von der Reflexionsschicht erhöht und somit das optische Erscheinungsbild des von dem Mehrschichtkörper generierten optisch variablen Effekts weiter verbessert werden kann, wie oben erwähnt.
  • Vorzugsweise weist das Trägersubstrat hierbei ein transparentes Fenster auf, welches zumindest teilweise in Überdeckung zum ersten, zweiten und/oder zu den weiteren Bereichen des Mehrschichtkörpers angeordnet ist.
  • Der Mehrschichtkörper kann jedoch weiter auch als Transferfolie oder Laminierfolie ausgebildet sein und in dieser Form beispielsweise auf das Trägersubstrat eines Sicherheits- oder Wertdokuments appliziert werden.
  • Im Folgenden wird die Erfindung anhand von mehreren Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der beiliegenden Zeichnungen beispielhaft erläutert.
  • 1 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers.
  • 2a zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Schicht des Mehrschichtkörpers nach 1.
  • 2b zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Schicht des Mehrschichtkörpers nach 1.
  • 3a zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Schicht des Mehrschichtkörpers nach 1 gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 3b zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Schicht des Mehrschichtkörpers nach 1 gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 4 zeigt eine schematische Draufsicht auf den Mehrschichtkörper nach 1 gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 5 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 6 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 7 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 8 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 9 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 10 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 11 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels.
  • 1 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers 1, bei dem es sich um eine Transferfolie handelt.
  • Der Mehrschichtkörper 1 weist eine Trägerfolie 10, eine Ablöseschicht 11, eine Schutzlackschicht 12, eine partielle Metallschicht 13, eine Replizierlackschicht 14, eine Metallschicht 15 und eine Kleberschicht 16 auf.
  • Die Trägerfolie 10 besteht aus einer Kunststofffolie, welche vorzugsweise eine Schichtdicke zwischen 12 und 125 μm aufweist, und welche vorzugsweise aus PET, PEN oder BOPP besteht. Auf die Trägerfolie wird die Ablöseschicht 11 vorzugsweise mittels eines Druckverfahrens appliziert.
  • Die Ablöseschicht 11 enthält vorzugsweise Wachskomponenten und ermöglicht das Abtrennen der Trägerfolie 10 nach Applizieren der aus den Schichten 11 bis 16 bestehenden Transferlagen auf dem Zielsubstrat. Auf die Ablöseschicht 11 könnte hierbei auch verzichtet werden, wenn die Trägerfolie 10 und die Schutzlackschicht 12 in Bezug auf Ihre Materialeigenschaften so gewählt werden, dass die Adhäsionskräfte zwischen diesen Schichten geringer als die Adhäsionskräfte zwischen den nachfolgenden Schichten sind und damit ein Ablösen der Trägerfolie 10 von der Schutzlackschicht 11 ohne Zerstörung der darunter liegenden Schichtlage möglich ist.
  • Auf die Ablöseschicht 11 wird nun die Schutzlackschicht 12 vorzugsweise mittels eines Druckverfahrens aufgebracht.
  • Bei der Schutzlackschicht 12 handelt es sich um eine transparente Lackschicht einer Schichtdicke von vorzugsweise zwischen 1 und 3 μm. Auf die Schutzlackschicht 12 könnte auch verzichtet werden.
  • Die Metallschicht 13 weist Zonen 21 auf, in denen das Metall der Metallschicht vorgesehen ist und Zonen 22 auf, in denen das Metall der Metallschicht nicht vorgesehen wird. Zur Herstellung der partiellen Metallschicht 13 wird auf die Schutzlackschicht 12 vorzugsweise eine vollflächige Metallschicht beispielsweise aufgedampft oder aufgesputtert. Anschließend wird das Metall der Metallschicht in den Zonen 22 wieder entfernt. Dies kann beispielsweise durch Aufdrucken eines Ätzmittels in den Zonen 22, durch Aufdrucken eines Ätzresist in den Zonen 21 und anschließender Entfernung der Metallschicht 13 in den nicht mit dem Ätzresist geschützten Bereich in einem Ätzbad, durch ein ablatives Verfahren realisiert werden, beispielsweise durch Laser-Ablation, oder durch Aufbringen, Belichten, und Entwickeln eines Photoresists und anschließend Entfernen der Metallschicht in dem nicht von dem entwickelten Photoresist geschützten Bereich.
  • Die Schichtdicke der Metallschicht 13 beträgt hierbei vorzugsweise zwischen 10 nm und 200 nm.
  • Die ersten Zonen 21 sind in der Form von Mikrobildern ausgeformt, welche eine kleinste Abmessung von weniger als 100 μm, vorzugsweise von weniger als 50 μm aufweisen. Dies ist beispielhaft anhand der Figuren 2b und 3b erläutert. Die Figuren 2b und 3b zeigen beispielhaft zwei verschiede Ausgestaltungen der Metallschicht 13 in einem Bereich 31 bzw. in einem Bereich 32.
  • In dem Bereich 31 sind eine Vielzahl von Zonen 21 vorgesehen, welche jeweils in Form eines das Zeichen „EUR” repräsentierenden Mikrobildes ausgeformt sind. Die ersten Zonen 21 sind hierbei von einer den Hintergrund bildenden zweiten Zone 22 umgeben, in der das Metall der Metallschicht 13 nicht vorgesehen ist. Die Schicht 13 setzt sich somit im Bereich 31 aus einer Vielzahl von Zonen 21 zusammen, in denen das Metall der Metallschicht vorgesehen ist und die Schicht 13 somit opak und reflektiv ist, und aus einer Zone 22, in der das Metall der Metallschicht 13 nicht vorgesehen ist und somit die Schicht 13 transparent ist. Die von den ersten Zonen 21 im Bereich 31 ausgebildeten Mikrobilder sind gemäß eines zweidimensionalen Mikrobildrasters angeordnet, wobei durch das Mikrobildraster ein Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse 53 und einer hierzu rechtwinkligen Koordinatenachse 54 aufgespannt ist. Die benachbarten Mikrobilder weisen in dem in 2b gezeigten Fall in Richtung der Koordinatenachse 53 einen Mikrobildabstand 63 und in Richtung der Koordinatenachse 54 einen Mikrobildabstand 64 auf. Unter Mikrobildabstand wird hierbei die Beabstandung der Flächenschwerpunkte der benachbarten Zonen 21 verstanden. Der Mikrobildabstand 63 und der Mikrobildabstand 64 ist für das Mikrobild im Bereich 31 so gewählt, dass er jeweils < 300 μm ist. Der Mikrobildabstand 63 und/oder der Mikrobildabstand 64 kann jeweils für die zueinander benachbarten, in dem Bereich 31 angeordneten Mikrobilder konstant sein, sodass das Mikrobildraster in Richtung der Koordinatenachse 53 und/oder 54 eine konstante Rasterweite aufweist (wobei die Mikrobildabstände 63 und 64 unterschiedlich sein können). Es ist jedoch auch möglich, dass die Mikrobildabstände 63 und 64 zwischen benachbarten Mikrobildern sich im Bereich 31 unterscheiden, wie weiter unten auch erläutert.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel nach 3b sind in dem Bereich 32 die Zonen 21 in Form von Mikrobildern ausgebildet, welche eine verzerrte Formgebung besitzen und welche gemäß einem eindimensionalen Raster angeordnet sind, welches ein Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse 57 und einer hierzu rechtwinkligen Koordinatenachse 58 aufspannt. Die Zonen 21 sind hierbei von den Zonen 22 umgeben, welche die in 3b nicht mit schwarzer Farbe belegten Bereiche ausfüllen, sodass die Schicht 13 in dem Bereich 32 aus den Zonen 21 und den Zonen 22 besteht. Wie in 3b angedeutet, ist bei dem eindimensionalen Mikrobildraster lediglich in eine Raumrichtung, nämlich in Richtung der Koordinatenachse 57 eine Abfolge von Mikrobildern vorgesehen. Benachbarte Mikrobilder sind hierbei in einem Mikrobildabstand 67 voneinander beabstandet, wobei der Mikrobildabstand 67 für die Mikrobilder des Bereichs 32 jeweils konstant sein kann, sodass das Raster eine konstante Rasterweite aufweist. Es ist jedoch auch möglich, dass der Mikrobildabstand 67 zwischen benachbarten Mikrobildern im Bereich 32 unterschiedlich ist, wobei der Mikrobildabstand 67 jedoch jeweils 300 μm zu wählen ist.
