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Die
Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einem Emitter-Kontakt, einem
Kollektor-Kontakt und einem Spalt, ein Netzwerk mit mehreren Vorrichtungen,
ein System mit einer Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Herstellung
der Vorrichtung.
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Eine
solche Vorrichtung kann zur quantitativen hochauflösenden
Erfassung von sehr kleinen Bewegungen, Deformationen, Abstandsänderungen und
Lageänderungen im Bereich weniger Nanometer und darunter
verwendet werden. Solche Vorrichtungen sind aus dem Stand der Technik
zahlreich bekannt.
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Beispielsweise
sind einfache Vorrichtungen zur Messung kleinster Abstände
mithilfe nano-optischer Wandler aus den Veröffentlichungen
DE 41065548 ,
US 4286468 ,
US 4421384 ,
US 5891747 und
DE 10039094 bekannt. Sie nutzen vorwiegend das
Prinzip der abstandsabhängigen Transmission von Photonen
durch optisch totalreflektierende Grenzschichten. Der physikalische
Hintergrund für diesen bekannten Effekt wird als evaneszentes
elektromagnetisches Feld bezeichnet und ist dem Tunneleffekt an
einer Potentialbarriere vergleichbar.
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Diese
bisher bekannten Vorrichtungen haben vielfältige Nachteile
in der Fertigung und der Dauerhaftigkeit, weshalb für eine
Serienfertigung in großer Stückzahl erhebliche
Weiterentwicklungen und Verbesserungen notwendig sind. Beispielsweise müssen
dafür lichtleitende Fasern in geeignetem Winkel plangeschliffen,
poliert und dann gegenüber montiert werden, wobei der gewünschte
Spaltabstand geschaffen werden soll. Dies gelingt nicht mit der
gewünschten Präzision und Reproduzierbarkeit.
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Auf
der anderen Seite gibt es komplexe, auch in der räumlichen
Ausdehnung recht große Systeme (ähnlich dem Atomic
Force Microscope – AFM) zur Erfassung von kleinsten Strukturen
mithilfe der Wechselwirkungen mit dem evaneszenten elekromagnetischen
Feld. Diese erfassen z. B. kleinste räumliche oder flächige
Strukturen über die Kraftwirkung im evaneszenten Feld auf
kleinste Spitzen.
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Aufgabe
der hier vorliegenden Erfindung ist es, eine verbesserte Vorrichtung
zur Verfügung zu stellen.
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Nach
einem ersten Aspekt der Erfindung löst diese Aufgabe eine
Vorrichtung mit einem Emitter-Kontakt, einem Kollektor-Kontakt und
einem Spalt, wobei der Spalt so beschaffen ist, dass am Spalt frustrierte
innere Totalreflexion auftritt, wobei die Vorrichtung als integrierte
optische Schaltung ausgestaltet ist. Ein solcher Spalt wird im folgenden als
nano-optischer Spalt, die Vorrichtung als nano-optisches Element
bezeichnet.
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Licht
ist im Folgenden im erweiterten Sinne als elektromagnetische Strahlung
mit optischen Eigenschaften zu verstehen und umfasst insbesondere auch
die Infrarot- und Ultraviolettoptik.
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Der
optische Spalt ist in Oberflächenstruktur und Spaltweite
so beschaffen, dass im Grunde optische Totalreflexion auftritt,
infolge des sehr geringen Abstandes aber dennoch eine teilweise
Transmission des Photonenstroms stattfindet. Die Intensität
der Transmission ist von nanoskopisch kleinen Änderungen
in der Grenzflächenstruktur und in der Weite bzw. effektiven
optischen Breite des Spaltes abhängig.
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Die
einschlägigen Gleichungen für die Intensität
des lokal transmittierten Photonenstroms in Abhängigkeit
von Spaltgeometrie, Wellenlänge und Einstrahlungswinkel
der Photonen bzw. der Photonenwelle sind als physikalisches Phänomen
theoretisch grundsätzlich bekannt. Die Gleichungen für
die Photonenstromdichte in Abhängigkeit von der Weite des wirksamen
nano-optischen Spaltes sind zum Beispiel der Patentschrift
DE 10039094 C1 zu
entnehmen.
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Eine
solche Vorrichtung kann zur quantitativen hochauflösenden
Erfassung von sehr kleinen Bewegungen, Deformationen, Abstandsänderungen und
Lageänderungen im Bereich weniger Nanometer und darunter
sowie zur Erfassung von physikalischen und chemischen Größen,
die mit solchen erfassbaren Änderungen in Beziehung stehen
dienen.
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Die
mit den Abstandsänderungen in Beziehung stehenden physikalischen
und chemischen Zustände bzw. Größen sind
beispielsweise Kräfte, Spannungen, Verzerrungen, Deformationen,
Drücke oder Druckunterschiede, Temperaturen oder Temperaturunterschiede,
Strahlungsdichten, physikalische Felder, chemische Konzentrationen,
Volumenbeladungen in mikroporösen Strukturen, sterische
Konformation von Molekülen bzw. stereo-chemische Unterschiede,
Wirkungen chemischer Reaktionen in Molekülschichten, etc.
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Während
der gesamte erfindungsgemäße Aufbau und insbesondere
das Herstellungsverfahren im Vergleich zu früheren Veröffentlichungen
fundamental abweichen, bleiben die physikalischen Verhältnisse
der getunnelten Photonen-Transmission am nano-optischen Spalt unverändert
bestehen. Die Erfindung ermöglicht indes infolge der erstmals
geleisteten Integration der Bauteile eine industrielle Anwendung
in großem Umfang und die globale Vermarktung der Technologie
als nano-mechano-optischen Wandler bzw. Sensor.
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Durch
die integrierte Bauweise wird eine Serienfertigung mit höchster
Präzision und großer Stückzahl zu geringen
Kosten möglich. Die Herstellung der prinzipiell ähnlichen,
aber aus mehreren Teilen aufgebauten Vorläufer nano-optomechanischer Sensoren
erfordert eine individuelle filigrane Anpassung und Kalibrierung.
Erst die erfindungsgemäße Integration der Vorrichtung
erlaubt eine Serienfertigung mit höchster Präzision
zu günstigen Kosten, weil hierbei auf gut beherrschbare,
aus der Mikroelektronik und Mikro-elektromechanik bekannte Halbleitertechnologien
zur Herstellung der Bauelemente zurückgegriffen werden
kann.
