DE102009004249A1 - Plant for single-sided strip-electroplated deposition of metallic function layers on substrate strip, comprises an electroplating module having a strip guide and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit - Google Patents

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Abstract

The plant comprises an electroplating module (2), which has a strip guide (6b) for horizontally guiding a substrate strip (1) through the electroplating module and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit for the substrate strip. An anode (4) is arranged in the electrolyte container for strip-electroplating deposition and is designed to receive electrolytes, so that the electrolyte flows to an upper side of the guided substrate strip. The module has a plate, which is arranged in such a manner that the substrate strip is aligned with its upper side. The plant comprises an electroplating module (2), which has a strip guide (6b) for horizontally guiding a substrate strip (1) through the electroplating module and an electrolyte container, a compressed air supply, and a transportation unit for the substrate strip. An anode (4) is arranged in the electrolyte container for strip-electroplating deposition and is designed to receive electrolytes, so that the electrolyte flows to an upper side of the guided substrate strip. The module has a plate, which is arranged in such a manner that the substrate strip is aligned with its upper side parallel to the plate during the guidance. The plate contains air-guiding elements, through which compressed air (7) is conductible from the upper side of the plate to the lower side of the plate. The compressed air supply is designed to conduct the compressed air from the upper side of the plate to the lower side of the plate. An air bag forms itself in the guided substrate strip between the plate and the passing-through substrate strip. The module is implemented in two-parts, where a lower part comprises the electrolyte container and an upper part comprises the plate and the parts of the strip guide and air guide of the compressed air supply. The strip guide comprises two L-profiled rails, which are integrated into the upper part of the module and serve for laterally guiding the substrate strip. The L-profiled rails consist of high abrasion-resistant material. The upper part is removably fastened to the lower part by hinges. A maximum width of the guided substrate strip given by dimensioning the strip guide is less than or equal to the width of the anode. The electrolyte container has lateral openings for the flow of the electrolytes, which lie in the same horizontal plane as the substrate strip lying in the strip guide. The transportation unit comprises magnetic rollers and a convex plain bearing, which are arranged upstream and downstream to the module. The magnetic rollers and the plain bearing lie at the upper side of the guided substrate strip. The plain bearing consists of porous material, through which the compressed air is conductible, so that the air bag forms itself in the guided substrate strip between the plain bearing and the substrate strip. The plate has bores as air-guiding element, where the bores obliquely pass through the plate. The anode is formed from a central strip and two marginal strips, which are electrically insulated from each other and are connected at different electrical potentials.

Description

Die Erfindung betrifft eine Anlage zur einseitig bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband, mit einem Galvanikmodul, das eine Bandführung zur horizontalen Führung des Substratbandes durch das Galvanikmodul umfasst und einen Elektrolytbehälter beinhaltet, in der eine Anode für die bandgalvanische Abscheidung angeordnet ist und die ausgelegt ist einen Elektrolyten aufzunehmen, derart, dass der Elektrolyt an eine Unterseite des horizontal geführten Substratbandes strömen kann.The The invention relates to a system for one-sided band galvanic deposition Metallic functional layers on a substrate tape, with a Electroplating module, which is a tape guide for horizontal guidance of the substrate tape through the electroplating module and includes an electrolyte container, in the one anode for the band galvanic deposition is arranged and designed is to receive an electrolyte such that the electrolyte can flow to an underside of the horizontally guided substrate strip.

Stand der Technik und technologischer HintergrundState of the art and technological background

Im Gegensatz zur galvanischen Abscheidung dekorativer Oberflächenbeschichtungen spielt bei der elektrochemischen Abscheidung von Funktionsschichten die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke häufig eine entscheidende Rolle. Beispielsweise wird bei der elektrochemischen Abscheidung von Vorläuferschichten („Precursor"-Schichten) für den CIGSS-Verbindungshalbleiter von Chalkopyrit-Solarzellen auf Bänder aus dünnem Stahlblech oder aus anderen flexiblen metallischen oder mit Metall beschichteten Folienmaterialien eine Schichtdickengleichmäßigkeit von +/– 2% gefordert. Die galvanisch aufgebrachten Schichten von Kupfer, Indium, Gallium, ggf. auch Selen verbinden sich nämlich in einem nachfolgenden Temperschritt zu einem Halbleiter mit einer festen, vorgegebenen Stöchiometrie. Bei lokalen Abweichungen der Schichtdicke der einzelnen Schichten vom Sollwert weicht das Mischungsverhältnis der Reaktionspartner von der Stöchiometrie ab, was zu „Verunreinigungen" des Chalkopyrit-Halbleiters und Funktionsstörungen der photovoltaischen Aktivität bis hin zum völligen Versagen der Solarzelle führt.in the Contrary to the galvanic deposition of decorative surface coatings plays in the electrochemical deposition of functional layers the uniformity the layer thickness often a crucial role. For example, in the electrochemical Deposition of precursor layers ("Precursor" layers) for the CIGSS compound semiconductor of chalcopyrite solar cells on strips of thin sheet steel or other flexible metallic or metal coated sheet materials a layer thickness uniformity of +/- 2% required. The electroplated layers of copper, indium, Gallium, possibly also selenium combine in a subsequent one Tempering step to a semiconductor with a fixed, predetermined Stoichiometry. For local deviations of the layer thickness of the individual layers from the setpoint, the mixing ratio of the reactants deviates from stoichiometry, resulting in "impurities" of the chalcopyrite semiconductor and malfunctions the photovoltaic activity to the uttermost Failure of the solar cell leads.