  • Die Mikrobilder im Bereich 32 weisen eine Breite von weniger als 100 μm, bevorzugt von 10 μm bis 50 μm auf. Die Länge der Mikrobilder, d. h. in dem in 3b gezeigten Fall die Erstreckung der Mikrobilder entlang der Koordinatenachse 58 ist > 300 μm gewählt und beträgt vorzugsweise mehr als 2 mm. Wie in 3b angedeutet, bestehen die Mikrobilder im Bereich 32 aus Mikrobildern, welche durch die Streckung der Längsachse eines Grundbildes gegenüber der Querachse eines Grundbildes durch eine Transformationsfunktion um mehr als das zehnfache gestreckt worden sind, beispielsweise um das 50- bis 100-fache gestreckt worden sind.
  • Im Folgenden wird nun die Replizierlackschicht 14 auf den Folienkörper umfassend die Schichten 10, 11, 12 und 13 aufgebracht, vorzugsweise aufgedruckt.
  • Die Replizierlackschicht 14 weist eine Schichtdicke von 2 μm bis 50 μm, weiter bevorzugt von 5 μm bis 20 μm auf. Im Weiteren ist es auch möglich, dass die Schicht 14 aus mehreren Schichten besteht. So ist es beispielsweise möglich, dass die Schicht 14 eine Kernschicht beispielsweise mit einer Schichtdicke von 20 μm besitzt und eine hierauf aufgebrachte Lackschicht, die dann als eigentliche Replizierlackschicht dient, in welche die Mikrostrukturen 17 abgeformt werden. Die Kernschicht kann hierbei auch aus einer transparenten Kunststofffolie, insbesondere einer transparenten Polyesterfolie bestehen. Diese Ausführungsform ist insbesondere für die Ausbildung von Schichten 14 mit einer Schichtdicke von mehr als 20 μm vorteilhaft.
  • In die von der Schicht 13 abgewandten Oberfläche der Replizierlackschicht 14, d. h. in die Grenzfläche zwischen die Replizierlackschicht 14 und die Metallschicht 5 sind in Zonen 23 jeweils Mikrostrukturen 17 abgeformt, wie dies in 1 beispielhaft gezeigt ist. Bei der Replizierlackschicht 14 handelt sich beispielsweise um eine Schicht aus einem transparenten, thermoplastischen Lack, in welchem mittels eines entsprechenden Prägestempels die Mikrostrukturen 17 unter Einwirkung von Hitze und Druck abgeformt werden. Weiter ist es auch möglich, dass die Replizierlackschicht 14 aus einem transparenten, UV-härtbaren Lack besteht, in welchen durch UV-Replikation die Mikrostrukturen 17 abgeformt sind.
  • Die Mikrostrukturen 17 sind in den Zonen 23 mit der Metallschicht 15 belegt, welche im Bereich der Zonen 23 eine Schichtdicke von vorzugsweise 10 nm bis 200 nm aufweist. Die Formgestaltung der Mikrostrukturen 17 in den Zonen 23 ist hierbei jeweils so gewählt, dass sie senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht 13 aufgespannten Ebene aus Richtung der Schicht 13 im Bereich der jeweiligen dritten Zone 23 einfallendes Licht auf einen Bereich der Schicht 13 rückreflektiert und/oder rückbeugt, dessen Fläche um mindestens einen Faktor 10 bis 20 kleiner als die Fläche der jeweiligen Zone 23 ist (die Schichtdicke der Schicht 13 ist im Vergleich zu deren Länge/Breitevernachlässigbar, sodass die Schicht 13 eine Ebene aufspannt).
  • Die Zonen 23 und damit die Mikrostrukturen 17 sind gemäß eines Mikrostrukturrasters mit einer Beabstandung benachbarter Mikrostrukturen von weniger als 300 μm angeordnet, wie beispielhaft in 2a und 3a gezeigt.
  • 2a zeigt die Ausgestaltung der Schicht 14 in dem Bereich 31 und 3a zeigt die Ausgestaltung der Schicht 14 in dem Bereich 32. In dem Bereich 31 sind die Zonen 23 und damit die Mikrostrukturen 17 gemäß einem zweidimensionalen Mikrostrukturrasters angeordnet, welches ein Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse 51 und einer hierzu rechtwinkligen Koordinatenachse 52 aufspannt. Bei diesem zweidimensionalen Raster folgen die Zonen 23 und damit die Mikrostrukturen 17 sowohl in Richtung der Koordinatenachse 51, als auch in Richtung der Koordinatenachse 52 aufeinander. In Richtung der Koordinatenachse 51 sind benachbarte Mikrostrukturen mit einem Mikrostrukturabstand 61 und in Richtung der Koordinatenachse 52 sind benachbarte Mikrostrukturen mit einem Mikrostrukturabstand 62 voneinander beabstandet. Unter Mikrostrukturabstand wird hierbei die Beabstandung der Flächenschwerpunkte der benachbarten Zonen 23 verstanden, in den die jeweiligen Mikrostrukturen 17 vorgesehen sind.
  • In dem Bereich 32 sind die Mikrostrukturen gemäß einem eindimensionalen Mikrostrukturraster angeordnet, welches ein Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse 55 und einer hierauf rechtwinklig stehenden Koordinatenachse 56 aufspannt. Bei dem eindimensionalen Mikrostrukturraster folgen die Bereiche 23 und damit die Mikrostrukturen 17 lediglich in Richtung der Koordinatenachse 55 aufeinander, wobei benachbarten Mikrostrukturen einen Mikrostrukturabstand 65 aufweisen.
  • Im Weiteren gilt bezüglich der Mikrostrukturabstände 61, 62 und 65 das oben bereits bezüglich der Mikrobildabstände 63, 64 und 67 ausgeführte.
  • Bei den Mikrostrukturen 17 handelt es sich vorzugsweise um diffraktive Strukturen. Die Mikrostrukturen 19 in dem Bereich 31 bestehen hierbei vorzugsweise aus Mikrostrukturen, deren Spatialfrequenz im Flächenschwerpunkt der jeweiligen Zone 23 ein Minimum besitzt und mit zunehmendem Abstand von dem Flächenschwerpunkt sich in sämtliche Richtungen, d. h. sowohl in Richtung der Koordinatenachse 51 als auch in Richtung der Koordinatenachse 52 kontinuierlich erhöht. Die mittlere Spatialfrequenz der Mikrostruktur 17 im Bereich des Flächenschwerpunkts (in 5% der Fläche der jeweiligen Zone 23) beträgt vorzugsweise zwischen 0,1 Linien/mm und 50 Linien/mm und in den Randbereichen 23 zwischen 100 Linien/mm und 2000 Linien/mm. Im Weiteren ist es auch möglich, dass die Mikrostrukturen 19 sich nicht aus identischen Strukturelementen, beispielsweise rechteckförmigen Strukturelementen zusammensetzen, sondern sich die Strukturelemente der Mikrostrukturen 17 im Bereich der Zonen 23 unterscheiden und so beispielsweise sich die Flankenneigung hin zum Flächenschwerpunkt der jeweiligen Zone 23 orientierte Flanke eine Flankenneigung aufweist, welche im Bereich des Flächenschwerpunkts ein Minimum besitzt und sich in Richtung der Randbereiche der jeweiligen Zone 23 kontinuierlich erhöht, sich somit ausgehend vom Flächenschwerpunkt der jeweiligen Zone 23 sowohl in Richtung der Koordinatenachse 51 als auch in Richtung der Koordinatenachse 52 kontinuierlich erhöht. Weiter ist es auch möglich, dass die Mikrostruktur 17 von einem Kinoform oder einer im Wesentlichen in Reflexion wirkenden Mikrostruktur gebildet wird, welche die oben beschriebenen Abbildungseigenschaften besitzt. Weiter ist es auch möglich, dass die Mikrostruktur 17 von Fresnel-Zonenplatten gebildet wird, welche die oben beschriebenen Abbildungseigenschaften besitzen.
  • Die Strukturtiefe der Mikrostruktur 17 beträgt zwischen 100 nm und 30 μm, bevorzugt zwischen 1 μm und 20 μm.
