DE102004061697A1 - Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid - Google Patents
Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid Download PDFInfo
- Publication number
- DE102004061697A1 DE102004061697A1 DE102004061697A DE102004061697A DE102004061697A1 DE 102004061697 A1 DE102004061697 A1 DE 102004061697A1 DE 102004061697 A DE102004061697 A DE 102004061697A DE 102004061697 A DE102004061697 A DE 102004061697A DE 102004061697 A1 DE102004061697 A1 DE 102004061697A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- dispersion
- powder
- zirconium
- zirconium dioxide
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/0009—Pigments for ceramics
- C09C1/0012—Pigments for ceramics containing zirconium and silicon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/48—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates
- C04B35/486—Fine ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
- C04B35/62615—High energy or reactive ball milling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
- C04B35/6263—Wet mixtures characterised by their solids loadings, i.e. the percentage of solids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
- C04B35/6264—Mixing media, e.g. organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/62655—Drying, e.g. freeze-drying, spray-drying, microwave or supercritical drying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/62665—Flame, plasma or melting treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
- C04B35/632—Organic additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/11—Powder tap density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
- C04B2235/3225—Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/44—Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
- C04B2235/441—Alkoxides, e.g. methoxide, tert-butoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/44—Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
- C04B2235/449—Organic acids, e.g. EDTA, citrate, acetate, oxalate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5409—Particle size related information expressed by specific surface values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5463—Particle size distributions
- C04B2235/5481—Monomodal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/549—Particle size related information the particle size being expressed by crystallite size or primary particle size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/765—Tetragonal symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Abstract
Dispersion von Zirkondioxid mit einem Feststoffgehalt von 30 bis 75 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, und einem Medianwert der Partikelgrößenverteilung in der Dispersion von weniger als 200 nm, erhältlich, indem ein Zirkondioxidpulver und/oder ein Zirkon-Mischoxidpulver mit einem ZrO¶2¶-Gehalt von mindestens 70 Gew.-%, wobei die Pulver in Form aggregierter Primärpartikel vorliegen, keine innere Oberfläche und eine BET-Oberfläche des Pulvers 60 +- 15 m·2·/g aufweisen in einem Dispergiermittel in Gegenwart von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, eines Oberflächenmodifizierungsmittels bei einem Energieeintrag von weniger als 200 KJ/m·3· vordispergiert wird und die erhaltene Vordispersion in wenigstens zwei Teilströme aufgeteilt, diese Teilströme in einer Hochenergiemühle unter einen Druck von mindestens 500 bar gesetzt und über eine Düse entspannt werden und in einem gas- oder flüssigkeitsgefüllten Reaktionsraum aufeinandertreffen und dabei vermahlt werden und die Dispersion gegebenenfalls nachfolgend mit weiterem Dispergiermittel auf den gewünschten Gehalt eingestellt wird. DOLLAR A Sie kann zur Herstellung von keramischen Schichten, Membranen und Formkörpern verwendet werden.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Dispersion von Zirkondioxid, deren Herstellung und Verwendung.
- Zirkondioxid-Dispersionen sind ideale Ausgangsmaterialien zur Herstellung von keramischen Formteilen, Beschichtungen und zum Polieren von Glas- und Metalloberflächen.
- Die den Dispersionen zugrunde liegenden Zirkondioxid-Pulver stammen in der Regel aus Sol-Gel-Prozessen oder aus flammenpyrolytischen Prozessen.
- Die Pulver aus Sol-Gel-Prozessen sind in der Regel wenig aggregiert oder agglomeriert und weisen mit ca. 10 bis 30 m2/g relativ, niedrige BET-Oberflächen auf. In Dispersionen werden die Pulver oft durch Additive gegen Reaggregation oder Reagglomeration stabilisiert. Diese Additive reagieren mit Molekülgruppen an der Oberfläche der Zirkondioxidpartikel.
- Die Pulver aus flammenpyrolytischen Prozessen liegen in der Regel aggregiert vor. Die Dispergierung dieser Pulver führt oft zu wenig stabilen Dispersionen. Es erfolgt eine rasche Sedimentation, Verbackungen und Verdickung, eine Redispergierung ist oft nicht möglich. Dieser Effekt wird verstärkt, wenn flammenpyrolytisch hergestellte Pulver mit hoher BET-Oberfläche eingesetzt werden. Diese zeigen zudem eine hohe Viskosität und sind dadurch für Anwendungen, für die ein hoher Füllgrad bei gleichzeitiger Gießbarkeit der Dispersion vorteilhaft ist, wenig geeignet.
