DE102008054139A1 - Glas- oder Glaskeramik-Substrat mit Kratzschutzbeschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Glas- oder Glaskeramik-Substrat mit Kratzschutzbeschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft allgemein Glas- oder Glaskeramikprodukte. Um die Oberfläche derartiger Produkte gegen Verkratzen zu schützen, ist eine Siliziumoxinitrid-Beschichtung mit spezieller Zusammensetzung vorgesehen.

Description

  • Die Erfindung betrifft allgemein Glas- oder Glaskeramiken. Insbesondere betrifft die Erfindung Glas- oder Glaskeramikscheiben mit einer Kratzschutzschicht.
  • Hartstoffschichten werden vielfach bei der Bauteile- und Werkzeugbeschichtung zur Verlängerung der Lebensdauer eingesetzt. Hierbei geht es um Beschichtungen auf Metallen. Mittels einem Arc unterstützten Verfahren werden bei Prozesszeiten von einigen Stunden Schichten wie TiN oder WC:C abgeschieden. Diese Verfahren funktionieren in Batch-Anlagen mit metallischem Substraten. Die in diesen Prozessen hergestellten Schichten sind häufig mit starken Spannungen versehen, so dass diese oft gerissen die Anlagen verlassen. Rissfreie, und vor allem transparente Kratzschutzschichten auf Glas sind mit dieser Technologie schwierig darzustellen.
  • Siliziumnitrid-Schichten sind zwar farbneutral und sehr transparent, aber zeigen dennoch vor allem aufgrund von Reflexionsverlusten Transmissionseinbußen von ca. 7–10% absolut gegenüber unbeschichteten Gläsern mit einer Transmission im sichtbaren Spektralbereich von ca. 92%. Insbesondere im Fahrzeugbereich sind aber hoch-transparente Gläser gefordert, so dass jede Transmissionserhöhung hier den Einsatzbereich kratzfest-beschichteter Scheiben erhöht.
  • Die Aufgabe der Erfindung besteht daher darin, für eine Glasoberfläche eine transparente mechanische Kratzschutzbeschichtung bereitzustellen, welche eine gute Transmission mit einer guten Kratzschutzwirkung kombiniert. Die Beschichtung soll dabei hinsichtlich der Kratzschutzwirkung Schutz gegenüber mechanischem Abrieb oder Einschlag gewährleisten. Ein Beispiel ist der Schutz einer Fahrzeugverglasung in Sandstürmen. Ein anderes Beispiel ist der Schutz von Scannerkassen-Fenstern vor Verkratzung durch das Darüberziehen von Produkten. In solchen Anwendungen ist neben einer erhöhten Kratzschutzwirkung eine hohe Transparenz und eine geringe Lichtstreuung auch nach langer Benutzungsdauer wünschenswert.
  • Die Aufgabe der Erfindung wird durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen angegeben.
  • Als Lösung der Aufgaben wird eine dicke Siliziumoxynitrid-Beschichtung vorgeschlagen.
  • Im Speziellen ist ein Glasgegenstand mit Kratzschutzbeschichtung vorgesehen, welcher ein Glas- oder Glaskeramiksubstrat, sowie eine darauf abgeschiedene Siliziumoxinitridschicht als Kratzschutzschicht umfasst. Die Beschichtung zeichnet sich dadurch aus, dass in der Siliziumoxinitridschicht das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls größer als 1, vorzugsweise mindestens 2 beträgt. Erfindungsgemäß werden also sauerstoffreiche Siliziumoxinitridschichten eingesetzt. Dabei gilt dies im Sinne der Erfindung für den mittleren Sauerstoff-Gehalt, beziehungsweise das mittlere Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff und Stickstoff. Das Verhältnis kann durchaus auch innerhalb der Siliziumoxinitridschicht variieren.
  • Der Sauerstoffanteil in der Schicht bewirkt eine Reduzierung des Brechungsindex gegenüber einer reinen Siliziumnitrid-Schicht und reduziert dadurch Reflexionen an den Luft/Schicht und Schicht/Glas Grenzflächen – wodurch die Transmission gegenüber einer reinen Siliziumnitrid-Schicht steigt. Einher geht allerdings auch eine geringere Härte, da sich die Siliziumoxinitrid-Schicht mit steigendem Sauerstoffgehalt einer Siliziumoxidschicht annähert, die sich in ihrer Härte dann nicht mehr stark von typischen Glas- oder Glaskeramiksubstraten unterscheidet.
  • Es ist aber überraschend festgestellt worden, dass die Kratzschutzwirkung bis zu sehr hohen Sauerstoffgehalten der Schicht erhalten bleibt. Das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff in der Siliziumoxinitridschicht, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls sollte aber höchstens 20 betragen, da oberhalb dieses Bereiches der Kratzschutz-Effekt merklich nachlässt.
  • Dass die erfindungsgemäß vorgesehenen Schichten im Vergleich zu anderen Hartstoffschichten eine hohe Kratzschutzwirkung aufweisen, obwohl der Sauerstoffgehalt vergleichsweise hoch ist, ist möglicherweise auf die Art der Belastung der Schicht zurückzuführen. Um als Kratzschutzschicht zu wirken, wird eine hohe Beständigkeit gegen Belastungen, wie sie in Schrubbtests auftreten, weniger jedoch eine hohe absolute Vickers-Härte gefordert. Als Gegenbeispiel seien hier Titannitrid-Schichten genannt, die typischerweise Vickers-Härten von 2000 aufweisen und eher einen Verschleißschutz bieten. Die erfindungsgemäßen Beschichtungen erweisen sich demgegenüber im allgemeinen als überraschend weich im Hinblick auf die Vickers-Härte.
  • So weisen erfindungsgemäße Siliziumoxinitridschichten typischerweise eine Vickers-Härte kleiner als 1400, vorzugsweise kleiner 1200 auf. Die Erfindung kann daher anstelle durch den Sauerstoffgehalt der Siliziumnitridschicht alternativ auch durch deren geringe, vorstehend genannte geringe Vickers-Härte definiert werden, wobei die Vickers-Härte nicht alleine durch die Zusammensetzung, sondern auch durch die Morphologie und Dichte der Schicht, sowie durch das darunterliegende Substrat beeinflusst wird.