  • Wie oben bereits erwähnt definieren die Koordinatenachsen 51, 52, 53, 54, 55 und 57 die Raumrichtung, in der die Zonen 21 bzw. 23 aufeinander abfolgen. Es ist hierbei auch möglich, dass die Koordinatenachsen 51 bis 58 nicht, wie in den Figuren 2a bis 3b angedeutet, die Form von Geraden besitzen, sondern sie können auch eine beliebige andere, linienförmige Formgebung besitzen, so beispielsweise schlangenlinienförmig oder kreisförmig ausgebildet sein. Entsprechend folgen dann auch die Zonen 21 bzw. 23 aufeinander.
  • Die Koordinatenachsen 53 und 51 sowie 54 und 52 sowie die Koordinatenachsen 55 und 57 sind vorzugsweise (im Rahmen der Fertigungstoleranzen) parallel zueinander ausgerichtet. Es ist jedoch auch möglich, dass diese Koordinatenachsen zueinander einen Winkel zwischen 0° und 5° einschließen. Unabhängig von der Lage der Koordinatenachsen 51 bis 58 sind die Beabstandung benachbarter Mikrostrukturen und benachbarter Zonen 21 so gewählt, dass der Mikrostrukturabstand benachbarter Mikrostrukturen und der Mikrobildabstand benachbarter Mikrobilder, die benachbart zu diesen Mikrostrukturen angeordnet sind, sich in zumindest eine Raumrichtung im Bereich 31 bzw. 32 um nicht mehr als 10% unterscheidet.
  • Bei der oben beschriebenen Ausrichtung der Koordinatenachsen 51 bis 57 zueinander, ist es vorteilhaft, wenn sich der Mikrostrukturabstand 61 von dem Mikrobildabstand 63, der Mikrostrukturabstand 62 von dem Mikrobildabstand 64 sowie der Mikrostrukturabstand 65 von dem Mikrobildabstand 67 für benachbart angeordnete Mikrobild/Mikrostrukturen um nicht mehr als 10%, bevorzugt zwischen 0,1 und 5% unterscheidet.
  • Die Mikrobilder und die Mikrostrukturen können in den Bereichen 31 und 32 identisch sein. Es ist jedoch auch möglich, dass die Mikrobilder und die Mikrostrukturen in den Bereichen 31 und 32 unterschiedlich sind. Besonders vorteilhaft ist hierbei, wenn sich die Mikrobilder/Mikrostrukturen im Verlauf des Bereiches 31 bzw. 32 kontinuierlich ändern. So kann sich die Formgebung der Mikrobilder beispielsweise gemäß einer Transformationsfunktion eines Grundbildes umfassend Drehung und/oder Vergrößerung oder Verkleinerung des Grundbildes und bei der Ausgestaltung nach 3b anschließender Verzerrung in Abhängigkeit von den Koordinaten der Koordinatenachsen 53, 54, 57 und 58 im Bereich 31 bzw. 32 kontinuierlich ändern. Ebenfalls können die Mikrostrukturen 19 in den Zonen 23 so gewählt sein, dass sich die Bereiche der Schicht 13, auf die das aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen Zone 23 einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, in ihrer Fläche, Breite und/oder Länge voneinander unterscheidet, insbesondere bestimmt ebenfalls durch eine Transformationsfunktion, welche von den Koordinaten von der Koordinatenachse 51 und 52 bzw. 55 abhängig ist. Durch diese Maßnahme können beim Kippen des Mehrschichtkörpers 1 interessante Bewegungs-, Vergrößerungs- und Verkleinerungseffekte von (dreidimensional) wirkenden Motiven erzielt werden, welche bei Betrachtung durch den menschlichen Betrachter beim Kippen des Mehrschichtkörpers 1 sichtbar werden.
  • So ist es beispielsweise möglich, folgende optische Effekte zu erzielen: es kann beispielsweise ein Flipp-Effekt generiert werden, bei dem bei Vor- und Rückwärtskippen zwischen zwei Bildern, beispielsweise einem geöffneten und einem geschlossenen Auge oder einem EUR-Zeichen und einer Ziffer gewechselt wird. Wenn der Mehrschichtkörper um eine andere Achse, beispielsweise von links nach rechts gekippt wird, zeigt sich ein zusätzlicher Bewegungseffekt.
  • Weiter kann beispielsweise eine Bewegungs- oder Transformationseffekt generiert werden: wenn der Mehrschichtkörper gekippt wird, dann ist eine Bewegung, beispielsweise ein sich drehender Propeller, eine laufenden Person oder sich bewegende Wolken sichtbar.
  • Weiter ist es auch möglich, dass Bereiche, in denen sich das durch die Zonen 21, 22 und 23 bestimmten Mikrobildraster und Mikrostrukturraster voneinander unterscheidet, benachbart zueinander nebeneinander angeordnet sind. So zeigt 4 eine Draufsicht auf einen Mehrschichtkörper 2 mit den Bereichen 32, 33 und Bereichen 34 und 35. In den Bereichen 32 bis 35 unterscheidet sich das Mikrobildraster und das Mikrostrukturraster jeweils voneinander, insbesondere in einem der Parameter ausgewählt aus der Gruppe Mikrobilderabstand, Mikrostrukturabstand und Ausrichtung der Koordinatenachse, welche von dem Mikrostrukturraster und dem Mikrobildraster aufgespannt sind. In den Bereichen 34 und 35 sind so beispielsweise die Zonen 21, 22 und 23 gemäß einem Mikrostrukturraster und einem Mikrobildraster angeordnet, bei dem im Bereich 34 die Differenz des Mikrobildabstands und des Mikrostrukturabstands positiv und in dem Bereich 35 negativ ist. Hierdurch wird eine gegenläufige Bewegung des sich beim Kippen zeigenden Motiv in den Bereichen 34 und 35 bewirkt.
  • 5 zeigt einen Mehrschichtkörper 3, welcher ein Wertdokument, beispielsweise eine Banknote bildet. Der Mehrschichtkörper 3 weist ein Trägersubstrat 41 sowie die Schicht 12, 13, 14, 15 und 16 nach 1 auf. Die Schichten 12, 13, 14, 15, 16 bilden ein Folienelement 42 aus, welches beispielsweise mittels der in 1 gezeigten Transferfolie auf das Trägersubstrat 41 appliziert wird. Die Mikrostrukturen 17 nach 1 sind bei dem Mehrschichtkörper 3 nach 5 durch die Mikrostrukturen 18 ersetzt, welche die in Bezug auf die Mikrostrukturen 17 oben erläuterten Ablenkungseigenschaften besitzen, jedoch im Wesentlichen in Reflektion wirken. Die Relieftiefe der Mikrostrukturen 18 beträgt hierbei vorzugsweise zwischen 3 μm und 50 μm, weiter bevorzugt zwischen 3 μm und 30 μm. Im Weiteren entspricht die Ausgestaltung der Schichten 12 bis 16 sowie die Anordnung und Lage der Schichten 12 bis 16 zueinander dem oben in Bezug auf die Figuren 1 bis 4 Erläuterten.
  • 6 zeigt einen weiteren Mehrschichtkörper 4, bei dem es sich ebenfalls um ein Sicherheits- oder Wertdokument handelt. Der Mehrschichtkörper 4 weist ein Trägersubstrat 43 auf, welches ein transparentes Fenster in Form einer Durchbrechung 45 aufweist. Im Bereich der fensterförmigen Durchbrechung 45 ist ein Folienelement 44 appliziert, welches die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 umfasst. Der Aufbau des Folienelements 44 entspricht dem Aufbau des Folienelements 42 mit dem Unterschied, dass die Metallschicht 15 nicht vollflächig, sondern lediglich im Bereich der Zonen 23 vorgesehen ist und zwischen den Zonen 23 Zonen 24 vorgesehen sind, in denen das Metall der Metallschicht 5 nicht vorgesehen ist. Im Bereich der Zonen 24 ist das Folienelement 44 und damit der Mehrschichtkörper 4 transparent ausgebildet, sodass sich bei Durchlichtbetrachtung weitere optisch variable Effekte zeigen.
  • 7 zeigt einen Mehrschichtkörper 5, welcher die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 umfasst. Die Schichten 12, 14, 15 und 16 sind wie in Bezug auf diese Schichten oben bei den Figuren 1 bis 4 erläutert ausgebildet, mit dem Unterschied, dass die Mikrostrukturen 17 durch die Mikrostrukturen 18 nach 5 oder 6 ersetzt sind. Bezüglich der Ausgestaltung und Anordnung dieser Schichten wird so auf obige Ausführungen verwiesen.