- Dennoch ist es wünschenswert, wenn man sich die Eigenschaften, die mit der besonderen Aggregatstruktur flammenpyrolytisch hergestellter Zirkondioxidpulver einhergehen, etwa beim Polieren von Oberflächen oder bei der Herstellung keramischer Schichten, zu Nutze machen könnte.
- Aufgabe der Erfindung ist es eine hochgefüllte, stabile, niedrigviskose, sehr feinteilige Zirkondioxid-Dispersion bereitzustellen. Aufgabe der Erfindung ist es weiterhin ein Verfahren zur Herstellung dieser Dispersion bereitzustellen.
- Gegenstand der Erfindung ist eine Dispersion von Zirkondioxid mit einem Feststoffgehalt von 30 bis 75 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, und einem Medianwert der Partikel in der Dispersion von weniger als 200 nm, erhältlich indem ein Zirkondioxidpulver und/oder ein Zirkon-Mischoxidpulver jeweils mit einem ZrO2-Gehalt von mindestens 70 Gew.-%, wobei die Pulver in Form aggregierter Primärpartikel vorliegen, keine innere Oberfläche und eine BET-Oberfläche des Pulvers 60 ± 15 m2/g aufweisen in einem Dispergiermittel in Gegenwart von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, eines Oberflächenmodifizierungsmittels bei einem Energieeintrag von weniger als 200 KJ/m3 vordispergiert werden und die erhaltene Vordispersion in wenigstens zwei Teilströme aufgeteilt werden, diese Teilströme in einer Hochenergiemühle unter einen Druck von mindestens 500 bar gesetzt und über eine Düse entspannt werden und in einem gas- oder flüssigkeitsgefüllten Reaktionsraum aufeinandertreffen und dabei vermahlt werden und die Dispersion, gegebenenfalls nachfolgend mit weiterem Dispergiermittel auf den gewünschten Gehalt einstellt wird.
- Bevorzugt können dabei Pulver eingesetzt werden, die flammenpyrolytisch hergestellt sind.
- Unter flammenpyrolytisch ist dabei zu verstehen, dass das Pulver mittels einer Flammenhydrolyse oder einer Flammenoxidation erhalten wurde. Unter Flammenhydrolyse ist beispielsweise die Bildung von Zirkondioxid durch Verbrennung von Zirkontetrachlorid in einer Wasserstoff-/Sauerstoffflamme zu verstehen. Unter Flammenoxidation ist beispielsweise die Bildung von Zirkondioxid durch die Verbrennung eines organischen Zirkondioxidprecursors in einer Wasserstoff-/Sauerstoffflamme zu verstehen.
- Unter Medianwert ist der d50-Wert der volumengewichteten Partikelgrößenverteilung zu verstehen. Der Medianwert der Partikel in der erfindungsgemäßen Dispersion ist kleiner als 200 nm. Unter Partikeln sind dabei Primärpartikel, Aggregate und Agglomerate, wie sie in der Dispersion vorliegen, zu verstehen. Bevorzugt kann der d50-Wert zwischen 70 und 200 nm liegen.
- Unter oberflächenmodifiziert im Sinne der Erfindung ist zu verstehen, dass wenigstens ein Teil der an der Oberfläche des Pulvers sich befindlichen Hydroxygruppen mit einem Oberflächenmodifizierungsmittel unter Bildung einer chemischen Bindung reagiert haben. Bei der chemischen Bindung handelt es sich bevorzugt um eine kovalente, ionische oder eine koordinative Bindung zwischen dem Oberflächenmodifizierungsmittel und dem Partikel, aber auch um Wasserstoffbrückenbindungen. Unter einer koordinativen Bindung wird eine Komplexbildung verstanden. So kann zwischen den funktionellen Gruppen des Modifizierungsmittels und dem Partikel z.B. eine Säure/Base-Reaktion nach Brönsted oder Lewis, eine Komplexbildung oder eine Veresterung stattfinden. Bei der funktionellen Gruppe, die das Modifizierungsmittel umfasst, handelt es sich vorzugsweise um Carbonsäuregruppen, Säurechloridgruppen, Estergruppen, Nitril- und Isonitrilgruppen, OH-Gruppen, SH-Gruppen, Epoxidgruppen, Anhydridgruppen, Säureamidgruppen, primäre, sekundäre und tertiäre Aminogruppen, Si-OH-Gruppen, hydrolysierbare Reste von Silanen oder C-H-acide Gruppierungen, wie in beta- Dicarbonylverbindungen. Das Oberflächenmodifizierungsmittel kann auch mehr als eine derartige funktionelle Gruppe umfassen, wie z.B. in Betainen, Aminosäuren, EDTA. Geeignete Oberflächenmodifizierungsmittel können sein: Gesättigte oder ungesättigte Mono- und Polycarbonsäuren mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen, wie z.B. Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure, Buttersäure, Pentansäure, Hexansäure, Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Zitronensäure, Adipinsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Oxalsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Itaconsäure und Stearinsäure sowie die entsprechenden Säureanhydride, -chloride, -ester und -amide sowie deren Salze, insbesondere deren Ammoniumsalze. Geeignet sind auch solche Carbonsäuren, deren Kohlenstoffkette durch O-, S- oder NH-Gruppen unterbrochen sind, wie Ethercarbonsäuren (Mono- und Polyethercarbonsäuren sowie die entsprechenden Säurenhydride, -chloride, -ester und -amide), Oxacarbonsäuren, wie 3,6-Dioxaheptansäure und 3,6,9-Trioxadecansäure.
