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Die
Erfindung betrifft ein medizinisches Implantat mit einem eine Oberflächenschicht
aufweisenden metallischen Körper, wobei die Oberflächenschicht
Calcium und/oder Phosphor aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin
ein Verfahren zur Herstellung einer Oberflächenschicht
auf einem medizinischen Implantat durch anodische Oxidation mittels Lichtbogenentladung.
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Implantate
zum dauerhaften Verbleib im menschlichen Körper, vorzugsweise
Dentalimplantate, werden nach dem heutigen Stand der Technik zumeist
aus Titan (Grade 2, 4, 4 kv oder einer Titan-Legierung) hergestellt.
Titan hat sich im Sinne der Biokompatibilität und langfristigen
funktionalen Integration im Organismus als Implatationswerkstoff
der Wahl herausgestellt. Titan ist an seiner Oberfläche
als typischer Oxidhautbildner durch eine Titandioxidschicht vor
korrosiven Angriffen geschützt, hieraus resultiert auch
die Biokompatibilität. Titan bzw. die durch Titandioxid
geschützte Titanoberfläche gilt als bioinert,
Titan erzeugt damit eine Kontaktosteogenese. Im Allgemeinen besteht
die Herstellung von Implantaten aus den Schritten maschinelle Fertigung,
Reinigung, Oberflächenbehandlung, Reinigung und anschließende
Verpackung inklusive der Sterilisation. Die erste Reinigung dient
zum Entfernen der aus der Produktion stammenden Verschmutzungen
durch Fremdstoffe und Hilfsflüssigkeiten. Dies kann durch den
Einsatz von Tensiden, oder Säuren und Basen erfolgen. Wünschenswert
ist hier eine Reinigung auf atomarem Niveau, da Fremdatome zu einer
Abstoßungs- bzw. Fremdkörperreaktion des umliegenden Gewebes
führen können. Die gereinigten, an der Oberfläche
nur maschinierten Titanimplantate werden dann zur verbesserten Osseointegration
oberflächenmodifiziert. Nach der Oberflächenbehandlung erfolgt
ein weiterer Reinigungsschritt um mögliche Verunreinigungen
durch die Oberflächebehandlung wie Beispielsweise eine
Partikel-, Säure- oder, Basenbelastung zu reduzieren. Der
dauerhafte implantologische Einsatz von maschinierten Titanoberflächen
findet nur noch vereinzelt Anwendung.
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Die
Oberflächenbehandlung zur Verbesserung der Osteointegration
der Titanimplantate kann dann mechanisch, chemisch oder elektrochemisch, oder
aus einer Kombination der vorgenannten Verfahren erfolgen. Hier
kommen Strahlbehandlungen, Ätz- oder Beizverfahren, Plasmabehandlungen
und Plasmauftragsverfahren sowie Anodisationsverfahren zum Einsatz.
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Alle
Implantatbeschichtungsverfahren haben zum Ziel, folgende zwei Grundparameter
der Implantatoberfläche gemäß der aktuellen
wissenschaftlichen Erkenntnisse für die Osseointegration
zu optimieren:
- 1) Oberflächenmorphologie:
mechanische Parameter wie Rauhigkeit, Porosität, Haftfestigkeit, Kristalinität
- 2) Chemische bzw. elektrochemische Parameter wie Elementarverteilung,
Elementarzusammensetzung, Löslichkeit, Korrosionsverhalten,
elektrische Oberflächenladung, Leitfähigkeit,
Oberflächenenergie, funktionelle Gruppen.
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Jede
Beschichtungsform stellt eine für das jeweilige Verfahren
typische Ausprägung dieser Parameter her. Der Nachweis
der Funktion der Oberflächen kann derzeit aufgrund des
mangelnden Verständnisses der Gesamtzusammenhänge
der Osseointegration nur anhand von Analogieschlüssen,
Zellstudien, Tierversuchen und klinischen Studien am Menschen geführt
werden.
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Eine
Strahlbehandlung wird derzeit mit Korund (Aluminiumoxid) oder mit
Siliziumdioxid, Titandioxid, Hydroxylapatit, TCP oder ähnlichem
durchgeführt. Das Grundelement dieser mechanisch abrasiven
Methode besteht darin, dass die Partikel des Strahlgutes mit einer
hohen kinetischen Energie auf die Oberfläche geschlagen
werden und dort Material abtragen, gleichzeitig kann ein sogenanntes
Triboplasma erzeugt werden. An der Kontaktstelle zum Grundwerkstoff
kann es dann partiell zum Aufschmelzen des Werkstoffs kommen, das
Strahlgut kann zerplatzen und lagert sich in der Schmelze ein (Rocatec
Verfahren). Es erfolgt also eine mehr oder minder große
Einlagerung der Partikelteile in die abgetragene, raue Oberfläche.