  • Die Schicht 13 wird im Gegensatz zu der Schicht 13 des Mehrschichtkörpers 1 nicht von einer einzigen Schicht, sondern von zwei übereinander angeordneten Teilschichten, den Teilschichten 131 und 132 gebildet. Bei der Teilschicht 131 handelt es sich um eine transparente Replizierlackschicht, bei der im Bereich der Zonen 21 eine Reliefstruktur 133 abgeformt ist. Bei der Teilschicht 132 handelt es sich um eine partielle Metallschicht, welche wie die Schicht 13 nach 1 ausgebildet ist, d. h. das Metall der Metallschicht 132 ist in den Zonen 21 vorgesehen und in den Zonen 22 nicht vorgesehen.
  • Weiter ist es auch möglich, dass auf die Replizierlackschicht 131 verzichtet wird und die Reliefstrukturen 133 sowie die Mikrostrukturen 8 in eine gemeinsame Replizierschicht abgeformt werden, die von der Schicht 14 gebildet wird.
  • Bei der Reliefstruktur 133 handelt es sich vorzugsweise um eine diffraktive Struktur, beispielsweise um ein Hologramm oder eine Kinegram®-Struktur. Die beim Kippen des Mehrschichtkörpers 5 entstehen Bewegungs-, Verkleinerungs-, Vergrößerungs- und Transformationseffekte werden so für Motive bewirkt, welche bereits an sich einen optisch variablen Eindruck vermitteln, sodass sehr eindrucksvolle und prägnante Sicherheitsmerkmale mit dem Mehrschichtkörper 5 bereitgestellt werden können.
  • 8 zeigt einen Mehrschichtkörper 6, welcher die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 aufweist. Die Schichten 12 bis 16 entsprechen eher ihrem Aufbau und ihrer Anordnung den Schichten 12 bis 16 nach 7 mit dem Unterschied, dass die Schicht 13 neben den Teilschichten 131 und 132 eine Teilschicht 135 aufweist und eine sich von der Reliefstruktur 133 unterscheidende Reliefstruktur 134 in die Teilschicht 131 abgeformt ist. Bei der Schicht 135 handelt es sich um eine reflektive Deckschicht, beispielsweise um eine reflektive Farbschicht, welche im Bereich der Zonen 21 vorgesehen und im Bereich der Zonen 22 nicht vorgesehen ist. Durch diese Schicht wird bewirkt, dass der optische Effekt der Reliefstrukturen 134 aus Richtung der Schicht 14 nicht bewirkt wird, sodass der optische Effekt der Reliefstrukturen 134 lediglich einen Hintergrund für den von dem Mehrschichtkörper 6 gebildeten optisch variablen Effekt (Bewegungs-, Verkleinerungs-, Vergrößerungs- und Transformationseffekte) bildet. Die Reliefstruktur 134 wird vorzugsweise ebenfalls von einem Hologramm oder einer Kinegram®-Struktur gebildet, welches sich optisch mit dem von der Schicht 135, 14 und 15 gebildeten optisch variablen Effekt überlagert. Weiter ist es auch möglich, dass die Reliefstruktur 134 von einer Reliefstruktur mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis von mehr als 0,5 und einer Spatialfrequenz von mehr als 1500 l/mm gebildet wird, welche bewirkt, dass das von der Oberseite der Zonen 21 rückreflektierte Licht minimiert wird und so der Kontrast und die Lichtstärke des von dem Mehrschichtkörper 6 generierten, optisch variablen Effekts verbessert wird.
  • 9 zeigt einen Mehrschichtkörper 7, welcher die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 aufweist. Die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 sind wie die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 nach 7 ausgebildet, mit dem Unterschied, dass die Schicht 13 neben den Teilschichten 131 und 132 noch die Teilschicht 136 umfasst. Bezüglich der Ausgestaltung und Anordnung dieser Schichten wird so auf die obige Ausführung verwiesen. Die Teilschicht 136 wird von einer Abdeckschicht, beispielsweise einer Farblackschicht gebildet, wobei die Abdeckschicht, beispielsweise der Farblack, in den Zonen 21 vorgesehen und in den Zonen 22 nicht vorgesehen ist. Hierdurch wird verhindert, dass der in den Zonen 22 von der Reliefstruktur 133 generierte optische Effekt auf der Oberseite der Schicht 13 sichtbar ist und somit lediglich Einfluss auf die Motive besitzt, die von den Schichten 131, 132, 14 und 15 generiert werden.
  • 10 zeigt einen Mehrschichtkörper 8 mit dem Schichten 12, 13, 14, 15 und 16. Die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 sind wie die Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 nach 7 ausgebildet, mit dem Unterschied, dass die Schicht 13 neben den Teilschichten 131 und 132 die Teilschicht 137 aufweist. Bezüglich der Ausgestaltung und Anordnung der Schichten 12, 13, 14, 15 und 16 wird so auf obige Ausführung verwiesen.
  • Die Teilschicht 137 besteht aus einer Replizierlackschicht und einer im Bereich der Zonen 21 vorgesehenen reflektiven Schicht, wobei im Bereich der Zonen 21 weiter eine Reliefstruktur 138 in die Grenzschicht zwischen der Replizierlackschicht und der Reflektionsschicht abgeformt ist. Weiter ist es auch möglich, dass die Reliefstruktur 138 in die Oberseite der Teilschicht 131 abgeformt ist und die Teilschicht 137 aus einer Metallschicht besteht, wobei das Metall der Metallschicht in den Zonen 21 vorgesehen und in den Zonen 22 nicht vorgesehen ist. Bei den Reliefstrukturen 133 und 138 handelt es sich vorzugsweise um unterschiedliche, diffraktive Strukturen, beispielsweise unterschiedliche Hologramme und/oder Kinegram®-Struktur.
  • Bei dem Folienkörper 8 wird durch die Reliefstruktur 138 zum Einen ein optisch variabler Hintergrundeffekt vor dem von den Schichten 131, 132, 14 und 15 bewirkten optisch variablen Effekt bewirkt (Überlagerung) und zum Anderen der bereits anhand von 7 erläuterte optisch variable Effekt generiert, bei dem der dem durch die Strukturierung der Schicht 13 und den Schichten 14 und 15 generierten optisch variable Effekt als Grundmotiv bereits ein optisch variables Motiv zugrunde gelegt wird.
  • 11 zeigt einen Mehrschichtkörper 9 mit den Schichten 16, 13, 14, 15 und 16 sowie einer Schicht 19, bei der es sich um eine aus Kunststoff bestehende Trägerfolie, insbesondere um eine Polyesterfolie handelt. Die Trägerfolie 19 besitzt vorzugsweise eine dicke zwischen 10 und 50 μm, insbesondere von ca. 20 μm.
  • Die Schichten 16, 13, 14, 15, 16 sind wie bei 7 erläutert ausgebildet und es wird auf die diesbezüglichen obigen Ausführungen verwiesen.
  • Bei dieser Ausführungsform ist die Trägerfolie 19 beidseitig mit Replizierlackschichten, den Schichten 14 und 131 belegt. In die Replizierlackschichten 14 und 131 sind die Mikrostrukturen 18 bzw. in den Zonen 21 Reliefstrukturen 133 abgeformt. Weiter sind die Mikrostrukturen 18 mit einer metallischen Reflektionsschicht 15 und die Reliefstrukturen 133 in den Zonen 21 mit dem Metall der partiellen Metallschicht 132 belegt. Der so gebildete Mehrschichtkörper ist dann beidseitig mit der Kleberschicht 16 versehen.
  • Der sich so ergebende Folienkörper 8 zeichnet sich durch eine besondere Robustheit aus und kann beispielsweise als Sicherheitsfaden oder Sicherheitsstreifen mit den bekannten Verfahren in das Trägersubstrat einer Banknote, beispielsweise in das Banknotenpapier eingebracht werden. Nach Einbringen des Folienkörpers 9 in das Trägersubstrat der Banknote kann dieser nur schwer wieder von dem Trägersubstrat ohne Zerstörung des Trägersubstrats und des Folienkörpers 9 entfernt werden, sodass das sicher ergebende Sicherheitsdokument über eine hohe Fälschungssicherheit verfügt.
  • Im Weiteren kann der Folienkörper 9 nach 11 beispielsweise auch als Transferfolie ausgebildet sein. Hierzu wird die obere Kleberschicht 16, d. h. die oberhalb der Schicht 13 gelegene Kleberschicht 16 durch die Schichten 10 bis 12 nach 1 ersetzt, d. h. auf die Schicht 13 folgt die optionale Schutzlackschicht 12, die Ablöseschicht 11, sowie die Trägerfolie 10.