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Neben
der Anpassung der Konstruktion an die Erfordernisse einer hochpräzisen
und hocheffizienten Fertigung, die Anpassung des Systems an die Anforderungen
der hochpräzisen Messungen und Auswertungen ist die Integration
der Systemelemente in kompakte mikroskopische Baugruppen, angepasst
an die Forderungen der Smart System Integration, möglich.
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Vorzugsweise
liegt die Größe der Vorrichtung im Bereich weniger
Mikrometer. Damit ist die erfindungsgemäße Vorrichtung
deutlich kleiner als die bisher aus mehreren Bauteilen zusammengesetzten FTIR
(Frustrated Total Internal Reflection) Systeme.
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Sie
weist bevorzugt einen Messbereich von Bruchteilen eines Nanometers
bis zu wenigen Nanometern auf. So können kleinste Abstände
und Abstandsänderungen erfasst werden. Auf Basis des nano-optischen
Wandlerprinzips sind jedoch auch andere Größenverhältnisse
darstellbar.
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Eine
erfindungsgemäße Vorrichtung verfügt im
Systemschaltbild über mehrere Interfaces, die Kontakte:
Den Emitter-Kontakt zur Einkopplung eines Photonenstroms, der in
der Vorrichtung beeinflusst und anschließend weiter benutzt
wird, und den Kollektor-Kontakt zur Auskopplung eines transmittierten
Photonenstroms, der einen Rückschluss auf die zu erfassende
Größe ermöglicht.
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Weiter
von Vorteil ist, wenn die Vorrichtung einen Spalt-Kontakt aufweist.
Dieser dient zur Einkopplung des zu erfassenden Signals, das den
Kollektor-Photonenstrom beeinflusst.
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Der
Spalt-Kontakt dient dem Input des sensorisch zu erfassenden bzw.
weiterzuverarbeitenden Signals bzw. der entsprechenden physikalischen oder
chemischen Größe, des Zustandes oder des Feldes.
Dadurch steuert der Spalt-Kontakt die optische Spaltweite, sei es
durch mechanische Änderung der geometrischen Spaltweite
oder durch brechungsoptische Variation der optischen Spaltweite durch
Variation des Brechungsindexes am Spalt. Der Spalt-Kontakt steuert
so die optische Transmission am nano-optischen Spalt. Dadurch ändert
sich die Transmission für eine bestimmte Wellenlänge.
Bei Einstrahlung eines breiten Spektrums seitens des Emitters erfolgt
somit eine wellenlängenabhängige Transmission.
So gesehen wirkt der nano-optische Spalt im nano-optischen Element
auch als optischer Filter.
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Das
transmittierte Licht wird entweder aus dem opto-mechanischen System
ausgekoppelt oder innerhalb des integrierten Systems erfasst und,
wenn erforderlich, in ein Signal gewandelt oder es betreibt eine
weitere beispielsweise nano-optische Systemeinheit im Sinne eines
integrierten zumindest teilweise opto-mechanischen Schaltkreises.
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So
wird der nano-optisch aktive Spalt in ein Gesamtsystem eingebettet.
Dieses schließt folgende Schritte ein: die Zuführung
des Photonenstroms am Emitter-Kontakt, die Abführung des
transmittierten Photonenstroms am Kollektor-Kontakt sowie die Anordnung
der Signalwandlung am Spalt-Kontakt, die ursprünglich die
zu detektierenden Veränderungen der optischen Spaltbreite
im nano-optisch aktiven Spalt verursacht.
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Der
Spalt kann mit Luft oder Vakuum gefüllt sein. Der Spalt
kann auch aus einem Material mit geringerem Brechungsindex bestehen
wie transparentem Feststoff. Alternativ kann der Spalt auch mit
einem flüssigen Medium befüllt sein. Dadurch kann
die effektive optische Spaltbreite variiert werden.
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Weiter
können durch geeignete Dotierung die Licht leitenden Bereiche
an den Seiten des Spalts dotiert sein. Dadurch können die
Lichtleiter beiderseits des Spalts integriert werden. Von Vorteil
ist, wenn die Vorrichtung sensorische Eingänge am Spalt-Kontakt
aufweist. Diese Einbettung, vorzugsweise auf einem einzigen Chip,
dient der Systemintegration.
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Die
Vorrichtung kann weiter einen Vorsprung aufweisen. Dieser kann als
Lichteinkoppler und/oder Lichtauskoppler verwendet werden.
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Vorteilhaft
ist, wenn die Vorrichtung mechanische Aussparungen aufweist, die
so angeordnet sind, dass sie eine Änderung der Spaltweite
erleichtern. So können beispielsweise Kavitäten
oder Lamellen vorgesehen sein, die die Deformation erleichtern.
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Vorteilhafterweise
wird als Licht leitendes Material ein anisotropes Material verwendet.
Um in der Licht leitenden Schicht einen möglichst fokussierten
Lichtstrahl zu erhalten, kann einerseits eingangsseitig mit gebündeltem
Licht gearbeitet werden, andererseits bieten sich hier anisotrope
Materialien an, sodass durch eine anisotrope Lichtleitung parallel
zur Orientierung eine bestmögliche Lichtbündelung
erhalten wird. Solche Materialien haben zudem den Vorteil, dass
bei der Herstellung im Schichtaufbau auf eine spätere Justierung,
wie sie beim Einsatz von integrierten Lichtwellenleitern gegebenenfalls
nötig wäre, verzichtet werden kann.
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Aus
der Struktur des Bauelements kann weiteres Material abgetragen werden,
um durch Kavitäten oder eine Lamellenstruktur eine höhere
Empfindlichkeit einzustellen.
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Von
Vorteil ist, wenn die Vorrichtung am Spalt eine Gitter-Matrix aufweist.
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Vorteilhafterweise
kann die Vorrichtung eine Messspitze aufweisen. Hierbei werden der
Spalt und die Messspitze so angeordnet, dass sich eine Auslenkung
der Messspitze auf die Spaltbreite auswirkt. Dadurch wird eine Messung
der Auslenkung der Messspitze möglich.
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Die
Vorrichtung kann eine Druckkammer aufweisen. Diese wird ebenfalls
so angeordnet, dass eine Änderung des Druckes eine Änderung
der Spaltweite verursacht. So wird über die Spaltweite
eine Druckmessung möglich.
