DE102009009813A1 - Lötverfahren und Schaltung - Google Patents
Lötverfahren und Schaltung Download PDFInfo
- Publication number
- DE102009009813A1 DE102009009813A1 DE102009009813A DE102009009813A DE102009009813A1 DE 102009009813 A1 DE102009009813 A1 DE 102009009813A1 DE 102009009813 A DE102009009813 A DE 102009009813A DE 102009009813 A DE102009009813 A DE 102009009813A DE 102009009813 A1 DE102009009813 A1 DE 102009009813A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- soldering
- semiconductor chip
- circuit board
- solder
- soldering method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000005476 soldering Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/11—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/0557—Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05571—Disposition the external layer being disposed in a recess of the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05573—Single external layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/05624—Aluminium [Al] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
- H01L2224/113—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
- H01L2224/1133—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
- H01L2224/1134—Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13075—Plural core members
- H01L2224/1308—Plural core members being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13144—Gold [Au] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81193—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/812—Applying energy for connecting
- H01L2224/8121—Applying energy for connecting using a reflow oven
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/818—Bonding techniques
- H01L2224/81801—Soldering or alloying
- H01L2224/81815—Reflow soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00013—Fully indexed content
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
Abstract
Vorgeschlagen wird ein Lötverfahren zum Verbinden eines Halbleiterchips (1) mit einer Leiterplatte (2) über wenigstens einen Lötkontakt (7) und zum Herstellen einer Schaltung (14), wobei der Halbleiterchip wenigstens ein elektrisch leitendes Pad (5) aufweist und die Leiterplatte wenigstens einen Leiterbahnabschnitt (9) zur Kontaktierung mit wenigstens einem der Pads des Halbleiterchips umfasst, umfassend: eine Auftragung von Lötpaste (10) auf den wenigstens einen Leiterbahnabschnitt, einen Bondingprozess, bei dem ein Höcker (7) auf wenigstens einem Materialabschnitt (6) auf wenigstens eines der Pads gebondet wird, einen Bestückungsvorgang, bei dem die Leiterplatte so mit wenigstens einem der Halbleiterchips bestückt wird, dass wenigstens einer der Lötkontakte mit der Lötpaste in Berührung kommt, einen Heizprozess, bei dem eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Leiterbahnabschnitt und dem Pad hergestellt wird. Zur Verbesserung des Lötverfahrens wird als Lötkontakt ausschließlich der Höcker verwendet, wobei dieser aus einem homogenen Metall oder einer homogenen Metalllegierung besteht. Ferner wird eine nach dem Lötverfahren hergestellte Schaltung (14) vorgeschlagen.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Lötverfahren zum Verbinden eines Halbleiterchips mit einer Leiterplatte nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie eine Schaltung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 8.
- Aus dem Stand der Technik ist die so genannte „Flip-Chip”-Kontaktierung bekannt, wie sie beispielsweise auch in der Druckschrift
EP 1 365 453 A1 beschrieben ist. Dieses Kontaktierungsverfahren erfordert ein vorgefertigtes, gespiegelt zur Pad-Anordnung des Halbleiterchips angeordnetes Anschlussraster auf der entsprechenden Leiterplatte, welche als Systemträger dient. Die einzelnen, zu kontaktierenden Leiterbahnabschnitte der Leiterplatte sind regelmäßig bereits mit Lötpaste, bestehend aus Flussmittel und Lötmetallpulver versehen. Die Pads des Halbleiterchips werden mit Lötkontakten versehen. Dazu werden beispielsweise Golddrahtabschnitte aufgebondet. Grundsätzlich werden derartige Lötkontakte üblicherweise in der Technik auch mit dem englischen Begriff ”stud bumps” bezeichnet. Abschließend wird bei der Herstellung des Lötkontaktes dieses im Bonding-Verfahren aufgebrachte Material mit einer Schicht aus Lötzinn überzogen. Der so gebildete Lötkontakt wird in die Lötpaste getaucht und anschließend durch Erhitzen verlötet. Eine weitere Methode des so genannten Flip-Chip-Verfahrens besteht darin, ein Ultraschallschweißverfahren zur Kontaktierung zu nutzen. - Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes Lötverfahren zum Verbinden eines Halbleiterchips mittels Leiterplatten sowie eine durch dieses Lötverfahren kontaktierte Schaltung vorzuschlagen.