- Mono- und Polyamine der allgemeinen Formel Q3-nNHn, mit n = 0, 1 oder 2 und die Reste Q unabhängig voneinander sind, mit C1-C12-Alkyl, insbesondere C1-C6-Alkyl und besonders bevorzugt C1-C4-Alkyl, z.B. Methyl, Ethyl, n-Propyl und i-Propyl und Butyl. Weiterhin Aryl, Alkaryl oder Aralkyl mit 6 bis 24 Kohlenstoffatomen, wie z.B. Phenyl, Naphthyl, Tolyl und Benzyl.
- Weiterhin Polyalkylenamine der allgemeinen Formel Y2N(-ZNY)y-Y, worin Y unabhängig von Q oder N ist, wobei Q wie vorstehend definiert ist, y eine ganze Zahl von 1 bis 6, vorzugsweise 1 bis 3, ist, und Z eine Alkylengruppe mit 1 bis 4, vorzugsweise 2 oder 3 Kohlenstoffatomen ist.
- Beispiele sind Methylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Ethylamin, Anilin, N-Methylanilin, Diphenylamin, Triphenylamin, Toluidin, Ethylendiamin, Diethylentriamin.
- Bevorzugte beta-Dicarbonylverbindungen mit 4 bis 12, insbesondere 5 bis 8 Kohlenstoffatomen, wie z.B. Acetylaceton, 2,4-Hexandion, 3,5-Heptandion, Acetessigsäure, Acetessigsäure-C1-C4-alkylester, wie Acetessigsäureethylester, Diacetyl und Acetonylaceton.
- Aminosäuren, wie beta-Alanin, Glycin, Valin, Aminocapronsäure, Leucin und Isoleucin.
- Silane, die mindestens eine nicht hydrolysierbare Gruppe oder eine Hydroxygruppe aufweisen, insbesondere hydrolysierbare Organosilane, die zusätzlich mindestens einen nicht hydrolysierbaren Rest aufweisen. Bevorzugt können Silane der allgemeinen Formel RaSiX4-a als Oberflächenmodifizierungsreagenz dienen, worin die Reste R gleich oder verschieden sind und nicht hydrolysierbare Gruppen darstellen, die Reste X gleich oder verschieden sind und hydrolysierbare Gruppen oder Hydroxygruppen bedeuten und a den Wert 1, 2 oder 3 hat. Der Wert a ist bevorzugt 1.
- In der allgemeinen Formel sind die hydrolysierbaren Gruppen X, die gleich oder voneinander verschieden sein können, beispielsweise Wasserstoff oder Halogen (F, Cl, Br oder I), Alkoxy (vorzugsweise C1-C6-Alkoxy, wie z.B. Methoxy, Ethoxy, n-Propoxy, i-Propoxy und Butoxy), Aryloxy (vorzugsweise C6-C10-Aryloxy, wie z.B. Phenoxy), Acyloxy (vorzugsweise C1-C6-Acyloxy, wie z.B. Acetoxy oder Propionyloxy), Alkylcarbonyl (vorzugsweise C2-C7-Alkylcarbonyl, wie z.B. Acetyl), Amino, Monoalkylamino oder Dialkylamino mit vorzugsweise 1 bis 12, insbesondere 1 bis 6 Kohlenstoffatomen. Bevorzugte hydrolysierbare Reste sind Halogen, Alkoxygruppen und Acyloxygruppen. Besonders bevorzugte hydrolysierbare Reste sind C1-C4-Alkoxygruppen, insbesondere Methoxy und Ethoxy.
- Bei den nicht hydrolysierbaren Resten R, die gleich oder voneinander verschieden sein können, kann es sich um nicht hydrolysierbare Reste R mit oder ohne eine funktionelle Gruppe handeln.