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In
beiden Formen der Kraftmessung wird mittels mechanischer kraftabhängiger
Deformation die geometrische Spaltweite selbst deformiert und dadurch
die optische Spaltweite für gegebene Wellenlängen
geändert. Dabei ist die geometrische Struktur der Vorrichtung
so gewählt, dass mechanische Kräfte in geeignete
reversible Änderungen am nano-optischen Spalt umgesetzt
werden.
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Ein
weiterer Aspekt der Erfindung umfasst ein Netzwerk mit mehreren
Vorrichtungen, wobei das Netzwerk in ein Bauteil integriert ist.
Die Vorrichtungen können lineare Elemente z. B. in Form
von Fasern sein, die zu Netzwerken verbunden werden können.
Eine bevorzugte Anwendung dieser faserförmigen Vorrichtungen
beinhaltet sensorische Bereiche an definierten Stellen, die eine
Erfassung mechanischer Deformationen und/oder Belastungen an diesen
Bereichen ermöglichen. Nach Integration dieser nano-optischen
Fasern in Bauteile, z. B. in lasttragende Teile von Flugzeugen,
kann über das nano-optische Netzwerk die räumliche
und zeitliche Verteilung der Belastung und Deformation erfasst werden. Dies
erlaubt eine genaue Analyse der Materialbelastung bis hin zur frühzeitigen
Erfassung beginnender Materialschäden im nanoskopischen
Bereich wie feinste Risse oder Versetzungen im Nanometerbereich
und darunter.
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Hierbei
kann der optische Spalt als Fluidkanal ausgebildet sein. In dem
spaltförmigen Kanal können Gase und/oder Flüssigkeiten
eingebracht werden. Die Änderungen des Brechungsindexes
der Fluidfüllung in den Spaltbereichen erzeugt eine Änderung
der effektiven optischen Spaltbreite. Dies ermöglicht eine
Analyse der optischen Eigenschaften der Flüssigkeit oder
eine Anpassung der Eigenschaften der Vorrichtung an bestimmte Aufgaben.
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In
einer solchen Anordnung kann grundsätzlich auch die Wirkung
des hydrostatischen Drucks auf die Deformation der spaltförmigen
Kanäle erfasst werden, weil sich dadurch die geometrische
Spaltbreite, abhängig von der mechanischen Steifigkeit der
Kanalkonstruktion, ändert. Im Grenzfall ist auch eine Membranbauweise
möglich.
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Allgemein
betrachtet werden sich bei solchen Anordnungen Änderungen
in den optischen Eigenschaften des Fluidums und Änderungen
in der räumlichen Ausdehnung des optisch wirksamen Spalts überlagern.
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Es
können drei oder vorzugsweise sechs Vorrichtungen zur Bestimmung
der sechs Koordinaten der räumlichen Orientierung einer
Messspitze eines Scanning-Nanoskops verwendet werden.
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Das
nanoskopische Bild entsteht durch Abtasten des Objekts mittels dieser
sensorischen Spitze. Die Vorrichtungen erlauben die Erfassung der drei
translatorischen und der drei rotatorischen Komponenten des Positionsvektors,
der die sensorische Spitze beschreibt. Damit ist eine hochgenaue
und sehr zuverlässige Erfassung der Position der sensorischen
Spitze mit geringstem Rauschen darstellbar. Die Überlegenheit
dieses nano-optischen 3D-Nanoskops zeigt sich in der Auflösung
und in der Reproduzierbarkeit sowie in der Freiheit, die Wechselwirkung zu
wählen, die letztlich das Bild erzeugt.
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Eine
im räumlichen Aufbau dem 3D-Nanonskop ähnliche
Ausführung nutzt die Möglichkeit, die sensorische
Erfassung des Raumvektors zur Manipulatorspitze mit einem bestimmten
separaten Wellenlängenbereich durchzuführen, während
ein anderer davon unabhängiger Wellenbereich ein optisches Strahlungsfeld
erzeugt, das die Positionierung des Nanomanipulators ermöglicht.
Hierbei handelt es sich also um die Kombination einer opto-mechanischen
Positionierung mit einer nano-optischen Positionsmessung.
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Unter
der Voraussetzung einer im Detail geeigneten Konstruktion des Systems
kann die Manipulatorspitze allein opto-mechanisch gelagert werden, also
frei im inhomogenen optischen Strahlungsfeld schweben. In einer
besonders bevorzugten Ausführung ist eine Rückkopplung
vom Signal der nano-optischen Positionssensoren auf die Intensität
des opto-mechanischen Strahlungsfeldes integriert, sodass die Position
der Manipulatorspitze mit einfachen Steuerbefehlen gesteuert und
stabilisiert werden kann. Auf Grundlage des 3D-Nanomanipulators
kann eine Vorrichtung zur Materialbeeinflussung und/oder Materialbearbeitung
angebracht werden. Dabei kann die Bearbeitung mit höchster
Genauigkeit im Nanometerbereich durchgeführt werden.
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Ein
weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein System mit einer Vorrichtung,
wobei es mindestens ein opto-mechanisches und/oder elektronisches und/oder
photonisches und/oder elektromechanisches Element aufweist. Opto-mechanische
Aktuatoren beispielsweise ermöglichen die Integration zusätzlicher
aktuatorischer Funktionen. Opto-mechanische Aktuatoren wandeln optische
Felder in mechanisch wirksame Größen, insbesondere
in Kräfte bzw. in mechanisch wirksame Potentialfelder um.
Die opto-mechanische Potentialerzeugung selbst ist von der optischen
Pinzette (z. B. Ashkin 1990) bekannt. Erfindungsgemäß ist
die Integration solcher opto-mechanischer Aktuatoren in ein nano-optomechanisches
System.
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Das
System kann eine emitterseitige Lichtquelle aufweisen. Auch kann
das System einen kollektorseitigen Lichtsensor aufweisen.
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Das
System kann weiter einen Wandler aufweisen. Dabei kann es sich um
vorgeschaltete Wandler, die eine Abstandsänderung z. B.
im Nanometerbereich verursachen als auch um nachgeschaltete Wandler,
die den transmittierten Photonenstrom nutzen, um eine weitere Wandlung
durchzuführen, z. B. in elektronische Signale (z. B. mittels
photoelektrischem Effekt) oder in chemische Signale (z. B. mittels
photochemischem Effekt, wie Farbumschlag).