Claims (45)

  1. Mehrschichtkörper (1 bis 9), insbesondere mehrschichtiges Sicherheitselement zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, mit einer ersten Schicht (13) mit einer Vielzahl von opaken und/oder reflektiven ersten Zonen (21), die jeweils durch eine oder mehrere transparente zweite Zonen (22) voneinander getrennt sind, wobei die ersten Zonen (21) als Mikrobilder mit einer kleinsten Abmessung von weniger als 100 μm ausgeformt sind und gemäß eines Mikrobildrasters mit einer Beabstandung benachbarter Mikrobilder in einer ersten Raumrichtung von weniger als 300 μm angeordnet sind, wobei durch das Mikrobildraster ein erstes Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse x1 (53, 57) und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse y1 (54, 58) aufgespannt ist, mit einer unterhalb der ersten Schicht (13) angeordneten zweiten Schicht (14) aus einem transparenten Material, und mit einer unterhalb der zweiten Schicht (14) angeordneten Reflexionsschicht (15), wobei die zweite Schicht (14) eine Vielzahl von dritten Zonen (23) aufweist, in denen jeweils eine Mikrostruktur (17, 18) in die von der ersten Schicht abgewandte Grenzfläche der zweiten Schicht (14) zur Reflexionsschicht abgeformt ist, die mit der Reflexionsschicht (15) belegt ist, wobei jede der Mikrostrukturen (17, 18) so ausgestaltet ist, dass sie senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht aufgespannte Ebene aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone (23) einfallendes Licht auf einen Bereich der ersten Schicht rückreflektiert und/oder rückbeugt, dessen Fläche um mindestens den Faktor 10 kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone (23) ist, wobei die Mikrostrukturen (17, 18) gemäß einem Mikrostrukturraster mit einer Beabstandung benachbarter Mikrostrukturen in einer zweiten Raumrichtung von weniger als 300 μm angeordnet sind, durch welches ein zweites Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse x2 (51, 55) und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse y2 (52, 56) aufgespannt ist, und wobei in einem ersten Bereich (31, 32) des Mehrschichtkörpers die Mikrobilder des Mikrobildrasters und die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters sich überlagernd in fester Lage zueinander angeordnet sind und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter dritter Zonen (23) bestimmte Mikrostrukturabstand (61, 62) und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter erster Zonen (21) bestimmte Mikrobildabstand (63, 64, 67) sich voneinander in zumindest einer dritten Raumrichtung im ersten Bereich (31, 32) um nicht mehr als 10% unterscheidet.
  2. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass im ersten Bereich (31, 32) der Flächenanteil der ersten Zonen (21) an der Gesamtfläche der ersten und zweiten Zonen (21, 22) zwischen 40% und 2%, insbesondere zwischen 20% und 10% beträgt.
  3. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im ersten Bereich (31, 32) die von den ersten Zonen (21) belegte Fläche mindestens um den Faktor 4 kleiner, insbesondere um den Faktor 10 bis 20 kleiner als die von den dritten Zonen (23) belegte Fläche ist.
  4. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im ersten Bereich (31, 32) die Schichtdicke der zweiten Schicht (14) zwischen 5 und 150 μm beträgt.
  5. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im ersten Bereich (31, 32) die Reflexionsschicht (15) zwischen 5 und 150 μm von der ersten Schicht beabstandet ist.
  6. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostrukturen (17, 18) jeweils so ausgebildet sind, dass sie senkrecht in Bezug auf die von der ersten Schicht aufgespannten Ebene aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zonen (23) einfallendes Licht auf einen Bereich der ersten Schicht rückreflektieren und/oder rückbeugen, dessen Fläche zwischen 10 und 10.000 mal kleiner, insbesondere zwischen 15 und 2.500 mal kleiner als die Fläche der jeweiligen dritten Zone (23) ist.
  7. Mehrschichtkörper (1) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostrukturen (17) diffraktive Strukturen mit einer Spatialfrequenz von mehr als 300 Linien/mm sind.
  8. Mehrschichtkörper (1) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostrukturen (17) jeweils Kinoforme sind.
  9. Mehrschichtkörper (1) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spatialfrequenz der Mikrostrukturen (17) im Bereich des Flächenschwerpunkts der jeweiligen dritten Zonen (23) ein Minimum besitzt und sich die Spatialfrequenz der Mikrostruktur ausgehend von dem Flächenschwerpunkt in zumindest eine Raumrichtung erhöht.
  10. Mehrschichtkörper (1) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Flankenneigung der zum Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zone orientierten Flanke der Strukturelemente der Mikrostruktur (17) ausgehend von dem Flächenschwerpunkt in zumindest eine Raumrichtung erhöht.
  11. Mehrschichtkörper (3 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die lokale Strukturtiefe, mit der die Mikrostruktur in die zweite Schicht (14) abgeformt ist, sich ausgehend von dem Flächenschwerpunkt der jeweiligen dritten Zonen in zumindest eine Raumrichtung erniedrigt.
  12. Mehrschichtkörper (4) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jede der dritten Zonen (23) von einer der mehreren vierten Zonen (24) umgeben ist, in denen die Reflexionsschicht (15) nicht vorgesehen ist.
  13. Mehrschichtkörper (4) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (4) in den vierten Zonen (24) transparent ausgebildet ist.
  14. Mehrschichtkörper (1 bis 4) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Schicht (21) von einer Metallschicht gebildet ist, wobei das Metall der Metallschicht in den ersten Zonen (21) vorgesehen und in den zweiten Zonen (22) nicht vorgesehen ist.
  15. Mehrschichtkörper (5, 7, 8) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in der zur zweiten Schicht (14) orientierten unteren Grenzfläche der ersten Schicht (13) in den ersten Zonen (21) eine erste diffraktive Oberflächenstruktur (133) abgeformt ist.
  16. Mehrschichtkörper nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass in den zweiten Zonen eine zweite diffraktive Oberflächenstruktur abgeformt ist, die sich von der ersten diffraktiven Oberflächenstruktur unterscheidet.
  17. Mehrschichtkörper (5 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Schicht aus zwei oder mehr Teilschichten besteht, insbesondere aus zwei oder mehreren Teilschichten, ausgewählt aus der Gruppe umfassend Metallschicht, HRI-Schicht, Replizierlackschicht, eingefärbte Photoresistschicht und Farbschicht, besteht.
  18. Mehrschichtkörper (6, 8) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in die von der zweiten Schicht abgekehrte obere Grenzfläche der ersten Schicht oder eine Teilschicht der ersten Schicht in den ersten Zonen eine dritte diffraktive Oberflächenstruktur (134, 138) abgeformt ist.
  19. Mehrschichtkörper nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die dritte Oberflächenstruktur von einer Oberflächenstruktur mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der Strukturelemente von mehr als 0,5 und einer Spatialfrequenz von mehr als 2.000 Linien/mm gebildet ist.
  20. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine vierte Schicht zwischen der ersten und der zweiten Schicht vorgesehen ist, die transluzent oder eingefärbt ist.
  21. Mehrschichtkörper (1 bis 9) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Koordinatenachse y1 und die Koordinatenachse y2 sowie die Koordinatenachse x1 und die Koordinatenachse x2 in dem ersten Bereich (31, 32) jeweils parallel zueinander ausgerichtet sind und sich in dem ersten Bereich der Mikrostrukturabstand und der Mikrobildabstand benachbarter Mikrostrukturen und Mikrobilder in Richtung zumindest einer Koordinatenachse zwischen 0,5 und 10% unterscheidet.
