DE102009004249A1 - Plant for single-sided strip-electroplated deposition of metallic function layers on substrate strip, comprises an electroplating module having a strip guide and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Anlage zur einseitig bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband, mit einem Galvanikmodul, das eine Bandführung zur horizontalen Führung des Substratbandes durch das Galvanikmodul umfasst und einen Elektrolytbehälter beinhaltet, in der eine Anode für die bandgalvanische Abscheidung angeordnet ist und die ausgelegt ist einen Elektrolyten aufzunehmen, derart, dass der Elektrolyt an eine Unterseite des horizontal geführten Substratbandes strömen kann.The The invention relates to a system for one-sided band galvanic deposition Metallic functional layers on a substrate tape, with a Electroplating module, which is a tape guide for horizontal guidance of the substrate tape through the electroplating module and includes an electrolyte container, in the one anode for the band galvanic deposition is arranged and designed is to receive an electrolyte such that the electrolyte can flow to an underside of the horizontally guided substrate strip.
Stand der Technik und technologischer HintergrundState of the art and technological background
Im Gegensatz zur galvanischen Abscheidung dekorativer Oberflächenbeschichtungen spielt bei der elektrochemischen Abscheidung von Funktionsschichten die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke häufig eine entscheidende Rolle. Beispielsweise wird bei der elektrochemischen Abscheidung von Vorläuferschichten („Precursor"-Schichten) für den CIGSS-Verbindungshalbleiter von Chalkopyrit-Solarzellen auf Bänder aus dünnem Stahlblech oder aus anderen flexiblen metallischen oder mit Metall beschichteten Folienmaterialien eine Schichtdickengleichmäßigkeit von +/– 2% gefordert. Die galvanisch aufgebrachten Schichten von Kupfer, Indium, Gallium, ggf. auch Selen verbinden sich nämlich in einem nachfolgenden Temperschritt zu einem Halbleiter mit einer festen, vorgegebenen Stöchiometrie. Bei lokalen Abweichungen der Schichtdicke der einzelnen Schichten vom Sollwert weicht das Mischungsverhältnis der Reaktionspartner von der Stöchiometrie ab, was zu „Verunreinigungen" des Chalkopyrit-Halbleiters und Funktionsstörungen der photovoltaischen Aktivität bis hin zum völligen Versagen der Solarzelle führt.in the Contrary to the galvanic deposition of decorative surface coatings plays in the electrochemical deposition of functional layers the uniformity the layer thickness often a crucial role. For example, in the electrochemical Deposition of precursor layers ("Precursor" layers) for the CIGSS compound semiconductor of chalcopyrite solar cells on strips of thin sheet steel or other flexible metallic or metal coated sheet materials a layer thickness uniformity of +/- 2% required. The electroplated layers of copper, indium, Gallium, possibly also selenium combine in a subsequent one Tempering step to a semiconductor with a fixed, predetermined Stoichiometry. For local deviations of the layer thickness of the individual layers from the setpoint, the mixing ratio of the reactants deviates from stoichiometry, resulting in "impurities" of the chalcopyrite semiconductor and malfunctions the photovoltaic activity to the uttermost Failure of the solar cell leads.
Derartig extreme Anforderungen an die Schichtgleichmäßigkeit lassen sich mit „normalen” galvanischen Bandbeschichtungsanlagen mit vertikaler Bandführung schwerlich realisieren; außerdem besteht hier das Problem der Rückseiten-Beschichtung. Zur Erzielung hoher Gleichmäßigkeiten eher geeignet sind sogenannte Radgalvanik-Anlagen. Derartige Radgalvaniken (auch als Trommelgalvanik bezeichnet) sind jedoch konstruktiv erheblich aufwändiger, so dass die Anschaffungskosten und die Umrüstzeiten beim Bandwechsel deutlich höher liegen.Such Extreme demands on the layer uniformity can be achieved with "normal" galvanic Difficult to realize strip coating systems with vertical tape guide; it also exists here the problem of backside coating. to Achieving high uniformity more suitable are so-called wheel electroplating plants. Such Radgalvaniken (also referred to as Trommelvanvanik) are structurally significant consuming, so that the acquisition costs and the changeover times when changing the band clearly higher.