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Ein
weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung
einer Vorrichtung, wobei zunächst auf Grundlage eines Licht
leitenden Materials ein Zwischenträger aufgebracht wird,
dann eine weitere Schicht Licht leitenden Materials aufgebracht wird
und schließlich ein Teil des Zwischenträgers wieder
entfernt wird. Dabei werden Verfahren der Halbleitertechnologie
verwendet, insbesondere eine geeignete Schichtung im Rahmen einer
Multilager-Struktur. Das hochgenaue Auftragen definierter Schichten
mit definierten Brechungsindizes ist aus der Halbleitertechnologie
bekannt, z. B. Epitaxie, Technologien der gezielten Dotierung und
Technologien des physikalischen und oder chemischen Ätzens
und des physikalischen oder chemischen Bondens. Erfindungsgemäß können
auf diese Weise totalreflektierende Spaltschichten hergestellt werden. Durch
eine hochpräzise Fertigung können die geforderten
Genauigkeiten erreicht werden.
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Vorteilhaft
ist ein Verfahren, bei dem zwischen die leitenden Materialien eine
lichtundurchlässige Schicht aufgebracht wird und teilweise
wieder entfernt wird.
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Dabei
kann das Material in einem nachgelagerten Schritt abgetragen werden.
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Schließlich
kann ein Vorsprung angebracht werden. Dieser kann als Lichteinkoppler
und/oder Lichtauskoppler dienen.
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Der
Spalt kann durch selektives Ätzen geätzt werden.
Dabei können sowohl physikalische als auch chemische Ätzverfahren
Anwendung finden.
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Von
Vorteil ist, wenn der Spaltbereich aus geeignet modifiziertem Material
gebildet wird, das einem Ätzen einen geringeren Widerstand
entgegensetzt als der nach dem Ätzen stehenbleibende Randbereich,
auf dem sich der Spalt aufstützt.
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Alternativ
oder kumulativ kann der Spalt durch Aussparen einer mittleren Schicht
im Bereich des Spalts und in einem nachgelagerten Schritt durch Bonden
der Deckschicht gebildet werden.
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Insgesamt
bestehen die Grenzschichten aus feinsten und sehr glatten Schichten
mit geeigneten optischen Eigenschaften. Die Form der Lichtleiter
ist an die Strahlgeometrie und an die Wahl der Brechungsindizes
im Lichtweg angepasst.
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Von
Vorteil ist ein Verfahren, bei dem mehrere Vorrichtungen als ein
Stück produziert werden und dieses Stück dann
in kleinere Stücke mit jeweils mindestens einer einzelnen
Schaltung zerschnitten wird. So wird eine Serienfertigung möglich.
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Ein
letzter Aspekt der Erfindung betrifft schließlich ein Verfahren
zur Messung mit einer Vorrichtung, wobei ein Referenzphotonenstrom
abgezweigt und gemessen wird. Dieser kann beispielsweise bei einer
integrierten Lichtquelle als Emitter von diesem abgezweigt werden.
Der Referenzphotonenstrom ist zum Photonenstrom des Emitters proportional.
Das nicht abgezweigte Licht treibt den Photonenstrom am Emitter-Kontakt
der Vorrichtung an.
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Das
Herstellungsverfahren ist auf herkömmlichen Fabrikationsanlagen
für Halbleiterbausteine und/oder mikro-elektro-mechanische
Systeme (MEMS) durchführbar. Die Herstellung solcher MEMS-Bausteine
ist prinzipiell vielfältig bekannt und beschrieben. So
beschreibt die
DE
10029012 C2 den Aufbau und die Herstellung solcher Strukturen
für elektrisch leitfähige Substrate, ohne dabei
auf die Anwendbarkeit für optisch leitende Materialien
einzugehen.
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Die
Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.
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Hierin
zeigen:
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1 den
schematischen Aufbau eines nano-optischen Elements,
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2 das
Funktionsschaltbild eines nano-optischen Elements,
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3 ausgehend
von 2 ein um einen Wandler erweitertes Schaltbild,
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4 ausgehend
von 3 ein um Photoneninput und -output erweitertes
Schaltbild,
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5 ausgehend
von 4 ein erweitertes Schaltbild in dem ein Referenzphotonenstrom
abgezweigt wird,
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6 ausgehend
von 5 ein erweitertes Schaltbild, wobei ein Strahlungsfeld
als Quelle des sensorischen Inputs dient,
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7 den
prinzipiellen mehrschichtigen Aufbau eines nano-optischen Elements,
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8 eine
Abwandlung des Aufbaus aus 7,
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9 den
grundsätzlichen Aufbau des nano-optischen Elements in einer
linearen, faserartigen Ausgestaltung,
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10 ein
Netzwerk aus nano-optischen Elementen, hier faserartig ausgeführt
wie in 9 dargestellt,
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11 eine
räumliche Struktur mit mehr als einem nano-optischen Element,
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12 den
Querschnitt durch eine Anordnung wie 11,
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13 die
Anordnung aus 11, ergänzt durch ein
integriertes System zur opto-mechanischen Lagerung und Manipulation
der Spitze,
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14 das
schrittweise Verfahren zur Herstellung eines nano-optischen Bauelements
in Multilager-Struktur,
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15 den
Herstellungsprozess eines schichtweisen Aufbaus,
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16 eine
3-D Ansicht mehrerer als ein Stück produzierter Vorrichtungen,
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17a bis d verschiedene Ausführungen des
nano-optischen Elements,
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18a bis e weitere Ausführungen des nano-optischen
Elements,
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19 ein
nano-optisches Element mit einer Messspitze,
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20 ein
nano-optisches Element mit einer Druckkammer.
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Das
nano-optische Element 1 in 1 besteht
aus einem vorwiegend kompakten Material 2, z. B. einem
Lichtleiter oder Halbleiter, der unter Umständen aus mehreren
teilweise unterschiedlichen Bereichen oder mehreren Schichten besteht.
Weiter weist es einen lichtleitenden Bereich 3 auf, der
ausgehend vom Emitter-Kontakt 4 einen Photonenstrom zum
totalreflektierenden Spalt 5 führt. Der für
Licht zumindest teilweise totalreflektierende Spalt 5 wird durch
zwei vorwiegend parallele Grenzflächen 6 und 7,
die im Allgemeinen zweidimensionale Hyperflächen des dreidimensionalen
Raumes sind, gebildet. Der Spalt muss nicht eben sein.
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Das
nano-optische Element 1 weist zudem einen lichtleitenden
Bereich 8 auf, der einen transmittierten Photonenstrom
vom Spalt 5 zum Kollektor-Kontakt 9 führt.
