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Die
Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere
für die Mikrolithographie, zur Erzeugung eines Bildes einer
in einer Objektebene angeordneten Maske in einer Bildebene sowie
ein Subsystem einer Projektionsbelichtungsanlage. Dabei wird das
Bild mittels eines zwischen der Maske und der Bildebene angeordneten
Projektionsobjektives als Subsystem der Projektionsbelichtungsanlage
erzeugt. Als weiteres Subsystem der Projektionsbelichtungsanlage
ist neben dem Projektionsobjektiv üblicherweise auch eine Beleuchtungsvorrichtung
vorhanden, die – neben einer Lichtquelle zur Erzeugung
des benötigten Lichtes – ebenso wie das Projektionsobjektiv
eine Vielzahl optischer Elemente, wie beispielsweise Linsen oder
Spiegel, enthält.
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In
der
DE 198 55 108 A und
der
DE 199 42 291 A der
Anmelderin werden Beispiele für Projektionsobjektive beschrieben.
Eine verbreitete Problematik der oben genannten Subsysteme, wie
beispielsweise Beleuchtungssysteme oder Projektionsobjektive, besteht
darin, dass über die Lebensdauer der genannten Subsysteme
hinweg Abbildungsfehler auftreten. Zwar sind nach der Justage des
optischen Subsystems als Teil des Herstellungsprozesses die optischen
Elemente üblicherweise in der Art gegeneinander ausgerichtet,
dass das Subsystem nahezu fehlerlos arbeitet, jedoch sind im tatsächlichen
Betrieb Fehler, die auf Umwelteinflüsse zurückgehen,
nicht vermeidbar. Aufgrund der hohen numerischen Apertur der genannten
Subsysteme haben Umweltparameter, wie beispielsweise die Außentemperatur
und der Außendruck, einen großen Einfluss auf die
Leistungsfähigkeit des Subsystems. Üblicherweise
wird derartigen Abbildungsfehlern dadurch entgegengewirkt, dass
einzelne oder Gruppen von optischen Elementen im Subsystem relativ
zueinander unter Verwendung von sogenannten Manipulatoren bewegt
werden. In der
DE
101 43 385 A1 der Anmelderin ist beispielsweise eine Projektionsbelichtungsanlage
offenbart, bei der einzelne optische Elemente für sich
oder auch Gruppen benachbarter optischer Elemente mittels eines
Manipulators bewegt werden.
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Die
Bewegung optischer Elemente im optischen Subsystem impliziert jedoch
auch, dass zwar einerseits Abbildungsfehler hierdurch korrigiert
werden können, andererseits jedoch gerade durch die Bewegung der
entsprechenden optischen Elemente zur Korrektur parasitäre,
zusätzliche Abbildungsfehler erzeugt werden, die typischerweise
an einer anderen Stelle im optischen Subsystem korrigiert werden
können. Dies führt zu einen Bedarf an einer Vielzahl
manipulierbarer optischer Elemente an verschiedensten Stellen im
optischen Subsystem, sodass gleichzeitig auch die Zahl der notwendigen
Manipulatoren erhöht wird, wodurch sich der Gesamtaufwand
zur Herstellung und zum Betrieb des optischen Subsystems erhöht.
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Ein
Beispiel zur Manipulation von optischen Elementen in optischen Subsystemen
findet sich auch in der internationalen Patentanmeldung
WO 2006 05 37 51 A2 ,
die auf die Anmelderin zurückgeht. In der genannten Schrift
wird bspw. zur Korrektur von Bildfehlern ein Verkippen optischer
Elemente in einem Projektionsobjektiv einer Projektionsbelichtungsanlage
vorgeschlagen.
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In
der US-Patentanmeldung US 2003/0063268 A1, die ebenfalls auf die
Anmelderin zurückgeht, ist ein Projektionsobjektiv für
die Halbleiterlithographie mit einer Vielzahl von Linsen offenbart.
Dabei sind einzelne Linsen zur Korrektur von Abbildungsfehlern des
Projektionsobjektives entlang der optischen Achse verschiebbar angeordnet.
In der genannten Schrift ist ferner beschrieben, dass auch Paare
von Linsen zwangsweise gemeinsam miteinander entlang der optischen
Achse bewegt werden können; allerdings werden nach der
Lehre der genannten Patentanmeldung lediglich benachbarte Linsen
zwangsweise gemeinsam miteinander bewegt.
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Es
ist damit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Subsystem
bzw. eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
anzugeben, das bzw. die bei Verwendung einer minimalen Anzahl von
Manipulatoren ein maximales Potenzial bietet, Abbildungsfehler zu
unterdrücken bzw. zu korrigieren.
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Diese
Aufgabe wird durch das optische Subsystem bzw. die Projektionsbelichtungsanlage
mit den in Patentanspruch 1 bzw. 11 aufgeführten Merkmalen
gelöst. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte
Varianten und Weiterbildungen der Erfindung.
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Das
erfindungsgemäße optische Subsystem einer Projektionsbelichtungsanlage
für die Halbleiterlithographie zeigt eine Mehrzahl von
optischen Elementen. Dabei sind mindestens zwei der optischen Elemente gemeinsam
verschiebbar und zwischen den beiden verschiebbaren optischen Elementen
ist mindestens ein weiteres optisches Element angeordnet, dessen
Position unabhängig von der Verschiebung der mindestens zwei
gemeinsam verschiebbaren optischen Elemente ist.
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Mit
anderen Worten befinden sich die beiden gemeinsam verschiebbaren
optischen Elemente nach der Lehre der vorliegenden Erfindung nicht
in ihrer jeweiligen unmittelbaren Nachbarschaft, sondern können durchaus
an deutlich unterschiedlichen Stellen im optischen Subsystem angeordnet
sein. Dies führt dazu, dass die verschiebbaren optischen
Elemente an Stellen im optischen Subsystem, wie beispielsweise im
Projektionsobjektiv, angeordnet werden können, wo ihre
Korrekturwirkung jeweils maximal ist bzw. wo durch die mit der Verschiebung
des ersten optischen Elements verbundene Verschiebung des zweiten
optischen Elements eine optimale Kompensation der durch die Verschiebung
des ersten optischen Elements hervorgerufenen parasitären
Bildfehler erreicht werden kann.
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Dabei
kann die Unabhängigkeit der Position des zwischen den mindestens
zwei verschiebbaren optischen Elementen angeordneten mindestens
einen weiteren optischen Elementes sich einerseits dadurch manifestieren,
dass das weitere optische Element fest in dem Subsystem angeordnet
ist, was eine einfachere Variante der Erfindung darstellt. In einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung kann das zwischen
den beiden gemeinsam verschiebbaren optischen Elementen auch unabhängig
von der Position der beiden gemeinsam verschiebbaren Elementen beweglich
im Subsystem angeordnet sein, wodurch sich weitere Freiheitsgrade
zur Korrektur von Abbildungsfehlern ergeben.
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Insbesondere
kann die Verschiebung der optischen Elemente entlang der optischen
Achse eines beispielsweise als Projektionsobjektivs ausgebildeten
Subsystems erfolgen.
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Die
gemeinsame Verschiebung der mindestens zwei optischen Elemente muss
nicht notwendigerweise darin bestehen, dass die beiden optischen
Elemente aufgrund einer starren Verbindung in Betrag und Richtung
identisch verschoben werden. Es ist selbstverständlich
auch denkbar, dass zwischen der Verschiebung des ersten optischen
Elements und der des gemeinsam mit ihm verschiebbaren zweiten optischen
Elements eine feste Beziehung besteht. So kann beispielsweise das
zweite optische Element zwar um denselben Betrag, aber in eine entgegengesetzte
Richtung zur Verschiebung des ersten optischen Elements verschoben werden.
Auch bestimmte Verhältnisse der Beträge der Verschiebungen
sind alternativ oder zusätzlich denkbar. Durch diese Maßnahme
wird es möglich, der Korrektur der Abbildungsfehler im
betroffenen optischen Subsystem weitere Freiheitsgrade hinzuzufügen.
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Dabei
kann das Subsystem ein erstes refraktives Teilsystem zur Bildung
eines ersten Zwischenbildes und ein zweites katadioptrisches Teilsystem
zur Bildung eines zweiten Zwischenbildes und ein drittes refraktives
Teilsystem zur Abbildung des zweiten Zwischenbildes zeigen, wobei
das erste refraktive Teilsystem aus einer ersten refraktiven Linsengruppe
zwischen der Objektebene und einer ersten Pupillenebene sowie aus einer
zweiten positiven Linsengruppe zwischen der ersten Pupillenebene
und dem zweiten Teilsystem besteht. Das zweite Teilsystem besteht
aus mindestens einem konkaven Spiegel, und das dritte Teilsystem
besteht aus einer ersten positiven Linsengruppe vor einer Pupillenebene
und einer zweiten positiven Linsengruppe nach der Pupillenebene,
wobei die erste positive Linsengruppe des dritten Teilsystems mindestens
eine negative Linse aufweist, deren bildseitige Fläche
konkav ist.
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In
einer vorteilhaften Variante der Erfindung ist in der ersten Linsengruppe
des ersten refraktiven Teilsystems eine verschiebbare Linse angeordnet
und die gemeinsam verschiebbaren Linsen sind in der ersten Linsengruppe
des dritten refraktiven Teilsystems angeordnet.
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Darüber
hinaus können in einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung in der ersten Linsengruppe des ersten refraktiven
Teilsystems die gemeinsam verschiebbaren Linsen und eine weiter
verschiebbare Linse angeordnet sein und in der ersten Linsengruppe
des dritten Teilsystems kann eine weitere verschiebbare Linse angeordnet
sein.
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In
einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung
ist das als Projektionsobjektiv ausgebildete optische Subsystem
in der Weise ausgebildet, dass Mittel vorhanden sind, die das Subsystem
passierende optische Nutzstrahlung zunächst
- – um einen Winkel von ca. 60°–120°
- – anschließend um einen Winkel von ca. 160°–200°
- – und nachfolgend um einen Winkel von ca. 60°–120° ablenken.
Dabei wird unter optischer Nutzstrahlung in diesem Zusammenhang
diejenige Strahlung verstanden, mittels derer bei bestimmungsgemäßem
Gebrauch des Projektionsobjektives die Maske mit der abzubildenden
Struktur auf den Wafer abgebildet wird. Ein derartiges Design des
Projektionsobjektives kann insbesondere unter Bauraumaspekten vorteilhaft sein.
Ein weiterer Vorteil der dargestellten Ausführungsform
besteht darin, dass das 2. katadioptrische Teilsystem einen pupillennahen
Spiegel aufweist, der mit Hilfe der davor angeordneten und doppelt
durchtretenen negativen Linsen einen wesentlichen Einfluss auf die
Korrektur der Farbfehler, speziell des Falblängsfehlers,
erlaubt.
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Eine
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie,
die mit dem vorstehend beschriebenen Subsystem ausgestattet ist,
zeigt ein bei moderatem apparativen Aufwand verbessertes Potenzial
zur Fehlerkorrektur und damit die Möglichkeit, die Ausschussquote
deutlich zu verringern.
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Nachfolgend
wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert.