- Die Aufgabe wird, ausgehend von einem Lötverfahren bzw. einer Schaltung der eingangs genannten Art durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 bzw. des Anspruchs 8 gelöst.
- Durch die in den abhängigen Ansprüchen genannten Maßnahmen sind vorteilhafte Ausführungen und Weiterbildungen der Erfindung möglich.
- Dementsprechend zeichnet sich ein erfindungsgemäßes Lötverfahren zum Verbinden eines Halbleiterchips mit einer Leiterplatte dadurch aus, dass als Lötkontakt ausschließlich der Höcker verwendet wird und dieser aus einem homogenen Metall oder einer homogenen Metalllegierung besteht. Die Anwendung eines derartigen Verfahrens erfordert, dass die Padanordnung des Chips dem Anschlussraster der als Systemträger ausgebildeten Leiterplatte entspricht. In der Regel soll durch die Kontaktierung eine Schaltung hergestellt werden. Auf den entsprechenden Halbleiterchips befindet sich regelmäßig eine integrierte Schaltung. Unter einem ”Pad” versteht man eine Leiterfläche, die zur Kontaktierung im bzw. am integrierten Schaltkreis angebracht ist. Derartige Pads werden vielfach aus Aluminium gefertigt, da dieses nicht ins Halbleitermaterial wandert.
- Die elektrisch leitende Verbindung soll dementsprechend zwischen dem Pad und dem Leiterbahnabschnitt der Leiterplatte hergestellt werden. Im Allgemeinen wird eine Leiterplatte so gefertigt, dass die entsprechenden zu kontaktierenden Leiterbahnabschnitte so angeordnet sind, dass ein direktes Bestücken mit Halbleiterchips möglich ist und die Pads dabei direkt über den entsprechenden Leiterbahnabschnitten liegen.
- In einem ersten Verfahrensschritt wird dabei Lötpaste auf wenigstens einen der Leiterbahnabschnitte aufgebracht. Die Lötpaste muss jeweils auf solche Leiterbahnabschnitte aufgebracht werden, welche an diesen Stellen mit Pads verbunden werden sollen.
- In vielen Fällen eignen sich die Pads, insbesondere dann, wenn diese aus Aluminium gefertigt sind, nicht dazu, auf direkte Weise angelötet zu werden. Aus diesem Grunde werden so genannte „Bonds” auf die Pads aufgebracht. Bei einem Bonding-Prozess handelt es sich um ein Einzeldrahtkontaktierungsverfahren, wie beispielsweise das Thermokompressionsverfahren, das Ultraschall- oder Wedge-Bonden und das Thermosonicverfahren. Die einzelnen Bonds, also die Materialabschnitte, die auf dem Pad durch Bonden angebracht wurden, werden im Sinne der Erfindung auch als Höcker bezeichnet.
- Ferner wird die Leiterplatte mit den entsprechenden Halbleiterchips entsprechend bestückt. Dabei tauchen die Lötkontakte in die Lötpaste, welche auf den entsprechenden Leiterbahnabschnitten aufgebracht ist, ein.
- Die Kontaktierung selbst endet mit einem Heizprozess, bei dem eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Leiterbahnabschnitt und dem Pad hergestellt wird.
- Bei einem erfindungsgemäßen Lötverfahren wird als Lötkontakt ausschließlich der Höcker verwendet, wobei dieser aus einem homogenen Metall oder einer homogenen Metalllegierung besteht. Dies bedeutet, dass lediglich einzelne Materialabschnitte auf die Pads gebondet werden und dieser Höcker gleichzeitig den Lötkontakt bildet. Eine zusätzliche Beschichtung oder Ähnliches ist nicht vorgesehen. Vorteilhaft ist an dem erfindungsgemäßen Lötverfahren, dass die entsprechenden Halbleiterschaltungen wesentlich billiger gefertigt werden können. Muss der aufgebondete Höcker noch beispielsweise mit einer Schicht aus Lötzinn überzogen werden, so ist dies ein zusätzliches Verfahren, bei dem erhöhte Kosten entstehen können. Dennoch ist es möglich, dieses Lötverfahren beispielsweise auch mit gängiger Flip-Chip-Technik zusammen einzusetzen. Wird eine entsprechende Halbleiterplatte mit Halbleiterchips verschiedener Hersteller bestückt, so spielt es keine Rolle, ob ein Lötkontakt im Sinne des erfindungsgemäßen Lötverfahrens auf dem Halbleiterchip vorgesehen ist oder ob der Lötkontakt einen entsprechenden Lötzinnüberzug über einem der Höcker aufweist.
- Vorzugsweise werden bei dem Verfahren vergleichsweise große Höcker aufgebondet. Kommt beim Erhitzen Lötpaste direkt mit dem Aluminiumpad in Kontakt, so besteht die Gefahr, dass hier keine stabile elektrisch leitende Verbindung entsteht. Dieses Risiko besteht insbesondere auch bei gängiger Flip-Chip-Kontaktierung gemäß dem Stand der Technik, da, sobald das Lötzinn, welches als Schicht den aufgebondeten Höcker umgibt, aufgeschmolzen ist, auch beim Lötvorgang der aufgebondete Höcker abgetragen werden kann. Dieses Risiko kann zumindest verringert werden bzw. ganz entfallen, wenn der Höcker ausreichend groß ausgebildet ist. Insgesamt umfasst der Lötkontakt beim erfindungsgemäßen Lötverfahren nicht mehrere verschiedene Schichten, sondern besteht nur aus dem homogenen, aufgebondeten Metall bzw. der entsprechenden Metalllegierung.
- Wie bereits oben erwähnt, werden die genannten Kontaktierungsverfahren im Allgemeinen bei einer so genannten „Face-down”-Kontaktierung eingesetzt. Dies bedeutet, dass beim Bestückungsvorgang der Halbleiterchip ohne weiteres Gehäuse mit der Schaltungsseite zur Leiterplatte hin aufgebracht wird. Der Halbleiterchip selbst weist dabei wenigstens ein Pad auf der Schaltungsseite auf. Besonders vorteilhaft ist hieran, dass diese Montage die kürzeste Verbindung zwischen den Chip-Anschlüssen und dem Substrat darstellt. Je Anschluss wird nur eine Lötverbindung benötigt und somit auch die entsprechende Kontaktfläche minimiert.
- Vorzugsweise wird zum Bonden ein Material verwendet, welches sich für den entsprechenden Lötvorgang eignet. In der Regel eignen sich hier Kupfer, vorzugsweise jedoch Gold.
- Es wurde bereits angesprochen, dass bei einem erfindungsgemäßen Lötverfahren bzw. einer Ausführungsform der Erfindung es besonders wichtig ist, dass die aufgebondeten Höcker ausreichend Material enthalten, so dass dieses beim Heizprozess des Lötvorganges nicht vollständig oder zu stark wegschmelzen können. Bei einer besonders bevorzugten Weiterbildung der Erfindung umfasst daher der Bonding-Prozess ein wenigstens zweimaliges turmartiges Aufeinanderbonden von Materialabschnitten. Ferner ist es auch möglich, lediglich einen Bonding-Vorgang durchzuführen und somit nur einen Materialabschnitt aufzubonden, diesen aber in Bezug auf das entsprechende Pad ausreichend groß auszubilden, damit beim Heizvorgang genügend Material zur Verfügung steht, welches nicht vollständig weggeschmolzen wird.
- Vorteilhafterweise enthält die Lötpaste Lotmetallpulver und Flussmittel. Über das Lotmetall aus der Lötpaste kann ein guter elektrischer Kontakt zwischen dem Lötkontakt, welcher nur das aufgebondete Material enthält und dem Leiterbahnabschnitt hergestellt werden.
- Der mit der Schaltungsseite auf der Leiterplatte montierte Halbleiterchip weist im Allgemeinen kein Gehäuse auf.
- Bei einer Ausführungsform einer nach diesem erfindungsgemäßen Lötverfahren hergestellten Schaltung kann ferner eine Passivierungsschicht als Schutz vor mechanischer Beschädigung, als Korrosionsschutz für die Metallisierungsebene und auch als Diffusionsbarriere für Alkaliionen zur Verbesserung der Langzeitstabilität der Schaltung vorgesehen sein. Ferner ist es möglich, Glasdämme insbesondere auf der Leiterplatte aufzubringen, um die Lötfläche möglichst gezielt zu begrenzen, so dass kein aufgeschmolzenes und mit Flussmittel in Kontakt stehendes Lötzinn seitlich wegfließen kann.
- Ausführungsbeispiel:
- Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird nachstehend unter Angabe weiterer Einzelheiten und Vorteile näher erläutert. Im Einzelnen zeigen:
-
1 eine Momentaufnahme aus einem Lötverfahren gemäß der Erfindung, welches einen schematischen Schnitt durch die Leiterplatte und den Halbleiterchip zeigt. -
2 eine Momentaufnahme, bei der die Lötkontakte in die Lötpaste eingetaucht werden sowie -
3 eine Momentaufnahme nach dem Heizprozess. -
1 zeigt einen schematischen Schnitt durch einen Halbleiterchip1 und eine Leiterplatte2 . Die integrierte Schaltung auf dem Halbleiterchip1 ist in das so genannte Halbleiterbulkmaterial3 eingearbeitet. Auf der Schaltungsseite weist der Halbleiterchip eine Passivierungsschicht4 auf, welche aus einer Oxidschicht besteht. Als Kontaktierung sind auf der Schaltungsseite des Halbleiterchips Pads5 vorgesehen. Diese bestehen aus Aluminium (Al). Auf diese Pads5 sind einzelne Goldabschnitte (Au)6 aufgebondet. In diesem Fall wurden drei Bonds jeweils auf einen Pad aufgebracht, so dass möglichst viel Goldmaterial zur Verfügung steht, damit dieses nicht bei dem späteren Heizvorgang vollständig aufgebraucht wird. Die auf einem Pad5 aufgebrachten Bonds6 bilden einen Höcker, der in dieser Form als Lötkontakt7 zur Verfügung steht. - Die Leiterplatte
2 umfasst ein Substrat8 . Auf diesem Substrat befinden sich entsprechende Leiterbahnen mit zu kontaktierenden Leiterbahnabschnitten9 . Die Leiterbahnen bzw. die Leiterbahnabschnitte bestehen aus Kupfer (Cu). Auf den zu kontaktierenden Leiterbahnabschnitten9 befindet sich Lötpaste10 . Diese besteht aus Flussmittel11 sowie Lötmetallpulver12 . Um die Lötflächen möglichst gering zu halten und damit kein Lötzinn seitlich wegfließen kann, sind Glasdämme13 neben den Leiterbahnabschnitten angebracht. -
2 zeigt wie die entsprechenden aufgebondeten Lötkontakte7 in die aufgebrachte Lötpaste10 eintauchen. Die Lötkontakte werden dabei nicht bzw. nur kaum deformiert. -
3 zeigt die Schaltung14 nach dem Heizprozess, bei dem also elektrisch leitende Kontakte zwischen dem Pad5 des Halbleiterchips1 und den entsprechenden Leiterbahnabschnitten9 der Leiterplatte2 ausgebildet sind. Die aufgebondeten, aus Gold bestehenden Höcker/Lötkontakte7 sind dabei, wenn überhaupt, nur kaum infolge des Heizvorganges abgetragen worden. Zwischen den Höckern7 und dem Leiterbahnabschnitt9 befinden sich Kontakte aus Lötzinn, die durch den Lötvorgang während des Heizens aus dem Lötmetallpulver entstanden sind. - Allen Ausführungen und Weiterbildungen der Erfindung ist gemeinsam, dass als Lötkontakt ausschließlich der Höcker verwendet wird und dieser aus einem homogenen Metall oder einer homogenen Metalllegierung besteht.
-
- 1
- Halbleiterchip
- 2
- Leiterplatte
- 3
- Halbleiter-Bulk
- 4
- Passivierungsschicht
- 5
- Pad
- 6
- Gold-Bond
- 7
- Lötkontakt
- 8
- Substrat
- 9
- Kupfer-Leiterbahnabschnitt
- 10
- Lötpaste
- 11
- Flussmittel
- 12
- Lötmetallpulver
- 13
- Glasdamm
- 14
- Schaltung
- 15
- Lötzinnkontakt
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- - EP 1365453 A1 [0002]
Claims (9)
- Lötverfahren zum Verbinden eines Halbleiterchips (
1 ) mit einer Leiterplatte (2 ) über wenigstens einen Lötkontakt (7 ) und zum Herstellen einer Schaltung (14 ), wobei der Halbleiterchip wenigstens ein elektrisch leitendes Pad (5 ) aufweist und die Leiterplatte wenigstens einen Leiterbahnabschnitt (9 ) zur Kontaktierung mit wenigstens einem der Pads des Halbleiterchips umfasst, umfassend eine Auftragung von Lötpaste (10 ) auf den wenigstens einen Leiterbahnabschnitt, einen Bondingprozess, bei dem ein Höcker (7 ) aus wenigstens einem Materialabschnitt (6 ) auf wenigstens eines der Pads gebondet wird, einen Bestückungsvorgang, bei dem die Leiterplatte so mit wenigstens einem der Halbleiterchips bestückt wird, dass wenigstens einer der Lötkontakte mit der Lötpaste in Berührung kommt, einen Heizprozess, bei dem eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Leiterbahnabschnitt und dem Pad hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass als Lötkontakt ausschließlich der Höcker verwendet wird und dieser aus einem homogenen Metall oder einer homogenen Metalllegierung besteht. - Lötverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass beim Bestückungsvorgang der Halbleiterchip ohne weiteres Gehäuse mit der Schaltungsseite zur Leiterplatte hin aufgebracht wird, wobei der Halbleiterchip wenigstens eines der Pads auf der Schaltungsseite aufweist.
- Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Höcker aus Materialabschnitten aus Kupfer oder vorzugsweise aus Gold gebondet wird.
- Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Bondingprozess ein wenigstens zweimaliges Bonden von Drahtabschnitten umfasst.
- Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lötpaste (
10 ) Lotmetallpulver (12 ) und Flussmittel (11 ) beinhaltet. - Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Heizprozess mittels eines Durchlaufofens durchgeführt wird.
- Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich ein Vergussprozess zum Vergießen der aus Leiterplatte und Halbleiterchip hergestellten Schaltung anschließt.
- Schaltung (
14 ) mit wenigstens einem auf eine Leiterplatte (2 ) gelöteten Halbleiterchip (1 ), dadurch gekennzeichnet, dass der Halbleiterchip durch ein Lötverfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche auf die Leiterplatte montiert ist. - Schaltung (
14 ) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine Passivierungsschicht (14 ) als Schutz vor Beschädigungen, wie z. B. mechanischer Beschädigung, vor Korrosion, als Diffusionsbarriere für Alkaliionen oder dergleichen, und/oder wenigstens ein Glasdamm (13 ) zur Begrenzung der Lötfläche vorhanden sind/ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009009813A DE102009009813A1 (de) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | Lötverfahren und Schaltung |
PCT/EP2009/009116 WO2010094315A1 (de) | 2009-02-20 | 2009-12-18 | Flip-chip-lötverfahren und schaltung mit flip-chip-kontaktiertem gelötetem halbleiterchip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009009813A DE102009009813A1 (de) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | Lötverfahren und Schaltung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102009009813A1 true DE102009009813A1 (de) | 2010-08-26 |
Family
ID=41697986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102009009813A Withdrawn DE102009009813A1 (de) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | Lötverfahren und Schaltung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102009009813A1 (de) |
WO (1) | WO2010094315A1 (de) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1365453A1 (de) | 2001-03-01 | 2003-11-26 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Bildsensor und herstellungsverfahren dafür |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6861345B2 (en) * | 1999-08-27 | 2005-03-01 | Micron Technology, Inc. | Method of disposing conductive bumps onto a semiconductor device |
US20070200234A1 (en) * | 2006-02-28 | 2007-08-30 | Texas Instruments Incorporated | Flip-Chip Device Having Underfill in Controlled Gap |
-
2009
- 2009-02-20 DE DE102009009813A patent/DE102009009813A1/de not_active Withdrawn
- 2009-12-18 WO PCT/EP2009/009116 patent/WO2010094315A1/de active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1365453A1 (de) | 2001-03-01 | 2003-11-26 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Bildsensor und herstellungsverfahren dafür |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010094315A1 (de) | 2010-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102005028951B4 (de) | Anordnung zur elektrischen Verbindung einer Halbleiter-Schaltungsanordnung mit einer äusseren Kontakteinrichtung | |
DE19743767B4 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterchip-Gehäuses mit einem Halbleiterchip für Oberflächenmontage sowie ein daraus hergestelltes Halbleiterchip-Gehäuse mit Halbleiterchip | |
DE60219779T2 (de) | Flussmittelfreie flip-chip-verbindung | |
DE102005034485B4 (de) | Verbindungselement für ein Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterleistungsbauelements | |
DE102014106714B4 (de) | Bolzenkontakthügel und Packungsstruktur desselben sowie Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE102009040022B3 (de) | Verfahren zum Ausbilden einer Schmelzsicherung und Leiterplatte mit Schmelzsicherung | |
DE4313980B4 (de) | Integrierte Hybridschaltung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE102005055280B3 (de) | Verbindungselement zwischen Halbleiterchip und Schaltungsträger sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung des Verbindungselements | |
DE112004000360T5 (de) | Zweimetallisches Stud-Bumping für Flipchip-Anwendungen | |
DE102013107065A1 (de) | Bolzenkontakthügelstruktur und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE102006033222B4 (de) | Modul mit flachem Aufbau und Verfahren zur Bestückung | |
DE10236689A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102013105084B4 (de) | Bump-on-trace-verbindungsstruktur für flip-chip-gehäuse | |
DE102008011631A1 (de) | Elektronische Einrichtung und Montageverfahren für Elektronische Komponenten | |
DE69722661T2 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung | |
DE102006023998B4 (de) | Elektronische Schaltungsanordnung und Verfahren zur Herstellung einer solchen | |
WO2012007271A2 (de) | Trägervorrichtung für einen halbleiterchip, elektronisches bauelement mit einer trägervorrichtung und optoelektronisches bauelement mit einer trägervorrichtung | |
DE19628702A1 (de) | Flußmittelfreie Kontaktierung von Bauelementen | |
EP2133915A1 (de) | Halbleiteranordnung mit besonders gestalteten Bondleitungen und Verfahren zum Herstellen einer solchen Anordnung | |
DE112017006956B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Leistungshalbleitervorrichtung und Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE102009009813A1 (de) | Lötverfahren und Schaltung | |
DE102007002807B4 (de) | Chipanordnung | |
DE102011002170A1 (de) | Elektronikbauelement-Package-Verriegelungssystem und Verfahren | |
EP2916631A1 (de) | Strukturierung der Lötstoppmaske von Leiterplatten zur Verbesserung der Lötergebnisse | |
DE112019003664T5 (de) | Halbleiterbauteil und verfahren zur herstellung eines halbleiterbauteils |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20120901 |