Derartig extreme Anforderungen an die Schichtgleichmäßigkeit lassen sich mit „normalen” galvanischen Bandbeschichtungsanlagen mit vertikaler Bandführung schwerlich realisieren; außerdem besteht hier das Problem der Rückseiten-Beschichtung. Zur Erzielung hoher Gleichmäßigkeiten eher geeignet sind sogenannte Radgalvanik-Anlagen. Derartige Radgalvaniken (auch als Trommelgalvanik bezeichnet) sind jedoch konstruktiv erheblich aufwändiger, so dass die Anschaffungskosten und die Umrüstzeiten beim Bandwechsel deutlich höher liegen.Such Extreme demands on the layer uniformity can be achieved with "normal" galvanic Difficult to realize strip coating systems with vertical tape guide; it also exists here the problem of backside coating. to Achieving high uniformity more suitable are so-called wheel electroplating plants. Such Radgalvaniken (also referred to as Trommelvanvanik) are structurally significant consuming, so that the acquisition costs and the changeover times when changing the band clearly higher.

Bekannt geworden sind ferner Bandgalvanikanlagen mit horizontaler Bandführung, die konstruktiv weniger aufwändig als Radgalvaniken und den Standardbandgalvaniken mit vertikaler Bandführung hinsichtlich Gleichmäßigkeit und bezüglich Vermeidung einer Rückseitenbeschichtung überlegen sind, jedoch erreichen auch sie nicht derart extrem hohe Gleichmäßigkeitsanforderungen, wie sie beispielsweise an die sequentielle Precursor-Abscheidung von CIGS-Solarzellen gestellt werden müssen.Known Furthermore, strip galvanic plants with horizontal strip guide have become structurally less expensive as wheel electroplating and the standard tape electroplating with vertical tape guide in terms of uniformity and re Avoiding a backside coating are superior however, they too do not achieve such extremely high uniformity requirements as for example, to the sequential precursor deposition CIGS solar cells.

Bei Bandgalvaniken, in welchen das zu beschichtende Band vertikal durch die Anlage geführt wird, ist es üblich, durch eine spezielle Kathodenkonstruktion und/oder Blenden und Abschirmungen die Homogenität der Abscheidung zu verbessern. Bei Radgalvaniken werden Blenden mit einem angepassten Lochmuster vor das Band montiert, um eine möglichst homogene Abscheidung zu erreichen.at Bandgalvaniken in which the tape to be coated vertically through the plant is run, it is usual, by a special cathode construction and / or screens and shields the homogeneity to improve the deposition. At Radgalvaniken be dazzles with a customized hole pattern in front of the band mounted to one as possible to achieve homogeneous deposition.

Unter Berücksichtigung derartiger, verbessernder Maßnahmen verbleiben bei den bisher bekannt gewordenen Bandgalvaniken, wenn sie eingesetzt werden zur Abscheidung von Funktionsschichten mit hoher Schichtdickengleichmäßigkeit, folgende Vor- und Nachteile:
Bei Bandgalvanik-Anlagen mit vertikaler Bandführung muss durch Zusatzmaßnahmen sichergestellt werden, dass eine Abscheidung auf der Bandrückseite vermieden wird. Dies wird beispielsweise durch Abkleben der Rückseite mit Kunststofffolie erreicht, was einen erheblichen zusätzlichen Aufwand bedeutet und die elektrische Kontaktierung des Bandes über seine Rückseite verhindert.
Taking into account such, improving measures remain with the hitherto known strip electroplating, when they are used for the deposition of functional layers with high layer thickness uniformity, the following advantages and disadvantages:
In the case of belt galvanic systems with vertical belt guidance, additional measures must be taken to ensure that deposition on the back of the belt is avoided. This is achieved for example by masking the back with plastic film, which means a considerable additional effort and prevents the electrical contact of the tape on its back.

Ferner ist bei Bandgalvanik-Anlagen mit vertikaler Bandführung nicht sichergestellt, dass der Abstand zwischen dem Substratband und der Anode genau eingehalten wird. Vielmehr kann sich das Band aufgrund der Anströmung durch den Elektrolyten mit geringem Spiel bewegen; der wechselnde Anodenabstand führt jedoch zwangsläufig zu Schwankungen in der Schichtdicke.Further is not in band electroplating systems with vertical tape guide Ensure that the distance between the substrate tape and the Anode is strictly adhered to. Rather, the band may be due to the flow move through the electrolyte with little play; the changing one Anode distance leads but inevitably to fluctuations in the layer thickness.

Wenig anders sind die Verhältnisse bei den bisher bekannt gewordenen Anlagen mit horizontaler Bandführung. Hier wird das Band durch Druckluft von oben gegen den anströmenden Elektrolyten gedrückt. Geringste Schwankungen in dem Druckverhältnis führen zu einer Durchwölbung des Bandes und somit zu Änderungen im Abstand des Bandes zur Anode, was zu anderen Abscheidebedingungen in der Bandmitte, verglichen mit seinen Rändern, führt.Little the conditions are different in the previously known systems with horizontal tape guide. Here The belt is compressed by compressed air from above against the inflowing electrolyte pressed. Slight fluctuations in the pressure ratio lead to a bulging of the Bandes and thus to changes at the distance of the band to the anode, resulting in other deposition conditions in the band center, compared with its edges, leads.