  22. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Koordinatenachse y1 und die Koordinatenachse y2 sowie die Koordinatenachse x1 und die Koordinatenachse x2 in dem ersten Bereich jeweils einen Winkel zwischen 0,01° und 5° einschließen.
  23. Mehrschichtkörper (2) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster im ersten Bereich (32) ein eindimensionales Raster ist.
  24. Mehrschichtkörper (1) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster im ersten Bereich (31) ein zweidimensionales Raster ist.
  25. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Rasterabstand des Mikrobildrasters und/oder des Mikrostrukturrasters in dem ersten Bereich konstant ist.
  26. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass der Rasterabstand des Mikrobildrasters und/oder des Mikrostrukturrasters sich in dem ersten Bereich in zumindest einer Raumrichtung stetig ändert.
  27. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterabstände der Mikrobilder und/oder Mikrostrukturen in dem ersten Bereich in Richtung der Koordinatenachse y1 bzw. y2 konstant sind und die Rasterabstände der Mikrobilder bzw. Mikrostrukturen in Richtung der Koordinatenachse x1 bzw. x2 in Abhängigkeit von der durch die Koordinatenachse y1 bzw. y2 bestimmten Koordinate y und/oder der durch die Koordinatenachse x1 bzw. x2 bestimmten Koordinate x gemäß einer Funktion F(x, y) variieren.
  28. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Längsachse der Mikrobilder parallel zur Koordinatenachse x1 orientiert ist.
  29. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Längsachse der Mikrobilder gegenüber der Querachse der Mikrobilder durch eine Transformationsfunktion um mehr als das zehnfache gestreckt ist.
  30. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrobilder des Mikrobildrasters in dem ersten Bereich jeweils identische Mikrobilder sind.
  31. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 29, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrobilder des Mikrobildrasters in dem ersten Bereich von Mikrobildern gebildet sind, welche durch eine geometrische Transformation eines Grundbildes umfassend Drehung und/oder Vergrößerung oder Verkleinerung des Grundbildes und optionaler anschließender Verzerrung gemäß einer Transformationsfunktion gebildet sind.
  32. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters in dem ersten Bereich jeweils identische Mikrostrukturen sind.
  33. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 31, dadurch gekennzeichnet, dass sich zumindest zwei Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im ersten Bereich voneinander unterscheiden, insbesondere dass sich die Bereiche der ersten Schicht, auf die das aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zone einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, in ihrer Fläche, Breite und/oder Länge gemäß einer Transformationsfunktion in Abhängigkeit von der Koordinate auf der x2 und/oder y2 Koordinatenachse ändern.
  34. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und/oder zweite Koordinatensystem von einem Koordinatensystem mit kreis- oder schlangenlinienförmigen Koordinatenachsen gebildet ist.
  35. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Bereich eine kleinste Flächenabmessung von mehr als 300 μm besitzt, insbesondere eine kleinste Flächenabmessung von mehr als 3 mm besitzt.
  36. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in einem neben dem ersten Bereich angeordneten zweiten Bereich des Mehrschichtkörpers die Mikrobilder des Mikrobildrasters und die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters sich überlagernd in fester Lage zueinander angeordnet sind und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter dritter Zonen bestimmte Mikrostrukturabstand und der durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte benachbarter erster Zonen bestimmte Mikrobildabstand sich voneinander in zumindest einer Raumrichtung im zweiten Bereich um nicht mehr als 10% unterscheiden, und dass sich in dem zweiten Bereich das Mikrobildraster und/oder das Mikrostrukturraster in ein oder mehreren der Parameter, ausgewählt aus der Gruppe Mikrobildabstand, Mikrostrukturabstand, Ausrichtung der x1-, x2-, y1-, y2-Achse und Verzerrung der Mikrobilder gegenüber dem Mikrobildraster und/oder dem Mikrostrukturraster, in dem ersten Bereich unterscheidet.
  37. Mehrschichtkörper nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass in dem ersten Bereich die Differenz aus dem Mikrobildabstand und dem Mikrostrukturabstand positiv und in dem zweiten Bereich negativ ist.
  38. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 36 bis 37, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehr erste und zweite Bereiche abwechselnd nebeneinander angeordnet sind.
  39. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 36 bis 38, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Mikrobilder des Mikrobildrasters in dem ersten Bereich und in dem zweiten Bereich voneinander unterscheiden.
  40. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 36 bis 39, dadurch gekennzeichnet, dass in dem ersten Bereich und in dem zweiten Bereich das jeweilige Mikrobildraster und/oder das jeweilige Mikrostrukturraster in Bezug auf die Koordinatenachse y1 bzw. y2 zueinander einen Phasenversatz aufweisen.
  41. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 36 bis 40, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im ersten Bereich von den Mikrostrukturen des Mikrostrukturrasters im zweiten Bereich unterscheiden, insbesondere sich die Bereiche der ersten Schicht, auf die das aus Richtung der ersten Schicht im Bereich der jeweiligen dritten Zonen einfallende Licht rückreflektiert und/oder rückgebeugt wird, in ihrer Fläche, Breite und/oder Länge unterscheiden.
  42. Mehrschichtkörper (3, 4) nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper ein Sicherheits- oder Wertdokument, insbesondere eine Banknote ist, und dass der Mehrschichtkörper ein Trägersubstrat (41, 43) aufweist.
  43. Mehrschichtkörper nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Schicht auf gegenüberliegenden Seiten des Trägersubstrats angeordnet sind.
  44. Mehrschichtkörper nach einem der Ansprüche 42 oder 43, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägersubstrat (43) in einem dritten Bereich ein transparentes Fenster aufweist und dass sich der erste Bereich und der dritte Bereich zumindest teilweise überdecken.
  45. Mehrschichtkörper nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper eine Transferfolie oder eine Laminierfolie ist.
DE102009032697.9A 2009-07-09 2009-07-09 Mehrschichtkörper Active DE102009032697C5 (de)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009032697.9A DE102009032697C5 (de) 2009-07-09 2009-07-09 Mehrschichtkörper
AU2010268786A AU2010268786B2 (en) 2009-07-09 2010-07-05 Multi-layer body
US13/382,453 US9770934B2 (en) 2009-07-09 2010-07-05 Multi-layer body
EP10728614.8A EP2451650B2 (de) 2009-07-09 2010-07-05 Mehrschichtkörper
MX2012000307A MX2012000307A (es) 2009-07-09 2010-07-05 Cuerpo de capas multiples.
CA2767389A CA2767389C (en) 2009-07-09 2010-07-05 Multi-layer body
CN201080036021.9A CN102725148B (zh) 2009-07-09 2010-07-05 多层体
JP2012518801A JP5674781B2 (ja) 2009-07-09 2010-07-05 多層体
PCT/EP2010/004057 WO2011003558A1 (de) 2009-07-09 2010-07-05 Mehrschichtkörper
RU2012104541/12A RU2540389C2 (ru) 2009-07-09 2010-07-05 Многослойное тело
TW099122124A TWI525004B (zh) 2009-07-09 2010-07-06 多層體(一)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009032697.9A DE102009032697C5 (de) 2009-07-09 2009-07-09 Mehrschichtkörper