Ein veränderliches Element 10 bewirkt eine Variation
der effektiv wirksamen optischen Spaltbreite im Spalt. Die effektive
Distanz, die der Spalt 5 im Bereich des effektiven Lichtdurchtritts aufweist,
ist eine Funktion der geometrischen Distanz, der Strahlwinkel und
der Brechungsindizes.
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2 zeigt
als Funktionsschaltbild ein nano-optisches Element. Dieses zeigt
das nano-optische Bauelement 11 als kompakten Chip. Am
Emitter-Kontakt 13 wird der Photonenstrom 15 eingespeist.
Der Lichtleiter 12 leitet diesen vom Emitter-Kontakt 13 zum
nano-optisch aktiven Spalt 14. Am Spalt beeinflusst die
Einwirkung 16 auf den Spalt-Kontakt 17 die effektive
Spaltbreite und damit den transmittierten Photonenstrom. Der Lichtleiter 18 wiederum
leitet den transmittierten Photonenstrom vom Spalt 14 zum
Kollektor-Kontakt 19. Schließlich verlässt
der Photonenstrom 20 den Kollektor-Kontakt 19.
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3 zeigt
das Schaltbild in 2 um folgende Elemente erweitert:
ein Wandler 21 zur Erzeugung der Veränderung der
effektiven Spaltbreite im Spalt 14 bei sensorischem Input 22 auf
den Wandler 21, zum Beispiel Kraft, Druck und die Quelle 23 des sensorischen
Inputs, zum Erfassen des Feldes, Objekts, Zustands, etc.
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4 zeigt
das Schaltbild wie 3, erweitert um folgende Elemente:
den Photoneninput 24, z. B. die Lichtquelle oder den Anschluss
an einen vorhergehenden, insbesondere als Wandler von Energie in
Photonen mit geeigneten Strahleigenschaften für den Betrieb
des nano-optischen Elements, den Energiestrom 25 zum Antrieb
des Photonenerzeugers bzw. Photonenwandlers, die Energiequelle 26,
den Photonenoutput 27, z. B. als photoelektrisches Element
oder als Input in den nachfolgenden Emitter-Kontakt, insbesondere
als Wandler des Photonenstroms in einen sensorischen Output, den
Informationsstrom 28 und gegebenenfalls auch Energiestrom
vom Output-Wandler zum Empfänger 29 des sensorischen
Outputs.
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5 zeigt
das Schaltbild wie 4, erweitert um folgende Elemente:
den Referenzphotonenstrom 30 zur Kalibrierung und Messung
des transmittierten Photonenstroms 18 am Kollektor-Kontakt 19. Dies
beinhaltet einen teilweisen Abgriff einer proportionalen Photonenstromdichte
aus dem Photonenstrom 15 am Emitter-Kontakt 13 und
die Einkopplung dieses photonischen Signals in den Wandler 27 zur Bestimmung
der relativen Transmission am Spalt 14 anhand des messbaren
Photonenstromes am Kollektor 19. Dadurch werden die Vorrichtung
und das System unabhängig von der Qualität der
Stabilisierung des Photonenstroms in den Emitter.
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6 zeigt
das Schaltbild wie 5, erweitert um folgende Elemente:
als Quelle des sensorischen Inputs dient ein Strahlungsfeld 31.
Der Wandler 32 erzeugt daraus die variable Spaltbreite
und diese moduliert entsprechend den transmittierten Photonenstrom 18 am
Kollektor 19.
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Dieses
Schaltbild ähnelt dem eines Transistors, wobei beim Transistor
an Stelle des Spalt-Kontaktes 17 der Basiskontakt als Steuerkontakt
ausgelegt ist, ohne Integration des nano-optischen Wandlers.
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Der
Spaltkonakt 17 kann über ein photonensensitives
Element, den Wandler 32, gespeist werden, das in Abhängigkeit
vom Photonenstrom oder von einer Strahlungsdichte eine Veränderung
der optischen Spaltbreite im nano-optischen Wandler bewirkt. In
diesem Fall können für die Steuerung des Spalt-Kontaktes 17 Photonenfelder
unterschiedlicher Art verwendet werden, unabhängig von
der Art des Photonenfeldes, das den Emitter-Kontakt 13 speist.
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Damit
unterscheidet sich ein auf diese Weise aufgebauter nano-optischer
Phototransistor grundsätzlich von einem herkömmlichen
Transistor. Beim herkömmlichen Transistor sind die Feldtypen
am Emitter-Kontakt und am Basiskontakt identisch, z. B. beide sind
elektronischer Natur. Beim nano-optischen Transistor kann z. B.
der Feldtyp am Emitter-Kontakt 13 im Bereich des Infrarotlichts
oder des sichtbaren Lichts liegen, der Feldtyp am nano-optischen
Spalt-Kontakt 17 kann unabhängig davon ein hochenergetisches
Strahlungsfeld sein, z. B. kosmische Strahlung, Röntgenstrahlung,
etc. oder ein niederenergetisches Strahlungsfeld, z. B. Radiowellen, Mikrowellen,
etc.
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Grundsätzlich
ist es nach diesem allgemeinen Aufbau auch möglich, Wandlertypen
am Spalt-Kontakt 17 vorzuschalten, die eine bisher nicht bekannte
Form eines physikalisch-chemischen Feldes erfassen und in kleinste Änderungen
der optischen Spaltbreite am nano-optischen Spalt umwandeln können.
Dies beinhaltet insbesondere die Möglichkeit, mit Hilfe
des integrierten nano-optischen Wandlers physikalische und chemische
Zustände, Felder und Größen zu erfassen
(z. B. quantitativ oder qualitativ), die bisher mit anderen Methoden
und Vorrichtungen nicht erfassbar waren.
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7 zeigt
den prinzipiellen mehrschichtigen Aufbau eines nano-optischen Elements 41.
Dieses besteht vorwiegend aus einem massiven Block 42 geringer
Größe, zum Beispiel aus Halbleitermaterial oder
einem anderen geeigneten Material, vorzugsweise aus mehreren unterschiedlichen
Ebenen (sogenanntes Multi-Layer). Weiter weist es einen dotierten
Bereich 43 auf, der insbesondere durch Dotierungen die
geeignete Form und die lichtleitenden Eigenschaften des Emitters
erhält. Der Spalt 44 ist entweder ohne festes
Material ausgestaltet, evakuiert oder mit einem Fluidum gefüllt.