1 zeigt im Querschnitt eine konventionelle Anlage zur Bandgalvanik. Das Band 1 wird horizontal geführt und von unten vom durch einen Zufluss 8a in das Galvanikmodul 2 eintretenden Elektrolyten angeströmt. Um eine rückseitige Beschichtung des Bandes 1 zu vermeiden, wird das Band 1 oberseitig durch Druckluft 7 gegen den von unten anströmenden Elektrolyten gepresst. Nachteilig ist, dass eine nicht völlig exakte Abstimmung des Luftdrucks auf die Elektrolytanströmung zu einer Durchwölbung des flexiblen Bandes 1 führt, was Inhomogenitäten der Beschichtung zur Folge hat, denn der Abstand zur Anode 4 ändert sich. Dies gilt umso mehr, je breiter das Band und je geringer seine Dicke ist. 1 shows in cross section a conventional plant for strip electroplating. The ribbon 1 is guided horizontally and from below by a tributary 8a into the electroplating module 2 incoming electrolyte flowed. To a back coating of the tape 1 to avoid, the tape becomes 1 on the upper side by compressed air 7 pressed against the inflowing from below the electrolyte. The disadvantage is that a not completely exact adjustment of the air pressure on the Elektrolytanströmung to a Durchwölbung of the flexible band 1 what causes inhomogeneities the result of the coating, because the distance to the anode four changes. This is even more true, the wider the band and the smaller its thickness.

Bei der üblichen Bandgalvanik mit horizontaler Führung wird weiterhin das Band 1 seitlich durch eine U-förmige Nut 6a im Galvanikmodul 2 gehaltert, so dass beidseitig eine Randzone des Bandes 1 unbeschichtet bleibt, was in vielen Fällen unerwünscht ist.In the usual strip galvanic with horizontal guidance continues to be the band 1 laterally through a U-shaped groove 6a in the electroplating module 2 held, so that on both sides an edge zone of the band 1 remains uncoated, which is undesirable in many cases.

Ferner ist für eine homogene Beschichtung von Bedeutung, dass in der konventionellen Anlage die Anode 4 zwar nahe am Substratband 1 angeordnet werden kann, aber weniger breit ist, wie das Substratband 1. Bei der in 1 gezeigten Anlagen-Konzeption mit U-förmiger Bandführung ist es nicht möglich, die Anode 4 ebenso breit wie das gesamte Substratband 1 auszubilden.Furthermore, it is important for a homogeneous coating that in the conventional system, the anode four although close to the substrate band 1 can be arranged, but is less wide, as the substrate tape 1 , At the in 1 shown system design with U-shaped tape guide, it is not possible, the anode four as wide as the entire substrate tape 1 train.

Schließlich ist noch die Zugänglichkeit von Band 1 und Anode 4 in Anlagen der üblichen Bauart beschränkt, weil das auf seiner ganzen Länge in die seitlichen Führungsschlitze eingeschobene Band 1 den Zugriff auf die Anode 4 verhindert und weil das Band 1 stirnseitig eingeführt bzw. entfernt werden muss.Finally, there is the accessibility of the band 1 and anode four limited in systems of the usual type, because the inserted over its entire length in the lateral guide slots band 1 access to the anode four prevented and because the tape 1 must be inserted or removed frontally.

Wie aus 1 ersichtlich, liegt der Elektrolytabfluss 8b auf einem etwas tieferen Niveau als die Unterseite des Substratbandes 1, so dass sich Gasblasen, die bei der elektrolytischen Abscheidung entstehen, sowie Druckluftbläschen, die unter dem Band 1 hervorquellen, auf der Bandunterseite ansammeln und eine gleichmäßige Beschichtung verhindern.How out 1 can be seen, lies the electrolyte drain 8b at a slightly lower level than the bottom of the substrate tape 1 , so that gas bubbles, which arise during the electrolytic deposition, as well as compressed air bubbles, which under the band 1 Well, accumulate on the underside of the belt and prevent uniform coating.

Es ist somit offensichtlich, dass die bisherige Bauweise bandgalvanischer Anlagen mit horizontaler Bandführung, obwohl sie gegenüber Bandgalvaniken mit vertikaler Bandführung bessere Gleichmäßigkeiten erzeugt, einige Schwachpunkte bzw. Verbesserungsmöglichkeiten aufweisen.It is thus obvious that the previous design bandgalvanischer Systems with horizontal tape guide, although they are opposite Ribbon electroplates with vertical band guide better uniformities generates, some weak points or improvement possibilities exhibit.

Bei einer Radgalvanik entstehen zusätzliche Probleme, wenn die beschichtete Seite des Bandes nicht berührt bzw. über Rollen geführt werden darf. Die Bandführung wird dadurch sehr kompliziert, was eine erhöhte Zugspannung erforderlich macht. Hierdurch und durch die häufige Umlenkung wird das Band stark auf Biegung beansprucht, was zu einer Ablösung der Schichten oder zu Verformungen des Bandes führen kann.at a Radvanvanik arise additional problems when the coated side of the tape is not touched or passed over rollers may. The band guide This is very complicated, which requires increased tension power. This and the frequent Deflection, the band is subjected to strong bending, resulting in a replacement of the Layers or can lead to deformations of the tape.

Speziell bei den genannten Radgalvaniken ist ein Wechseln des Bandes sehr aufwendig. Aufgrund der vielen Umlenkungen und Schlaufen verbleibt eine wesentlich größere Bandlänge in der Anlage.specially in the mentioned Radgalvaniken a change of the band is very consuming. Due to the many deflections and loops remains a much longer tape length in the Investment.

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Die vorliegende Erfindung hat es sich zur Aufgabe gemacht, die an sich schon vergleichsweise gute Schichtdickenhomogenität bei horizontaler Bandführung und bei von unten anströmendem Elektrolyt weiter zu verbessern, so dass eine extrem hohe Schichtdickengleichmäßigkeit, beispielsweise entsprechend den Anforderungen einer Solarzelle, erreicht und zugleich die vorgenannten Nachteile vermieden werden.The The present invention has set itself the task of per se already comparatively good layer thickness homogeneity with horizontal tape guidance and at inflowing from below Electrolyte to further improve, so that an extremely high layer thickness uniformity, for example, according to the requirements of a solar cell, achieved while avoiding the aforementioned disadvantages.