- Der nicht hydrolysierbare Rest R ohne funktionelle Gruppe kann beispielsweise Alkyl (vorzugsweise C1-C8-Alkyl, wie Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sek.-Butyl und tert.-Butyl, Pentyl, Hexyl, Octyl oder Cyclohexyl), Alkenyl (vorzugsweise C2-C6-Alkenyl, wie z.B. Vinyl, 1-Propenyl, 2-Propenyl und Butenyl), Alkinyl (vorzugsweise C2-C6-Alkinyl, wie z.B. Acetylenyl und Propargyl), Aryl (vorzugsweise C6-C10-Aryl, wie z.B. Phenyl und Naphthyl) sowie entsprechende Alkaryle und Aralkyle (z.B. Tolyl, Benzyl und Phenethyl) sein. Die Reste R und X können gegebenenfalls einen oder mehrere übliche Substituenten, wie z.B. Halogen oder Alkoxy, aufweisen. Bevorzugt sind Alkyltrialkoxysilane. Beispiele sind:
CH3SiCl3, CH3Si(OC2H5)3, CH3Si(OCH5)3, C2H5SiCl3, C2H5Si(OC2H5)3, C2H5Si(OCH3)3, C3H7Si(OC2H5)3, (C2H5O)3SiC3H6Cl, (CH3)2SiCl2, (CH3)2Si(OC2H5)2, (CH3)2Si(OH)2, C6H5Si(OCH3)3, C6H5Si(OC2H5)3, C6H5CH2CH2Si(OCH3)3, (C6H5)2SiCl2, (C6H5)2Si(OC2H5)2, (i-C3H7)3SiOH, CH2=CHSi(OOCCH3)3, CH2=CHSiCl3, CH2=CH-Si(OC2H5)3, CH2=CHSi(OC2H5)3, CH2=CH-Si(OC2H4OCH3)3, CH2=CH-CH2-Si(OC2H5)3, CH2=CH-CH2-Si(OC2H5)3, CH2=CH-CH2Si(OOOCH3)3, n-C6H13-CH2-CH2-Si(OC2H5)3 und n-C8H17-CH2CH2-Si(OC2H5)3. - Der nicht hydrolysierbare Rest R mit einer funktionellen Gruppe kann z.B. als funktionelle Gruppe eine Epoxid- (z.B. Glycidyl- oder Glycidyloxy-), Hydroxy-, Ether-, Amino-, Monoalkylamino-, Dialkylamino-, gegebenenfalls substituierte Anilino-, Amid-, Carboxy-, Acryl-, Acryloxy-, Methacryl-, Methacryloxy-, Mercapto-, Cyano-, Alkoxy-, Isocyanato-, Aldehyd-, Alkylcarbonyl-, Säureanhydrid- und Phosphorsäuregruppe umfassen. Diese funktionellen Gruppen sind über Alkylen-, Alkenylen- oder Arylen-Brückengruppen, die durch Sauerstoff- oder -NH-Gruppen unterbrochen sein können, an das Siliciumatom gebunden. Die Brückengruppen enthalten vorzugsweise 1 bis 18, vorzugsweise 1 bis 8 und insbesondere 1 bis 6 Kohlenstoffatome.
- Die genannten zweiwertigen Brückengruppen und gegebenenfalls vorliegende Substituenten, wie bei den Alkylaminogruppen, leiten sich z.B. von den oben genannten einwertigen Alkyl-, Alkenyl-, Aryl-, Alkaryl- oder Aralkylresten ab. Natürlich kann der Rest R auch mehr als eine funktionelle Gruppe aufweisen.
- Bevorzugte Beispiele für nicht hydrolysierbare Reste R mit funktionellen Gruppen sind ein Glycidyl- oder ein Glycidyloxy-(C1-C20)-alkylen-Rest, wie beta-Glycidyloxyethyl, gamma-Glycidyloxypropyl, delta-Glycidyloxybutyl, epsilon-Glycidyloxypentyl, omega-Glycidyloxyhexyl und 2-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyl, ein (Meth)acryloxy-(C1-C6)-alkylen-Rest, z.B. (Meth)acryloxymethyl, (Meth)acryloxyethyl, (Meth)acryloxypropyl oder (Meth)acryloxybutyl, und ein 3-Isocyanatopropylrest.
- Beispiele für entsprechende Silane sind gamma-Glycidyloxypropyltrimethoxysilan (GPTS), gamma-Glycidyloxypropyltriethoxysilan (GPTES), 3-Isocyanatopropyltriethoxysilan, 3-Isocyanatopropyldimethylchlorsilan, 3-Aminopropyltrimethoxysilan (APTS), 3-Aminopropyltriethoxysilan (APTES), N-(2-Aminoethyl)-3-aminoproyltrimethoxysilan, N-[N'-(2'-Aminoethyl)-2-aminoethyl]-3-aminopropyltrimethoxysilan, Hydroxymethyltriethoxysilan, 2-[Methoxy(polyethylenoxy)propyl]trimethoxysilan, Bis-(hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilan, N-Hydroxyethyl-N-methylaminopropy[triethoxysilan, 3-(Meth)acryloxypropyltriethoxysilan und 3-(Meth)acryloxypropyltrimethoxysilan.