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102009032697B3 true DE102009032697B3 (de) 2010-10-07
DE102009032697C5 DE102009032697C5 (de) 2020-03-05

Family

ID=42665042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009032697.9A Active DE102009032697C5 (de) 2009-07-09 2009-07-09 Mehrschichtkörper

Country Status (11)

Country Link
US (1) US9770934B2 (de)
EP (1) EP2451650B2 (de)
JP (1) JP5674781B2 (de)
CN (1) CN102725148B (de)
AU (1) AU2010268786B2 (de)
CA (1) CA2767389C (de)
DE (1) DE102009032697C5 (de)
MX (1) MX2012000307A (de)
RU (1) RU2540389C2 (de)
TW (1) TWI525004B (de)
WO (1) WO2011003558A1 (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013139749A1 (de) * 2012-03-19 2013-09-26 Bundesdruckerei Gmbh Verfahren zur herstellung eines sicherheitsverbundkörpers und sicherheitsverbundkörper mit zwei optisch brechenden strukturen
WO2016092040A1 (de) * 2014-12-10 2016-06-16 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper und verfahren zu dessen herstellung
EP2635444B1 (de) 2010-11-02 2019-03-13 OVD Kinegram AG Sicherheitselement und verfahren zur herstellung eines sicherheitselements
WO2021244842A1 (de) * 2020-06-05 2021-12-09 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zum herstellen eines mehrschichtkörpers sowie einen mehrschichtkörper
EP3837120A4 (de) * 2018-08-13 2022-07-06 Crane & Co., Inc. Linsenloser mikrooptischer film
US11511559B2 (en) 2014-12-12 2022-11-29 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Optically variable security element

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009032697C5 (de) 2009-07-09 2020-03-05 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper
KR101734948B1 (ko) 2009-10-09 2017-05-12 삼성전자주식회사 파워 헤드룸 보고, 자원 할당 및 전력 제어 방법
CN103220770B (zh) 2009-12-30 2016-12-07 华为技术有限公司 一种功率控制方法和装置
CN102612073B (zh) 2010-06-22 2015-11-25 华为技术有限公司 一种功率余量报告的上报方法和用户设备
DE102011006191A1 (de) * 2011-03-28 2012-10-04 Bundesdruckerei Gmbh Aus mindestens drei Laminatlagen gebildeter Laminatkörper, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
DE102011121588A1 (de) * 2011-12-20 2013-06-20 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement für Sicherheitspapiere, Wertdokumente oder dergleichen
WO2013192534A1 (en) * 2012-06-22 2013-12-27 Avantor Performance Materials, Inc. Rinsing solution to prevent tin pattern collapse
FR2993204B1 (fr) * 2012-07-16 2018-02-02 Oberthur Fiduciaire Sas Structure de securite.
US9019613B2 (en) * 2012-09-05 2015-04-28 Lumenco, Llc Pixel mapping and printing for micro lens arrays to achieve dual-axis activation of images
DE102012110630A1 (de) * 2012-11-06 2014-05-08 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper sowie Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
ITRM20130007A1 (it) 2013-01-07 2014-07-08 Zecca Dello Ist Poligrafico Metodo di realizzazione di microelementi metallici diffrattivi variabili in un corpo plastico laminabile.
DE102013002137A1 (de) 2013-02-07 2014-08-07 Giesecke & Devrient Gmbh Optisch variables Flächenmuster
DE102013101881A1 (de) * 2013-02-26 2014-08-28 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Mehrschichtkörper und Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers
US9243169B2 (en) * 2013-05-16 2016-01-26 Sicpa Holding Sa Security laminate
EP3306362B1 (de) * 2015-06-02 2021-11-03 Toppan Printing Co., Ltd. Laminat und herstellungsverfahren dafür
WO2017041268A1 (zh) * 2015-09-10 2017-03-16 中国科学院微电子研究所 碳化硅mosfet器件及其制作方法
CN105304689B (zh) * 2015-11-12 2018-09-25 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 基于氟化石墨烯钝化的AlGaN/GaN HEMT器件及制作方法
WO2017206724A1 (zh) * 2016-05-31 2017-12-07 昇印光电(昆山)股份有限公司 装饰片、电子设备盖板以及电子设备
US10637005B2 (en) * 2016-08-26 2020-04-28 Osram Oled Gmbh Method of producing a component module and component module
EP3633422B1 (de) * 2017-05-22 2023-11-22 Toppan Printing Co., Ltd. Informationsaufzeichnungskörper und individueller zertifikationskörper
US20220163919A1 (en) * 2020-11-23 2022-05-26 GM Global Technology Operations LLC Micromirror pixel design to eliminate intensity artifacts in holographic displays
CN116852892B (zh) * 2023-07-10 2024-06-07 深圳市深大极光科技股份有限公司 一种光学防伪元件及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0064067A1 (de) * 1980-11-05 1982-11-10 Stephen Paul Mcgrew Diffraktionsfarben- und struktureffekte für graphisches gewerbe.
EP0330733A1 (de) * 1988-03-04 1989-09-06 GAO Gesellschaft für Automation und Organisation mbH Sicherheitselement in Form eines Fadens oder Bandes zur Einbettung in Sicherheitsdokumente sowie Verfahren zur Herstellung desselben