Die Erfindung geht aus von einer Anlage zur einseitig bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband, mit einem Galvanikmodul, das eine Bandführung zur horizontalen Führung des Substratbandes durch das Galvanikmodul umfasst und einen Elektrolytbehälter beinhaltet, in der eine Anode für die bandgalvanische Abscheidung angeordnet ist und die ausgelegt ist einen Elektrolyten aufzunehmen, derart, dass der Elektrolyt an eine Unterseite des horizontal geführten Substratbandes strömen kann. Die erfindungsgemäße Anlage zeichnet sich dadurch aus, dass das Galvanikmodul eine Platte umfasst, die so angeordnet ist, dass das Substratband während der Führung durch das Galvanikmodul mit seiner Oberseite parallel zur Platte ausgerichtet ist, und die Platte Luftleitelemente enthält, durch die Druckluft von einer Oberseite der Platte zur Unterseite der Platte leitbar ist. Die erfindungsgemäße Anlage umfasst ferner eine Druckluftversorgung, die ausgelegt ist Druckluft von der Oberseite der Platte durch die Platte zu leiten, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen Platte und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.The Invention is based on a system for one-sided bandgalvanischen Deposition of metallic functional layers on a substrate tape, with a galvanic module, a tape guide for horizontal guidance of Substrate band comprises by the electroplating module and includes an electrolyte container, in the one anode for the band galvanic deposition is arranged and designed is to receive an electrolyte such that the electrolyte can flow to an underside of the horizontally guided substrate strip. The inventive system is characterized in that the electroplating module comprises a plate, which is arranged so that the substrate strip during the guidance by the electroplating module is aligned with its top parallel to the plate, and the Contains plate spoiler elements, by the compressed air from a top of the plate to the bottom the plate is conductive. The system according to the invention further comprises a compressed air supply, which is designed for compressed air from the top of the plate through the To guide plate, so that when inserted substrate strip between the plate and the continuous substrate tape an air cushion formed.

Auf der der zu beschichtenden Seite gegenüberliegenden Seite des Substratbandes wird also auf der gesamten Länge des galvanischen, elektrolytbefüllten Moduls sowie auf der vollen Breite des Substratbandes eine Platte aus gelochtem oder porösen Material, anliegend an Oberseite des Substratbandes, bereitgestellt. Durch Lochungen oder Poren in der Platte wird Luft hindurch gepresst, die ein Luftkissen auf der Oberseite des Substratbandes bildet mit 3 Funktionen:
Zum Ersten liegt das Band an einer definierten Unterlage auf; eine Durchwölbung bzw. eine Variation des Abstandes zwischen Kathode und Anode ist somit nicht mehr möglich.
On the side of the substrate strip opposite the side to be coated, a plate made of perforated or porous material, adjacent to the upper side of the substrate strip, is thus provided over the entire length of the galvanic, electrolyte-filled module and over the full width of the substrate strip. Through holes or pores in the plate air is pressed through, which forms an air cushion on top of the substrate strip with 3 functions:
First, the tape lies on a defined surface; a bulge or a variation of the distance between the cathode and anode is thus no longer possible.

Zweitens wird die das Luftkissen bildende Druckluft seitlich am Band entweichen, wodurch ein Eindringen des Elektrolyten auf die Bandoberseite und die unerwünschte Oberseiten-Beschichtung verhindert wird.Secondly the compressed air forming the air cushion will escape laterally on the belt, whereby penetration of the electrolyte on the tape top and the unwanted Top coating is prevented.

Drittens vermindert sich der Reibungswiderstand zwischen der rückseitigen Platte und dem Band, so dass eine geringere Zugspannung ausreichend ist und eine ruckfreie Bandbewegung möglich wird, was in Längsrichtung des Bandes zu einer gleichmäßigeren Beschichtung führt.Third, the frictional resistance between the back plate and the back plate decreases Band, so that a lower tensile stress is sufficient and a smooth belt movement is possible, resulting in the longitudinal direction of the belt to a more uniform coating.

Bevorzugt ist, dass der Elektrolytbehälter des Galvanikmoduls seitliche Öffnungen für den Abfluss des Elektrolyten aufweist, die in derselben horizontalen Ebene liegen, wie das in der Bandführung liegende Substratband. Mit anderen Worten, der Auslauf des Elektrolyten ist in genau die gleiche horizontale Ebene gelegt, in welcher sich das zu beschichtende Band befindet. Hierdurch wird erreicht, dass Gasblasen, die sich bei dem galvanischen Vorgang auf dem Band bilden sowie Luftblasen aus der von hinter dem Band hervorquellenden Pressluft zur Seite abgespült werden bzw. mit dem Elektrolyten abfließen.Prefers is that the electrolyte tank of the Electroplating module lateral openings for the Outflow of the electrolyte has, in the same horizontal Level lie as the substrate strip lying in the tape guide. In other words, the outlet of the electrolyte is in exactly that same horizontal plane laid in which the to be coated Band is located. This will cause bubbles of gas to form in the galvanic process on the tape form as well as air bubbles from the side of the band swelling compressed air to the side rinsed be or drain with the electrolyte.