Der Spalt bildet zum Beispiel einen Kanal und wird insbesondere
im Zuge des schrittweisen Schichtaufbaus erzeugt.
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Das
nano-optische Element 41 weist einen weiteren dotierten
Bereich 45 auf, der insbesondere durch Dotierung die geeignete
Form und die Licht leitenden Eigenschaften des Kollektors erhält.
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Die
Abstandsschicht 46, bestehend aus zumindest einem massiven
Bereich, wird in ihrer Dicke durch Einfluss der zu ermittelnden
Größen, Zustände oder Felder beeinflusst.
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Der
schrittweise Schichtaufbau kann auch physikalisches Ätzen,
chemisches Ätzen und Bonden enthalten.
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8 zeigt
eine Abwandlung des Aufbaus aus 7. Bei diesem
nano-optischen Element 51 besteht der Spalt 54 nicht
aus einem leeren oder gasgefüllten Raum (der einen Brechungsindex
von ungefähr 1,0 hätte), sondern aus einer festen
Schicht mit geeignetem, vorzugsweise sehr niedrigem Brechungsindex.
Die Dicke dieser Schicht kann sich z. B. durch Beeinflussung ändern,
indem sich die geometrische Dicke ändert und/oder auch
die optische Dicke sich über dem Brechungsindex ändert.
In dieser Ausführung sind keine Kanäle zur Erzeugung
des Spaltes erforderlich. Die Distanzschicht selbst wirkt in diesem
Fall als nano-optischer Spalt. Ansonsten bleibt das nano-optische
Element 51 im Aufbau gleich oder ähnlich. Es handelt
sich ebenfalls um einen massiven Block 52 mit 2 dotierten
Bereichen, einem Emitter 53 und einem Kollektor 55.
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9 zeigt
den grundsätzlichen Aufbau eines nano-optischen Elements 61 in
einer faserartigen vorzugsweise linearen Ausgestaltung. Auch dieses
besteht aus einem vorwiegend kompakten Material 62, das
hier als umschließender Mantel ausgeführt ist,
dieses ist jedoch insbesondere im Bereich des nano-optischen Spalts
elastisch und/oder plastisch deformierbar. Der Licht leitende Bereich 63 ist hier
als Kernfaser ausgeführt, die ausgehend vom Emitter-Kontakt 64 einen
Photonenstrom zum total reflektierenden Spalt 65 führt.
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Die
Elastizität und Plastizität von Kernfaser 63 und
Faserhülle 62 wird so abgestimmt, dass Deformationen
der gesamten Faserstruktur zu einer Änderung der opto-mechanischen
Spaltbreite führen. Die Erfassung des dadurch veränderlichen
Photonensignals dient dann der Analyse der mechanischen Deformationen,
die zur Deformation des nano-optischen Spaltes geführt
haben.
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Der
für Licht zumindest teilweise total reflektierende Spalt 65 wird
durch zwei vorwiegend plan parallele Grenzflächen, die
im Allgemeinen zweidimensionale Hyperflächen des dreidimensionalen Raumes
sind, begrenzt. Der Spalt 65 muss dabei nicht eben sein.
Der Licht leitende Bereich 63, hier ausgeführt
als Kernfaser, führt einen transmittierten Photonenstrom
weiter vom Spalt 65 zum Kollektor-Kontakt 66.
Die Weite des Spaltes 65 in der Kernfaser 63 ändert
sich, sobald eine Deformation des Mantels 62 auftritt.
Die Deformation kann elastisch und/oder plastisch sein.
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10 zeigt
ein Netzwerk 71 aus nano-optischen Elementen, die hier
faserartig ausgeführt sind wie in 9 gezeigt
und beschrieben. Dieses Netzwerk weist mehrere nano-optische Elemente 72, 73, 74, 75, 76 und 77 auf.
Diese sind über Lichtleiter 78 mit dem Photoneninput 79 verbunden,
der die Bauelemente versorgt. Den nano-optisch aktiven Spalten 80, 81, 82, 83, 84 und 85 wird
eine Raumposition zugeordnet.
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Ein
weiterer Lichtleiter 86 führt von den nano-optischen
Bauelementen zu einer Kollektorzentrale 87 oder zu mehreren
Kollektoren, die mit Zuordnung zu deren Raumposition ausgewertet
werden.
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Eine
solche oder gleichwertige Anordnung erlaubt z. B. die räumliche
Analyse von Spannungen, Deformationen und Materialschäden.
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11 zeigt
eine räumliche Struktur 91 mit mehr als einem
nano-optischen Spalt in der Ausführung mit mehr als einem
nano-optischen Element. Nur zwei der vier Spalte zeigen nach vorne
und sind sichtbar.
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Dafür
weist es einen gemeinsamen Träger 92 für
die emitterseitigen Grenzflächen mehrerer nano-optischer
Elemente auf. Dabei werden die Emitter 93 und 93' über
den Lichtweg 94 und 94' versorgt. Die nano-optischen
Elemente 95 und 95' werden an definierten Stellen
gebildet, indem die emitterseitigen und kollektorseitigen Grenzflächen
angenähert werden.
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Lichtleiter 96 und 96' führen
von den nano-optischen Elementen zu den Kollektoren 97 und 97',
die z. B. mit Zuordnung zu der Raumposition ausgewertet werden können.
Diese Ausführungsform kann beispielsweise einen ringförmigen
Träger 98 aufweisen, der die kollektorseitigen
Grenzflächen aufweist.
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Beispielhaft
kann eine Pyramidenspitze 99 im emitterseitigen Träger
gestaltet sein, deren Position relativ zum kollektorseitigen Gegenstück
erfasst werden kann.
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Die
Grenzflächen der nano-optischen Spalte 95 und 95',
stehen in bekannter fester räumlicher Anordnung zueinander,
zum Beispiel durch Anbringung in einem gemeinsamen Träger 92 mit
z. B. pyramidenförmiger Spitze 99. Die Spitze 99 ist
umgeben von einem umfassenden Kollektorring 98. Aus der vernetzenden
Auswertung der transmittierten Photonenströme 96 und 96' an
den mehreren Kollektoren 97 und 97' kann auf die Relativposition
des Trägers 92 und der Spitze 99 geschlossen
werden. Die Zuordnung von Emitter 93 und 93' in
das Mittelstück des Trägers 92 mit Spitze 99 und
den Kollektoren 97 und 97' in das Ringstück 98 kann
auch umgekehrt erfolgen, d. h. das Ringstück 98 kann
auch mit Emitter 93 Mittelstück 92 und
entsprechend mit Kollektoren 97 ausgestattet sein oder
alternierend.