Bekannt geworden sind ferner Bandgalvanikanlagen mit horizontaler Bandführung, die konstruktiv weniger aufwändig als Radgalvaniken und den Standardbandgalvaniken mit vertikaler Bandführung hinsichtlich Gleichmäßigkeit und bezüglich Vermeidung einer Rückseitenbeschichtung überlegen sind, jedoch erreichen auch sie nicht derart extrem hohe Gleichmäßigkeitsanforderungen, wie sie beispielsweise an die sequentielle Precursor-Abscheidung von CIGS-Solarzellen gestellt werden müssen.Known Furthermore, strip galvanic plants with horizontal strip guide have become structurally less expensive as wheel electroplating and the standard tape electroplating with vertical tape guide in terms of uniformity and re Avoiding a backside coating are superior however, they too do not achieve such extremely high uniformity requirements as for example, to the sequential precursor deposition CIGS solar cells.
Bei Bandgalvaniken, in welchen das zu beschichtende Band vertikal durch die Anlage geführt wird, ist es üblich, durch eine spezielle Kathodenkonstruktion und/oder Blenden und Abschirmungen die Homogenität der Abscheidung zu verbessern. Bei Radgalvaniken werden Blenden mit einem angepassten Lochmuster vor das Band montiert, um eine möglichst homogene Abscheidung zu erreichen.at Bandgalvaniken in which the tape to be coated vertically through the plant is run, it is usual, by a special cathode construction and / or screens and shields the homogeneity to improve the deposition. At Radgalvaniken be dazzles with a customized hole pattern in front of the band mounted to one as possible to achieve homogeneous deposition.
Unter
Berücksichtigung
derartiger, verbessernder Maßnahmen
verbleiben bei den bisher bekannt gewordenen Bandgalvaniken, wenn
sie eingesetzt werden zur Abscheidung von Funktionsschichten mit
hoher Schichtdickengleichmäßigkeit,
folgende Vor- und Nachteile:
Bei Bandgalvanik-Anlagen mit vertikaler
Bandführung
muss durch Zusatzmaßnahmen
sichergestellt werden, dass eine Abscheidung auf der Bandrückseite
vermieden wird. Dies wird beispielsweise durch Abkleben der Rückseite
mit Kunststofffolie erreicht, was einen erheblichen zusätzlichen
Aufwand bedeutet und die elektrische Kontaktierung des Bandes über seine
Rückseite
verhindert.Taking into account such, improving measures remain with the hitherto known strip electroplating, when they are used for the deposition of functional layers with high layer thickness uniformity, the following advantages and disadvantages:
In the case of belt galvanic systems with vertical belt guidance, additional measures must be taken to ensure that deposition on the back of the belt is avoided. This is achieved for example by masking the back with plastic film, which means a considerable additional effort and prevents the electrical contact of the tape on its back.
Ferner ist bei Bandgalvanik-Anlagen mit vertikaler Bandführung nicht sichergestellt, dass der Abstand zwischen dem Substratband und der Anode genau eingehalten wird. Vielmehr kann sich das Band aufgrund der Anströmung durch den Elektrolyten mit geringem Spiel bewegen; der wechselnde Anodenabstand führt jedoch zwangsläufig zu Schwankungen in der Schichtdicke.Further is not in band electroplating systems with vertical tape guide Ensure that the distance between the substrate tape and the Anode is strictly adhered to. Rather, the band may be due to the flow move through the electrolyte with little play; the changing one Anode distance leads but inevitably to fluctuations in the layer thickness.