Ferner ist bevorzugt, wenn das Galvanikmodul zweiteilig ausgeführt ist, mit einem Unterteil, das den Elektrolytbehälter umfasst, und einem Oberteil, das die Platte und Teile der Bandführung und Luftführung der Druckluftversorgung umfasst. Die Bandführung umfasst dabei vorzugsweise zwei L-Profilschienen, die in das Oberteil des Galvanikmoduls integriert sind und zur seitlichen Führung des eingelegten Substratbandes dienen. Die L-Profilschienen bestehen vorzugsweise aus einem hoch abriebfesten Material.Further is preferred if the electroplating module is designed in two parts, with a lower part, which comprises the electrolyte container, and an upper part, the the plate and parts of the tape guide and airflow the compressed air supply includes. The tape guide preferably comprises two L-profile rails, which are integrated into the upper part of the electroplating module and to the side guide serve the inserted substrate tape. The L-profile rails are preferably made Made of a highly abrasion-resistant material.

Demnach wird vorzugsweise an Stelle der üblichen Bandführung in der Gehäusewandung des galvanischen Moduls aus Kunststoff ein L-Profil, vorzugsweise aus Glas oder Keramik oder einem anderen glatten und abriebfesten Material (wie CERAN), verwendet. Dieses Profil ist in das üblicherweise aus Kunststoff bestehende Oberteil des galvanischen Moduls eingelassen. Durch diese Maßnahme werden verschiedene Vorteile erreicht:
Wie bei der bisher bekannten Bandführung in U-förmigen Nuten des Gehäuse-Unterteils kann auch hier das Band nicht zur Seite auswandern. Zugleich wird jedoch, ungleich einer konventionellen Bandführung in einem U-Profil, die gesamte Band-Unterseite randlos galvanisch beschichtet. Gleichzeitig wird aber dem hinter dem Band befindlichen Luftkissen eine seitliche Begrenzung geboten.
Accordingly, an L-profile, preferably made of glass or ceramic or another smooth and abrasion-resistant material (such as CERAN) is preferably used instead of the usual tape guide in the housing wall of the plastic galvanic module. This profile is embedded in the usually made of plastic upper part of the galvanic module. This measure achieves several advantages:
As with the previously known tape guide in U-shaped grooves of the housing base, the band can not emigrate to the side here. At the same time, however, unlike a conventional tape guide in a U-profile, the entire band underside is coated without edge galvanic. At the same time, however, the air cushion located behind the belt is offered a lateral limit.

Zweitens können die in der Regel scharfen Kanten des Bandes nicht in den Kunststoff des Modul-Oberteils einschneiden, was im Extremfall zu Bandstillstand oder Zerstörung des Galvanikmoduls führen würde. Sollte das rückseitige Luftkissen ausfallen, so ist der Reibungswiderstand zwischen den Führungsprofilen und dem durchlaufenden Band dennoch gering, weil die Reibung zwischen dem Band und Glas/Keramik kleiner ist, als zwischen Band und Kunststoff.Secondly can The usually sharp edges of the tape are not in the plastic cut the module top, which in extreme cases to tape stop or destruction lead the electroplating module would. Should the back Air cushions fail, so is the frictional resistance between the guide profiles and the continuous band still low, because the friction between the volume and glass / ceramic is smaller than between tape and plastic.

Drittens lässt sich das Band aus den beiden seitlichen L-Profilen einfach nach unten entnehmen, während eine Bandführung durch seitliche U-Profile stirnseitig beschickt werden muss.thirdly let yourself the band from the two lateral L-profiles just down remove while a band guide must be fed by lateral U-profiles frontally.

Eine weitere vorteilhafte Maßnahme ist die Ausbildung des Galvanikmoduls als Ober- und Unterteil, wobei das Oberteil deckelartig ausgebildet und in der Ebene der Bandführung mit seitlichen Scharnieren am Unterteil schwenkbar befestigt ist. Ein Bandwechsel oder ein Zugang zur Anode im unteren Modulteil ist somit durch einfaches Aufschwenken des Oberteils möglich. Mit anderen Worten, das Oberteil ist vorzugsweise durch Scharniere abklappbar an dem Unterteil befestigt.A further advantageous measure is the training of the electroplating module as the upper and lower part, the upper part lid-like formed and in the plane of the tape guide with side hinges is pivotally mounted on the lower part. A band change or a Access to the anode in the lower part of the module is thus by simple Swinging up the upper part possible. In other words, the upper part is preferably by hinges hinged attached to the lower part.

Weiterhin ist bevorzugt, wenn eine durch die Dimensionierung der Bandführung vorgegebene maximale Breite des eingelegten Substratbandes geringer oder gleich der Breite der Anode ist. Für eine gute Gleichmäßigkeit der Beschichtung in Bandgalvanik-Anlagen ist von entscheidender Bedeutung, dass sich die Anode in unmittelbarer Nähe des Bandes befindet und mindestens dieselbe, möglichst jedoch eine größere Breite hat. Wie aus 1 ersichtlich, ist dies bei der bisherigen Konzeption von galvanischen Anlagen mit horizontaler Bandführung nicht möglich; zwangsläufig wird die wirksame Anodenfläche durch die U-Führung des Bandes begrenzt. Dies ist bei der erfindungsgemäßen Führung des Bandes zwischen L-Profilen, die im Deckel des Galvanikmoduls eingelassen sind, nicht mehr der Fall. Entsprechend kann die Anode gegenüber konventionellen Anlagen vergrößert werden.Furthermore, it is preferred if a predetermined by the dimensioning of the tape guide maximum width of the inserted substrate tape is less than or equal to the width of the anode. For a good uniformity of the coating in strip electroplating plants is of crucial importance that the anode is in the immediate vicinity of the strip and has at least the same, but if possible a larger width. How out 1 this is not possible in the previous concept of galvanic systems with horizontal tape guide; inevitably the effective anode area is limited by the U-guide of the band. This is no longer the case in the inventive leadership of the band between L-profiles, which are embedded in the lid of the electroplating module. Accordingly, the anode can be increased compared to conventional systems.