  • Weiterhin geht mit dem hohen Sauerstoffgehalt ein vergleichsweise niedriger Brechungsindex einher, welcher für einen geringeren Brechungsindex-Sprung an den Grenzflächen der Schicht sorgt. Typischerweise liegt der Brechungsindex der Siliziumoxinitridschicht bei höchstens 1,9. Die Erfindung kann daher anstelle durch den Sauerstoffgehalt der Schicht durch ihren niedrigen Brechungsindex definiert werden. Auch beim Brechungsindex spielt zusätzlich zur Zusammensetzung auch die Morphologie und die Dichte der Schicht eine Rolle. Als Untergrenze des Brechungsindex der Siliziumoxinitridschicht wird andererseits ein Wert von mindestens 1,6 angestrebt, da noch niedrigere Brechwerte mit sehr hohen Sauerstoffgehalten und damit mit Siliziumoxid-artigen Schichten einhergehen, die wiederum hinsichtlich ihrer Kratzschutz-Eigenschaften nachlassen.
  • Da der Brechungsindex der erfindungsgemäßen Kratzschutzbeschichtung relativ niedrig liegt, erlaubt dies auch die Verwendung von Substraten mit niedrigem Brechungsindex ohne erhebliche Reflexionsverluste an der Grenzfläche zur Kratzschutzbeschichtung. Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist dabei der Brechungsindex des Glas- oder Glaskeramiksubstrats kleiner als 1,6.
  • Die Erfindung ist besonders für klar transparente Substrate, wie etwa Sichtfenster geeignet. Gedacht ist dabei besonders auch an Fahrzeugsichtscheiben oder die Fenster von Scannerkassen.
  • Auch auf nicht klar transparenten oder volumengefärbten Substraten, wie beispielsweise einigen Glaskeramiken kann die Erfindung jedoch mit Vorteil eingesetzt werden. Hierbei ist unter anderem auch an Glaskeramik-Kochfelder gedacht. Eine Beschichtung von Glaskeramik-Kochfeldern als Kratzschutz ist deshalb von Vorteil, weil die Beschichtung aufgrund ihrer besseren Anpassung an den Brechungsindex des Substrates optisch besonders unauffällig ist. Damit wird das Erscheinungsbild des Kochfelds, beziehungsweise das vorgesehene Design möglichst wenig oder sogar gar nicht mehr gestört. Auch die Farben eines Dekors auf der Glaskeramik werden möglichst wenig verfälscht.
  • Da die Beschichtung optisch sehr unauffällig ist und die Transmission kaum beeinflusst, kann die Schicht bei guter Transmission vergleichsweise dick gehalten werden. So beträgt die Schichtdicke der Siliziumoxinitridschicht vorzugsweise zumindest 500 Nanometer. Ein geeigneter Schichtdickenbereich liegt insbesondere zwischen 0.5 und 2,5 μm, vorzugsweise bis 2 μm, um eine erhebliche mechanische Verbesserung gegenüber einer unbeschichteten Glasoberfläche zu erzielen und zusätzlich gute Transmissionseigenschaften und/oder eine optisch unauffällige Beschichtung zu erzielen.
  • Mit einer erfindungsgemäßen Beschichtung kann dann auf einer Glasscheibe als Substrat mit einer typischen Transmission von etwa 92% immer noch eine durchschnittliche Transmission von zumindest 86% in einem Wellenlängenbereich zwischen 400 Nanometern und 650 Nanometern erzielt werden. Demgegenüber ist die Transmission anderer Hartstoffschichten und sauerstoffarmer Siliziumoxynitridschichten geringer. So liegt die Transmission einer reinen Siliziumnitridschicht auf einem solchen Substrat aufgrund des höheren Brechungsindex und der damit verbundenen höheren Reflexion an den Grenzflächen nur bei etwa 82%.
  • Der hohe Sauerstoffgehalt der Schichten bringt einen weiteren Vorteil mit. Insbesondere bei oxidischen Gläsern und Glaskeramiken ergibt sich eine sehr gute Schichthaftung auf dem Substrat. Die Siliziumoxinitrid-Beschichtung wird daher besonders bevorzugt direkt auf der Oberfläche des Glas- oder Glaskeramiksubstrats abgeschieden. Das Abscheiden von Zwischenschichten zur Verbesserung der Haftung kann demnach entfallen.
  • Die Siliziumoxinitridschicht wird erfindungsgemäß durch Sputtern abgeschieden. Das Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Glasgegenstands mit Kratzschutzbeschichtung umfasst dazu die folgenden Schritte:
    • – Einführen eines Glas- oder Glaskeramik-Substrats in eine Vakuumkammer und
    • – Aufsputtern einer Siliziumoxinitridschicht unter Verwendung eines Plasmas in einem Sauerstoff und Stickstoff enthaltenden Prozessgas und eines Siliziumtargets, wobei die Zusammensetzung des Prozessgases durch Regelung des Sauerstoff-Flusses eingestellt wird, und wobei ein mittlerer Sauerstoffgehalt des Prozessgases von zumindest 20% eingestellt wird. Vorzugsweise wird zur Erzielung homogenerer Schichtdicken das Substrat in einer Pendelbewegung am Target vorbeibewegt.
  • Eine typische weitere Prozessgaskomponente neben Sauerstoff und Stickstoff ist Argon oder ein anderes Edelgas. Beim Regeln des Sauerstoffgehalts wird der Stickstoff-Fluss, sowie der Fluss von gegebenenfalls vorhandenen weiteren Prozessgas-Komponenten vorzugsweise konstant gehalten, um die Prozesssteuerung zu vereinfachen.