Wenig anders sind die Verhältnisse bei den bisher bekannt gewordenen Anlagen mit horizontaler Bandführung. Hier wird das Band durch Druckluft von oben gegen den anströmenden Elektrolyten gedrückt. Geringste Schwankungen in dem Druckverhältnis führen zu einer Durchwölbung des Bandes und somit zu Änderungen im Abstand des Bandes zur Anode, was zu anderen Abscheidebedingungen in der Bandmitte, verglichen mit seinen Rändern, führt.Little the conditions are different in the previously known systems with horizontal tape guide. Here The belt is compressed by compressed air from above against the inflowing electrolyte pressed. Slight fluctuations in the pressure ratio lead to a bulging of the Bandes and thus to changes at the distance of the band to the anode, resulting in other deposition conditions in the band center, compared with its edges, leads.
Bei
der üblichen
Bandgalvanik mit horizontaler Führung
wird weiterhin das Band
Ferner
ist für
eine homogene Beschichtung von Bedeutung, dass in der konventionellen
Anlage die Anode
Schließlich ist
noch die Zugänglichkeit
von Band
Wie
aus
Es ist somit offensichtlich, dass die bisherige Bauweise bandgalvanischer Anlagen mit horizontaler Bandführung, obwohl sie gegenüber Bandgalvaniken mit vertikaler Bandführung bessere Gleichmäßigkeiten erzeugt, einige Schwachpunkte bzw. Verbesserungsmöglichkeiten aufweisen.It is thus obvious that the previous design bandgalvanischer Systems with horizontal tape guide, although they are opposite Ribbon electroplates with vertical band guide better uniformities generates, some weak points or improvement possibilities exhibit.
Bei einer Radgalvanik entstehen zusätzliche Probleme, wenn die beschichtete Seite des Bandes nicht berührt bzw. über Rollen geführt werden darf. Die Bandführung wird dadurch sehr kompliziert, was eine erhöhte Zugspannung erforderlich macht. Hierdurch und durch die häufige Umlenkung wird das Band stark auf Biegung beansprucht, was zu einer Ablösung der Schichten oder zu Verformungen des Bandes führen kann.at a Radvanvanik arise additional problems when the coated side of the tape is not touched or passed over rollers may. The band guide This is very complicated, which requires increased tension power. This and the frequent Deflection, the band is subjected to strong bending, resulting in a replacement of the Layers or can lead to deformations of the tape.
Speziell bei den genannten Radgalvaniken ist ein Wechseln des Bandes sehr aufwendig. Aufgrund der vielen Umlenkungen und Schlaufen verbleibt eine wesentlich größere Bandlänge in der Anlage.specially in the mentioned Radgalvaniken a change of the band is very consuming. Due to the many deflections and loops remains a much longer tape length in the Investment.
Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention
Die vorliegende Erfindung hat es sich zur Aufgabe gemacht, die an sich schon vergleichsweise gute Schichtdickenhomogenität bei horizontaler Bandführung und bei von unten anströmendem Elektrolyt weiter zu verbessern, so dass eine extrem hohe Schichtdickengleichmäßigkeit, beispielsweise entsprechend den Anforderungen einer Solarzelle, erreicht und zugleich die vorgenannten Nachteile vermieden werden.The The present invention has set itself the task of per se already comparatively good layer thickness homogeneity with horizontal tape guidance and at inflowing from below Electrolyte to further improve, so that an extremely high layer thickness uniformity, for example, according to the requirements of a solar cell, achieved while avoiding the aforementioned disadvantages.