Die Anlage beinhaltet ferner vorzugsweise eine Transporteinheit für das Substratband, welche vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete Magnetrollen umfasst, die an der Oberseite des eingelegten Substratbandes anliegen. Die Transporteinheit kann weiterhin vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete, konvexe Formkörper umfassen, die an der Unterseite des eingelegten Substratbandes anliegen, wobei die Formkörper aus einem porösen Material bestehen, durch das Druckluft leitbar ist, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen dem Formkörper und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.The Plant also preferably includes a transport unit for the substrate strip, which arranged before and behind the electroplating magnet rollers includes, which bear against the top of the inserted substrate strip. The transport unit can continue in front of and behind the electroplating module arranged, convex moldings include, which bear against the underside of the inserted substrate strip, the shaped bodies from a porous material exist, by the compressed air is conductive, so that at inserted substrate tape between the molding and the continuous substrate tape an air cushion trains.

Der vorgenannten Ausführungsvariante liegt demnach die Idee einer Bandführung mittels Magnetrollen jeweils vor und nach dem galvanischen Beschichtungsmodul zugrunde. Eine Berührung der beschichteten Bandseite wird durch die Verwendung von Magnetrollen vermieden. Die Magnetrollen halten das Band auch bei einem geringem Umschlingungswinkel und anstehender Zugspannung zuverlässig in Position. Mithin dient diese Verbesserung dem Gesamtziel, einer extrem gleichmäßigen Bandbeschichtung.Of the aforementioned embodiment Accordingly, the idea of a tape guide using magnetic rollers respectively before and after the galvanic coating module. A touch The coated hinge side is made by using magnetic rollers avoided. The magnetic rolls keep the ribbon at a low level Wrap angle and upcoming tension reliable in Position. Thus, this improvement serves the overall goal, one extremely uniform band coating.

Dasselbe gilt für die Verwendung von Luftlagern, porösen, von Druckluft durchströmten Gleitlagern auf der beschichteten Seite des Bandes: Offensichtlich sind Kontaktrollen, auch Magnetrollen zur Stromzuführung, auf der Unterseite des Bandes wegen ihrer geringen Kontaktfläche als solche nicht ausreichend geeignet, hohe Ströme einzutragen. Daher wird zwischen zwei Magnetrollen, die als elektrische Kontakte ausgebildet sind, ein Gleitlager auf der Gutseite des Bandes so montiert, dass sich der Umschlingungswinkel des Bandes an den Kontaktwalzen erheblich erhöht. Das Gleitlager besteht dabei aus einem porösem Material, so dass durch Anlegung von Druckluft ein Luftkissen zwischen dem Band und dem Gleitlager ausgebildet wird, welches die Berührung verhindert. Es versteht sich, dass ein solches konvexes Gleitlager auch als poröse, luftdurchströmte Rolle ausgebildet sein könnte und nicht nur zur Unterstützung der Stromzuführung, sondern auch zur berührungslosen Umlenkung der Bandlaufrichtung eingesetzt werden kann.The same thing applies to the use of air bearings, porous, flowed through by compressed air bearings on the coated side of the tape: Obviously, contact rollers, also magnetic rollers for power supply, on the underside of the band because of their small contact area as such not sufficiently suitable to enter high currents. Therefore, will between two magnetic rollers, which are designed as electrical contacts are, a plain bearing mounted on the Gutseite of the tape so that the wrap angle of the band at the contact rollers considerably elevated. The plain bearing consists of a porous material, so that Application of compressed air an air cushion between the band and the Sliding bearing is formed, which prevents contact. It understands itself, that such a convex plain bearing as a porous, air-flow role could be trained and not just for support the power supply, but also for contactless Deflection of the strip running direction can be used.

Eine weitere bevorzugte Ausführungsform sieht vor, dass die Platte als Luftleitelement Bohrungen aufweist, die schräg durch die Platte verlaufen, d. h. die Bohrungen sind gegen die Senkrechte zum Rand des Bandes hin geneigt ausgeführt. Hierdurch soll erreicht werden, dass die Druckluft nicht nur senkrecht das Band nach unten drückt, sondern eventuelle Feuchtigkeit auf der Bandoberseite gezielt zur Seite hin weggeblasen wird, indem der Luftstrom eine horizontale Komponente hat. Außerdem wird so die Ausbildung einer laminaren Luftströmung unterstützt und damit das Luftkissen stabilisiert.A see further preferred embodiment before that the plate has as an air guide holes, the aslant pass through the plate, d. H. the holes are against the vertical running inclined to the edge of the tape. This is intended to be achieved Be sure that the compressed air is not just perpendicular to the belt down suppressed, but possible moisture on the top of the tape targeted to Blown away side by the air flow a horizontal Component has. Furthermore Thus, the formation of a laminar air flow is supported and thus stabilizing the air cushion.

Schließlich ist bevorzugt, dass die Anode aus mindestens einem mittleren und zwei Randstreifen ausgebildet ist, die elektrisch voneinander isoliert sind und an die verschiedene elektrische Potentiale angeschlossen werden können. Hierdurch kann eine besonders gleichmäßige Beschichtung über die gesamte Breite des Bandes sichergestellt werden.Finally is preferred that the anode of at least one middle and two Edge strip is formed, which are electrically isolated from each other and to which various electrical potentials are connected can. This allows a particularly uniform coating over the entire width of the tape to be ensured.

Kurzbeschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Die Erfindung wird nachfolgend in einem Ausführungsbeispiel und anhand der dazugehörigen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:The Invention is described below in an embodiment and with reference to the associated drawings explained in more detail. It demonstrate:

1 Ein Galvanikmodul einer konventionellen Anlage zur bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband; 1 An electroplating module of a conventional system for the strip galvanic deposition of metallic functional layers on a substrate strip;

2 Ein Galvanikmodul einer erfindungsgemäßen Anlage zur bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband; und 2 An electroplating module of a system according to the invention for the strip galvanic deposition of metallic functional layers on a substrate strip; and

3 Details einer Transporteinheit einer erfindungsgemäßen Anlage zur bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband. 3 Details of a transport unit of a system according to the invention for the strip galvanic deposition of metallic functional layers on a substrate strip.

Detaillierte Beschreibung der ErfindungDetailed description the invention

2 zeigt einen Querschnitt einer erfindungsgemäßen Ausführungsform einer Anlage zur bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband 1 im Bereich eines Galvanikmoduls 2. Entsprechend der Technik für Anlagen mit homogener Beschichtung wird das Band 1 horizontal geführt und von unten vom Elektrolyten durch einen Elektrolytzufluss 8a angeströmt. Um eine definierte Auflage des Bandes 1 zu gewährleisten, liegt das Band 1 auf einer porösen Lochplatte 5, und diese wird mit eingeblasener Druckluft 7 durchströmt. Dadurch bildet sich. zwischen der Lochplatte 5 und dem Substratband 1 ein tragendes Luftpolster aus. Zugleich wird eine rückseitige Beschichtung des Bandes 1 vermieden. 2 shows a cross-section of an embodiment according to the invention of a plant for tape galvanic deposition of metallic functional layers on a substrate strip 1 in the area of a galvanic module 2 , According to the technology for systems with homogeneous coating, the tape 1 guided horizontally and from below by the electrolyte by an electrolyte inflow 8a incident flow. To a defined edition of the tape 1 to ensure the tape lies 1 on a porous perforated plate 5 , and this is done with injected compressed air 7 flows through. This forms. between the perforated plate 5 and the substrate tape 1 a carrying air cushion. At the same time, a back coating of the tape 1 avoided.

Bei der erfindungsgemäßen Bandgalvanik mit horizontaler Führung wird das Band 1 durch eine seitliche Bandführung 6b begrenzt. Die Führung ist als L-förmiges Profil aus abriebfestem Material, beispielsweise CERAN, ausgebildet. Diese Geometrie ermöglicht die Verwendung von Anoden 4, die breiter als das Substratband 1 sind; außerdem wird das Band 1 nunmehr über seine gesamte Breite beschichtet.In the strip galvanic system according to the invention with horizontal guidance, the band 1 through a lateral tape guide 6b limited. The guide is designed as an L-shaped profile made of abrasion-resistant material, such as CERAN. This geometry allows the use of anodes four that are wider than the substrate band 1 are; in addition, the tape 1 now coated over its entire width.

Eine leichte Zugänglichkeit des Substratbandes 1 und der Anode 4 wird über eine Teilung des Galvanikmoduls 2 in ein Oberteil 2b und ein Unterteil 2a erreicht. Beide Teile 2a, 2b sind über ein Scharnier 3 verbunden, welches sich direkt in Ebene eines Elektrolytabflusses 8b befindet. Durch diese Maßnahme, in Verbindung mit der Verwendung der rückseitigen Lochplatte 5 und der im Deckel eingelassenen seitlichen L-Führung der Badführung 6b, wird die Einführung oder Entnahme des Substratbandes 1 wesentlich vereinfacht.Easy accessibility of the substrate tape 1 and the anode four is about a division of the electroplating module 2 in a shell 2 B and a lower part 2a reached. Both parts 2a . 2 B are about a hinge 3 connected, which directly in the level of an electrolyte drain 8b located. By this measure, in conjunction with the use of the back perforated plate 5 and the recessed in the lid lateral L-guide the bath guide 6b , is the introduction or removal of the substrate tape 1 considerably simplified.

Wie aus 2 ersichtlich ist, liegt der Elektrolytabfluss 8b nunmehr exakt auf dem gleichem Niveau wie die Unterseite des Substratbandes 1, so das Gasblasen, die bei der elektrolytischen Abscheidung entstehen, sowie Druckluftbläschen, die unter dem Band 1 hervorquellen, über den Elektrolytabfluss 8b abgeführt werden.How out 2 it can be seen, lies the electrolyte drain 8b now exactly at the same level as the underside of the substrate strip 1 , so the gas bubbles, which arise during the electrolytic deposition, as well as compressed air bubbles, which under the band 1 well over the electrolyte drain 8b be dissipated.

3 zeigt einen Längsschnitt durch ein erfindungsgemäßen Galvanikmodul 2 inklusive je zwei Magnetrollen 9, ausgebildet als Kontaktwalzen, und poröse, konvexe Gleitlager 10, in welche Druckluft 7 eingeführt wird, die vor und hinter dem Galvanikmodul 2 angeordnet sind. Dabei sind die Magnetrollen 9 und die porösen, konvexen und luftdurchströmten Gleitlager 10 so angeordnet, dass die Umschlingung der Magnetrollen 9 durch das Band 1 genügend groß ist. Zugleich bleibt durch das Luftkissen zwischen Band 1 und Gleitlager 10 die Umlenkung berührungsfrei. 3 shows a longitudinal section through an electroplating module according to the invention 2 including two magnetic rolls each 9 , formed as contact rollers, and porous, convex plain bearings 10 into which compressed air 7 is introduced, in front of and behind the electroplating module 2 are arranged. Here are the magnet rolls 9 and the porous, convex and air-flow bearings 10 arranged so that the wrap around the magnet rolls 9 through the band 1 is big enough. At the same time it remains between the band through the air cushion 1 and plain bearings 10 the deflection contactless.

Claims (11)

Anlage zur einseitig bandgalvanischen Abscheidung metallischer Funktionsschichten auf einem Substratband, mit einem Galvanikmodul, das eine Bandführung zur horizontalen Führung des Substratbandes durch das Galvanikmodul umfasst und einen Elektrolytbehälter beinhaltet, in der eine Anode für die bandgalvanische Abscheidung angeordnet ist und die ausgelegt ist einen Elektrolyten aufzunehmen, derart, dass der Elektrolyt an eine Unterseite des horizontal geführten Substratbandes strömen kann, dadurch gekennzeichnet, dass das Galvanikmodul eine Platte umfasst, die so angeordnet ist, dass das Substratband während der Führung durch das Galvanikmodul mit seiner Oberseite parallel zur Platte ausgerichtet ist, und die Platte Luftleitelemente enthält, durch die Druckluft von einer Oberseite der Platte zur Unterseite der Platte leitbar ist; und die Anlage ferner eine Druckluftversorgung umfasst, die ausgelegt ist Druckluft von der Oberseite der Platte durch die Platte zu leiten, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen Platte und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.Apparatus for the single-sided tape galvanic deposition of metallic functional layers on a substrate strip, comprising a galvanic module comprising a tape guide for horizontal guidance of the substrate tape by the electroplating module and containing an electrolyte container in which an anode for the tape galvanic deposition is arranged and which is adapted to receive an electrolyte, such that the electrolyte can flow to an underside of the horizontally guided substrate strip, characterized in that the electroplating module comprises a plate which is arranged so that the substrate strip is aligned parallel to the plate during the guidance by the electroplating module with its upper side, and the Plate containing air guide elements, is guided by the compressed air from an upper side of the plate to the underside of the plate; and the system further comprises a compressed air supply adapted to direct pressurized air from the top of the plate through the plate such that when the substrate band is sandwiched between the plate and the continuous substrate band, an air cushion is formed. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Galvanikmodul zweiteilig ausgeführt ist, mit einem Unterteil, das den Elektrolytbehälter umfasst, und einem Oberteil, das die Platte und Teile der Bandführung und Luftführung der Druckluftversorgung umfasst.Plant according to claim 1, characterized in that the electroplating module is made in two parts, with a lower part, that the electrolyte container includes, and a top that holds the plate and parts of the tape guide and air ducting the compressed air supply includes. Anlage nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandführung zwei L-Profilschienen umfasst, die in das Oberteil des Galvanikmoduls integriert sind und zur seitlichen Führung des eingelegten Substratbandes dienen.Plant according to claim 2, characterized in that the band guide two L profile rails includes, which are integrated in the upper part of the electroplating module and to the side guide serve the inserted substrate tape. Anlage nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die die L-Profilschienen aus einem hoch abriebfesten Material bestehen.Plant according to claim 3, characterized in that the L-rails consist of a highly abrasion-resistant material. Anlage nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Oberteil durch Scharniere abklappbar an dem Unterteil befestigt ist.Installation according to one of claims 2 to 4, characterized that the upper part hinged by hinges attached to the lower part is. Anlage nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine durch die Dimensionierung der Bandführung vorgegebene maximale Breite des eingelegten Substratbandes geringer oder gleich der Breite der Anode ist.Installation according to one of claims 2 to 5, characterized that a predetermined by the dimensioning of the tape guide maximum width of the inserted substrate strip less than or equal to the width of Anode is. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolytbehälter des Galvanikmoduls seitliche Öffnungen für den Abfluss des Elektrolyten aufweist, die in derselben horizontalen Ebene liegen wie das in der Bandführung liegende Substratband.Plant according to one of the preceding claims, characterized in that the electrolyte container of the electroplating module has lateral openings for the outflow of the electrolyte lying in the same horizontal plane like that in the band guide lying substrate band. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Anlage eine Transporteinheit für das Substratband beinhaltet, welche vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete Magnetrollen (9) umfasst, die an der Oberseite des eingelegten Substratbandes anliegen.Installation according to one of the preceding claims, characterized in that the system includes a transport unit for the substrate strip, which arranged before and behind the electroplating module magnetic rollers ( 9 ), which bear against the top of the inserted substrate strip. Anlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Transporteinheit vor und hinter dem Galvanikmodul angeordnete, konvexe Gleitlager umfasst, die an der Unterseite des eingelegten Substratbandes anliegen, wobei die Gleitlager aus einem porösen Material bestehen, durch das Druckluft leitbar ist, derart, dass sich bei eingelegtem Substratband zwischen dem Gleitlager und dem durchlaufenden Substratband ein Luftkissen ausbildet.Plant according to claim 8, characterized in that the transport unit arranged in front of and behind the electroplating module, Convex sliding bearing comprises, which on the underside of the inserted substrate strip abutment, wherein the sliding bearings are made of a porous material, through the compressed air is conductive, such that when inserted substrate strip between the sliding bearing and the continuous substrate belt Air cushion trains. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Platte als Luftleitelement Bohrungen aufweist, die schräg durch die Platte verlaufen.Plant according to one of the preceding claims, characterized characterized in that the plate has bores as an air guiding element, the diagonally through the plate is lost. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Anode aus mindestens einem mittleren und zwei Randstreifen ausgebildet ist, die elektrisch voneinander isoliert sind und an die verschiedene elektrische Potentiale angeschlossen werden können.Plant according to one of the preceding claims, characterized characterized in that the anode consists of at least one middle and two edge strips is formed, which are electrically isolated from each other and to which various electrical potentials are connected can.
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