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12 zeigt
den Querschnitt durch eine Anordnung 91 wie in der 11 dargestellt
mit vier nano-optischen Spalten, von denen erneut zwei 95 und 95'' sichtbar
sind. Hierbei trägt das Mittelstück als gemeinsamer
Träger 92 die Emitter 93 und 93'',
das Ringstück 98 trägt die Kollektoren 97 und 97''.
Die Figur zeigt in der Schnittebene zwei der vier nano-optischen
Elemente jeweils mit Emitter, Spalt und Kollektor 93, 95, 97 bzw. 93'', 95'', 97'' sowie
den beiden Kollektorstrahlen 96' und 96''' in
der zur Schnittebene senkrechten Ebene.
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Weiter
ist eine totalreflektierende Facette 100 in den kollektorseitigen
Ring 98 integriert, um eine Ablenkung des Photonenstroms
an die Kollektoren 97 und 97'' zu bewerkstelligen.
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13 zeigt
die beispielhafte Anordnung aus 11, ergänzt
durch ein integriertes System zur optomechanischen Lagerung und
Manipulation der Spitze. Dabei sind Photonenstrahler 101, 101', 101'' und 101''' zum
Aufbau eines inhomogenen Photonenfeldes und damit eines Potentialfeldes
vorgesehen, das die Lagerung des Trägers 92 und
die Manipulation der Spitze 99 ermöglicht. Dargestellt sind
Photonenströme in der Schnittebene und in der dazu senkrechten
Raumebene. Die Erfassung der Position der Spitze 99 erfolgt
durch Auswertung der transmittierten Photonenströme 96, 96', 96'' und 96'''.
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Die
Rückkopplung der Position auf die Intensität und/oder
die Richtung der Photonenströme 101, 101', 101'' und 101''' ermöglicht
die gezielte Manipulation der Spitze 99 relativ zur Position
des Ringteils 98 im dreidimensionalen Raum.
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14 zeigt
das schrittweise Verfahren zur Herstellung eines nano-optischen
Bauelements mit nano-optischem Spalt in multi-layer Struktur. Dabei zeigt 14a) eine erste Schicht 111 als Basis
für den Aufbau, in 14b)
ist auf diese die Kollektorschicht 112 aufgebaut. In 14c) wird der kollektorseitige Licht leitende
Bereich 113 hergestellt. In 14d)
erfolgt der Aufbau der Spaltschicht 114. Falls mit einem
Spaltkanal gearbeitet wird, kann dieser Schritt aus mehreren Teilschritten
bestehen, einschließlich dotieren, ätzen etc.
In 14e) wird die Emitterschicht 115 aufgebaut.
In 14f) wird der emitterseitige
Licht leitende Bereich 116 hergestellt. In 14g) wird der Schichtaufbau durch eine weitere
Basisschicht 117 abgeschlossen.
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Dabei
können im Rahmen der Erfindung vielfältige Variationen
des Verfahrens zum Aufbau der Multi-Layer-Struktur vorgenommen werden.
Insbesondere können Bereiche mit Gradientenindex integriert
werden, z. B. mittels aufeinanderfolgender dünner Schichten.
Weiter kann die Reihenfolge des Schichtaufbaus umgedreht werden
und mit dem Emitter begonnen werden. Schließlich können
auch Emitterseite und Kollektorseite zunächst getrennt aufgebaut
werden und dann unter Bildung des Spalts gebonded bzw. anderweitig
zusammengefügt werden.
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Auch 15 zeigt
ein mögliches, vorteilhaft schichtweises Herstellverfahren
eines nano-optischen Elements. Auf Grundlage eines nichtleitenden Materials 121 (15a) kann optional eine lichtundurchlässige
Schicht 122 aufgebracht werden, beispielsweise durch Bedampfen
(15b). Diese Schicht 122 wird wie in 15c) dargestellt wieder teilweise freigesetzt,
idealerweise als Raster oder Matrix-Gitter 123, beispielsweise
durch Fräsen oder Ätzen.
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Um
die Spaltgeometrie herzustellen, wird ein Zwischenträger 124 darüber
beschichtet (15d) und eine weitere Schicht
eines Licht leitenden Materials 125 wird aufgetragen (15e).
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Durch
geeignete Methoden wie Ätzen wird dann ein Teil des Zwischenträgers 125 entfernt,
sodass ein Spalt 126 entsteht (15f).
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Wie
in 15g) dargestellt können
durch optionales Abtragen von Material eine Lamellenstruktur erstellt
werden oder Kavitäten wie 127 und 128 hergestellt
werden. Abschließend können ein Lichteinkoppler 129 und
ein Lichtauskoppler 130 für den senkrechten Lichtaustritt
angebracht werden.
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In 16 ist
ein im Querschnitt in 15h) dargestellter
nano-optischer Waver 120 dreidimensional dargestellt. Hierbei
ist ersichtlich, dass er in Längsachse fortlaufend produzierbar
ist und entsprechend in einzelne Bauelemente geschnitten werden kann.
Auch dieser weist alle Bestandteile auf: Auf Grundlage des Licht
leitenden Materials 121 ist eine lichtundurchlässige
Schicht 122 teilweise in Form eines Gitters 123 aufgebracht.
Darüber sind teilweise der Zwischenträger 124 sowie
der Spalt 126 angeordnet. Nach oben wird der Schichtaufbau
erneut durch eine weitere Schicht Licht leitenden Materials 125 abgeschlossen.
Das Licht leitende Material weist auf beiden Seiten sowohl Kavitäten 127 und 128 als auch
Vorsprünge als Lichteinkoppler 129 und Lichtauskoppler 130 auf.
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Die 17 zeigt verschiedene Ausführungen
des nano-optischen Elements. Dabei zeigen die 17a) und b) nano-optische Elemente in Blockbauweise,
wohingegen die 17c) und d) nano-optische Elemente
in Faserbauweise zeigen.
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Beim
nano-optischen Element 131 in 17a)
wird der Lichtweg im Licht leitenden Material 132 durch
die Pfeile 133 und 134 veranschaulicht. Dabei
tritt das Material an Stelle 131 in das lichtleitende Material 132 ein
und wird zunächst an einer totalreflektierenden Facette 135 erstmalig
reflektiert und dadurch in Richtung zum Spalt 136 abgelenkt.