  • Der Sauerstoffgehalt bestimmt sich dabei als Volumenanteil der zugeführten Sauerstoffmoleküle. Ein bevorzugter Anlagen-Typ ist dabei eine In-Line Sputteranlage mit vertikalem Magnetron. Für die Erzeugung des Plasmas wird vorzugsweise Mittelfrequenz eingesetzt (sogenanntes MF-Sputtern). Die Frequenzen des Wechselfelds beim MF-Sputtern liegen typischerweise zwischen 10 kHz und 100 kHz.
  • Da höhere Sauerstoffgehalte hinsichtlich der Transmission noch bessere Schichten ergeben, wird dabei ein mittlerer Sauerstoffgehalt des Prozessgases von zumindest 30% bevorzugt.
  • Die Regelung über den Sauerstoffgehalt bietet sich nicht nur deshalb an, weil höhere Sauerstoffgehalte in der Schicht bevorzugt werden, es zeigt sich überraschend auch, dass die Regelung des Sauerstoff-Flusses, verglichen mit einer Regelung einer weiteren Prozessgas-Komponente, wie vorzugsweise von Stickstoff auch zu insgesamt hinsichtlich ihrer Zusammensetzung homogeneren Schichten führt.
  • Um die Homogenität der Schichten bei höheren Schichtdicken zu verbessern, wird es weiterhin bevorzugt, dass das Substrat zumindest viermal, vorzugsweise mindestens sechsmal, insbesondere bevorzugt zumindest zehnmal am Target vorbeibewegt wird.
  • Anwendungsmöglichkeiten der oben beschriebenen Erfindung können mechanisch belastete Glasoberflächen sein, bei denen eine dauerhaft hohe Transmission wichtig ist. Beispiele sind Fahrzeugverglasungen, besonders für den Einsatz in sandigen Gebieten. Hier erblinden Scheiben durch Abrasion, dies sogar im Fahrzeugstillstand durch den vom Wind mitgeführten Sand, sowie durch Verwenden der Scheibenwischer bei mit Sand belegten Frontscheiben. Andere Anwendungen sind z. B. der Schutz von Scannerkassen-Verglasungen. Hier werden die Barcode von Produkten eingescannt, während sie über eine Glasscheibe gezogen werden. Transparente Kratzschutzschichten führen in diesen Anwendungen zu Lebensdauer-Erhöhungen und Kosteneinsparungen aufgrund höherer Standzeiten.
  • Für Sichtscheiben und Fenster werden insbesondere Borsilikatgläser, vorzugsweise Borsilikat-Floatglasscheiben als Substrate aufgrund ihrer guten optischen und mechanischen Eigenschaften bevorzugt. Auch Kalk-Natron-Gläser können durch die erfindungsgemäße Beschichtung in ihrer Haltbarkeit erheblich verbessert werden.
  • Einen Beitrag zu den guten Kratzschutzeigenschaften trotz hohem Sauerstoffgehalt liefert wahrscheinlich auch die Morphologie der Schichten. Es hat sich als sehr günstig erwiesen, die Siliziumoxinitrid-Schicht mit einer sehr hohen Leistung abzuscheiden. Im Speziellen hat es sich als günstig erwiesen, eine Leistung von größer 10 Watt pro cm2, bevorzugt zumindest 12 Watt pro cm2 Targetfläche für das Sputtern einzusetzen. Bei Siliziumnitrid-Schichten hat es sich hier gezeigt, dass die Schichten röntgenamorph sind. Dies bedeutet, dass in Röntgen-Beugungsspektren keine scharfen Interferenzen auftreten, die sich deutlich, insbesondere um mehr als 10% des durchschnittlichen Untergrundsignals hervorheben. Statt dessen sind allenfalls diffuse Interferenzen bei kleinen Beugungswinkeln vorhanden. Ingesamt lässt sich daraus folgern, dass höchstens nanokristalline Phasen oder Entmischungen in der Beschichtung existieren, die einen Phasengehalt von weniger als 10 Vol.% aufweisen. Auch in elektronenmikroskopischen Aufnahmen zeigt sich keine erkennbare Struktur.
  • Die erfindungsgemäßen sauerstoffreichen Siliziumoxinitridschichten gleichen in ihrem Erscheinungsbild im Elektronenmikroskop dem von als röntgenamorph nachgewiesenen Siliziumnitridschichten. Es wird daher davon ausgegangen, dass auch die Siliziumoxinitridschichten, welche mit den oben genannten hohen Leistungen abgeschieden wurden, eine strukturlose Morphologie aufweisen, beziehungsweise röntgenamorph sind.
  • Die erfindungsgemäße Siliziumoxinitrid-Beschichtung kann auch mit weiteren Schichten kombiniert werden. Demgemäß ist in Weiterbildung der Erfindung eine mehrlagige Kratzschutzbeschichtung mit zumindest einer Siliziumoxinitridschicht vorgesehen. Diese weitere Schicht kann die Kratzschutz-Wirkung und/oder die optischen Eigenschaften verbessern.
  • Die Transmissionseigenschaften können dabei auch durch ein Wechselschichtsystem nach Art eines Interferenzschichtsystems verbessert werden. Insbesondere bietet es sich hier an, die mehrlagige Kratzschutzbeschichtung als Wechselschichtsystem auszubilden, welche zumindest einer Siliziumoxinitrid- und zumindest eine Siliziumnitridschicht umfasst. Dies ist günstig, da ein Wechsel des Targets entfallen kann und lediglich die Prozessgas-Zusammensetzung geändert werden braucht, indem bei der Abscheidung der Siliziumnitridschicht einfach die Sauerstoff-Zufuhr gestoppt und gegebenenfalls der Fluss anderer Prozessgaskomponenten angepasst wird.
  • Es hat sich weiterhin als überaus günstig für die Transmissionseigenschaften erwiesen, wenn die Siliziumoxinitridschicht mit mehreren aufeinanderfolgenden, ersten Lagen und zweiten Lagen abgeschieden wird, wobei die ersten Lagen einen höheren Sauerstoffgehalt als die zweiten Lagen aufweisen. Demgemäß erhält die Siliziumoxinitridschicht selber die Struktur eines Wechselschichtsystems, welches die Transmission erhöht.
  • Die Beschichtung kann auch eine Variation des Sauerstoff- und Stickstoffgehalts aufweisen, welche eher einer mehrlagigen Gradientenschicht entspricht.
  • Eine Variation des Sauerstoffgehalts in der Schicht in Form mehrerer aufeinanderfolgender Lagen mit abwechselnd unterschiedlichem Sauerstoffgehalt kann überraschend bereits durch die Pendelbewegung des Substrats bei der Beschichtung hervorgerufen werden. Durch die variierende Position wird dabei eine Änderung der Prozessgaszusammensetzung erzielt, da sich die relative Positionen der Gaseinlässe, des Targets und des Substrats durch das Vorbeibewegen des Substrats periodisch ändert. Gemäß einer Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird daher eine Siliziumoxinitridschicht mit mehreren aufeinanderfolgenden, beziehungsweise einander abwechselnden ersten Lagen und zweiten Lagen abgeschieden, wobei die ersten Lagen einen höheren Sauerstoffgehalt als die zweiten Lagen aufweisen, wobei die Variation des Sauerstoffgehalts durch das Vorbeibewegen des Substrats am Target erzielt wird.
  • Günstige Schichteigenschaften konnten bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform insbesondere dann erzielt werden, wenn die ersten Lagen einen Sauerstoffgehalt aufweisen, welcher um einen Faktor zwischen 1,1 und 2 höher ist, als in den zweiten Lagen.
  • Überraschend ist es günstig, wenn die Brechungsindex-Variation zwischen den Lagen nicht allzu hoch ist. So erweist es sich für die Schichteigenschaften als günstig, wenn sich der Brechungsindex der ersten und zweiten Lagen um höchstens 0,2 unterscheidet. Im Falle eines mehrlagigen Gradientenschichtsystems wird dabei der mittlere Brechungsindex der Lagen angesetzt. Für die Konstruktion eines wirksamen Interferenzschichtsystems würde man normalerweise hohe Brechungsindex-Differenzen anstreben. Im Falle der Siliziumoxinitridschichten hat sich aber gezeigt, dass große Unterschiede der Brechwerte, beziehungsweise damit einhergehend große Variationen der Sauerstoff- und Stickstoffgehalte die Kratzfestigkeit überproportional herabsetzen können, ohne dass eine erhebliche Verbesserung der Transmission erfolgt.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beigeschlossenen Figuren näher erläutert. Dabei verweisen gleiche Bezugszeichen in den Figuren auf gleiche oder entsprechende Elemente.
  • Es zeigen:
  • 1 einen Querschnitt durch einen erfindungsgemäßen Glasgegenstand,
  • 2 ein Diagramm von Messwerten verschiedener Eigenschaften eines Glasgegenstands mit einer darauf abgeschiedenen Siliziumoxinitridschicht in Abhängigkeit des Sauerstoffgehalts im Prozessgas bei der Schichtabscheidung,
  • 3 eine SIMS-Analyse einer Siliziumoxinitridschicht, welche mit Regelung des Sauerstoffgehalts im Prozessgas durch Sputtern abgeschieden wurde,
  • 4 einen Vergleich der Transmission eines Substrats mit einer unter Regelung des Sauerstoff-Gehalts abgeschiedenen Siliziumoxinitridschicht mit der errechneten Transmission eines Modells,
  • 5 den Brechungsindex-Verlauf einer Beschichtung des der Simulation aus 4 zugrundeliegenden Modells,
  • 6 eine Variante des in 1 gezeigten Glasgegenstands mit einer Kratzschutzschicht in Form eines Siliziumnitrid/Siliziumoxinitrid-Wechselschichtsystems, und
  • 7 berechnete Transmissionsverläufe des in 6 dargestellten Siliziumnitrid/Siliziumoxinitrid-Wechselschichtsystems, einer reinen Siliziumnitridschicht gleicher Dicke und eines unbeschichteten Substrats.
  • 1 zeigt einen erfindungsgemäßen Glasgegenstand 1. Der Glasgegenstand 1 umfasst ein Glas- oder Glaskeramiksubstrat 3, vorzugsweise in Gestalt einer Scheibe, mit Seiten 31, 32. Auf der Seite 31 ist eine Kratzschutzbeschichtung der Dicke d abgeschieden. Je nach Anwendungsfall kann auch auf der gegenüberliegenden Seite 32 eine entsprechende Schicht 5 abgeschieden sein.
  • Die Kratzschutzbeschichtung 5 ist bei dem in 1 gezeigten Beispiel eine Siliziumoxinitridschicht 5, in welcher das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls größer als 1, vorzugsweise mindestens 2 beträgt. Andererseits übersteigt das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff in der Siliziumoxinitridschicht, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls einen Faktor 20 nicht. Selbst Schichten mit einem Verhältnis von 16 zu 1 zeigten in Tests aber beispielsweise noch gute Kratzschutzeigenschaften, verbunden mit hoher Transmission.
  • Zur Abscheidung wird eine MF-Sputtervorrichtung verwendet, wobei die Siliziumoxinitridschicht unter Verwendung eines Plasmas in einem Sauerstoff und Stickstoff enthaltenden Prozessgas und eines Siliziumtargets aufgesputtert und dabei die Zusammensetzung des Prozessgases durch Regelung des Sauerstoff-Flusses eingestellt, beziehungsweise nachgeregelt wird. Die Abscheidung erfolgt bei einem mittleren Sauerstoffgehalt des Prozessgases von zumindest 20 Volumenprozent. Um gleichmäßige Schichten zu erhalten, wird das Substrat in einer Pendelbewegung am Target vorbeibewegt. Damit lassen sich, ohne Beschränkung auf das in 1 gezeigte Ausführungsbeispiel Schichten mit einer Homogenität in der Schichtdicke d von besser als 95% erzielen.
  • Das Substrat 3 ist ein vorzugsweise oxidisches Glas, beziehungsweise eine oxidische Glaskeramik. Da auch die Siliziumoxinitridschicht 5 Sauerstoff enthält, zeigt diese eine gute Haftung auf dem Substrat 3, so dass eine Zwischenschicht als Haftvermittler entfallen kann und die Siliziumoxinitridschicht 5 direkt auf der Substratoberfläche der Seite 31 abgeschieden ist.
  • Die Dicke d der Siliziumoxinitridschicht 5 liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 μm bis 2,5 μm, vorzugsweise zwischen 1 und 2 μm.
  • Bedingt durch den hohen Sauerstoffgehalt der Schicht 5 ist auch deren Brechungsindex vergleichsweise niedrig. Der Brechungsindex der Schicht 5 liegt zwischen 1,9 und 1,6. Der Brechungsindex des Substrates liegt vorzugsweise bei unter 1,6, da durch den niedrigen Brechungsindex der Siliziumoxinitridschicht 5 ohnehin der Brechungsindex-Sprung an der Grenzfläche zum Substrat 3 gegenüber anderen Kratzschutzschichten reduziert ist. Damit kann ein guter Wert für die Transmission auch ohne den Einsatz teurer hochbrechender Gläser erreicht werden. Für Gläser als Substrate werden klar transparente Gläser, vorzugsweise Borsilikatgläser, insbesondere Borsilikat-Floatglasscheiben bevorzugt.
  • Zur Herstellung des Glasgegenstands 1 wird das Substrat 3 in Form einer Glas- oder auch Glaskeramikscheibe in einer vertikalen In-Line Magnetron Sputteranlage auf einem Carrier positioniert und mit einer Vorschubgeschwindigkeit von beispielsweise 0,33 m/min gesputtert. Durch diese Vorlaufgeschwindigkeit werden typischerweise 6 Pendelhübe zur Aufbringung einer 1 μm dicken Siliziumoxinitridschicht benötigt. Durch eine hohe Sputterleistung von mehr als 15 W/cm2 werden sehr dichte, amorphe Schichten erzielt, welche optimale tribologische Eigenschaften mit hoher Transmission besitzen. Die Zusammensetzung von Stickstoff und Sauerstoff wird über die Reaktivgasregelung umgesetzt. Für die Herstellung mechanisch beständiger erfindungsgemäßer Schichten erfolgt die Regelung über den Sauerstoffanteil, der Stickstoff wird als fest eingestellter Fluss dazugegeben.
  • 2 zeigt Messwerte der Transmission und der Vickers-Härte und des Haze-Werts nach Schrubbtestbelastung gemessen an verschiedenen beschichteten Flachglas-Substraten aus Borosilikatglas, wobei die Beschichtungen mit verschiedenen Sauerstoff-Gehalten im Prozessgas durchgeführt wurden. Als Prozessgas wurde eine Mischung aus Stickstoff und Sauerstoff verwendet. Die Beschichtungen weisen jeweils eine Dicke von etwa 1,6 Mikrometern auf.
  • Die Haze-Messwerte wurden mit einem Messgerät zur Bestimmung des optischen Erscheinungsbildes von Glas, Folien, Kunststoffen sowie andere transparenten Materialen gemessen. Dabei wird die Probe senkrecht durchleuchtet und das durchgelassene Licht fällt durch eine Öffnung einer integrierenden Kugel und wird darin fotoelektrisch gemessen. Die spektrale Empfindlichkeit ist an die CIE-Normspektralwertfunktion y unter Normlicht C angepasst.
  • Wird die Probe direkt vor der Öffnung der integrierenden Kugel plaziert, wird die Gesamtintensität des hindurchgelassenen Lichts erfasst. Wird die Probe dagegen in einem Abstand von der Öffnung angeordnet, fällt im wesentlichen nur geradlinig durch die Probe transmittiertes, also nicht gestreutes Licht in die Kugel.
  • Die Differenz der beiden Werte dividiert durch die Gesamtintensität ergibt damit den Haze-Wert als prozentualen Anteil des gestreuten Lichts. Dieser Wert ist an der rechten Ordinate ablesbar, wobei die Skala mit einem Faktor 500 multipliziert ist. Ein Haze-Wert von 0,4% entspricht damit dem Wert 200 auf der Skala. Die gleiche Skala, wird auch für die gemessenen Werte der nicht skalierten Vickers-Härte verwendet.
  • Die Haze-Werte wurden nach einem standardisierten Schrubb-Test bestimmt, um die Kratzschutzwirkung der Beschichtungen zu bestimmen. Bei diesem Test wird Sandpapier mit Körnung 400 und definiertem Druck mehrfach über die zu prüfende Probe gerieben und diese so verkratzt. Der flache Schrubbkopf weist eine Fläche von 3·3 Quadratzentimetern auf und wird beim Überfahren der Fläche mit einem Gewicht von 2 kg belastet.
  • Die gemessenen Transmissionswerte sind mit dreieckförmigen Symbolen, die Haze-Werte mit kreisförmigen Symbolen und die Vickers-Härten mit Quadraten dargestellt. Zusätzlich eingezeichnet ist mit rautenförmigen Symbolen die errechnete Transmission homogener Siliziumoxinitrid-Schichten verschiedener Sauerstoff-Gehalte.
  • Die ganz links im Diagramm dargestellten Werte wurden an einer ohne Sauerstoffzufuhr abgeschiedenen Schicht gemessen. Bei dieser Schicht handelt es sich demgemäß um eine Siliziumnitrid-Schicht.
  • Wie erwartet zeigt sich ein deutlicher Abfall der Vickers-Härte mit steigendem Sauerstoff-Gehalt. Bei einem Sauerstoff-Anteil von 20% im Prozessgas ist die Vickers-Härte bereits von einem Wert von 1850 für die reine Siliziumnitrid-Schicht auf etwa 1400 abgefallen. Schichten, die mit noch höherem Sauerstoff-Anteil abgeschieden werden, weisen demnach auf einem Borosilikat-Floatglassubstrat einen Wert der Vickers-Härte deutlich unter 1400 auf. Der Balken 11 entspricht der Vickershärte eines unbeschichteten Glassubstrats. Bei einem Sauerstoff-Gehalt von 75% im Prozessgas ist die Vickers-Härte des beschichteten Substrats nicht einmal 50% höher als die Härte der unbeschichteten Glasscheibe. Dennoch ist der Haze-Wert kaum gegenüber einer reinen, sehr harten Siliziumnitrid-Schicht angestiegen und die Transmission ist sehr hoch.
  • Die Transmission steigt ausgehend von einem Wert von etwa 82% im Wellenlängenbereich zwischen 400 Nanometern und 650 Nanometern für die reine Siliziumnitrid-Schicht an. Auch der Haze-Wert nimmt leicht zu.
  • Der rasche Anstieg der Transmission wird erreicht durch Wechselschichtsysteme mit ersten und zweiten Schichten, die gekennzeichnet sind durch unterschiedliche Sauerstoffgehalte und einer leichten Brechungsindex-Variation mit einem Wert von Δn < 0,25, im allgemeinen sogar kleiner 0,15. Bei diesen Transmissionen entspricht der Abszissen-Sauerstoffgehalt dem durchschnittlichen Sauerstoffgehalt der beiden Schichten. Die Transmission liegt bei den Beschichtungen, die mit höherem Sauerstoffgehalt im Prozessgas abgeschieden wurden, sogar oberhalb von 90%. Damit beeinflusst eine erfindungsgemäße sauerstoffreiche Schicht die Transmission kaum noch, denn der Wert der Transmission eines unbeschichteten Substrats, gekennzeichnet durch den Balken 12 liegt bei etwa 93%.
  • Über die Wechselschichtsysteme wird so erreicht, dass die Transmission deutlich höher ist, als die errechneten Werte der isotropen Einzelschichten (die rautenförmigen Punkte in 2), welche sich für eine homogene Siliziumoxinitrid-Schicht mit homogener Zusammensetzung ergeben.
  • Auch ist auffällig, dass der Haze-Wert trotz stetig sinkender Vickers-Härte der Schicht bis zu sehr hohen Sauerstoff-Gehalten nur mäßig ansteigt. Selbst bei einer Schicht, die mit einem Sauerstoff-Gehalt von 75% im Prozessgas abgeschieden wurde, liegt der Haze-Wert nach dem Schrubb-Test bei nur 0,8 Prozent. Zum Vergleich ist hier noch der Haze-Wert des unbeschichteten Substrats angegeben (der mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnete Balken). Das schrubb-belastete, unbeschichtete Substrat weist demnach einen Haze-Wert von etwa 3% auf. Der Haze-Wert einer mit 100% Sauerstoffgehalt abgeschiedenen Schicht, also einer reinen Siliziumoxid-Schicht liegt mit 4% nochmals darüber.
  • Die Proben wurden hinsichtlich ihres Schichtaufbaus untersucht. Dazu wurden die Proben mittels Sekundärionen-Massenspektroskopie analysiert. Um die Schichten abzusputtern, wurde jeweils ein Cesium-Ionenstrahl verwendet.
  • Die in 3 gezeigte SIMS-Analyse wurde an einer Siliziumoxinitridschicht vorgenommen, welche erfindungsgemäß mit Regelung des Sauerstoffgehalts im Prozessgas durch Sputtern abgeschieden wurde. Der Sauerstoff-Gehalt im Prozessgas betrug dabei nominell etwa % 43.9%.
  • Anhand der SIMS-Analyse ist erkennbar, dass die Beschichtung eine Lagenstruktur aufweist. Weiterhin ist erkennbar, dass die Stickstoff- und Sauerstoffkonzentrationen sich stets gegenläufig verändern.
  • Es sind abwechselnd Intervalle mit wenig Stickstoffgehalt und Intervalle mit viel Stickstoffgehalt zu erkennen. Die Sauerstoffkonzentration ist gegenläufig.
  • Die Schichtdicke beträgt ca. 1600 nm.
  • Aus der SIMS-Analyse ist folgende durchschnittliche Zusammensetzung der Beschichtung ableitbar: 49 At% Sauerstoff, 15 At% Stickstoff, 36 At% Silizium.
  • Die Periode der Oszillationen der Sauerstoff- und Stickstoff-Konzentrationen beträgt bezogen auf die Sputterzeit 571 Sekunden. Dies entspricht einer Dicke von etwa 182 Nanometern. Die Stickstoff-Konzentration variiert in etwa mit einem Sägezahnmuster, wobei die Konzentration in den Lagen jeweils zu größeren Schichttiefen ausgehend von der Oberfläche der Probe abnimmt. Die Stickstoff-Konzentration sinkt jeweils ausgehend von etwa 20 At% auf 10 At% ab, um dann wieder anzusteigen. Die Variation der Sauerstoffkonzentration zeigt eher ein Wellenmuster und variiert zwischen ca. 42 At% und 57 At%.
  • Diese Beschichtung lässt sich daher als eine mehrlagige Schicht mit gradueller Änderung der Konzentrationen, beziehungsweise als mehrlagige Gradientenschicht charakterisieren.
  • Aus der SIMS-Messung kann zusammenfassend abgeleitet werden, dass die Schichten, die gegenüber uniformen Siliziumoxinitridschichten eine höhere Transmission bewirken, eine gegenläufige Variation der Stickstoff- und Sauerstoffkonzentrationen aufweisen.
  • Allgemein sollte es günstig sein, wenn die Lagen mit niedrigerem Brechungsindex einen Sauerstoffgehalt aufweisen, welcher um einen Faktor zwischen 1,1 und 2 höher ist, als in den Lagen mit höheren Brechungsindex.
  • Die Variationen der Zusammensetzungen wurden durch die Pendelbewegung des Substrats vor dem Target erzeugt. Durch die variierende Lage des Substrats vor dem Target wird die Prozessgaszusammensetzung beeinflusst. Selbstverständlich kann allgemein eine entsprechende Variation der Zusammensetzung in Richtung senkrecht zur Beschichtung aber auch auf andere Weise gezielt herbeigeführt werden, etwa, indem der Sauerstoffgehalt bei de Abscheidung der Schicht periodisch verändert wird.
  • Um die optischen Eigenschaften der Schichten weiter zu charakterisieren, wurde die Transmission der Proben wellenlängenabhängig gemessen und mit Modellen verglichen. Dazu zeigt 4 einen Vergleich der Transmission einer Probe, welche für die in 3 gezeigten SIMS-Messung verwendet wurde mit der errechneten Transmission eines Modells.
  • Das verwendete, zur Anpassung an die gemessenen Werte am besten funktionierende Model ist in 5 dargestellt. Die gestrichelt dargestellte Kurve in 4 zeigt die simulierten Transmissionwerte. Die durchgezogene Kurve stellt die gemessene Transmission dar.
  • Die Koordinate z in 5 bezeichnet die relative Position entlang einer Richtung senktrecht zur Oberfläche der Beschichtung.
  • Auf dem Substrat 3 mit einem Brechungsindex von etwa 1,5 schließt sich die Beschichtung 5 an, welche sich wiederum in sauerstoffärmere Schichten 501 mit höherem und sauerstoffreichere Schichten 502 mit niedrigerem Brechungsindex untergliedert. An das Substrat und die Beschichtung schließt sich jeweils die umgebende Luft mit einem Brechungsindex von eins an.
  • Bei dem Modell sind die höherbrechenden Schichten 501 mit 62 Nanometern schmaler als die niedrigbrechenden Schichten 502, die im Modell eine Schichtdicke von 125 Nanometern aufweisen. Der entsprechende Brechungsindex-Verlauf ist in 5 dargestellt. Anhand der sehr ähnlichen Transmissionskurven in 4 ist ersichtlich, dass das Modell die tatsächliche Beschichtung in optischer Hinsicht seht gut annähert.
  • Dem Modell wurden für die Schichten 501, 502 jeweils die aus der SIMS-Messungen der 3 bestimmten Zusammensetzungen zugrundegelegt.
  • Dem Modell liegt folgende Schichtabfolge zugrunde:
    Der Brechungsindex der niedrigbrechenden ersten Schichten 502 beträgt 1,775 bei 550 Nanometern Wellenlänge. Die hochbrechenden zweiten Schichten 501 weisen einen Brechungsindex von 1,86 bei 550 Nanometern Wellenlänge auf. Der Brechungsindex-Unterschied beträgt demnach lediglich 0,085. Generell ist es günstig für die Kratzschutzeigenschaften, wenn der Brechungsindex-Unterschied nicht mehr als 0,2 beträgt und das Verhältnis der Anteile von Sauerstoff und Stickstoff an der Gesamtzusammensetzung nicht mehr als um einen Faktor 2 zwischen den ersten Schichten 502 und den zweiten Schichten 501 variiert.
  • Direkt an das Substrat 3 grenzt zunächst eine 62 Nanometer dicke erste Schicht 502 an. Danach folgen acht Paare hoch- und niedrigbrechender Schichten, wobei die hochbrechenden Schichten 501 jeweils eine Dicke von 62 Nanometern und die niedrigbrechenden Schichten 502 jeweils eine Dicke von 125 Nanometern aufweisen. Darauf folgt noch eine 62,2 Nanometer dicke zweite Schicht 501 und abschließend eine 62,5 Nanometer dicke erste Schicht 501.
  • Die hinsichtlich der erzielten Transmission sehr guten Eigenschaften einer Schicht, wie sie in 3 dargestellt ist, lassen sich also auch durch eine Siliziumoxinitridschicht realisieren, die mehrere aufeinanderfolgenden erste und zweite Lagen aufweist, wobei die ersten Lagen einen höheren Sauerstoffgehalt als die zweiten Lagen aufweisen und bei denen die Sauerstoff- und Stickstoffkonzentrationen sprunghaft wechseln, die also scharfe Grenzflächen zeigen
  • Eine weitere Möglichkeit besteht auch in einer alternierenden Abscheidung eines Wechselschichtsystems von Siliziumoxinitrid- und Siliziumnitridschichten. Da sich die beiden Materialien deutlich in ihren Brechungsindizes unterscheiden, kann ein wirksames Interferenzschichtsystem aufgebaut werden. Dieses kann dann als Antireflexschichtsystem aufgebaut werden. Eine Variante des in 1 gezeigten Beispiels ist in 6 dargestellt.
  • Das Schichtsystem umfasst insgesamt sechs Lagen, wobei die Lagen 61, 62, 63 Siliziumnitrid-Lagen und die Lagen 51, 52, 53 Siliziumoxinitrid-Lagen sind. Das Schichtsystem beginnt substratseitig mit Lage 61, also einer Siliziumnitrid-Lage.
  • Die Schichtdicken eines Ausführungsbeispiels mit guter Entspiegelungswirkung sind in nachstehender Tabelle angegeben:
    Schicht, Bezugszeichen in Fig. 6 Dicke [nm]
    Substrat, 3 beliebig
    Siliziumnitrid, 61 115
    Siliziumoxinitrid, 51 275
    Siliziumnitrid, 62 234
    Siliziumoxinitrid, 52 142
    Siliziumnitrid, 63 233
    Siliziumoxinitrid, 53 189
    Luft
  • Das Schichtsystem weist eine Gesamtdicke von 1188 nm auf. Eine Erhöhung der Transmission wird hier durch Vielfachreflexion und Interferenzeffekte erzielt.
  • 7 zeigt dazu die der berechnete Verlauf 15 der Transmission des Schichtsystems in Abhängigkeit der Wellenlänge. Zum Vergleich ist der Verlauf 14 der Transmission für eine reine Siliziumnitrid-Schicht gleicher Dicke und der Verlauf 13 der Transmission eines unbeschichteten Substrats 3 dargestellt. Mit dem wie in 6 gezeigten Ausführungsbeispiel und den in der vorstehenden Tabelle verwendeten Schichtdicken kann so die Transmission (Durchschnitt im sichtbaren Spektralbereich zwischen 400 nm und 650 nm) einer reinen Siliziumnitridschicht von 82.2% auf ca. 86.1% erhöht werden.
  • Grundsätzlich sind auch andere Schichtdicken und eine Vielzahl von Designs, etwa auch mit anderen Anzahlen von Lagen möglich. Aus praktischen Gründen ist es allerdings günstig, wenn das Schichtsystem weniger als 20 Schichten (bevorzugt weniger als 10 Schichten aufweist und die Einzelschichtdicken im Bereich zwischen 5 nm und 1000 nm (bevorzugt zwischen 100 nm und 300 nm) liegen.
  • Eine geringere Anzahl von Schichten bieten ökonomische Vorteile in der Herstellung, insbesondere beim Sputtern, bei der ohnehin das Substrat vor dem Target hin und her gependelt wird und es keine oder zumindest keine wesentliche Prozessverlängerung mit sich bringt, das Target zwischen zwei Targets hin und her zu pendeln.
  • Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Erfindung nicht auf die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern vielmehr im Rahmen des Gegenstands der nachfolgenden Ansprüche variiert werden kann. Dabei können auch die Merkmale der Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert werden. So kann eine Siliziumoxinitrid-Schicht mit variierendem Sauerstoff-Gehalt, wie sie etwa anhand der 3, 6 und 8 beschrieben wurde, auch mit Siliziumnitridschichten, wie sie etwa in 6 dargestellt ist, kombiniert werden.

Claims (22)

  1. Glasgegenstand mit Kratzschutzbeschichtung, umfassend ein Glas- oder Glaskeramiksubstrat, sowie darauf abgeschieden eine Siliziumoxinitridschicht als Kratzschutzschicht, dadurch gekennzeichnet, dass in der Siliziumoxinitridschicht das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls größer als 1, vorzugsweise mindestens 2 beträgt.
  2. Glasgegenstand gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis der Atomprozente von Sauerstoff zu Stickstoff in der Siliziumoxinitridschicht, gemessen mit Sekundärionen-Massenspektroskopie und Schichtabtrag mittels eines Cäsium-Ionenstrahls höchstens 20 beträgt.
  3. Glasgegenstand gemäß einem der beiden vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliziumoxinitridschicht direkt auf der Oberfläche des Glas- oder Glaskeramiksubstrats abgeschieden ist.
  4. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliziumoxinitridschicht eine Vickers-Härte kleiner als 1400, vorzugsweise kleiner 1200 aufweist.
  5. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Brechungsindex der Siliziumoxinitridschicht höchstens 1,9 und mindestens 1,6 beträgt.
  6. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliziumoxinitridschicht eine Schichtdicke von zumindest 500 Nanometern aufweist.
  7. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat klar transparent ist.
  8. Glasgegenstand gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der Glasgegenstand in Form einer beschichteten Scheibe eine durchschnittliche Transmission von zumindest 86% in einem Wellenlängenbereich zwischen 400 Nanometern und 650 Nanometern aufweist.
  9. Glasgegenstand gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat eine volumengefärbte Glaskeramik umfasst.
  10. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliziumoxinitrid-Schicht eine strukturlose Morphologie aufweist.
  11. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine mehrlagige Kratzschutzbeschichtung mit zumindest einer Siliziumoxinitridschicht.
  12. Glasgegenstand gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die mehrlagige Kratzschutzbeschichtung ein Wechselschichtsystem zumindest einer Siliziumoxinitrid- und zumindest einer Siliziumnitridschicht umfasst.
  13. Glasgegenstand gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Siliziumoxinitridschicht mit mehreren aufeinanderfolgenden ersten Lagen und zweiten Lagen, wobei die ersten Lagen einen höheren Sauerstoffgehalt als die zweiten Lagen aufweisen.
  14. Glasgegenstand gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Lagen einen Sauerstoffgehalt aufweisen, welcher um einen Faktor zwischen 1,1 und 2 höher ist, als in den zweiten Lagen.
  15. Glasgegenstand gemäß einem der beiden vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich der Brechungsindex der ersten und zweiten Lagen um höchstens 0,25, bevorzugt höchstens 0,15 unterscheidet.
  16. Glasgegenstand gemäß einem der drei vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliziumoxinitridschicht als mehrlagige Gradientenschicht ausgebildet ist.
  17. Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstands mit Kratzschutzbeschichtung gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, umfassend die folgenden Schritte: – Einführen eines Glas- oder Glaskeramik-Substrats in eine Vakuumkammer und – Aufsputtern einer Siliziumoxinitridschicht unter Verwendung eines Plasmas in einem Sauerstoff und Stickstoff enthaltenden Prozessgas und eines Siliziumtargets, wobei die Zusammensetzung des Prozessgases durch Regelung des Sauerstoff-Flusses eingestellt wird, und wobei ein mittlerer Sauerstoffgehalt des Prozessgases von zumindest 20%, vorzugsweise zumindest 30% eingestellt wird.
  18. Verfahren gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat mehrfach an einem Target vorbeibewegt wird.
  19. Verfahren gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat zumindest viermal, vorzugsweise zumindest zehnmal am Target vorbeibewegt wird.
  20. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Leistung von größer 10 Watt pro cm2, bevorzugt zumindest 12 Watt pro cm2 Targetfläche für das Sputtern eingesetzt wird.
  21. Verfahren gemäß einem der vorstehenden Anspüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Siliziumoxinitridschicht mit mehreren aufeinanderfolgenden ersten Lagen und zweiten Lagen abgeschieden wird, wobei die ersten Lagen einen höheren Sauerstoffgehalt als die zweiten Lagen aufweisen, wobei die Variation des Sauerstoffgehalts durch das Vorbeibewegen des Substrats am Target erzielt wird.
  22. Verwendung eines Glasgegenstands gemäß einem der Ansprüche 1 bis 16 – als Sichtfenster, insbesondere für Fahrzeuge oder Scannerkassen, oder – als Glaskeramik-Kochfeld.
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