- Besonders vorteilhaft ist es, wenn die in der erfindungsgemäßen Dispersion vorliegenden Zirkondioxidpulver oder Zirkon-Mischoxidpulver mit 3-Aminopropytriethoxysilan (AMEO), Ammoniumsalzen von Polycarbonsäuren, beispielsweise Dolapix CE64 (Fa. Zschimmer & Schwarz), Tetraalkylammoniumhydroxiden, wie Tetramethylammoniumhydroxid oder Tetraethylammoniumhydroxid, oberflächenmodifiziert werden. Es können auch Mischungen der vorgenannten Verbindungen eingesetzt werden.
- Als Dispergiermittel der erfindungsgemäßen Dispersion eignen sich Wasser und/oder organische Lösungsmittel, wie Alkohole mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, insbesondere Methanol, Ethanol, n-Propanol und i-Propanol, Butanol, Octanol, Cyclohexanol, Ketone mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, insbesondere Aceton, Butanon und Cyclohexanon, Ester, insbesondere Essigsäureethylester und Glycolester, Ether, insbesondere Diethylether, Dibutylether, Anisol, Dioxan, Tetrahydrofuran und Tetrahydropyran, Glycolether, insbesondere Mono-, Di-, Tri- und Polyglycolether, Glycole, insbesondere Ethylenglycol, Diethylenglycol und Propylenglycol, Amide und andere Stickstoffverbindungen, insbesondere Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Pyridin, N-Methylpyrrolidin und Acetonitril, Sulfoxide und Sulfone, insbesondere Sulfolan und Dimethylsulfoxid, Nitroverbindungen, wie Nitrobenzol, Halogenkohlenwasserstoffe, insbesondere Dichlormethan, Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff, Tri-, Tetrachlorethen, Ethylenchlorid, Chlorfluorkohlenstoffe, aliphatische, alicyclische oder aromatische Kohlenwasserstoffe mit 5 bis 15 Kohlenstoffatomen, insbesondere Pentan, Hexan, Heptan und Octan, Cyclohexan, Benzine, Petrolether, Methylcyclohexan, Dekalin, Benzol, Toluol und Xylole. Besonders bevorzugte organische Dispergiermittel sind Ethanol, n- und i-Propanol, Ethylenglycol, Hexan, Heptan, Toluol und o-, m- und p-Xylol.
- Als Dispergiermittel können auch Mischungen der vorgenannten Verbindungen dienen, wobei diese mischbar sein müssen und nur eine Phase bilden.
- Ein besonders bevorzugtes Dispergiermittel ist Wasser.
- Unter einem Zirkon-Mischoxidpulver mit einem ZrO2-Gehalt von mindestens 70 Gew.-% ist ein Pulver zu verstehen, welches als Mischoxidkomponente mindestens eine weitere Metalloxidkomponente aufweist. Bevorzugt können dies Yttrium und/oder Hafnium sein. Der Gehalt an Hafniumdioxid kann vorzugsweise 1 bis 4 Gew.-% und der Gehalt an Yttriumoxid kann vorzugsweise 2 bis 30 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtmenge an Pulver, betragen. Besonders bevorzugt kann ein Yttriumgehalt von 3 bis 15 Gew.-% sein.
- Beispielsweise kann ein Zirkon-Mischoxidpulver mit den folgenden Merkmalen bevorzugt eingesetzt werden:
- – mittlerer Primärpartikeldurchmesser: < 20 nm, bevorzugt 10–16 nm, besonders bevorzugt 12–14 nm
- – Aggregatparameter: mittlere Fläche < 10000 nm2, bevorzugt 5000–8000 nm2, mittlerer äquivalenter Kreisdurchmesser < 100 nm, bevorzugt 50–90 nm, mittlerer Aggregatumfang < 700 nm, bevorzugt 450–600 nm
- – Gehalt an Zirkondioxid (ZrO2) 95–99.9 Gew.-%, bevorzugt > 97 Gew.-%, Gehalt an Hafniumdioxid (HfO2) 0,1 bis 4 Gew.-%, bevorzugt 1–2,5 Gew.-% Kohlenstoff 0 bis 0.15 Gew.-%, Chlorid 0 bis 0.05 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtmenge des Pulvers.
- Der mittlere, maximale Aggregatdurchmesser beträgt vorzugsweise weniger als 150 nm, besonders bevorzugt 100–150 nm und der mittlere, minimale Aggregatdurchmesser weniger als 100 nm, besonders bevorzugt 60–90 nm.
