DE102006019482A1 - Anordnung mit magnetoresistivem Effekt sowie Verwendungen davon - Google Patents
Anordnung mit magnetoresistivem Effekt sowie Verwendungen davon Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006019482A1 DE102006019482A1 DE102006019482A DE102006019482A DE102006019482A1 DE 102006019482 A1 DE102006019482 A1 DE 102006019482A1 DE 102006019482 A DE102006019482 A DE 102006019482A DE 102006019482 A DE102006019482 A DE 102006019482A DE 102006019482 A1 DE102006019482 A1 DE 102006019482A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- omr
- arrangement
- layers
- arrangement according
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 title claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005290 antiferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005293 ferrimagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000012762 magnetic filler Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- -1 polyvinylphenylenes Polymers 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
- G01R33/093—Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
- H10N50/85—Materials of the active region
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
Die
Erfindung betrifft eine Anordnung mit magnetoresistivem Effekt,
insbesondere eine mit zumindest einem elektronischen Dünnschichtbauteil.
Diese werden als Sensoren zur Positions- und Strommessung oder zur
Messung magnetischer Felder (Kompass) auf Basis magnetischer Schichtstrukturen
(AMR/GMR/TMR) oder als Hallsensoren eingesetzt. Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen,
Sensoren, die organische Materialien vorzugsweise in Form von Schichten
benutzen, einzusetzen.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Anordnung mit magnetoresistivem Effekt, insbesondere eine mit zumindest einem elektronischen Dünnschichtbauteil. Diese werden beispielsweise als Sensoren zur Positions- und Strommessung oder zur Messung magnetischer Felder (Kompass) auf Basis magnetischer Schichtstrukturen (AMR/GMR/TMR) oder als Hallsensoren eingesetzt.
- Bekannt sind Dünnschichtfolgen mit magnetoresistivem Effekt deren Empfindlichkeit gegenüber dem bei einschichtigen Systemen auftretenden klassischen „AMR" Effekt deutlich, insbesondere um mindestens eine Größenordnung erhöht ist. Hauptvertreter sind der so genannte GMR (Giant Magneto Resistance) Effekt und der TMR (Tunneling Magneto Resistance) Effekt.
- Diese Effekte sind beispielsweise in dem Übersichtsartikel „Sandwiches mit riesigem Magnetwiderstand" von J. Wecker, R. Richter und R. Kinder erschienen in „Physik in unserer Zeit" 33. Jahrgang, 2002, Heft. Nr. 5, Seite 210 beschrieben.
- Die Effekte werden in vielseitig anwendbaren Anordnungen genutzt.
- Nachteilig an den bisher bekannten Anordnungen ist jedoch, dass sie nur kostenintensiv herstellbar sind und überwiegend aus spröden und/oder starren Materialien gemacht sind.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Dünnschicht-Anordnung mit magnetoresistivem Effekt zu schaffen, die kostengünstig, großflächig und/oder in Massenproduktion herstellbar ist und/oder biegsame oder flexible Schichten umfasst.
- Lösung der Aufgabe und Gegenstand der Erfindung ist eine Anordnung zumindest ein organisches elektronisches Dünnschichtbauteil mit zumindest drei Schichten auf einem Substrat und zumindest eine magnetfelderzeugende Vorrichtung umfassend, wobei die Anordnung derart ist, dass die magnetfelderzeugende Vorrichtung im organischen elektronischen Dünnschichtbauteil eine magnetoresistive Veränderung hervorruft. Außerdem ist Gegenstand der Erfindung die Verwendung einer solchen Anordnung zur Positionsmessung bei linearen Bewegungen, Drehbewegungen, Winkelmessungen, bei der Strommessung über das vom Strom hervorgerufene Magnetfeld und/oder Messungen von Magnetfeldern (Kompass).
- Diese Anordnung kann auch als OMR (Organisch magneto resistiv) bezeichnet werden.
- Nach einer Ausführungsform der Erfindung ist das Material der Dünnschichten so gewählt, dass die sonst bei herkömmlichen magnetoresistiven Sensoren auftretenden Hystereseeffekte möglichst unterdrückt werden.
- Ein besonderer Vorteil der organischen Dünnschichten ist beispielsweise, dass die Schichten als dünne Folien aufgebracht werden können und, beispielsweise auf einem Foliensubstrat als Trägersubstanz aufgebracht, im Ganzen eine flexible und biegsame Anordnung ergeben, die auch großflächig herstellbar ist.
- Neben geringen Herstellungskosten – beispielsweise kann das organische Elektronikbauteil einfach drucktechnisch, oder durch Rakeln oder Prägen hergestellt werden – liegt der Vorteil derartiger Anordnungen vor allem in den verschwindenden Hysterese-Effekten und in der hohen Isotropie – beides Merkmale die sich auf Grund der verwendeten magnetischen Materialien in gegenwärtig entwickelten Sensoren wohl nur mit sehr hohem Aufwand realisieren lassen.
- Nach einer Ausführungsform ist die OMR-Anordnung als Sensor ausgebildet. Dabei ist neben dem organischen Elektronikbauteil und der Vorrichtung zur Erzeugung eines Magnetfelds eine weitere Vorrichtung vorgesehen, die die magnetoresistive Änderung im organischen Bauteil feststellt und, beispielsweise zusätzlich durch eine Auswerteelektronik verarbeitet, weiterleitet.
- Nach einer vorteilhaften Ausführungsform handelt es sich um eine langzeitstabile OMR-Anordnung, beispielsweise um einen Sensor mit wenig reaktiven Elektroden, was z.B. durch den Einsatz von dotierten Transportschichten erreicht werden kann, der ausreichend stabil gegenüber Korrosion ist, was zur Folge hat, dass auf Verkapselungen verzichtet werden kann um ein langzeitstabiles Device zu schaffen.
- Nach einer weiteren Ausführungsform ist zumindest eine der funktionellen Schichten des organischen Bauelements dotiert, um die Einsatzspannung und/oder die Betriebsspannung gezielt einstellen zu können.
- Das organische Elektronikbauteil umfasst zumindest drei Schichten, zwei elektrisch leitfähige und eine organische Dünnschicht. Dabei ist der Begriff „Schicht" nicht eng als gesonderte Schicht auszulegen, sondern es wird auf eine Funktionalität abgestellt. So kann durchaus eine der leitfähigen Schichten durch eine Dotierung einer mittleren Schicht ersetzbar sein, wobei dann bei der Zählung der Schichten im Dünnschichtbauteil an der Stelle nur eine Schicht gezählt werden kann, von der Funktionalität her aber sind in der Schicht doch zwei Schichten enthalten.
- Jede der Schicht kann mit beliebigen Dopanden versetzt sein. Gedacht ist an Versetzungen mit Dopanden und Dotierungen wie sie beispielsweise in Applied Physics Letters 88, 152107 (2006) und in Journal of Applied Physics Vol. 94, Number 1, Seite 359 beschrieben sind.
- Die organische(n) Dünnschicht(en) können entweder halbleitend, leitend oder isolierend sein. Dabei ist keiner der Begriffe streng begrenzt, sondern es gibt fließende Übergänge. Innerhalb eines organischen elektronischen Bauteils ist die Aufteilung jedoch klar, weil im Zusammenhang mit den übrigen Schichten eindeutig formuliert werden kann, welche der Schichten des organischen elektronischen Dünnschichtbauteils als halbleitend, leitend oder isolierend wirkt.
- Zusätzlich kann das organische Elektronikbauteil noch andere Funktionalitäten haben, beispielsweise kann es eine selbstemittierende, eine elektrochrome und/oder eine photoaktive Schicht haben. Diese Schichten können auch beliebig mit anderen Schichten im Verbund vorliegen.
- Die elektrisch leitfähigen Schichten oder eine oder alle äußeren Schichten des organischen Dünnschichtbauteils, insbesondere also die Elektrodenschichten, können sowohl transparent als auch nicht transparent sein.
- Jede der drei Schichten kann durch beliebige Hilfsschichten ergänzt sein, ebenso kann das organische elektronische Bauteil sowohl verkapselt als auch unverkapselt vorliegen.
- Es wird vorgeschlagen, je nach Ausformung und benötigter Stabilität eine Verkapselung zu applizieren, die entweder aus einer verklebten Glasscheibe/Kappe oder aus einer Folge von aufeinander gestapelten Dünnschichten besteht. Es besteht auch die Möglichkeit Mischformen der beiden Ansätze zu verwenden. Z.B. eine Dünnschichtfolge auf die ein Deckglas geklebt wird.
- Gegenüber einem unverkapselten OMR Bauteil – womöglich mit einer reaktiven Kathode versehen – wird durch die erfindungsgemäße Ausformung der Applikation eine Lahnzeitstabilität erreicht, die den Einsatz in verschiedenen Applikationen erlaubt. Durch z.B. eine Dünnschichtverkapselung kann dabei weiterhin ein flexibles Bauteil erreicht werde. Weiterhin ist es auch möglich das OMR Element auf biegsamem Dünnglas aufzubauen und mit demselben zu versiegeln. Ebenso gut kann die flexible Trägerfolie, auf die die Anordnung aufgebracht wurde auf der anderen Seite wieder als Versiegelung/Verkapselung eingesetzt werden.
- Bei der Positionsmessung bei linearen Bewegungen, Drehbewegungen, Winkelmessungen, bei der Strommessung über das vom Strom hervorgerufene Magnetfeld und/oder Messungen von Magnetfeldern (Kompass) hat sich die Ausführungsform der OMR-Anordnung mit einem Stützmagneten als besonders geeignet erwiesen.
- Diese Ausführungsform der Erfindung umfasst einen Biasmagneten. Dieser Biasmagnet verschiebt die Widerstandsänderungskurve (über dem Magnetfeld) hin zu einem Arbeitspunkt, bei dem die Änderungen des externen – zu messenden Feldes mit höherer Genauigkeit und annähernd linear wiedergegeben werden. Der Biasmagnet ist typischerweise räumlich nahe an das Bauteil angebracht. Eine derartige Anordnung kann auch OMR-Sensor mit Stützfeld genannt werden.
- Das Stützfeld kann durch einen Permanentmagneten unterhalb des Sensors oder Sensorchips erzeugt werden. Die Stärke des Feldes wird eingestellt über das Sensormaterial, seine Geometrie und en Abstand zum Sensor. Beispiele können preiswerte Ferritmagnete sein oder ggf. bei kleinen Baugrößen Seltenerd-Magnete (auf Basis Sm-Co oder Nd-Fe-B). Diese Materialien können auch in Form kunststoffgebundener Magnete eingesetzt werden. Stützfelder sind größer als 1 mT, vorteilhaft größer als 5 mT.
- Im Hinblick auf die preiswerte Fertigung durch Druckverfahren ist es weiterhin vorteilhaft, diese Magnete direkt unter oder auf die aufzubringenden Sensorschichten zu drucken, indem man entsprechende Magnetpulver in druckbare Medien einmischt und dann aufbringt. Zwischen die Magnetschicht und die Sensorschichten muss zur Isolierung eine dielektrische Schicht auf gebracht werden. Im Fall von Sensorarrays/pixilierten Sensoren kann nach einer Ausführungsform in dem Verfahren auch die Magnetschicht pixiliert aufgebracht werden.
- Im Folgenden wird die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung, die einen Biasmagneten umfasst noch anhand 6 Figuren näher erläutert:
-
1 : Abgebildet ist die prinzipielle Kennlinie mit Stützfeld Hb und dem schraffierten Arbeitsbereich. Der Widerstand R der OMR-Anorndung ändert sich unter Einwirkung eines äußeren Feldes H. Im Nullfeld (äußeres Feld = 0) können diese Kennlinien R(H) ggf. nur eine geringe Änderung bei kleinen Feldänderungen zeigen. Deshalb soll durch ein magnetisches Stützfeld der Arbeitspunkt des Sensors in den Bereich verschoben werden, in dem die Kennlinie die größte Empfindlichkeit zeigt. -
2 zeigt eine Anordnung mit Bisamagneten. Zu erkennen ist das Substrat3 wobei auf der oberen Seite des Substrates die erfindungsgemäße OMR-Anordnung mit organischem elektronischem Dünnschichtbauteil1 zu erkennen ist und auf der anderen Seite des Substrates3 der Stützmagnet2 mit einer in-plane Magnetisierung. -
3 zeigt alternativ dazu den identischen Aufbau mit Substrat3 mittig zwischen OMR-Anordnung1 und Stützmagnet2 , allerdings mit dem Unterschied, dass der Stützmagnet2 hier eine senkrechte Magnetisierung hat. - Das Magnetfeld wirkt entweder in Schichtebene für den Fall (
2 ), dass auch das zu messende Feld in Schichtebene einwirkt. Wird der Sensor so betrieben, dass die Feldkomponente senkrecht zu Schichtebene gemessen werden soll, wird der Stützmagnet/-magnetschicht senkrecht auf magnetisiert (3 ). - In den
4 ,5 und6 werden Varianten der Ausführungsform mit Stützmagneten gezeigt, wobei einmal (4 ) ein Stützmagnet2 oberhalb einer Isolierschicht4 auf der OMR-Anordnung1 , die ihrerseits auf dem Substrat3 aufgebracht ist, angeordnet ist. - In
5 ist der Stützmagnet zwischen dem Substrat3 und der OMR-Anordnung1 angeordnet, wobei wieder zwischen der OMR-Anordnung1 und dem Stützmagnet eine Isolierschicht4 liegt. -
6 zeigt schließlich eine Sensormatrix mit integrierten Magnetschichten zur Erzeugung eines Biasfeldes. Der Aufbau der einzelnen Pixel der Matrix entspricht hier dem aus5 , obwohl die Sensormatrix keineswegs auf diese Variante beschränkt sein soll. - Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus Kombinationen der einzelnen Ausführungsformen.
- Das organische Elektronikbauteil basiert auf einer organischen Dünnschicht. Die organischen Elektronikbauteile in Dünnschichttechnik sind im Sinne der Erfindung nicht begrenzt.
- Unter dem Begriff "organische Materialien" sollen alle Arten von organischen, metallorganischen und/oder anorganischen Kunststoffen unter Ausnahme der klassischen auf Germanium, Silizium usw. basierenden Halbleitermaterialien verstanden werden. Es ist auch möglich, gefüllte Kunststoffe und Hybridmaterialien einzusetzen. Ferner soll der Begriff "organisches Material" ebenfalls nicht auf kohlenstoffhaltiges Material beschränkt sein, vielmehr sind auch Materialien wie Silicone möglich. Weiterhin sind neben polymeren und oligomeren Substanzen auch so genannte "small molecules" verwendbar.
- So kann die funktionelle Halbleiterschicht aus organischem Material beispielsweise aus Polythiophenen, Polyalkylthiophen, Poly-Di-Hexyl-Ter-Thiophen (PDHTT), Polythienylenvinylenen, Polyfluoren-Derivaten, Polyvenylenvinylen (PPV) oder artverwandte substituierte Systeme anderen konjugierten Polymeren bestehen, um eine Auswahl an möglichen Substanzen zu benennen. Diese Materialien können beliebige Dotierungen haben, wobei auch nicht die ganze Schicht dotiert sein muss, sondern beispielsweise nur der an eine nächste Schicht angrenzende Bereich (Interface) dotiert sein kann.
- Es können als organisches Material blends beliebiger Polymere mit beliebigen Füllstoffen, auch leitfähigen und/oder magnetischen Füllstoffen eingesetzt werden. Auch die Füllstoffe können in beliebigen Fraktionen vorliegen und in Korngöße und Zusammensetzung beliebig variieren. Daneben oder ergänzend können auch im Polymer gebundene Magnetpulver eingesetzt werden.
- Das organische Material kann dia-para-ferro-antiferro und/oder ferrimagnetisch sein. Auch LC-Materialien können eingesetzt werden, solange in ihnen durch das von außen angelegte Magnetfeld eine magnetoresistive Veränderung erzeugt werden kann.
- In der Schichtabfolge des organischen Elektronikbauteils kann auch eine oder mehrere Schichten für spezielle Ladungsträger vorgesehen sein, beispielsweise eine Lochtransportschicht oder eine Exzitonentransportschicht. Dabei kann auf die in der Literatur zu diesen Zwischenschichten bekannten Materialien für die Zwischenschichten zurückgegriffen werden. Beispielsweise sind die Zwischenschichten aus TAD (4,4'-bis(3-methylphenylphenylamino)-biphenyl bekannt.
- Die Schicht aus organischem Material kann, beispielsweise im Fall, dass das organische Elektronikbauteil eine selbstemittierende Schicht hat, auch ein singulett oder triplett emittierendes Material umfassen.
- Die Schicht aus organischem Material wird nach üblichen Beschichtungsmethoden hergestellt. Beispielsweise wird sie aus Lösung durch Aufschleudern (spin-coating), Rakeln und/oder Drucken aufgebracht sein. Es können halbleitende, leitende und/oder isolierende Schichten aus organischem Material sein.