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Es
zeigt:
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1 in den Teilfiguren 1a und 1b mögliche
Anordnungen der gemeinsam verschiebbaren optischen Elemente und
der unabhängigen optischen Elemente;
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2 eine
mögliche konkrete Realisation einer gekoppelten Verschiebung
zweier nicht benachbarter optischer Elemente;
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3 ein
erstes mögliches Design eines erfindungsgemäßen
Projektionsobjektivs;
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4 eine
Variante eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektivs;
und
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5 eine
weitere Variante eines erfindungsgemäßen Projektionsobjektivs.
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1 zeigt eine schematische Darstellung
der erfindungsgemäßen Lösung, wobei in
den Figurenteilen 1a und 1b zwei
Varianten dargestellt sind. 1a zeigt
eine in einem nicht näher dargestellten optischen Subsystem
angeordnete Mehrzahl optischer Elemente 100' bzw. 100'',
die im vorliegenden Fall als Linsen ausgebildet sind. Dabei sind
die optischen Elemente 100 bzw. 100'' zu den Gruppen 200, 300 und 400 zusammengefasst.
In dem in 1a dargestellten Beispiel lassen
sich die beiden Gruppen 200 und 300 mittels der
mechanischen Kopplung 101 gemeinsam entlang der als strichpunktierte
Linie dargestellten optischen Achse 120 bewegen. Die Gruppe 400 ist
selbst entlang der optischen Achse 120 bewegbar; dabei
sind die optischen Elemente 100'' der Gruppe 400 mittels
der mechanischen Kopplung 102 miteinander verbunden, sodass
sich auch diese optischen Elemente 100'' gemeinsam bewegen.
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1b zeigt
eine Modifikation der Erfindung, bei der die Gruppe 400' als
feststehende Gruppe optischer Elemente 100 ausgebildet
ist. Zusätzlich ist in 1b die
Gruppe 600 dargestellt, deren optische Elemente 100' mittels
der mechanischen Kopplung 103 miteinander verbunden sind
und die entlang der optischen Achse 120 ebenfalls unabhängig
von einer Bewegung der Gruppen 200 bzw. 300 beweglich
ist. Selbstverständlich können die Gruppen 200, 300, 400 bzw. 600 aus
lediglich einem einzigen optischen Element 100' bestehen;
darüber hinaus ist auch denkbar, dass sich zwischen den
einzelnen optischen Elementen 100 der Gruppen 200, 300, 400 oder 600 weitere
bewegliche oder feststehende optische Elemente 100, 100' bzw. 100'' befinden.
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2 zeigt
als Ausschnitt eines beispielhaften Projektionsobjektives eine mögliche
Realisationsform der Erfindung. Dabei sind die optischen Elemente 100 bzw. 100, 100'' in
Fassungen 140, 150 und 160 gelagert, die
ihrerseits mit den Gehäuseteilen 180 des Projektionsobjektives
verbunden sind. Die Fassungen 150 bzw. 140 der
optischen Elemente 100 und 100' sind über
die mechanische Kopplung 101 fest miteinander verbunden.
Bei einer durch die Manipulatoren 130 ausgelösten
Bewegung der Fassung 150 und des optischen Elements 100' entlang
oder auch senkrecht zur optischen Achse 120 macht das in
der Fassung 140 gelagerte optische Element 100 diese
Bewegung mit. Die mechanische Kopplung 101 ist dabei durch
eine Durchführung 170 durch die Fassung 160 des
optischen Elements 100'' hindurchgeführt. Das
optische Element 100'' ist also im vorliegenden Fall fest
mit dem Gehäuseteil 180 verbunden und ist damit
unabhängig von einer Bewegung der beiden optischen Elemente 100 und 100'.
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3 zeigt
eine Ausführungsform der Erfindung anhand eines katadioptrischen
Projektionsobjektives 500. Das Projektionsobjektiv 500 besteht
aus den drei Teilsystemen TS1, TS2 und TS3. Das erste refraktive Teilsystem
TS1 erzeugt ein erstes Zwischenbild. Das nachfolgende zweite katadioptrische
Teilsystem TS2 bildet das zweite Zwischenbild und das letzte refraktive
Teilsystem TS3 bildet das zweite Zwischenbild auf den nicht dargestellten
Wafer ab.
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Das
erste Teilsystem TS1 besteht dabei aus einer ersten refraktiven
Linsengruppe LG11 zwischen Objektebene und der ersten Pupille P1
und einer zweiten positiven Linsengruppe LG12 zwischen der ersten
Pupille P1 und dem zweiten Teilsystem TS2. Das zweite Teilsystem
TS2 besteht aus zwei zueinander konkaven und asphärischen
Spiegeln. Das dritte Teilsystem TS3 besteht aus einer positiven
Linsengruppe LG31, einer Pupille P2 und einer zweiten positiven
Linsengruppe LG32 nach der Pupille P2.
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Die
erste positive Linsengruppe LG31 im dritten Teilsystem zeigt eine
negative Linse L33, deren bildseitige Fläche konkav ist.
Verwandte Anordnungen sind in der internationalen Patentanmeldung
WO2006/005547 , die auf
die Anmelderin zurückgeht, beschrieben.
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In
dem in 3 gezeigten Beispiel sind die beiden Manipulatoren
M1 und M2 dargestellt. Eine erste manipulierte Linse L11 befindet
sich in der ersten Gruppe LG11 des ersten Teilsystems TS1; diese
Linse wird von dem ersten Manipulator M1 bewegt. Der Manipulator
M2 bewegt die Linsen L33 und L36 gemeinsam entlang der optischen
Achse 120. Zur Korrektur des Abbildungsmaßstabes
durch eine Bewegung der angesprochenen Linsen werden beide Manipulatoren
unabhängig voneinander angesteuert. Die Restfehler durch
die Manipulation sind dabei minimal.
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Durch
die in 3 gezeigte Anordnung ist es möglich,
unter Verwendung von zwei Z-Manipulatoren, d. h. Manipulatoren,
die eine Verschiebung eines optischen Elementes in Richtung der
optischen Achse bewirken können, einen Abbildungsmaßstabbereich
von zum Beispiel β0 = 0.25 +/– 7.5E-6
zu korrigieren.
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Mit
anderen Worten ermöglicht es das in 3 dargestellte
System, durch die Ansteuerung der beiden Manipulatoren M1 und M2
einen Abbildungsmaßstab von 0.2499925 bis 0.2500075 einzustellen,
wobei das Projektionsobjektiv 500 eine quasi unveränderte
Abbildungsperformance für alle β-Werten im genannten
Bereich zeigt.
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Die
Designdaten des in
3 dargestellten Systems sind
in Tabelle 1 aufgeführt; Radien und Dicken sind in Millimetern
angegeben. Für die in der Tabelle „Asphärische
Konstanten" angegebenen Parameter gilt die nachfolgende Asphärenformel:
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Dabei
sind P die Pfeilhöhe der betreffenden Fläche parallel
zur optischen Achse, h der radiale Abstand von der optischen Achse,
r der Krümmungsradius der betreffenden Fläche,
K die konische Konstante und C1, C2, ... die in der Tabelle aufgeführten
Asphärenkonstanten.
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4 zeigt
eine weitere Variante der Erfindung. In diesem Beispiel werden für
denselben Bereich der Maßstababerration die erste Linse
L11 mit dem Manipulator M1 bewegt, die zweite und vierte Linse L12
und L14 gemeinsam mittels des Manipulators M2 manipuliert. Dazwischen
befindet sich fest die Linse L13. Zusätzlich wird die Linse
L33 aus der ersten Gruppe LG31 des dritten Teilsystems TS3 manipuliert.
Die Performance des Systems bleibt auch in dem in 4 gezeigten
Beispiel über den gesamten β-Bereich im Wesentlichen konstant.
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Die
Designdaten des in 4 dargestellten Systems sind
analog zu 3 in den Tabellen 3 und 4 zusammengestellt.
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5 zeigt
eine weitere vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung,
bei der das als Projektionsobjektiv 500 ausgebildete optische
Subsystem in der Weise realisiert ist, dass die das Subsystem passierende
optische Nutzstrahlung zunächst
- – um
einen Winkel von ca. 60°–120°
- – anschließend um einen Winkel von ca. 160°–200°
- – und nachfolgend um einen Winkel von ca. 60°–120° abgelenkt
wird. Hinsichtlich der auf die Linsen L12, L35 und L37 wirkenden
Manipulatoren M1 und M2 gilt das bereits zu 3 Gesagte.
Tabelle
1 (Designdaten zu Fig. 3) 
| SRF | 2 | 5 | 7 | 12 | 14 |
| K | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| C1 | –9.284131e-08 | –1.151892e-07 | 1.273704e-07 | –3.858683e-09 | –2.856413e-08 |
| C2 | –7.586484e-12 | –2.280056e-12 | –1.713959e-11 | –1.537638e-11 | 1.509387e-12 |
| C3 | 3.041227e-17 | 1.848196e-15 | 7.622943e-15 | –2.882517e-16 | –7.986301e-17 |
| C4 | 2.651692e-20 | –1.053468e-19 | –7.531660e-19 | 1.475749e-17 | 2.072792e-21 |
| C5 | –2.781318e-24 | –2.522717e-23 | –9.502841e-24 | –1.699828e-20 | –7.381986e-25 |
| C6 | 1.059339e-27 | 7.287676e-27 | 1.514161e-27 | 1.575579e-23 | 3.811611e-28 |
| C7 | –2.313060e-31 | –9.231046e-31 | 3.314295e-31 | –7.631335e-27 | –7.488564e-32 |
| C8 | 1.688249e-35 | 4.867837e-35 | 1.425883e-35 | 1.899674e-30 | 4.945058e-36 |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 |
| | | | | | |
| SRF | 17 | 18 | 23 | 29 | 30 |
| K | –1.8958 | –1.9651 | 0 | 0 | 0 |
| C1 | –2.870073e-08 | 3.894235e-08 | –1.383751e-07 | 1.912533e-07 | 3.125232e-08 |
| C2 | 2.313460e-13 | –2.124762e-13 | 2.948873e-12 | 6.995298e-12 | 1.041121e-12 |
| C3 | –4.793055e-18 | 1.413545e-17 | 4.697769e-17 | 7.725524e-18 | –2.704914e-17 |
| C4 | 1.129424e-22 | –1.103588e-21 | 1.013423e-20 | –1.600828e-20 | –4.161820e-21 |
| C5 | –1.766548e-27 | 1.375121e-25 | –2.560349e-24 | –6.345800e-24 | –1.170730e-25 |
| C6 | 5.004253e-32 | –1.059520e-29 | 2.340019e-28 | 2.207057e-28 | 2.259476e-29 |
| C7 | –2.586811e-36 | 4.531919e-34 | –1.047525e-32 | –1.143521e-32 | 5.458919e-33 |
| C8 | 5.957275e-41 | –8.041856e-39 | 1.822367e-37 | –4.383915e-37 | –3.505948e-37 |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 |
| | | | | | |
| SRF | 32 | 36 | 39 | | |
| K | 0 | 0 | 0 | | |
| C1 | –5.935720e-08 | –7.609072e-08 | 3.080407e-08 | | |
| C2 | 2.030904e-12 | –2.077839e-12 | –1.219416e-12 | | |
| C3 | –3.065957e-17 | 1.018680e-16 | 2.564433e-16 | | |
| C4 | –1.052592e-20 | 2.905049e-21 | –1.242629e-20 | | |
| C5 | 2.742609e-24 | –3.639083e-25 | 1.121366e-25 | | |
| C6 | –4.478326e-28 | 3.652416e-29 | 3.639823e-29 | | |