- Das Pulver weist bevorzugterweise in der Röntgenbeugungsanalyse nur die Reflexe von monoklinem und tetragonalem Zirkondioxid. Bevorzugterweise beträgt der Anteil an der tetragonalen Phase 20% bis 70%, besonders bevorzugt ist ein Anteil an der tetragonalen Phase von 30% bis 50%. Das Pulver besitzt keine innere Oberfläche.
- Die Stampfdichte beträgt bevorzugterweise 100 ± 20 g/l, der Trocknungsverlust höchstens 2,0 Gew.-%, der Glühverlust höchstens 3,0 Gew.-% und der pH-Wert liegt bevorzugterweise von 4,0 bis 6,0, bestimmt in einer 4 prozentigen, wässerigen Dispersion.
- Es kann erhalten werden, indem man
- – eine Lösung, enthaltend als Ausgangsmaterialen für das Zirkon-Hafnium-Mischoxidpulvers, die man durch Vermischen
- – einer Lösung, die mindestens ein Zirkoncarboxylat, ein Hafniumcarboxylat und/oder ein Carboxylat, welches Anteile an Zirkon und Hafnium aufweist, in einem organischen Lösungsmittel oder organischen Lösungsmittelgemisch
- – einer Lösung, die mindestens ein Zirkonalkoholat, ein Hafniumalkoholat und/oder ein Alkoholat, welches Anteile an Zirkon und Hafnium aufweist, in einem organischen Lösungsmittel oder organischen Lösungsmittelgemisch erhält, und bei der die Ausgangsverbindungen entsprechend dem später gewünschten Verhältnis von Zirkondioxid und Hafniumdioxid vorliegen und bei der das Gewichtsverhältnis von Carboxylat/Alkoholat 30:70 bis 90:10 beträgt,
- – mittels eines Verdüsungsgases unter Bildung eines Aerosols zerstäubt,
- – das Aerosol in einer Flamme, erzeugt aus einem Brenngas, bevorzugt Wasserstoff, und Luft (Primärluft), in einen Reaktionsraum hinein verbrennen lässt und in den Reaktionsraum zusätzlich Luft (Sekundärluft) einbringt, so dass
- – lambda1, definiert als das Verhältnis vorhandener Sauerstoff aus der insgesamt eingesetzten Luft/ Verbrennung des Brenngases notwendiger Sauerstoff, 1,5 bis 4 beträgt und
- – lambda2, definiert als das Verhältnis vorhandener Sauerstoff aus der insgesamt eingesetzten Luft/Verbrennung der Ausgangsmaterialien und des Brenngases notwendiger Sauerstoff, größer 1 oder gleich 1 und lambda1 > lambda2 ist,
- – und die Verweilzeit der Ausgangsmaterialien in der Flamme 5 bis 30 Millisekunden ist,
- – die heißen Gase und das feste Produkte kühlt und anschliessend das feste Produkt von den Gasen abtrennt.
- Als Alkoholate können bevorzugt Zirkon(IV)-ethylat, Zirkon(IV)-n-propylat, Zirkon(IV)-n-propylat, Zirkon(IV)-iso-propylat, Zirkon(IV)-n-butylat, Zirkon(IV)-tert.-butylat, Hafnium(IV)-ethylat, Hafnium(IV)-n-propylat, Hafnium(IV)-n-propylat, Hafnium(IV)-iso-propylat, Hafnium(IV)-n-butylat und/oder Hafnium(IV)-tert.-butylat eingesetzt werden.
- Besonders bevorzugt sind Alkoholate, die eine Zirkon- und eine Hafniumkomponente enthalten.
- Als Carboxylate können bevorzugt Zirkonacetat, Zirkonpropionat, Zirkonoxalat, Zirkonoctoat, Zirkon-2-Ethyl-Hexanoat, Zirkon-neodecanoat, Zirkonacetat, Zirconpropionat, Zirkonoxalat, Zirkonoctoat, Zirkon-2-Ethyl-Hexanoat, Zirkon-neodecanoat und/oder Zirkonstearat, Hafniumacetat, Zirconpropionat, Hafniumoxalat, Hafniumoctoat, Hafnium-2-Ethyl-Hexanoat und/oder Hafniumneodecanoat eingesetzt werden.
- Besonders bevorzugt sind Carboxylate, die eine Zirkon- und eine Hafniumkomponente enthalten.
- Hafniumverbindungen sind in der Regel mit einem Anteil von 1 bis 5 Gew.-% in Zirkonverbindungen enthalten. Zirkonverbindungen und Hafniumverbindungen können jedoch auch in Reinheitsgraden von 99 Gew.-% und mehr hergestellt werden. Der gewünschte Hafniumdioxidgehalt von 0,01 bis 4 Gew.-% kann durch eine beliebige Kombination der Hafniumgehalte der Ausgangsverbindungen eingestellt werden.
- Als organische Lösungsmittel beziehungsweise als Bestandteil von organischen Lösungsmittelgemischen können bevorzugt Methanol, Ethanol, n-Propanol, iso-Propanol, n-Butanol, tert.-Butanol, 2-Propanon, 2-Butanon, Diethylether, tert.-butyl-methylether, Tetrahydrofuran, C1-C8-Carbonsäuren, Essigsäureethylester, Toluol und/oder Benzin eingesetzt werden.
- In einer besonders bevorzugten Ausführungsform enthalten die Lösungen, die Zirkon- und/oder Hafniumcarboxylat enthalten, gleichzeitig die dem Carboxylat zugrunde liegende Carbonsäure und die Lösungen, die Zirkon- und/oder Hafniumalkoholat enthalten, gleichzeitig den dem Alkoholat zugrunde liegenden Alkohol.
- Ein weiteres bevorzugtes Zirkon-Mischoxidpulver weist folgende Merkmale auf:
Es liegt in Form von aggregierten Primärpartikeln mit folgenden physikalisch-chemischen Parametern vor: - – Gehalt an Yttrium, gerechnet als Yttriumoxid Y2O3, bestimmt durch chemische Analyse, von 5 bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Mischoxidpulver,
- – Gehalte an Yttrium einzelner Primärpartikel, gerechnet als Yttriumoxid Y2O3, bestimmt durch TEM-EDX, entsprechend dem Gehalt im Pulver ±10%,
- – Gehalt bei Raumtemperatur, bestimmt durch Röntgenbeugung und bezogen auf das Mischoxidpulver
- – monoklines Zirkondioxid < 1 bis 10 Gew.-%,
- – Gehalt an Kohlenstoff kleiner 0,2 Gew.-%.
- Es kann erhalten werden, indem man einen organischen Zirkondioxidprecursor und einen anorganischen Yttriumoxidprecursor, jeweils gelöst in einem organischen Lösungsmittel oder organischen Lösungsmittelgemisch, entsprechend dem später gewünschten Verhältnis von Zirkon und Yttrium, vermischt, dieses Lösungsgemisch mittels Luft (Verdüsungsluft) oder eines inerten Gases zerstäubt, und mit einem Brenngas und Luft (Primärluft) vermischt und das Gemisch in einer Flamme in einen Reaktionsraum hinein verbrennen lässt. Die heißen Gase und das feste Produkte werden abgekühlt und anschliessend das feste Produkt von den Gasen abgetrennt. Dabei beträgt der Gehalt des Zirkondioxidprecursors, gerechnet als ZrO2, in der Lösung wenigstens 15 Gew.-% und nicht mehr als 35 Gew.-%. Zusätzlich gibt man Luft (Sekundärluft) oder ein inertes Gas, jeweils in einer Menge, die 50% bis 150 der Primärluftmenge entspricht, in den Reaktionsraum, wobei das Verhältnis, definiert als lambda, von vorhandenem Sauerstoff aus der eingesetzten Luft/Verbrennung des Brenngases notwendiger Sauerstoff, 2 bis 4,5 beträgt, die Verweilzeit der Precursoren in der Flamme 5 bis 30 Millisekunden ist, und der Anteil an Precursor-Lösung in der Gasmenge, die sich nach der Verbrennung des Brenngases durch Luft ergibt, 0,003 bis 0,006 Vol-% ist. Geeignete organische Zirkondioxidprecursor sind Zirkon(IV)-ethylat, Zirkon(IV)-n-propylat, Zirkon(IV)-n-propylat, Zirkon(IV)-iso-propylat, Zirkon(IV)-n-butylat, Zirkon(IV)-tert.-butylat und/oder Zirkon(IV)-2-ethyl-hexanoat. Geeignete anorganische Yttriumoxidprecursor sind Yttriumnitrat, Yttriumcarbonat und/oder Yttriumsulfat.
- Das Zirkonmischoxidpulver sowie das Verfahren zu seiner Herstellung sind in der deutschen Patentanmeldung mit der Anmeldenummer
DE 102004039139.4 - Besonders bevorzugt kann ein Zirkondioxidpulver sein, welches einen Gehalt an Zirkondioxid von mindestens 92 Gew.-%, an Yttriumoxid von 4,5 bis 5,5 Gew.-%, an Chlorid von höchstens 0,05 Gew.-% aufweist.
- Das in der erfindungsgemäßen Dispersion vorliegende Pulver weist keine innere Oberfläche auf. Eine geeignete Analyse hierzu sind Aufnahmen des Pulvers mittels eines hochauflösenden TEM.
- Die BET-Oberfläche des in der erfindungsgemäßen Dispersion vorliegenden Pulver ist 60 ± 15 m2/g, wobei ein Wert zwischen 60 ± 5 m2/g bevorzugt ist.
- Weiterhin ist ein Gehalt an Zirkondioxidpulver oder Zirkon-Mischoxidpulver in der erfindungsgemäßen Dispersion von 50 ± 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, bevorzugt.
- Die erfindungsgemäße Dispersion weist eine ausgezeichnete Stabilität gegenüber Sedimentation, Verbackungen und Verdickung auf. Sie ist mindestens 1 Monat, in der Regel mindestens 6 Monate bei Raumtemperatur gießbar, ohne dass eine vorherige Redispergierung notwendig ist.
- Die erfindungsgemäße Dispersion kann in einem Scherratenbereich von 1 bis 1000 s–1 und einer Temperatur von 23°C eine Viskosität von weniger als 1000 mPas und besonders bevorzugt eine von weniger als 100 mPas aufweisen.
- Die erfindungsgemäße Dispersion kann bevorzugt in monomodaler Form vorliegen, was bedeutet, dass die Verteilungsfunktion der Aggregatdurchmesser nur ein Signal zeigt.
1 zeigt eine erfindungsgemäße Dispersion (Beispiel D-2). - Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Dispersion, indem man
- – zunächst ein Zirkondioxidpulver und/oder ein Zirkon-Mischoxidpulver mit einem ZrO2-Gehalt von mindestens 70 Gew.-%, wobei die Pulver in Form aggregierter Primärpartikel mit einer BET-Oberfläche von 60 ± 15 m2/g vorliegen, auf einmal oder portionsweise unter dispergierenden Bedingungen bei einem Energieeintrag von weniger als 200 KJ/m3 in das Dispergiermittel, bevorzugt Wasser, welches mindestens ein im Dispergiermittel lösliches Oberflächenmodifizierungsmittel und gegebenenfalls Additive zur pH-Regulierung enthält, einbringt
- – wobei die Menge an Pulver so gewählt ist, dass der Gehalt an Pulver 30 bis 75 Gew.-%, und die Menge an Oberflächenmodifizierungsmittel so gewählt ist, dass der Gehalt an Oberflächenmodifizierungsmittel 0,1 bis 5 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtmenge der Vordispersion, beträgt,
- – die Vordispersion in wenigstens zwei Teilströme aufteilt, diese Teilströme in einer Hochenergiemühle unter einen Druck von mindestens 500 bar, bevorzugt 500 bis 1500 bar, besonders bevorzugt 2000 bis 3000 bar, setzt, über eine Düse entspannt und in einem gas- oder flüssigkeitsgefüllten Reaktionsraum aufeinandertreffen lässt und dabei vermahlt und die Dispersion gegebenenfalls nachfolgend mit weiterem Dispergiermittel auf den gewünschten Gehalt einstellt.
- Das erfindungsgemäße Verfahren kann so ausgeführt werden, dass die bereits einmal vermahlene Dispersion im Kreis geführt und weitere 2 bis 6 mal mittels der Hochenergiemühle vermahlen wird. Damit ist es möglich eine Dispersion mit einer geringeren Partikelgröße und/oder unterschiedlicher Verteilung, beispielsweise monomodal oder bimodal, zu erhalten.
- Weiterhin kann das erfindungsgemäße Verfahren bevorzugt so ausgeführt werden, dass der Druck in der Hochenergiemühle 2000 bis 3000 bar ist. Auch mit dieser Maßnahme gelingt es eine Dispersion mit einer geringeren Partikelgröße und/oder unterschiedlicher Verteilung, beispielsweise monomodal oder bimodal, zu erhalten.
- Weiterhin ist es vorteilhaft das erfindungsgemäße Verfahren so durchzuführen, dass die maximale Temperatur bei der Herstellung der (Vor-)Dispersion 40°C nicht übersteigt.
- Die erfindungsgemäße Dispersion kann zur Herstellung von keramischen Schichten, keramischen Membranen und Formkörpern verwendet werden. Geeignete Verfahren hierfür sind dem Fachmann bekannt, beispielsweise seien Gel-Casting, Gefrierguss, Schlickerguss, Vakuumheißgießen, uniaxiales Trockenpressen, kaltisostatische Nachverdichtung genannt. Die erfindungsgemäße Dispersion kann weiterhin zum Polieren von Glasoberflächen und Metalloberflächen verwendet werden.
- Analytik:
- