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Die
Erfindung betrifft eine Oberschwingungen erzeugende Vorrichtung
für ein quasi-phasenanpassendes System.
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Ein
nicht linearer optischer Kristall wie etwa ein Einkristall aus Lithiumniobat
oder Lithiumtantalat weist eine hohe sekundäre nichtlineare
optische Konstante auf. Wenn in den vorstehend angeführten Kristallen
eine periodische Domänenpolarisationsinversionsstruktur
ausgebildet wird, kann eine Vorrichtung für die Erzeugung
einer zweiten Oberschwingung bzw. Frequenzverdopplung (SHG: Second
Harmonic Generation) für ein quasi-phasenangepasstes (QPM:
Quasi Phase Matched) System verwirklicht werden. Wenn zudem innerhalb
dieser periodischen Domäneninversionsstruktur ein Wellenleiter
ausgebildet wird, kann eine hocheffiziente SHG-Vorrichtung verwirklicht
werden und zudem in der optischen Kommunikationstechnologie, in
der Medizinwissenschaft, in der Fotochemie und bei verschiedenen
optischen Messungen über einen breiten Bereich angewendet
werden.
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Bei
der in der Druckschrift
WO
2006/41172 A1 offenbarten Oberschwingungen erzeugenden Vorrichtung
haftet eine dünne Platte aus einem ferroelektrischen Einkristall
an einem Stützsubstrat an, und darauf haftet ein Oberseitensubstrat
durch eine Pufferschicht und eine Haftschicht an, wodurch ein optischer
Wellenleiter in Kanalbauart innerhalb der dünnen Platte
ausgebildet wird. Zudem ist die periodische Domäneninversionsstruktur
innerhalb dieses optischen Wellenleiters ausgebildet, wodurch eine
in den optischen Wellenleiter einfallende Grundwelle einer Wellenlängenumwandlung
in höhere Oberschwingungen unterzogen wird.
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Eine
Oberschwingungen erzeugende Vorrichtung wie etwa eine SHG-Erzeugungsvorrichtung muss
stabil arbeiten, selbst falls sie wiederholt Änderungen
der Umgebungstemperatur ausgesetzt wird. Es zeigte sich jedoch,
dass die in der Druckschrift
WO 2006/41172 A1 offenbarte Vorrichtung in
einigen Fällen eine verschlechterte Wellenlängenumwandlungseffizienz
zeigte, nachdem die Vorrichtung wiederholt einem Wärmezyklus
zwischen –40°C und +80°C ausgesetzt war.
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Bei
Ausbau und Untersuchung der vorstehend beschriebenen Vorrichtung
mit der verschlechterten Wellenlängenumwandlungseffizienz
ergab sich, dass die periodische Domäneninversionsstruktur
verschlechtert war. Darüber hinaus ergab sich, dass dieses
Phänomen beobachtet werden konnte, wenn eine X-Platte (Y-Platte)
oder eine versetzte X-Platte (versetzte Y-Platte) verwendet wird,
aber nicht beobachtet wird, wenn eine dünne Z-Platte verwendet
wird. Ferner ergab sich, dass das Phänomen charakteristisch
für eine Vorrichtung ist, bei der eine ferroelektrische
dünne Platte zum Durchführen der Wellenlängenumwandlung
zwischen dem Stützsubstrat und dem Oberseitensubstrat angeordnet
wird, wie es in der Druckschrift
WO 2006/41172 A1 offenbart ist.
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Der
vorliegenden Erfindung liegt demzufolge die Aufgabe zugrunde, eine
Verringerung bei der Wellenlängenumwandlungseffizienz der
Oberschwingungen erzeugenden Vorrichtung zu vermeiden, die eine
Struktur aufweist, bei der eine periodische Domäneninversionsstruktur
in einer dünnen Platte aus einer X-Platte oder einer versetzten X-Platte
ausgebildet ist, und die zwischen einem Stützsubstrat und
einem Oberseitensubstrat angeordnet ist, nachdem die Vorrichtung
Wärmezyklen ausgesetzt wurde.
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Nach
einer Ausgestaltung der Erfindung wird eine Oberschwingungen erzeugende
Vorrichtung bereitgestellt, mit: einem Stützsubstrat; einer
Wellenlängenumwandlungsschicht mit einem optischen Wellenleiter
in Kanalbauart, der eine darin bereitgestellte periodische Domäneninversionsstruktur
aufweist, wobei die Schicht eine X-Platte oder eine versetzte X-Platte
mit einem ferroelektrischen Einkristall aufweist; einer Basishaftschicht
zum Anhaften einer unteren Fläche der Wellenlängenumwandlungsschicht und
des Stützsubstrates; einem Oberseitensubstrat, das auf
einer oberen Flächenseite der Wellenlängenumwandlungsschicht
bereitgestellt ist; einer Oberseitenhaftschicht zum Anhaften der
Wellenlängenumwandlungsschicht und des Oberseitensubstrates;
einer Einfallsfläche für eine Grundwelle; einer
Projektionsfläche für Schwingungen höherer
Ordnung; einer ersten Seitenfläche zwischen der Einfallsfläche
und der Projektionsfläche; und einer zweiten Seitenfläche gegenüber
der ersten Seitenfläche, wobei die Vorrichtung ferner umfasst:
ein erstes leitendes Material in Kontakt mit der ersten Seitenfläche;
und ein zweites leitendes Material in Kontakt mit der zweiten Seitenfläche;
wobei das erste leitende Material und das zweite leitende Material
zueinander elektrisch leitend sind.
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Die
Wellenlängenumwandlungsschicht ist an der ersten bzw. der
zweiten Seitenfläche freigelegt, und das erste und zweite
leitende Material kontaktiert die Wellenlängenumwandlungsschicht
an der ersten und der zweiten Seitenfläche.
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Die
Erfinder untersuchten eine Ursache der Reduktion bei der Wellenlängenumwandlungseffizienz
in der Oberschwingungen erzeugenden Vorrichtung mit einer Struktur,
bei der die periodische Domäneninversionsstruktur in der
dünnen Platte aus der X-Platte oder versetzten X-Platte
ausgebildet ist, und zwischen dem Stützsubstrat und dem
Oberseitensubstrat angeordnet ist, nachdem die Vorrichtung Wärmezyklen
ausgesetzt war. Wenn danach die dünne Platte der Oberschwingungen
erzeugenden Vorrichtung einem Ätzvorgang unterzogen wurde,
zeigte sich, dass die periodische Domäneninversionsstruktur
verschlechtert oder lokal zerstört war. Dies verursachte
die Reduktion bei der Wellenlängenumwandlungseffizienz.
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Als
Ergebnis weiterer Untersuchungen bezüglich der Ursache
einer derartigen Verschlechterung bei der periodischen Domäneninversionsstruktur
ergab sich erfindungsgemäß, dass eine zwischen den
beiden Seitenflächen der Vorrichtung erzeugte Pyroelektrizität
die Verschlechterung verursacht. Auf der Grundlage dieser Erkenntnis
werden erfindungsgemäß leitende Materialien jeweils
in Kontakt mit den beiden Seitenflächen der Oberschwingungen
erzeugenden Vorrichtung gebracht, und diese Materialien werden zueinander
leitend ausgebildet, wodurch die Reduktion in der Wellenlängenumwandlungseffizienz verhindert
wird, nachdem die Vorrichtung Wärmezyklen ausgesetzt wird.
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Weitere
Ausgestaltungen, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich
aus der nachstehenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
der Erfindung in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung. Es zeigen:
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1(a) eine Perspektivansicht von einer Oberschwingungen
erzeugenden Vorrichtung 1, auf die die Erfindung angewendet
werden kann, und 1(b) eine vergrößerte
Ansicht eines optischen Wellenleiters 24 in Kanalbauart
in der Vorrichtung 1 und eine Umgebung des Wellenleiters 24;
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2 eine
Vorderansicht der Vorrichtung 1 aus 1, die auf
einem Sockel installiert ist;
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3 eine
Vorderansicht der Vorrichtung 1 nach einem Ausführungsbeispiel
der Erfindung, wenn sie auf dem Sockel 8 installiert ist;
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4 eine
Perspektivansicht der Vorrichtung 1 nach dem Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
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5 eine
Vorderansicht der Vorrichtung 1 nach 4,
wenn sie auf dem Sockel 8 installiert ist;
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6 eine
Perspektivansicht einer weiteren Vorrichtung 1 nach dem
Ausführungsbeispiel der Erfindung; und
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7 eine
Vorderansicht der Vorrichtung 1 nach 6,
wenn sie auf dem Sockel 8 installiert ist.
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1(a) zeigt eine Perspektivansicht einer Oberschwingungen
erzeugenden Vorrichtung 1, auf die die vorliegende Erfindung
angewendet werden kann, und 1(b) zeigt
eine vergrößerte Ansicht eines optischen Wellenleiters 24 in
Kanalbauart der Vorrichtung 1 und eine Umgebung des Wellenleiters 24. 2 zeigt
eine Vorderansicht von einem Zustand, bei dem die Vorrichtung 1 nach 1 auf
einem Sockel 8 installiert ist.
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Gemäß 1 ist
ein Paar länglicher Nuten 6A und 6B in
einer Wellenlängenumwandlungsschicht 3 bereitgestellt,
die eine X-Platte (eine Y-Platte, eine versetzte X-Platte oder eine
versetzte Y-Platte) aus einem ferroelektrischen Einkristall beinhaltet. Die
Nuten 6A und 6B sind parallel zueinander angeordnet,
und ein Gratabschnitt 4 ist durch diese Nuten ausgebildet.
Der optische Wellenleiter 24 in Kanalbauart ist durch diesen
Gratabschnitt 4 und die Nuten 6A und 6b ausgebildet.
Auf der Außenseite der Nuten 6A und 6B sind
jeweils Erweiterungsteile 7A und 7B ausgebildet,
und die Teile bilden eine dünne Platte aus.
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Im
Falle der X-Platte (Y-Platte), ist die horizontale Richtung die
Z-Richtung, und in den 1(a) und 1(b) ist der ferroelektrische Einkristall
in der Z-Richtung polarisiert. Die X-Achse (Y-Achse) ist senkrecht
zu einer oberen Fläche 3a der Wellenlängenumwandlungsschicht 3.
Im Falle der versetzten X-Platte und der versetzten Y-Platte ist
die X-Achse (Y-Achse) gegenüber einer zu der Hauptfläche
der Wellenlängenumwandlungsschicht 3 senkrechten Fläche
geneigt. Der Neigungswinkel beträgt erfindungsgemäß vorzugsweise
10 Grad oder weniger.
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Innerhalb
des optischen Wellenleiters 24 in Kanalbauart ist die Polarisation
in der Z-Richtung senkrecht zu der Lichtausbreitungsrichtung ausgebildet,
und die Polarisationsrichtung ist periodisch invertiert. Folglich
unterliegt eine von einer Einfallsfläche 1a der
Vorrichtung 1 einfallende Grundwelle einer Wellenlängenumwandlung
innerhalb des optischen Wellenleiters 24, und Schwingungen
höherer Ordnung werden aus einer Projektionsfläche 1b projiziert.
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Eine
untere Fläche 3b der Wellenlängenumwandlungsschicht 3 haftet
an einer oberen Fläche 2a des separaten Stützsubstrates 2 durch
eine Basishaftschicht 21 an. Eine obere Fläche 3b der
Wellenlängenumwandlungsschicht 3 haftet einer
unteren Fläche 5a des separaten Oberseitensubstrates 5 durch
eine Oberseitenhaftschicht 20 an. Die Bezugszeichen 1c und 1d bezeichnen
ein Paar Seitenflächen, die sich zwischen der Einfallsfläche 1a und
der Projektionsfläche 1b erstrecken, und die Seitenflächen 1c und 1d sind
einander zugewandt. Typischerweise ist gemäß 2 ein
Sockel 8 mit Installationsflächen 8a und 8b ausgebildet,
und die Vorrichtung 1 ist auf dem Sockel 8 für
eine Installation mit externen Zuleitungen installiert. Die Seitenfläche 1d der
Vorrichtung 1 steht in Kontakt mit der Installationsfläche 8b,
und eine untere Fläche 2b der Vorrichtung 1 steht in
Kontakt mit der Installationsfläche 8a des Sockels 8.
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Nach
der erfindungsgemäßen Erkenntnis verschlechtert
sich eine in dem optischen Wellenleiter 24 in Kanalbauart
ausgebildete periodische Domäneninversionsstruktur, nachdem
sie Wärmezyklen ausgesetzt wurde, aufgrund der zwischen
den Seitenflächen 1c und 1d der Oberschwingungen
erzeugenden Vorrichtung 1 erzeugten Pyroelektrizität. Folglich
werden erfindungsgemäß leitende Materialien in
Kontakt mit den Seitenflächen 1c bzw. 1d gebracht,
und die Materialien werden miteinander elektrisch leitend ausgebildet,
wodurch die Verschlechterung in der periodischen Domäneninversionsstruktur vermieden
wird, nachdem sie Wärmezyklen ausgesetzt war.
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Die
Form des leitenden Materials ist nicht besonders beschränkt.
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist das erste
leitende Material die leitende Platte, und das zweite leitende Material
ist der Sockel zum Installieren der Oberschwingungen erzeugenden
Vorrichtung.
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3 zeigt
eine Vorderansicht von einem Zustand, bei dem die Vorrichtung 1 nach
einem Ausführungsbeispiel auf dem Sockel 8 installiert
ist. Die bei diesem Beispiel verwendete Vorrichtung ist dieselbe,
wie die in den 1 und 2 gezeigte.
Es versteht sich, dass eine Metallplatte 9 auf dem Sockel 8 installiert
ist, und die Metallplatte 9 steht in Kontakt mit der Seitenfläche 1c der
Vorrichtung 1. Die andere Seitenfläche 1d der
Vorrichtung 1 steht zudem in Kontakt mit der Installationsfläche 8b des leitenden
Sockels 8. Der Sockel 8 und die Metallplatte 9 sind
zueinander elektrisch leitend.
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Bei
einem bevorzugten Ausführungsbeispiel sind das erste und
das zweite leitende Material leitende Schichten. 4 zeigt
eine Perspektivansicht der Vorrichtung 1 nach dem Ausführungsbeispiel,
und 5 zeigt eine Vorderansicht von einem Zustand, bei
dem die Vorrichtung 1 nach 4 auf dem
Sockel 8 installiert ist.
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Die
bei diesem Beispiel verwendete Vorrichtung ist dieselbe, wie die
aus den 1 und 2. Es versteht
sich, dass eine erste leitende Schicht 10a auf der Seitenfläche 1c der
Vorrichtung ausgebildet ist, und eine zweite leitende Schicht 10b auf
der Seitenfläche 1d der Vorrichtung ausgebildet
ist. Die leitenden Schichten 10a und 10b sind
zudem durch eine leitende Einrichtung 18 wie etwa einem
Leitungsdraht miteinander kurzgeschlossen.
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Folglich
sind die leitenden Schichten 10a und 10b zueinander
elektrisch leitend.
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6 zeigt
eine Perspektivansicht von einer weiteren Vorrichtung gemäß dem
vorliegenden Ausführungsbeispiel. 7 zeigt
eine Vorderansicht von einem Zustand, bei dem die Vorrichtung nach 6 auf
dem Sockel 8 installiert ist.
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Die
bei dem vorliegenden Beispiel verwendete Vorrichtung ist dieselbe
wie die gemäß den 1 und 2.
Es versteht sich, dass die erste leitende Schicht 10A auf
der Seitenfläche 1c der Vorrichtung ausgebildet
ist, und dass die zweite leitende Schicht 10B auf der Seitenfläche 1d der
Vorrichtung ausgebildet ist. Ferner ist die leitende Schicht 28 auf einer
oberen Fläche 5b der Vorrichtung 1 ausgebildet.
Die leitende Schicht 28 steht in Verbindung mit den leitenden
Schichten 10A und 10B, wodurch die leitenden Schichten 10A und 10B zueinander
elektrisch leitend sind.
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Das
Verfahren zur Herstellung der leitenden Schicht unterliegt keinen
Beschränkungen, und Beispiele dafür sind nachstehend
angeführt.
- (1) Eine Metalldünnschicht
wird auf der Seitenfläche der Vorrichtung gemäß einem
Zerstäubungsverfahren ausgebildet.
- (2) Eine leitende Paste wird auf die Seitenfläche der
Vorrichtung durch einen Druckvorgang aufgebracht und gebacken.
- (3) Ein leitendes Band wird an die Seitenfläche der
Vorrichtung geklebt.
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Erfindungsgemäß steht
das leitende Material vorzugsweise auf über 80% oder mehr
der Fläche der Seitenfläche der Vorrichtung in
Kontakt mit der Vorrichtung, und noch bevorzugter auf über
90% oder mehr der Fläche der Seitenfläche der
Vorrichtung. Es gibt keine besondere Einschränkung für
die Obergrenze, und das leitende Material kann auf über 100%
der Fläche der Seitenfläche der Vorrichtung in Kontakt
mit der Vorrichtung stehen.
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Das
leitende Material unterliegt keinen besonderen Beschränkungen,
und ein Metall sowie eine leitende Paste können beispielhaft
genannt werden. Insbesondere sind Pasten aus Al, Ti, Ta, Cu, Ag und
In bevorzugt.
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Die
Dicke der leitenden Schicht unterliegt keinen besonderen Beschränkungen.
Erfindungsgemäß beträgt die Dicke der
leitenden Schicht vorzugsweise 0,1 μm oder mehr und noch
bevorzugter 0,5 μm oder mehr. Obwohl die Obergrenze der
Dicke der leitenden Schicht nicht besonders definiert ist, kann sie
ferner vorzugsweise 10 μm oder weniger unter dem Gesichtspunkt
einer leichten Ausbildung betragen.
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Der
in der Wellenlängenumwandlungsschicht ausgebildete optische
Wellenleiter in Kanalbauart unterliegt keinen besonderen Beschränkungen
und kann einen optischen Wellenleiter in Gratbauart, einen optischen
Wellenleiter in Diffusionsbauart oder dergleichen beinhalten. Der
optische Wellenleiter in Diffusionsbauart kann durch einen Metalldiffusionsvorgang
(beispielsweise einen Titandiffusionsvorgang) oder einen Protonenaustauschvorgang ausgebildet
sein. Ein Verarbeitungsverfahren zur Ausbildung einer Gratstruktur
unterliegt keiner besonderen Beschränkung, und eine spanende
Verarbeitung, ein Ionenfräsen, ein Trockenätzen,
eine Laserabtragung oder dergleichen können verwendet werden.
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Der
ferroelektrische Einkristall zur Ausbildung der Wellenlängenumwandlungsschicht
unterliegt keiner besonderen Beschränkung, und Lithiumniobat,
Lithiumtantalat, eine Festkörperlösung aus Lithiumniobat
und Lithiumtantalat, K3Li2Nb5O15 oder La3Ga5SiO14 sind
beispielhaft genannt.
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Das
Haftmittel zum Anhaften der Wellenlängenumwandlungsschicht
an das Stützsubstrat oder das Oberseitensubstrat kann ein
anorganisches Haftmittel, ein organisches Haftmittel oder eine Kombination
aus anorganischen und organischen Haftmitteln sein.
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Obwohl
spezifische Beispiele für das organische Haftmittel keinen
besonderen Beschränkungen unterliegen, kann dies ein Epoxydharzhaftmittel,
ein Acrylharzhaftmittel, ein Haftmittel aus einem wärmehärtenden
Harz, ein Haftmittel aus einem unter Ultraviolettstrahlen aushärtenden
Harz oder ein Haftmittel mit der Handelsbezeichnung „Alon
ceramics C” (Marke der Toa Gosei Co. Ltd.) mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten
(Wärmeausdehnungskoeffizient: 13 × 10–6/K)
relativ nah zu dem des Materials mit einem elektrooptischen Effekt
wie etwa Lithiumniobat sein.
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Zudem
weist das anorganische Haftmittel vorzugsweise eine niedrige dielektrische
Konstante und eine Anhaftungstemperatur (Arbeitstemperatur) von
etwa 600°C oder weniger auf. Ferner ist bevorzugt, dass
eine ausreichend hohe Anhaftfestigkeit während der Verarbeitung
erhalten werden kann. Im Einzelnen ist ein Glas mit einer Zusammensetzung aus
Siliziumoxid, Bleioxid, Aluminiumoxid, Magnesiumoxid, Kalziumoxid,
oder Boroxid oder dergleichen, oder einer beliebigen Kombination
aus diesen bevorzugt.
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Ferner
beinhaltet ein anderes anorganisches Haftmittel beispielsweise Tantalpentoxid,
Titanoxid, Niobpentoxid oder Zinkoxid.
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Das
Verfahren zur Ausbildung der anorganischen Haftschicht ist nicht
besonders beschränkt und beinhaltet ein Zerstäubungsverfahren,
eine Gasphasenabscheidung, eine Aufschleuderungsbeschichtung, oder
ein Sol-Gel-Verfahren.
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Zudem
kann eine Schicht aus einem Haftmittel zwischen der ferroelektrischen
Schicht 3 und dem Stützsubstrat 2 sowie
der ferroelektrischen Schicht 3 und dem Oberseitensubstrat 5 angeordnet
sein, um diese zu verbinden. Bevorzugt wird eine Schicht aus einem
wärmehärtenden, lichthärtenden oder unter Licht
verdickendem Harzhaftmittel zwischen der ferroelektrischen Schicht 3 und
dem Stützkörper 2 sowie der ferroelektrischen
Schicht 3 und dem Oberseitensubstrat 5 angeordnet,
und danach die Schicht gehärtet. Für eine derartige
Schicht ist eine Harzschicht mit einer Dicke von 10 μm
oder weniger zweckmäßig.
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Spezielle
Beispiele für das Material des Stützsubstrates
und des Oberseitensubstrates sind nicht besonders beschränkt.
Lithiumniobat, Lithiumtantalat, ein Glas wie etwa Quarzglas, Quarz,
Silizium oder dergleichen können beispielhaft genannt werden.
Unter dem Gesichtspunkt einer Differenz im Wärmeausdehnungskoeffizienten
können dabei die Materialien für die Wellenlängenumwandlungsschicht,
das Stützsubstrat und das Oberseitensubstrat vorzugsweise
dieselben sein, und noch bevorzugter aus einkristallinem Lithiumniobat
sein. Die Dicke des Oberseitensubstrates und die des Stützsubstrates
sind nicht besonders beschränkt, können aber bevorzugt
unter diesem Gesichtspunkt 100 μm oder mehr betragen. Obwohl
die Obergrenze für die Dicke des Stützsubstrates
und die des Oberseitensubstrates nicht besonders definiert ist,
beträgt sie zudem unter praktischen Gesichtspunkten vorzugsweise
2 mm oder weniger.
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BEISPIELE
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(Vergleichsbeispiel 1)
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Die
in den 1 und 2 gezeigte Vorrichtung 1 wurde
hergestellt. Insbesondere wurde die periodische Domäneninversionsstruktur
mit einer Periode von 6,6 μm auf einem um 5 Grad versetzt
geschnittenen Y-Substrat aus mit 5% Magnesiumoxid dotiertem Lithiumniobat
ausgebildet. Ein Haftmittel (ein Acrylhaftmittel) wurde auf einem
undotierten Lithiumniobatsubstrat mit einer Dicke von 0,5 mm aufgebracht,
auf das das vorstehend beschriebene mit Magnesiumoxid dotierte Lithiumniobatsubstrat 2 geklebt
wurde. Die Fläche des mit Magnesiumoxid dotierten Lithiumniobatsubstrats
wurde abgeschliffen und poliert, bis seine Dicke 3,7 μm
erreichte, damit eine dünne Platte erhalten wurde. Danach
wurde durch das Laserabtragungsverarbeitungsverfahren eine Gratstruktur 4 (optischer
Wellenleiter 24) auf dieser dünnen Platte ausgebildet.
Nach Ausbilden des optischen Wellenleiters wurde eine obere Mantelschicht
aus SiO2 mit einer Dicke von 0,5 μm
durch ein Zerstäubungsverfahren ausgebildet.
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Sodann
wurde das Oberseitensubstrat 5 aus Lithiumniobat mit einer
Dicke von 500 μm an die obere Mantelschicht aus SiO2 unter Verwendung eines Epoxydhaftmittels
angehaftet, um eine Vorrichtung zu erhalten. Die Vorrichtung wurde
in eine Länge von 9 mm und eine Breite von 1,0 mm mit einer Chipschneideeinrichtung
für den Erhalt eines Chips 1 geschnitten. Dann
wurden die Einfallsfläche 1a und die Projektionsfläche 1b des
Chips 1 poliert. Danach wurde eine Antireflexionsschicht
auf beide Flächen des Chips aufgebracht.
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Die
optischen Eigenschaften der Vorrichtung wurden unter Verwendung
eines Nd-YAG-Lasers gemessen. Die Oszillationsausgabe des Lasers
wurde auf 500 mW eingestellt, und das Grundlicht wurde auf die Endfläche
des Wellenleiters durch eine Linse kondensiert; folglich wurde eine
SHG-Ausgabe von 200 mW erhalten. In diesem Moment betrug die Wellenlänge
des Grundlichts 1064,3 nm.
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Diese
Vorrichtung wurde dem Wärmezyklustest von –40°C/80°C
unterzogen. Nach 500 Zyklen wurde die Ausgabe von Oberschwingungen
zweiter Ordnung (SHG) erneut gemessen, und folglich verschlechterte
sich die SHG-Ausgabe auf 70 mW.
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(Beispiel 1)
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Dieselbe
Vorrichtung wie bei dem Vergleichsbeispiel 1 wurde hergestellt.
Es versteht sich, dass gemäß den 6 und 7 Aluminiumschichten 10A, 10B und 28 auf
der oberen Fläche 5b bzw. den Seitenflächen 1c und 1d der
Vorrichtung 1 durch ein Zerstäubungsverfahren
ausgebildet wurden. Die Dicke der Aluminiumschicht betrug 0,2 μm.
Die Aluminiumschichten 10A und 10B wurden so eingestellt, dass
sie 100% jeder Fläche der Seitenflächen 1c bzw. 1d bedeckten.
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Die
optischen Eigenschaften der Vorrichtung wurden unter Verwendung
eines ND-YAG-Lasers gemessen. Die Oszillationsausgabe des Lasers
wurde auf 500 mW eingestellt, und das Grundlicht wurde auf die Endfläche
des Wellenleiters durch eine Linse kondensiert; folglich wurde eine
SHG-Ausgabe von 200 mW erhalten. In diesem Moment betrug die Wellenlänge
des Grundlichts 1064,3 nm.
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Diese
Vorrichtung wurde dem Wärmezyklustest von –40°C/80°C
unterzogen. Nach 500 Zyklen wurde die SHG-Ausgabe erneut gemessen,
und es ergab sich keine Verschlechterung der SHG-Ausgabe.
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(Beispiel 2)
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Dieselbe
Vorrichtung wie bei Beispiel 1 wurde hergestellt. Es versteht sich,
dass die Aluminiumschichten 10A und 10B so eingestellt
wurden, dass sie 80% jeder Fläche der Seitenflächen 1c bzw. 1d bedeckten.
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Diese
Vorrichtung wurde dem Wärmezyklustest von –40°C/80°C
unterzogen. Nach 500 Zyklen wurde die SHG-Ausgabe erneut gemessen,
und es ergab sich keine Verschlechterung bei der SHG-Ausgabe.
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(Beispiel 3)
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Dieselbe
Vorrichtung wie bei Beispiel 1 wurde hergestellt. Es versteht sich,
dass die Aluminiumschichten 10A und 10B so eingestellt
wurden, dass sie 70% jeder Fläche der Seitenflächen 1c bzw. 1d bedeckten.
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Die
Vorrichtung wurde dem Wärmezyklustest von –40°C/80°C
unterzogen. Nach 500 Zyklen wurde die SHG-Ausgabe erneut gemessen,
und es ergab sich eine SHG-Ausgabe von 191 mW.
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Gemäß vorstehender
Beschreibung wird eine Oberschwingungen erzeugende Vorrichtung bereitgestellt,
mit einem Stützsubstrat 2; einer Wellenlängenumwandlungsschicht 3 mit
einem dreidimensionalen optischen Wellenleiter 24 mit einer
darin bereitgestellten periodischen Domäneninversionsstruktur,
wobei die Schicht eine X-Platte oder versetzte X-Platte mit einem
ferroelektrischen Einkristall aufweist; einer Basishaftschicht 21 zum
Anhaften einer unteren Fläche 3d der Wellenlängenumwandlungsschicht 3 an
das Stützsubstrat 2; einem Oberseitensubstrat 5,
das auf der Seite einer oberen Fläche der Wellenlängenumwandlungsschicht 3 bereitgestellt ist;
einer Oberseitenhaftschicht 20 zum Anhaften der Wellenlängenumwandlungsschicht 3 an
das Oberseitensubstrat 5; einer Einfallsfläche 1a für
eine Grundwelle, einer Projektionsfläche für Oberschwingungen,
einer erste Seitenfläche 1c zwischen der Einfallsfläche
und der Projektionsfläche, und einer zweite Seitenfläche 1d gegenüber
der ersten Seitenfläche. Ein erstes leitendes Material 10A steht
in Kontakt mit der ersten Seitenfläche 1c, ein
zweites leitendes Material 108 steht in Kontakt mit der
zweiten Seitenfläche 1d, und das erste leitende
Material 10A und das zweite leitende Material 10B sind
zueinander elektrisch leitend.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - WO 2006/41172
A1 [0003, 0004, 0005]