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Das
am Spalt 136 transmittierte Licht wird dann an einer zweiten
totalreflektierenden Facette 137 erneut umgelenkt und verlässt
den Lichtleiter 132 in Richtung des Pfeils 134.
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Bei
dem nano-optischen Element 141 in 17b)
hingegen erfolgt die Einkopplung des Lichtes in den Lichtleiter 142 mit
Hilfe eines Licht einkopplers 143. Das Licht tritt über
den Lichteinkoppler 143 in den Lichtleiter 142 ein,
wird am Spalt 147 totalreflektiert und allein der transmittierte
Photonenstrom setzt sich im Lichtleiter fort und wird durch den Lichtauskoppler 144 aus
dem Lichtleiter ausgekoppelt. Dabei geben die Pfeile 145 und 146 und
die sich dazwischen ersteckende Linie den Lichtweg an.
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Bei
dem nano-optischen Element 151 aus einem Lichtleiter 152 ist
der optische Spalt 153 in Form eines Würfels 154 eingesetzt.
Wieder geben die Pfeile 155 und 156 das eintretende
und das transmittierte Licht an.
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In
dem lichtleitenden Element 161 in 17d)
ist der Spalt 162 in den Lichtleiter 163 integriert.
Auch hier geben die Pfeile 164 und 165 das eintretende
und das transmittierte Licht an.
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Die 18 zeigt beispielhafte Ausführungen für
den Schichtaufbau nano-optischer Elemente im Blockaufbau bis hin
zur Ausdünnung der Lagerung an der Biegezunge.
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Dabei
zeigt 18a) ein nano-optisches Element 171 bestehend
aus einem einteiligen Lichtleiter 172, der einen Spalt 173 aufweist.
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Das
nano-optische Element 181 in 18b) besteht
im Gegensatz dazu aus zwei Lichtleitern 182 und 183,
wobei der obere Lichtleiter 183 eine Aussparung aufweist,
durch die der Spalt 184 gebildet wird.
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In 18c) wird ein Licht leitendes Element 191 dargestellt.
Dieses weist zwischen zwei unterschiedlichen Lichtleitern, dem unteren
Lichtleiter 192 und dem oberen Lichtleiter 193,
eine Zwischenschicht 194 auf, die als Platzhalter für
den Spalt 195 dient. Diese Zwischenschicht kann entweder
nur teilweise aufgebracht werden oder durch Ätzen des Spaltes
wieder entfernt werden.
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18d) zeigt eine Ausführungsform des nano-optischen
Elements 201, in dem sowohl der untere Lichtleiter 202 als
auch der obere Lichtleiter 203 durch eine Aussparung 204 teilweise
ausgedünnt sind. Dies führt zu einer leichteren
Verformbarkeit der beiden Lichtleiter 202 und 203.
Eine Änderung der Spaltweite des Spaltes 205 wird
erleichtert. Dies erhöht die Sensibilität des
nano-optischen Elements 201. Auch das nano-optische Element 201 weist
eine Zwischenschicht 206 auf.
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Beim
nano-optischen Element 211 in 18e)
ist der obere Lichtleiter 213 zwar einstückig ausgestaltet,
der untere Lichtleiter 202 ist jedoch zweistückig
in ein linkes Stück 203 und ein rechtes Stück 204 unterteilt.
Diese Stücke sind nur durch eine Verbindungsschicht 205 verbunden.
Dadurch wird die Stabilität des unteren Lichtleiters 202 gegen
Verbiegungen deutlich herabgesetzt und die optische Spaltweite ist
dadurch leichter veränderbar, was die Messgenauigkeit erhöht.
Der optische Spalt 206 wird wieder mithilfe einer Zwischenschicht 207 gebildet.
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19 zeigt
einen nano-optischen Mikroskopsensor in Fühlerform 221.
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Auch
dieser besteht aus zwei Lichtleitern, dem unteren Lichtleiter 222 und
dem oberen Lichtleiter 223. Dazwischen befindet sich der
mit einer Zwischenschicht 224 gebildete nano-optische Spalt 225. Zudem
weist der untere Lichtleiter 222 eine Messspitze 226 auf.
Die Pfeile 227 und 228 mit der dazwischen befindlichen
gestrichelten Linie geben den Lichtweg an. Das Licht wird bei Pfeil 227 in
das nano-optische Element eingekoppelt und an der totalreflektierenden
Grenzfläche an der Stelle 229 das erste Mal umgelenkt.
An der Kavität 230 erfolgt keine Umlenkung, sondern
der Lichtweg setzt sich einfach bis zum Spalt 125 fort.
Das an diesen transmittierte Licht wird nun erneut an der totalreflektierenden
Außenseite 230 des oberen Lichtleiters 223 umgelenkt
und verlässt das nano-optische Element an der Stelle des Pfeiles 228.
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Dabei
dient die Kavität 231 der leichteren Verbiegbarkeit
der Messspitze 226 und erhöht somit die Sensibilität
der Messanordnung. Wird eine Kraft auf die Spitze 226 ausgeübt, ändert
sich die Weite des nano-optischen Spalts 225, was zu einer Änderung
der Intensität des transmittierten Photonenstroms führt.
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20 zeigt
schließlich einen Drucksensor mit einem nano-optischen
Spalt. Der Drucksensor 241 besteht ebenfalls aus einem
unteren Lichtleiter 242 und einem oberen Lichtleiter 243.
Während der optische Spalt 244 im unteren Lichtleiter 242 gebildet wird,
weist der obere Lichtleiter 243 eine Druckkammer 245 auf.
Diese ist durch eine Zwischenschicht 246 vom nano-optischen
Spalt im unteren Lichtleiter 242 getrennt. Erneut geben
die Pfeile 247 und 248 das in das nano-optische
Element eintretende Licht und das aus diesem austretende transmittierte
Licht wieder. Die gestrichelte Linie dazwischen zeigt den Lichtweg.
Dieser verläuft bis zum optischen Spalt 244 gerade.
Das von diesem transmittierte Licht wird dann an einer Facette 249 durch
Totalreflexion umgelenkt und verlässt das nano-optische
Element 241 an der Stelle des Pfeils 248.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 41065548 [0003]
- - US 4286468 [0003]
- - US 4421384 [0003]
- - US 5891747 [0003]
- - DE 10039094 [0003]
- - DE 10039094 C1 [0010]
- - DE 10029012 C2 [0054]