| C7 | 3.393090e-32 | –1.135196e-33 | –2.758979e-33 | | |
| C8 | –1.192317e-36 | –1.193405e-38 | 7.475782e-38 | | |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | | |
Tabelle
3 (Designdaten zu Fig. 4) 
| SRF | 2 | 5 | 7 | 12 | 14 |
| K | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| C1 | –9.284131e-08 | –1.151892e-07 | 1.273704e-07 | –3.858683e-09 | –2.856413e-08 |
| C2 | –7.586484e-12 | –2.280056e-12 | –1.713959e-11 | –1.537638e-11 | 1.509387e-12 |
| C3 | 3.041227e-17 | 1.848196e-15 | 7.622943e-15 | –2.882517e-16 | –7.986301e-17 |
| C4 | 2.651692e-20 | –1.053468e-19 | –7.531660e-19 | 1.475749e-17 | 2.072792e-21 |
| C5 | –2.781318e-24 | –2.522717e-23 | –9.502841e-24 | –1.699828e-20 | –7.381986e-25 |
| C6 | 1.059339e-27 | 7.287676e-27 | 1.514161e-27 | 1.575579e-23 | 3.811611e-28 |
| C7 | –2.313060e-31 | –9.231046e-31 | 3.314295e-31 | –7.631335e-27 | –7.488564e-32 |
| C8 | 1.688249e-35 | 4.867837e-35 | 1.425883e-35 | 1.899674e-30 | 4.945058e-36 |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 |
| | | | | | |
| SRF | 17 | 18 | 23 | 29 | 30 |
| K | –1.8958 | –1.9651 | 0 | 0 | 0 |
| C1 | –2.870073e-08 | 3.894235e-08 | –1.383751e-07 | 1.912533e-07 | 3.125232e-08 |
| C2 | 2.313460e-13 | –2.124762e-13 | 2.948873e-12 | 6.995298e-12 | 1.041121e-12 |
| C3 | –4.793055e-18 | 1.413545e-17 | 4.697769e-17 | 7.725524e-18 | –2.704914e-17 |
| C4 | 1.129424e-22 | –1.103588e-21 | 1.013423e-20 | –1.600828e-20 | –4.161820e-21 |
| C5 | –1.766548e-27 | 1.375121e-25 | –2.560349e-24 | –6.345800e-24 | –1.170730e-25 |
| C6 | 5.004253e-32 | –1.059520e-29 | 2.340019e-28 | 2.207057e-28 | 2.259476e-29 |
| C7 | –2.586811e-36 | 4.531919e-34 | –1.047525e-32 | –1.143521e-32 | 5.458919e-33 |
| C8 | 5.957275e-41 | –8.041856e-39 | 1.822367e-37 | –4.383915e-37 | –3.505948e-37 |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 |
| | | | | | |
| SRF | 32 | 36 | 39 | | |
| K | 0 | 0 | 0 | | |
| C1 | –5.935720e-08 | –7.609072e-08 | 3.080407e-08 | | |
| C2 | 2.030904e-12 | –2.077839e-12 | –1.219416e-12 | | |
| C3 | –3.065957e-17 | 1.018680e-16 | 2.564433e-16 | | |
| C4 | –1.052592e-20 | 2.905049e-21 | –1.242629e-20 | | |
| C5 | 2.742609e-24 | –3.639083e-25 | 1.121366e-25 | | |
| C6 | –4.478326e-28 | 3.652416e-29 | 3.639823e-29 | | |
| C7 | 3.393090e-32 | –1.135196e-33 | –2.758979e-33 | | |
| C8 | –1.192317e-36 | –1.193405e-38 | 7.475782e-38 | | |
| C9 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | 0.000000e+00 | | |
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 19855108
A [0002]
- - DE 19942291 A [0002]
- - DE 10143385 A1 [0002]
- - WO 2006053751 A2 [0004]
- - WO 2006/005547 [0030]