Die Erfindung geht aus von einer Anlage zur einseitig bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband, mit einem Galvanikmodul, das eine Bandführung zur horizontalen Führung des Substratbandes durch das Galvanikmodul umfasst und einen Elektrolytbehälter beinhaltet, in der eine Anode für die bandgalvanische Abscheidung angeordnet ist und die ausgelegt ist einen Elektrolyten aufzunehmen, derart, dass der Elektrolyt an eine Unterseite des horizontal geführten Substratbandes strömen kann. Die erfindungsgemäße Anlage zeichnet sich dadurch aus, dass das Galvanikmodul eine Platte umfasst, die so angeordnet ist, dass das Substratband während der Führung durch das Galvanikmodul mit seiner Oberseite parallel zur Platte ausgerichtet ist, und die Platte Luftleitelemente enthält, durch die Druckluft von einer Oberseite der Platte zur Unterseite der Platte leitbar ist. Die erfindungsgemäße Anlage umfasst ferner eine Druckluftversorgung, die ausgelegt ist Druckluft von der Oberseite der Platte durch die Platte zu leiten, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen Platte und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.The Invention is based on a system for one-sided bandgalvanischen Deposition of metallic functional layers on a substrate tape, with a galvanic module, a tape guide for horizontal guidance of Substrate band comprises by the electroplating module and includes an electrolyte container, in the one anode for the band galvanic deposition is arranged and designed is to receive an electrolyte such that the electrolyte can flow to an underside of the horizontally guided substrate strip. The inventive system is characterized in that the electroplating module comprises a plate, which is arranged so that the substrate strip during the guidance by the electroplating module is aligned with its top parallel to the plate, and the Contains plate spoiler elements, by the compressed air from a top of the plate to the bottom the plate is conductive. The system according to the invention further comprises a compressed air supply, which is designed for compressed air from the top of the plate through the To guide plate, so that when inserted substrate strip between the plate and the continuous substrate tape an air cushion formed.
Auf
der der zu beschichtenden Seite gegenüberliegenden Seite des Substratbandes
wird also auf der gesamten Länge
des galvanischen, elektrolytbefüllten
Moduls sowie auf der vollen Breite des Substratbandes eine Platte
aus gelochtem oder porösen
Material, anliegend an Oberseite des Substratbandes, bereitgestellt.
Durch Lochungen oder Poren in der Platte wird Luft hindurch gepresst,
die ein Luftkissen auf der Oberseite des Substratbandes bildet mit
3 Funktionen:
Zum Ersten liegt das Band an einer definierten
Unterlage auf; eine Durchwölbung
bzw. eine Variation des Abstandes zwischen Kathode und Anode ist
somit nicht mehr möglich.On the side of the substrate strip opposite the side to be coated, a plate made of perforated or porous material, adjacent to the upper side of the substrate strip, is thus provided over the entire length of the galvanic, electrolyte-filled module and over the full width of the substrate strip. Through holes or pores in the plate air is pressed through, which forms an air cushion on top of the substrate strip with 3 functions:
First, the tape lies on a defined surface; a bulge or a variation of the distance between the cathode and anode is thus no longer possible.
Zweitens wird die das Luftkissen bildende Druckluft seitlich am Band entweichen, wodurch ein Eindringen des Elektrolyten auf die Bandoberseite und die unerwünschte Oberseiten-Beschichtung verhindert wird.Secondly the compressed air forming the air cushion will escape laterally on the belt, whereby penetration of the electrolyte on the tape top and the unwanted Top coating is prevented.
Drittens vermindert sich der Reibungswiderstand zwischen der rückseitigen Platte und dem Band, so dass eine geringere Zugspannung ausreichend ist und eine ruckfreie Bandbewegung möglich wird, was in Längsrichtung des Bandes zu einer gleichmäßigeren Beschichtung führt.Third, the frictional resistance between the back plate and the back plate decreases Band, so that a lower tensile stress is sufficient and a smooth belt movement is possible, resulting in the longitudinal direction of the belt to a more uniform coating.
Bevorzugt ist, dass der Elektrolytbehälter des Galvanikmoduls seitliche Öffnungen für den Abfluss des Elektrolyten aufweist, die in derselben horizontalen Ebene liegen, wie das in der Bandführung liegende Substratband. Mit anderen Worten, der Auslauf des Elektrolyten ist in genau die gleiche horizontale Ebene gelegt, in welcher sich das zu beschichtende Band befindet. Hierdurch wird erreicht, dass Gasblasen, die sich bei dem galvanischen Vorgang auf dem Band bilden sowie Luftblasen aus der von hinter dem Band hervorquellenden Pressluft zur Seite abgespült werden bzw. mit dem Elektrolyten abfließen.Prefers is that the electrolyte tank of the Electroplating module lateral openings for the Outflow of the electrolyte has, in the same horizontal Level lie as the substrate strip lying in the tape guide. In other words, the outlet of the electrolyte is in exactly that same horizontal plane laid in which the to be coated Band is located. This will cause bubbles of gas to form in the galvanic process on the tape form as well as air bubbles from the side of the band swelling compressed air to the side rinsed be or drain with the electrolyte.
Ferner ist bevorzugt, wenn das Galvanikmodul zweiteilig ausgeführt ist, mit einem Unterteil, das den Elektrolytbehälter umfasst, und einem Oberteil, das die Platte und Teile der Bandführung und Luftführung der Druckluftversorgung umfasst. Die Bandführung umfasst dabei vorzugsweise zwei L-Profilschienen, die in das Oberteil des Galvanikmoduls integriert sind und zur seitlichen Führung des eingelegten Substratbandes dienen. Die L-Profilschienen bestehen vorzugsweise aus einem hoch abriebfesten Material.Further is preferred if the electroplating module is designed in two parts, with a lower part, which comprises the electrolyte container, and an upper part, the the plate and parts of the tape guide and airflow the compressed air supply includes. The tape guide preferably comprises two L-profile rails, which are integrated into the upper part of the electroplating module and to the side guide serve the inserted substrate tape. The L-profile rails are preferably made Made of a highly abrasion-resistant material.
Demnach
wird vorzugsweise an Stelle der üblichen
Bandführung
in der Gehäusewandung
des galvanischen Moduls aus Kunststoff ein L-Profil, vorzugsweise
aus Glas oder Keramik oder einem anderen glatten und abriebfesten
Material (wie CERAN), verwendet. Dieses Profil ist in das üblicherweise
aus Kunststoff bestehende Oberteil des galvanischen Moduls eingelassen.
Durch diese Maßnahme
werden verschiedene Vorteile erreicht:
Wie bei der bisher bekannten
Bandführung
in U-förmigen
Nuten des Gehäuse-Unterteils kann auch
hier das Band nicht zur Seite auswandern. Zugleich wird jedoch,
ungleich einer konventionellen Bandführung in einem U-Profil, die
gesamte Band-Unterseite
randlos galvanisch beschichtet. Gleichzeitig wird aber dem hinter
dem Band befindlichen Luftkissen eine seitliche Begrenzung geboten.Accordingly, an L-profile, preferably made of glass or ceramic or another smooth and abrasion-resistant material (such as CERAN) is preferably used instead of the usual tape guide in the housing wall of the plastic galvanic module. This profile is embedded in the usually made of plastic upper part of the galvanic module. This measure achieves several advantages:
As with the previously known tape guide in U-shaped grooves of the housing base, the band can not emigrate to the side here. At the same time, however, unlike a conventional tape guide in a U-profile, the entire band underside is coated without edge galvanic. At the same time, however, the air cushion located behind the belt is offered a lateral limit.
Zweitens können die in der Regel scharfen Kanten des Bandes nicht in den Kunststoff des Modul-Oberteils einschneiden, was im Extremfall zu Bandstillstand oder Zerstörung des Galvanikmoduls führen würde. Sollte das rückseitige Luftkissen ausfallen, so ist der Reibungswiderstand zwischen den Führungsprofilen und dem durchlaufenden Band dennoch gering, weil die Reibung zwischen dem Band und Glas/Keramik kleiner ist, als zwischen Band und Kunststoff.Secondly can The usually sharp edges of the tape are not in the plastic cut the module top, which in extreme cases to tape stop or destruction lead the electroplating module would. Should the back Air cushions fail, so is the frictional resistance between the guide profiles and the continuous band still low, because the friction between the volume and glass / ceramic is smaller than between tape and plastic.
Drittens lässt sich das Band aus den beiden seitlichen L-Profilen einfach nach unten entnehmen, während eine Bandführung durch seitliche U-Profile stirnseitig beschickt werden muss.thirdly let yourself the band from the two lateral L-profiles just down remove while a band guide must be fed by lateral U-profiles frontally.