Diese Partikel werden als Modifikation der Oberfläche bezeichnet
und können jedoch auch zu einer Fremdkörperreaktion
führen, sollten sich die Partikel im Laufe der Zeit lockern. Das
umgebende Gewebe von mit Siliziumoxid gestrahlten Implantaten ist
oftmals stark mit dem Strahlgut belastet.
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Eine Ätz-
oder Beizbehandlung mit unregelmäßigem Materialabtrag
stellt eine weitere Möglichkeit zur Oberflächenmodifikation
dar. Je nach Rezeptur der Säuren oder Basen und Ausrichtung
des Kristallgefüges im Metall werden die Oberflächen
mehr oder weniger stark angegriffen, es entsteht eine mehr oder
minder definierte Texturierung der Oberfläche in Form von
Oberflä chenrauhigkeiten bei gleichzeitiger Reinigung des
Metalls von Fremdatomen. Die Abbauprodukte der Säure oder
Base müssen nachfolgend entfernt werden. Es können
Komplexsalze entstehen, die in den folgenden Reinigungsschritten
nur schwer löslich sind, im Körper jedoch über
die langfristige Zeiträume gesehen für eine Kontamination des
Gewebes mit Fremdionen sorgen können.
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Ein
materialauftragendes Beschichtungsverfahren ist generell das thermische
Spritzen von Implantatoberfläche. Ein starker Temperaturgradient
bei einem Teil dieser Auftragsmethoden führt zu erhöhten
Eigenspannungen in der aufgetragenen Schicht als bei Konversionsschichten,
die aufgetragenen Schichten haben dann eine verminderte Haftfestigkeit.
Zum thermischen Spritzen werden Titan oder Titanlegierungen verwendet.
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Das
Plasmabeschichten (IPD, VPS, PVD, CVD, PECVD) beispielsweise kann
je nach Prozessführung oder Verfahrensart auch nahezu kalt
Werkstoffe auftragen. Daher sind diese Verfahren derzeit gerne genutzt.
Ein klassischer PVD Prozess wird in
DE
40 05 692 beschrieben, wobei Refraktärmetalle wie
Titan, Zirkonium, Hafnium, Niob, Tantal, Wolfram oder Molybdän
verwendet werden. Vorteilhafterweise werden dort die Oxidschichten
von Titan-Zirconiumdioxid und auch Titan-Nioboxid als Implantatbeschichtung
verwendet. Der Vorteil des Verfahrens liegt in der rissfreien Beschichtung
ohne Reduzierung der Haftfestigkeit durch thermisch induzierte Eigenspannungen.
Als Erweiterung wird dann in
DE
40 09 337 zusätzlich eine Calziumhydrogenphosphatbeschichtung
mittels Aufspritzen vorgeschlagen.
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Eine
besondere Variante einer materialauftragenden Oberflächenbeschichtung
ist die Beschichtung mit bioaktiven Keramiken wie Bioglas, Al2O3,
SiO2 oder calciumphosphathaltige Keramiken. Keramische Schichten,
insbesondere Calciumphosphate, werden zumeist thermisch aufgetragen (Plasmaspritzen)
wobei eine hohe Eigenspannung in die Beschichtungsverbund eingebracht
wird. Diese führt zu verminderten Haftungen und unerwünschter Rissbildung.
Aber auch andere Verfahren finden Verwendung, konventionelle Sinterung,
Sputtern, elektrochemisches Abscheiden, Sol-Gel Beschichtungen,
Einbrennen.
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Das
Hydroxylapatit (HA) ist die zumeist verwendete Calciumphosphatvariante,
als Dihydrat wird es Brushit genannt, als natürliches Mineral
kommt es als Monetit vor. Weiterhin finden in den Beschichtungskeramiken
folgende Bestandteile der kristallinen Hauptphasen Verwendung: Calciumoxide,
Phosphorpentoxid, Titanate, Natriumdioxid, Kaliumdioxid, Magnesiumdioxid,
Calciumfluoride und Zirconiumdioxid in Form von FA-CZP. Die Bestandteile
liegen kristallin, in amorphen Phasen oder in Zwischenstufen vor.
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Die
Beschichtungen gelten als nicht dauerhaft stabil, jedoch unbestritten
als bioaktiv, da sie direkt eine chemisch-biologische Verbindung
zur Knochenzelle ausbilden und damit ein Verbundosteogenese ausbilden.
Die Löslichkeit von Hydroxylapatit ist pH-Wert abhängig
und kann stark von inneren (Knochenabbau, Knochenaufbau) und von äußeren
Einflüssen (bakterielle pH-Wert Absenkung) beeinflusst werden.
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Die
langfristige Prognose von HA-beschichteten Implantaten ist laufend
in Diskussion. Die gute und überaus schnelle Einheilung
dagegen steht außer Frage.
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Das
vierte Oberflächenbehandlungsverfahren ist das Anodisieren
der Oberfläche zur Erzeugung einer dickeren, passiven Oxidschicht
aus dem Grundmaterial des Implantates heraus. Bei Titanoberflächen
wird eine Titanoxidoberfläche im so genannten ANOF-Verfahren
erzeugt (Anodisation unter Funkenentladung). Diese Oberflächenbehandlung/Oxidation
erzeugt ein Aufdicken der natürlichen Oxidschicht um ein
Mehrfaches der normalen Oxidschichtdicke und erzeugt damit passivierte,
grau erscheinende poröse Oberflächen mit einer
erhöhten Oberflächenrauhigkeit. Das Verfahren
ist eine elektrochemische Veränderung der Oberfläche,
es wird eine Konversionsschicht gebildet, die sich aus dem Grundmaterial
heraus zusammen mit dem Elektrolyten bildet.
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Eine
Kombination der Methoden ist üblich, so können
Strahl- und anschließende Säure- oder Beizbehandlungen
miteinander kombiniert werden, oder aber es können Anodisationsbehandlungen
auch in Säurelektrolyten durchgeführt werden.
Diese Kombination hat den Vorteil, die abschließende Reinigung zu
integrieren. So wird teilweise eine anschließende erneute
Säurebehandlung nach der mechanischen Aufrauung vorgeschlagen,
die das Strahlgut abschließend vollständig herauslösen
solle.
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In
DE 40 09 337 ist eine PVB-Beschichtung mit
Metalloxiden und zusätzlich eine Calziumhydrogenphosphatbeschichtung
mittels Aufspritzen beschrieben.
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DE 10 2006 013 115 beschreibt
eine Kombination einer refraktärmetallischen Vakuumbeschichtung
mit anschließender elektrolytischer oder thermischer Oxidation.
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Mit
der ANOF-Oberflächenbehandlung ist derzeit eine Kombination
der Verfahren „Konversionsschicht” und „additive
Beschichtung” möglich. Es können mit
der Wahl des Elektrolyten die Oxidationsvorgänge in und
an der Oberfläche des Titans beeinflusst werden. Weiterhin
können die im Elektrolyten vorliegenden feinkristallinen
Materialien in die Oberfläche physikalisch eingelagert
werden. Ein Einlagern von Phosphat ist ebenfalls bekannt.
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Das
grundlegende Verfahren zur elektrochemischen Behandlung von Implantaten
in galvanischen Bädern nach dem ANOF-Verfahren ist in
DE 10 2004 022 768 ,
DE 10 2004 021 739 ,
DD 246 028 ,
DD 156003 und
DE 101 58303 beschrieben. Auch
DD 210 607 offenbart die
Verwendung des ANOF-Verfahren.
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Durch
den Zusatz von osteokonduktiven Biomaterialien können bioinerte
Titanimplantate bioaktiviert werden.
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Insbesondere
Dentalimplantate haben jedoch nicht alleine den Anforderungen der
Knocheneinheilung zu genügen, sie müssen den dualen
Bedingungen des Einsatzes im Mundraum genügen. Es findet
hier ein Kontakt des Implantates sowohl mit dem Hartgewebe des Knochens
und auch dem Weichgewebe der Mundschleimhaut statt.
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Der
Knochenkontakt benötigt eine Oberflächenausbildung,
wie sie oben dargelegt wurde, eine optimierte Anhaftung von Weichgewebe
ist bisher nicht beschrieben. Die Weichgewebsmanschette zum Beispiel
darf nicht an zu rauen Oberflächen anliegen. Die bisherige
Lösung ist eine zweigeteilte Oberfläche des Implantates.
Es wurde der Halsbereich, in dem die Gingivamanschette anliegen
und dicht abschließen musste, beschichtungsfrei gehalten
und maschinell geglättet (poliert, etc.). Mit dem aktiven
Setzen des Implantates auf ein Niveau wurde der Übergang
zwischen Knochen und Weichgewebe vordefiniert. Verschiedene Lehrmeinungen
fanden hier Einzug und definierten den Begriff der biologischen
Breite. Das Knochenniveau ist biologischen Veränderungen
unterworfen, deren Mechanismen nicht abschließend geklärt
sind. Das Setzen des Implantates kann jedoch nicht diesen Veränderungen, die
im Laufe der Lebenszeit des Implantates ablaufen, angepasst werden.
Der Knochenrückgang verändert die geplante Tiefe
der Gingivamanschette in Bezug zum Implantat in einem Zeitraum von
bis zu 12 Monaten nach Implantation deutlich und in der darauf folgenden
Zeit marginal, jedoch ist der Vorgang oftmals nicht stationär.
Eine Schädigung der Gingivamanschette durch Manipulationen
am Gingivaformer oder am Halsbereich des Implantates führt
nachweislich zu Knochenrückbildungen. Ebenso kontraproduktiv
sind entzündliche Vorgänge zu sehen. Die Definition
der prothetisch benötigten Lage der Gewebemanschette war
daher selten exakt möglich. Der Vorzug in allen Behandlungsschritten
und konstruktiven Implantatvorgaben wurde logischerweise der Sicherung
der bestehenden Knochensituation gegeben.
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Die
aktive Anbindung der Gingiva an den Implantathals ist derzeit nur
ungenügend gelöst, die Implantatbeschichtungstechnologie
berücksichtig nahezu vollständig die Verbesserung
der Knocheneinheilung.
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Keramische
Implantate, die nahezu nach einem gleichen Ablauf hergestellt werden,
haben eine nachweislich vorhandene, im Falle von Zirkonoxidimplantaten,
eine sehr gute Gingivaanhaftung, jedoch ist hier die Knochenanhaftung
als fragwürdig zu bezeichnen. Nur eine Osseointegration
des Implantates bei einer gleichzeitigen dichten Bindegewebsmanschette
um die Durchtrittstelle in den Mundraum hinein sichert eine langfristige
Implantatversorgung.
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Der
Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die bekannten Techniken zu
verbessern und insbesondere dem Übergang zwischen Hartgewebe
und Weichgewebe besser gerecht zu werden. Aufgrund der Biologisierungsmöglichkeit
von ANOF-Implantatoberflächen sind diese in Kombination
mit der deutlich dickeren Oxidschicht zur Isolierung eines möglichen
Ionenaustausches generell zu bevorzugen.
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Die
Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche
gelöst, vorteilhafte Ausgestaltungen sind in den abhängigen
Ansprüchen angegeben. Erfindungsgemäß ist
in die Oberflächenschicht Zirconium und/oder Zirconiumdioxid
eingelagert. Die Osseointegration der Oberfläche von vorzugsweise
mit einem Körper aus im wesentlichen Titan begildeten Implantaten
wird durch die Affinität der Gingiva zu Zirconiumdioxid
in überraschender Art und Weise ideal verbessert. Die mehrteilige
Herstellung von Oberflächen für die Knochenanhaftung
und die Gingivaanhaftung und der Kompromiss für eine gute
Knochenstabilität durch die Verwendung eines rauen Implantathalses
ist nicht mehr notwendig.
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Gleichzeitig
lässt sich mit der erfindungsgemäßen
Modifikation der Oberfläche mit Zirconiumdioxid der Isoelektrische
Punkt der Oberflächenschicht bzw. der Oberfläche
im Vergleich zur unmodifizierten Oberfläche zu leicht höheren
pH-Werten verschieben. Der Isoelektrische Punkt beträgt
vorzugsweise 5 bis 8, insbesondere 6,5 bis 7,5. Diese Veränderung ist
deswegen so bedeutend, da der primäre Schritt sowohl zur
Osseointegration als auch zur Anhaftung der Mukosa (Schleimhaut)
immer die Proteinadsorption aus dem Blutplasma ist, diese ist ladungsabhängig.
Durch die Beladung mit Calcium und Phosphat hat eine Anodisationsschicht
zwar eine bioaktive Wirkung, jedoch verschiebt sich der Isoelektrische
Punkt der Oberfläche im Vergleich zu nicht bioaktiven und nur
bioinerten gestrahlten Titanoberflächen leicht in einen
geringeren pH-Wert-Bereich. Dies kann in Kombination mit geringen
aufgeprägten pH-Werten, bedingt durch äußere
Einflüsse (bakterieller Befall, Knochenabbauprozesse) zu
einem negativen biologischen Effekt der Osseointegration führen.
Eine Stabilisierung des Isoelektrischen Punktes ist dann von Vorteil
und verhindert eine dann veränderte negative Degradation
der Eiweiße in Zusammenhang der Osteoinduktionsvorgänge
und der späteren Osteokonduktion.
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Das
Zirconium oder Zirconiumdioxid sollte vorzugsweise flächig
verteilt oder in partikulär messbaren Ansammlungen mit
einem Gehalt von etwa 0,1 bis 10 At-% (Atom-%) vorhanden sein, bezogen
auf die Oberflächenschicht. Vorzugsweise beträgt
der Anteil 0,1 bis 7 At-%.
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Weiterhin
ist die Ein- oder Umlagerung des im Elektrolyten vorliegenden Calciumphosphats
in der Plasmaentladung und der Schmelzbereiche der Implantatoberflächenschicht überraschenderweise durch
das gleichzeitige im Elektrolyten vorhandenen Zirconiumdioxids derart
beeinflusst, dass es bei der Bildung von Hydroxylapatit, Brushit
und weiteren Calciumphosphatverbindungen zu einer deutlich messbaren
Stabilisierung der Calciumphosphatlöslichkeit bei abgesenkten
pH-Werten kommt. Diese bereits bei Calzium-Zirconiumorthophosphat
beobachtete Stabilisierung der pH-Wert abhängigen Löslichkeit des
Calciumphosphats führt zu einer verbesserten biologischen
Verträglichkeit bei bakteriellen Komplikationen oder anderen
ungewollten pH-Wert Absenkungen während der Einheilung
und vor Erreichen eines stabilen Zustandes mit abgeheiltem Gewebekontakt
zum Implantat. Vorzugsweise weist die Oberflächenschicht
Calciumbisdihydrogenphosphat auf.
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Eine
weitere vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, weitere
Elemente zur Biologisierung der Oberfläche, welche sich
in einer Beeinflussung des pH-Wertverhaltens bzw. des Isoelektrischen
Punktes der Oberfläche äußern, zu ergänzen. Es
ist vorteilhaft, wenn die Oberflächenschicht mindestens
ein Element aus der Gruppe Magnesium, Natrium, Kalium, Kohlenstoff,
Stickstoff, Silizium, Aluminium, Chlor, Vanadium, Niob aufweist,
oder insbesondere solche Verbindungen davon, die eine hohen Isoelektrischen
Punkt haben, z. B. Korund.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer
Oberflächenschicht, wie sie zum Beispiel vorstehend beschrieben
ist, auf einem medizinischen Implantat durch anodische Oxidation
mittels Lichtbogenentladung/Funkenentladung ist dadurch gekennzeichnet,
dass die Implantatoberfläche durch die Behandlung mit den
Bestandteilen Calcium, Phosphor, Sauerstoff, Wasserstoff und/oder
Zirconium des verwendeten Elektrolyten versetzt wird. Der Verfahrensablauf
kann prinzipiell nach dem Stand der Technik durchgeführt
werden.
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Die
Anodisationsbehandlung kann in einem wässrigen, übersättigten
Elektrolyten unter der Anwesenheit von Calcium, Phosphat und Zirconium oder
vorzugsweise Zirconiumdioxid stattfinden.
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Durch
Anlegen einer Grundspannung und Überlagern einer Wechselspannung
wird die Anodisation unter Funkenentladung durchgeführt.
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Nachfolgend
wird die Erfindung beispielhaft beschrieben.
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Das
Zirconium oder Zirconiumdioxid liegt vorzugsweise in einem mikrokristallinen
Zustand vor und wird der übersättigten Lösung
des Elektrolyts zugesetzt. Das Zirconium kann elementar, in gelöster, in
atomar an andere Elemente gebundener Form vorliegen. Vorzugsweise
kann Zirconiumdioxid in sehr fein gemahlener Form verwendet werden.
Das Zirconiumdioxid liegt vorzugsweise in Form von Nanopartikeln
als Dispersion vor.
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Zirconium
bzw. Zirconiumdioxid kann als Mikro-Dispersion stabil in Wasser
gehalten werden, diese ist bei einem pH-Wert von ca. 3 stabil. Die
Zirconiumpartikel (bzw. Zirconiumdioxidpartikel) werden vorzugsweise
als Nanopartikel mit einer Größe von kleiner 100
nm bereitgestellt, wie sie beispielsweise bei Sigma Aldrich bezogen
werden kann. Die Lösung liegt mit 1–5 Gewichts-%
vor und wird dem Elektrolyten zugesetzt.
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Das
Ansetzen des Bearbeitungselektrolyts erfolgt mit einer Konzentration
von 10–80, vorzugsweise 30–40 g/l Bidest H2O Ca(H2PO4)2 (Kalziumbisdihydrogenphosphat).
Nach Ansetzen des Elektrolyts wird die Zirconium(dioxid) Dispersion
zugesetzt. Hier können auf 10 l Elektrolyt 0,1–4
vorzugsweise 0,5–2 l Dispersion des Zirconium (bzw. Zirconiumdioxid)
zugesetzt werden.
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Die
Dispersion wird zusammen mit den kristallinen Bestandteilen des
Elektrolyts durch eine geeignete Umwälzung in ständiger
Schwebe gehalten.
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Der
Elektrolyt wird zur Durchführung der Beschichtung eines
Titanimplantates auf eine Temperatur zwischen 20 und 60°C,
vorzugsweise zwischen 35 und 45°C gehalten.
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Die
Anodisation besteht üblicherweise aus zwei Phasen, der
langsamen Steigerung der Grundspannung auf ein Niveau zwischen 20–180
V, vorzugsweise zwischen 45–110 V und darauf folgend die Phase
der Lichtbogenentladung, die bei einer aufgelagerten Wechselspannung
zwischen 80–1500 V, vorzugsweise bei 200–500 V
stattfindet.
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Der
zweite Teil der Anodisation kann sowohl spannungs- wie auch stromgeregelt
durchgeführt werden. In einer weiteren mögliche
Ausführung kann in der zweiten Phase der Anodisation unter
Lichtbogenentladung zwischen mehreren Kennlinien hin und her geschaltet
werden. Nach einer Behandlungszeit von 30–500 Sekunden,
in der die Oxidhaut aufwächst, sinkt der Stromfluss bedingt
durch die Steigerung des Widerstandes der Oxidhaut. Zur Abschaltung
des Prozesses kann eine definierte Ladungsmenge oder aber eine Mindeststrommenge
verwendet werden. Als Ladungsmenge bieten sich 50–700 As,
vorzugsweise 100–300 As an. Als Strom schwelle zur Abschaltung
der überlagerten Spannung und der Grundspannung kann ein
Wert zwischen 0,25–4 A verwendet werden.
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Durch
die Anodisation unter Funkenentladung bilden sich im Elektrolyt
Plasmakanäle, die auf der Oberfläche in Form von
Lichtbogenansatzpunkten aufliegen. Auf der Titanoberfläche
des Implantates bilden die mobilen Lichtbogenfußpunkte
wannenförmige, tiefe Brennflecken aus. Der Lichtbogen verhält
sich stochastisch gemäß des Oberflächenwiderstandes,
er wandert, er verlöscht und zündet an anderer
Stelle neu. Die Brennflecken stellen sich dann als Poren in der
Oberfläche dar, in den Schmelzfronten lagern sich bei Erstarrung
die fein verteilten Substanzen des Elektrolyts sowohl als Ionen
und auch als elementare (Nano-)Kristallite ein. Die Oberfläche ist
nach Abschluss des Verfahrens porenbehaftet, stark oxidiert, mit
einer prozessparameterabhängigen Porengröße
von 0,5–5 μm.
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Verfahrensgemäß lagert
sich das Zirconiumdioxid zusammen mit dem Phosphor und dem Calcium
in der Oberfläche des Implantates ab. Es kann darauf folgend
durch eine EDX Analyse nachgewiesen werden. Der Nachweis der Einlagerung
kann im Rahmen der standardmäßig durchgeführten
Serienkonstanzuntersuchungen im Rasterelektronenmikroskop erfolgen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 4005692 [0009]
- - DE 4009337 [0009, 0016]
- - DE 102006013115 [0017]
- - DE 102004022768 [0019]
- - DE 102004021739 [0019]
- - DD 246028 [0019]
- - DD 156003 [0019]
- - DE 10158303 [0019]
- - DD 210607 [0019]