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5876068A (en) 1988-03-04 1999-03-02 Gao Gessellschaft Fur Automation Und Organisation Gmbh Security element in the form of a thread or strip to be embedded in security documents and methods of producing it
JP4013450B2 (ja) * 2000-05-16 2007-11-28 凸版印刷株式会社 ドットパターン表示媒体並びにこの作製方法
JP4337111B2 (ja) 2000-10-17 2009-09-30 ヤマックス株式会社 虚像現出装飾体
US7194105B2 (en) * 2002-10-16 2007-03-20 Hersch Roger D Authentication of documents and articles by moiré patterns
US20060018021A1 (en) * 2004-07-26 2006-01-26 Applied Opsec, Inc. Diffraction-based optical grating structure and method of creating the same
DE102005007749A1 (de) 2005-02-18 2006-08-31 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102005028162A1 (de) * 2005-02-18 2006-12-28 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
ES2654150T3 (es) 2005-05-18 2018-02-12 Visual Physics, Llc Sistema de presentación de imágenes y de seguridad micro-óptico
DE102005062132A1 (de) 2005-12-23 2007-07-05 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
US8488242B2 (en) * 2006-06-20 2013-07-16 Opsec Security Group, Inc. Optically variable device with diffraction-based micro-optics, method of creating the same, and article employing the same
DE102006029536B4 (de) * 2006-06-26 2011-05-05 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper mit Mikrolinsen sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE102006029852A1 (de) 2006-06-27 2008-01-03 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zum Aufbringen einer Mikrostruktur, Werkzeugform und Gegenstand mit Mikrostruktur
JP5232779B2 (ja) * 2006-06-28 2013-07-10 ビジュアル フィジクス エルエルシー マイクロ光学セキュリティ及び画像表示システム
DE102007057658A1 (de) 2007-02-07 2009-06-04 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Sicherheitselement
DE102007039996B4 (de) 2007-02-07 2020-09-24 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Sicherheitselement für ein Sicherheitsdokument und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007029203A1 (de) * 2007-06-25 2009-01-08 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102007061827A1 (de) 2007-12-20 2009-06-25 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102007062089A1 (de) 2007-12-21 2009-07-02 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zum Erzeugen einer Mikrostruktur
DE102009032697C5 (de) 2009-07-09 2020-03-05 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0064067A1 (de) * 1980-11-05 1982-11-10 Stephen Paul Mcgrew Diffraktionsfarben- und struktureffekte für graphisches gewerbe.
EP0330733A1 (de) * 1988-03-04 1989-09-06 GAO Gesellschaft für Automation und Organisation mbH Sicherheitselement in Form eines Fadens oder Bandes zur Einbettung in Sicherheitsdokumente sowie Verfahren zur Herstellung desselben

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2635444B1 (de) 2010-11-02 2019-03-13 OVD Kinegram AG Sicherheitselement und verfahren zur herstellung eines sicherheitselements
WO2013139749A1 (de) * 2012-03-19 2013-09-26 Bundesdruckerei Gmbh Verfahren zur herstellung eines sicherheitsverbundkörpers und sicherheitsverbundkörper mit zwei optisch brechenden strukturen
CN104395095A (zh) * 2012-03-19 2015-03-04 联邦印刷有限公司 用于制造安全复合体的方法和具有两个光学折射结构的安全复合体
WO2016092040A1 (de) * 2014-12-10 2016-06-16 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper und verfahren zu dessen herstellung
US10792950B2 (en) 2014-12-10 2020-10-06 Ovd Kinegram Ag Multi-layer body and method for producing same
US11511559B2 (en) 2014-12-12 2022-11-29 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Optically variable security element
EP3837120A4 (de) * 2018-08-13 2022-07-06 Crane & Co., Inc. Linsenloser mikrooptischer film
WO2021244842A1 (de) * 2020-06-05 2021-12-09 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Verfahren zum herstellen eines mehrschichtkörpers sowie einen mehrschichtkörper

Also Published As

Publication number Publication date
RU2012104541A (ru) 2013-08-20
EP2451650B1 (de) 2014-08-27
JP5674781B2 (ja) 2015-02-25
AU2010268786B2 (en) 2014-09-11
EP2451650B2 (de) 2020-09-09
EP2451650A1 (de) 2012-05-16
AU2010268786A1 (en) 2012-02-02
CA2767389C (en) 2018-05-22
US9770934B2 (en) 2017-09-26
JP2012532351A (ja) 2012-12-13
TW201102282A (en) 2011-01-16
TWI525004B (zh) 2016-03-11
CN102725148B (zh) 2016-01-13
US20120146323A1 (en) 2012-06-14
DE102009032697C5 (de) 2020-03-05
WO2011003558A1 (de) 2011-01-13
CN102725148A (zh) 2012-10-10
CA2767389A1 (en) 2011-01-13
MX2012000307A (es) 2012-03-06
RU2540389C2 (ru) 2015-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009032697B3 (de) Mehrschichtkörper
EP2475529B1 (de) Mehrschichtkörper
DE102004016596B4 (de) Sicherheitselement in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers und Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
EP3339048B1 (de) Sicherheitselement mit reflektivem flächenbereich
EP1966769B1 (de) Optisch variables sicherheitselement und verfahren zu seiner herstellung
EP1800271B1 (de) Sicherheitsdokument
EP2234817B1 (de) Folienelement
EP2200841B1 (de) Mehrschichtkörper sowie verfahren zur herstellung eines mehrschichtkörpers
EP2385902B1 (de) Sicherheitselement und sicherheitspapier
DE102015015991A1 (de) Sicherheitselement mit Linsenrasterbild
DE102010050031A1 (de) Sicherheitselement und Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
DE102009022612A1 (de) Sicherheitselement, Sicherheitssystem und Herstellungsverfahren dafür
EP3750717B1 (de) Verfahren zur herstellung eines sicherheitselements sowie ein sicherheitselement
WO2013127650A1 (de) Sicherheitsetikett und ein verfahren zu seiner herstellung
WO2014086715A1 (de) Sicherheitseinrichtung
EP3000614B1 (de) Optisch variables sicherheitselement mit reflektivem flächenbereich
EP3406458B1 (de) Sicherheitselement mit reflektivem flächenbereich
DE102009004251B3 (de) Sicherheitselement sowie Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
DE102015210982A1 (de) Sicherheitsetikett mit Kippeffekt

Legal Events

Date Code Title Description
8363 Opposition against the patent
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: B44F0001120000

Ipc: B42D0025300000

R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: B44F0001120000

Ipc: B42D0025300000

Effective date: 20131211

R006 Appeal filed
R008 Case pending at federal patent court
R011 All appeals rejected, refused or otherwise settled
R034 Decision of examining division/federal patent court maintaining patent in limited form now final
R206 Amended patent specification