Eine weitere vorteilhafte Maßnahme ist die Ausbildung des Galvanikmoduls als Ober- und Unterteil, wobei das Oberteil deckelartig ausgebildet und in der Ebene der Bandführung mit seitlichen Scharnieren am Unterteil schwenkbar befestigt ist. Ein Bandwechsel oder ein Zugang zur Anode im unteren Modulteil ist somit durch einfaches Aufschwenken des Oberteils möglich. Mit anderen Worten, das Oberteil ist vorzugsweise durch Scharniere abklappbar an dem Unterteil befestigt.A further advantageous measure is the training of the electroplating module as the upper and lower part, the upper part lid-like formed and in the plane of the tape guide with side hinges is pivotally mounted on the lower part. A band change or a Access to the anode in the lower part of the module is thus by simple Swinging up the upper part possible. In other words, the upper part is preferably by hinges hinged attached to the lower part.
Weiterhin
ist bevorzugt, wenn eine durch die Dimensionierung der Bandführung vorgegebene
maximale Breite des eingelegten Substratbandes geringer oder gleich
der Breite der Anode ist. Für
eine gute Gleichmäßigkeit
der Beschichtung in Bandgalvanik-Anlagen ist von entscheidender
Bedeutung, dass sich die Anode in unmittelbarer Nähe des Bandes
befindet und mindestens dieselbe, möglichst jedoch eine größere Breite
hat. Wie aus
Die Anlage beinhaltet ferner vorzugsweise eine Transporteinheit für das Substratband, welche vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete Magnetrollen umfasst, die an der Oberseite des eingelegten Substratbandes anliegen. Die Transporteinheit kann weiterhin vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete, konvexe Formkörper umfassen, die an der Unterseite des eingelegten Substratbandes anliegen, wobei die Formkörper aus einem porösen Material bestehen, durch das Druckluft leitbar ist, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen dem Formkörper und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.The Plant also preferably includes a transport unit for the substrate strip, which arranged before and behind the electroplating magnet rollers includes, which bear against the top of the inserted substrate strip. The transport unit can continue in front of and behind the electroplating module arranged, convex moldings include, which bear against the underside of the inserted substrate strip, the shaped bodies from a porous material exist, by the compressed air is conductive, so that at inserted substrate tape between the molding and the continuous substrate tape an air cushion trains.
Der vorgenannten Ausführungsvariante liegt demnach die Idee einer Bandführung mittels Magnetrollen jeweils vor und nach dem galvanischen Beschichtungsmodul zugrunde. Eine Berührung der beschichteten Bandseite wird durch die Verwendung von Magnetrollen vermieden. Die Magnetrollen halten das Band auch bei einem geringem Umschlingungswinkel und anstehender Zugspannung zuverlässig in Position. Mithin dient diese Verbesserung dem Gesamtziel, einer extrem gleichmäßigen Bandbeschichtung.Of the aforementioned embodiment Accordingly, the idea of a tape guide using magnetic rollers respectively before and after the galvanic coating module. A touch The coated hinge side is made by using magnetic rollers avoided. The magnetic rolls keep the ribbon at a low level Wrap angle and upcoming tension reliable in Position. Thus, this improvement serves the overall goal, one extremely uniform band coating.
Dasselbe gilt für die Verwendung von Luftlagern, porösen, von Druckluft durchströmten Gleitlagern auf der beschichteten Seite des Bandes: Offensichtlich sind Kontaktrollen, auch Magnetrollen zur Stromzuführung, auf der Unterseite des Bandes wegen ihrer geringen Kontaktfläche als solche nicht ausreichend geeignet, hohe Ströme einzutragen. Daher wird zwischen zwei Magnetrollen, die als elektrische Kontakte ausgebildet sind, ein Gleitlager auf der Gutseite des Bandes so montiert, dass sich der Umschlingungswinkel des Bandes an den Kontaktwalzen erheblich erhöht. Das Gleitlager besteht dabei aus einem porösem Material, so dass durch Anlegung von Druckluft ein Luftkissen zwischen dem Band und dem Gleitlager ausgebildet wird, welches die Berührung verhindert. Es versteht sich, dass ein solches konvexes Gleitlager auch als poröse, luftdurchströmte Rolle ausgebildet sein könnte und nicht nur zur Unterstützung der Stromzuführung, sondern auch zur berührungslosen Umlenkung der Bandlaufrichtung eingesetzt werden kann.The same thing applies to the use of air bearings, porous, flowed through by compressed air bearings on the coated side of the tape: Obviously, contact rollers, also magnetic rollers for power supply, on the underside of the band because of their small contact area as such not sufficiently suitable to enter high currents. Therefore, will between two magnetic rollers, which are designed as electrical contacts are, a plain bearing mounted on the Gutseite of the tape so that the wrap angle of the band at the contact rollers considerably elevated. The plain bearing consists of a porous material, so that Application of compressed air an air cushion between the band and the Sliding bearing is formed, which prevents contact. It understands itself, that such a convex plain bearing as a porous, air-flow role could be trained and not just for support the power supply, but also for contactless Deflection of the strip running direction can be used.
Eine weitere bevorzugte Ausführungsform sieht vor, dass die Platte als Luftleitelement Bohrungen aufweist, die schräg durch die Platte verlaufen, d. h. die Bohrungen sind gegen die Senkrechte zum Rand des Bandes hin geneigt ausgeführt. Hierdurch soll erreicht werden, dass die Druckluft nicht nur senkrecht das Band nach unten drückt, sondern eventuelle Feuchtigkeit auf der Bandoberseite gezielt zur Seite hin weggeblasen wird, indem der Luftstrom eine horizontale Komponente hat. Außerdem wird so die Ausbildung einer laminaren Luftströmung unterstützt und damit das Luftkissen stabilisiert.A see further preferred embodiment before that the plate has as an air guide holes, the aslant pass through the plate, d. H. the holes are against the vertical running inclined to the edge of the tape. This is intended to be achieved Be sure that the compressed air is not just perpendicular to the belt down suppressed, but possible moisture on the top of the tape targeted to Blown away side by the air flow a horizontal Component has. Furthermore Thus, the formation of a laminar air flow is supported and thus stabilizing the air cushion.
Schließlich ist bevorzugt, dass die Anode aus mindestens einem mittleren und zwei Randstreifen ausgebildet ist, die elektrisch voneinander isoliert sind und an die verschiedene elektrische Potentiale angeschlossen werden können. Hierdurch kann eine besonders gleichmäßige Beschichtung über die gesamte Breite des Bandes sichergestellt werden.Finally is preferred that the anode of at least one middle and two Edge strip is formed, which are electrically isolated from each other and to which various electrical potentials are connected can. This allows a particularly uniform coating over the entire width of the tape to be ensured.
Kurzbeschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings
Die Erfindung wird nachfolgend in einem Ausführungsbeispiel und anhand der dazugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:The Invention is described below in an embodiment and with reference to the associated drawings explained in more detail. It demonstrate:
Detaillierte Beschreibung der ErfindungDetailed description the invention
Bei
der erfindungsgemäßen Bandgalvanik mit
horizontaler Führung
wird das Band
Eine
leichte Zugänglichkeit
des Substratbandes
Wie
aus
Claims (11)
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (3)
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---|---|---|---|
DE102008004003.7 | 2008-01-11 | ||
DE102008004003 | 2008-01-11 | ||
DE102009004249A DE102009004249A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-01-08 | Plant for single-sided strip-electroplated deposition of metallic function layers on substrate strip, comprises an electroplating module having a strip guide and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102009004249A1 true DE102009004249A1 (en) | 2009-07-16 |
Family
ID=40758661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102009004249A Withdrawn DE102009004249A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-01-08 | Plant for single-sided strip-electroplated deposition of metallic function layers on substrate strip, comprises an electroplating module having a strip guide and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit |
Country Status (1)
Country | Link |
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2009
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Effective date: 20120801 |