- Nach einer Ausführungsform der Erfindung sind zumindest zwei organische Elektronikbauteile in Dünnschichttechnik in der Anordnung enthalten. Es können aber auch mehrere organische Elektronikbauteile übereinander gestapelt in der Anordnung enthalten sein.
- Diese Stapelfolgen können z.B. durch Charge Generation Layers (CGL) oder Anode-Cathode Layer (ACL) verbunden werden, wodurch es zur Trennung von Ladungsträgern im Bauteil kommt um so in Serie geschaltete, auf einander gestapelte Bauelemente zu erhalten.
- Durch die Erfindung wird erstmals eine OMR-Anordnung, insbesondere in Dünnschichttechnik, vorgeschlagen.
- Die Erfindung betrifft eine Anordnung mit magnetoresistivem Effekt, insbesondere eine mit zumindest einem elektronischen Dünnschichtbauteil. Diese werden als Sensoren zur Positions- und Strommessung oder zur Messung magnetischer Felder (Kompass) auf Basis magnetischer Schichtstrukturen (AMR/GMR/TMR) oder als Hallsensoren eingesetzt. Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, Sensoren, die organische Materialien vorzugsweise in Form von Schichten benutzen einzusetzen.
Claims (10)
- Anordnung zumindest ein organisches elektronisches Dünnschichtbauteil mit zumindest drei Schichten auf einem Substrat und zumindest eine magnetfelderzeugende Vorrichtung umfassend, wobei die Anordnung derart ist, dass die magnetfelderzeugende Vorrichtung im organischen elektronischen Dünnschichtbauteil eine magnetoresistive Veränderung hervorruft.
- OMR-Anordnung nach Anspruch 1, wobei das Material der Dünnschichten so gewählt ist, dass die sonst bei herkömmlichen magnetoresistiven Sensoren auftretenden Hystereseeffekte möglichst unterdrückt werden.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche 1 oder 2, bei der das Substrat eine flexible Folie ist.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche, die als Sensor ausgebildet ist.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei zumindest eine der funktionellen Schichten des organischen Bauelements so dotiert ist, dass die Einsatzspannung und/oder die Betriebsspannung gezielt einstellbar sind.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei eine oder mehrere äußere Schichten des organischen Dünnschichtbauteils transparent sind.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das organische elektronische Bauteil verkapselt ist.
- OMR-Anordnung nach einem der vorstehenden Ansprüche, die einen Biasmagneten mit umfasst.
- OMR-Anorndung nach Anspruch 9, die eine Isolierschicht zwischen dem organischen elektronischen Dünnschichtbauteil und dem Biasmagneten aufweist.
- Verwendung einer OMR-Anorndung zur Positionsmessung bei linearen Bewegungen, Drehbewegungen, Winkelmessungen, bei der Strommessung über das vom Strom hervorgerufene Magnetfeld und/oder Messungen von Magnetfeldern.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102006019482A DE102006019482A1 (de) | 2006-04-26 | 2006-04-26 | Anordnung mit magnetoresistivem Effekt sowie Verwendungen davon |
| AT07728096T ATE541325T1 (de) | 2006-04-26 | 2007-04-13 | Anordnung mit magnetoresistivem effekt sowie verwendungen davon |
| PCT/EP2007/053631 WO2007125022A1 (de) | 2006-04-26 | 2007-04-13 | Anordnung mit magnetoresistivem effekt sowie verwendungen davon |
| EP07728096A EP2011172B1 (de) | 2006-04-26 | 2007-04-13 | Anordnung mit magnetoresistivem effekt sowie verwendungen davon |
| CNA2007800145920A CN101427395A (zh) | 2006-04-26 | 2007-04-13 | 具有磁阻效应的装置及其应用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102006019482A DE102006019482A1 (de) | 2006-04-26 | 2006-04-26 | Anordnung mit magnetoresistivem Effekt sowie Verwendungen davon |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102006019482A1 true DE102006019482A1 (de) | 2007-10-31 |
Family
ID=38235235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102006019482A Ceased DE102006019482A1 (de) | 2006-04-26 | 2006-04-26 | Anordnung mit magnetoresistivem Effekt sowie Verwendungen davon |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP2011172B1 (de) |
| CN (1) | CN101427395A (de) |
| AT (1) | ATE541325T1 (de) |
| DE (1) | DE102006019482A1 (de) |
| WO (1) | WO2007125022A1 (de) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007037859A1 (de) | 2007-08-10 | 2009-02-12 | Siemens Ag | Anordnung mit magnetoresistivem Effekt und Verfahren zur Herstellung dazu |
| DE102007057667A1 (de) | 2007-11-30 | 2009-09-03 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Detektion von Partikeln in einem Fluid |
| DE102009016658A1 (de) | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung mit optimiertem magnetresistivem Effekt und Verfahren zur Herstellung dazu |
| WO2011160796A3 (de) * | 2010-06-25 | 2012-09-13 | Meas Deutschland Gmbh | Vorrichtung zum erzeugen eines sensorsignals und verfahren zur bestimmung der position eines gebers |
| WO2013023699A1 (de) * | 2011-08-18 | 2013-02-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum ermitteln eines drehmoments und zugehöriges messverfahren |
| DE102021108242A1 (de) | 2020-06-25 | 2021-12-30 | Globalfoundries U.S. Inc. | Bildsensor mit einer Anordung von optisch schaltbaren magnetischen Tunnelkontakten |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101858961A (zh) * | 2010-05-04 | 2010-10-13 | 西南大学 | 一种双参数、高灵敏度的有机小分子半导体薄膜磁性传感器 |
| CN103885005B (zh) * | 2012-12-21 | 2018-11-02 | 上海矽睿科技有限公司 | 磁传感装置及其磁感应方法 |
| CN103885004A (zh) * | 2012-12-21 | 2014-06-25 | 磁感科技香港有限公司 | 一种磁传感装置及其磁感应方法、制备工艺 |
| CN104459575B (zh) * | 2013-09-12 | 2018-01-05 | 上海矽睿科技有限公司 | 一种磁传感装置及该磁传感装置的制备工艺 |
| DE102022105706A1 (de) | 2022-03-10 | 2023-09-14 | Infineon Technologies Ag | Magnetfeldsensor mit mechanisch geschütztem Permanentmagneten |
| CN116782747B (zh) * | 2023-08-08 | 2026-05-12 | 昆明理工大学 | 柔性电子罗盘用近室温超大各向异性磁电阻薄膜制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006044715A2 (en) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | University Of Iowa Research Foundation | Magneto resistive elements and methods for manufacture and use of same |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59139689A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-10 | Hitachi Ltd | 磁気抵抗素子 |
| JPH04167192A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-15 | Hitachi Metals Ltd | 小切手自動読取装置 |
| DE10128135A1 (de) * | 2001-06-09 | 2002-12-19 | Bosch Gmbh Robert | Magnetoresistive Schichtanordnung und Gradiometer mit einer derartigen Schichtanordnung |
| US20030183915A1 (en) * | 2002-04-02 | 2003-10-02 | Motorola, Inc. | Encapsulated organic semiconductor device and method |
| US20050062174A1 (en) * | 2003-09-19 | 2005-03-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulated organic electronic device |
-
2006
- 2006-04-26 DE DE102006019482A patent/DE102006019482A1/de not_active Ceased
-
2007
- 2007-04-13 AT AT07728096T patent/ATE541325T1/de active
- 2007-04-13 CN CNA2007800145920A patent/CN101427395A/zh active Pending
- 2007-04-13 EP EP07728096A patent/EP2011172B1/de not_active Not-in-force
- 2007-04-13 WO PCT/EP2007/053631 patent/WO2007125022A1/de not_active Ceased
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006044715A2 (en) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | University Of Iowa Research Foundation | Magneto resistive elements and methods for manufacture and use of same |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Mermer,Ö. et al.: "Large magnetoresistance at room temperature in organic semiconductor devices". In: IEEE Transactions on Magnetics, Vol. 41, No. 10, Oct. 2005, pp. 3682-3684 * |
| Mermer,Ö. et al.: "Large magnetoresistance in nonmagnetic ?-cojugated semiconductor thin film devices". In: Phys. Rev. B 72, 205202 (2005) * |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007037859A1 (de) | 2007-08-10 | 2009-02-12 | Siemens Ag | Anordnung mit magnetoresistivem Effekt und Verfahren zur Herstellung dazu |
| DE102007057667A1 (de) | 2007-11-30 | 2009-09-03 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Detektion von Partikeln in einem Fluid |
| DE102009016658A1 (de) | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung mit optimiertem magnetresistivem Effekt und Verfahren zur Herstellung dazu |
| WO2011160796A3 (de) * | 2010-06-25 | 2012-09-13 | Meas Deutschland Gmbh | Vorrichtung zum erzeugen eines sensorsignals und verfahren zur bestimmung der position eines gebers |
| US9297634B2 (en) | 2010-06-25 | 2016-03-29 | Meas Deutschland Gmbh | Device for generating a sensor signal and method for determining the position of a sensor |
| WO2013023699A1 (de) * | 2011-08-18 | 2013-02-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum ermitteln eines drehmoments und zugehöriges messverfahren |
| US9335227B2 (en) | 2011-08-18 | 2016-05-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Device for determining torque and associated measuring method |
| DE102021108242A1 (de) | 2020-06-25 | 2021-12-30 | Globalfoundries U.S. Inc. | Bildsensor mit einer Anordung von optisch schaltbaren magnetischen Tunnelkontakten |
| US11226231B1 (en) | 2020-06-25 | 2022-01-18 | Globalfoundries U.S. Inc. | Image sensor incorporating an array of optically switchable magnetic tunnel junctions |
| DE102021108242B4 (de) * | 2020-06-25 | 2024-06-06 | Globalfoundries U.S. Inc. | Bildsensor mit einer Anordung von optisch schaltbaren magnetischen Tunnelkontakten |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2011172A1 (de) | 2009-01-07 |
| EP2011172B1 (de) | 2012-01-11 |
| WO2007125022A1 (de) | 2007-11-08 |
| ATE541325T1 (de) | 2012-01-15 |
| CN101427395A (zh) | 2009-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2011172B1 (de) | Anordnung mit magnetoresistivem effekt sowie verwendungen davon | |
| DE102006022336B4 (de) | Magnetfeldsensor und Sensoranordenung mit demselben | |
| DE102020103432B4 (de) | Magnetsensor | |
| DE10319319A1 (de) | Sensoreinrichtung mit magnetostriktivem Kraftsensor | |
| DE60025146T2 (de) | Herstellungsverfahren für eine magnetische fühleranordnung | |
| DE102007032867A1 (de) | Magnetoresistive Magnetfeldsensorstruktur | |
| DE102020200177A1 (de) | Streufeldrobuster xmr-sensor mit senkrechter anisotropie | |
| DE10342260B4 (de) | Magnetoresistiver Sensor in Form einer Halb- oder Vollbrückenschaltung | |
| EP2992342B1 (de) | Magnetfeldsensorvorrichtung | |
| DE102007013755A1 (de) | Indikatorelement für einen magnetischen Drehwinkelgeber | |
| DE102008041859A1 (de) | Magnetfeldsensoranordnung zur Messung von räumlichen Komponenten eines magnetischen Feldes | |
| Makarov et al. | Printable magnetoelectronics | |
| DE102018127279A1 (de) | Positionsdetektionsvorrichtung | |
| DE102008058895A1 (de) | Integrierte Schaltung, die einen Sensor mit Spritzgussmagnetmaterial umfasst | |
| US20090058413A1 (en) | Magnetoresistive sensor device and method of fabricating such magnetoresistive sensor device | |
| DE10017374B4 (de) | Magnetische Koppeleinrichtung und deren Verwendung | |
| DE102014103588A1 (de) | Magnetsensorsystem | |
| DE102021120160A1 (de) | Positionsdetektionseinheit, linsenmodul und bildgebungsvorrichtung | |
| DE112020000267T5 (de) | Magnetsensor-anordnung mit einzelnem tmr-film plus laserglühen und charakterisierung | |
| WO2002101406A1 (de) | Magnetoresistive schichtanordnung und gradiometer mit einer derartigen schichtanordnung | |
| DE112007003178T5 (de) | Magnetdetektor | |
| DE3929452A1 (de) | Strom-messeinrichtung | |
| DE102011086034A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
| DE102015100226A1 (de) | Magnetfeldsensor und Magnetfelderfassungsverfahren | |
| DE102022117194B4 (de) | Magnetfeldsensor mit in Reihe angeordneten MTJ-Elementen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
| R003 | Refusal decision now final |
Effective date: 20121228 |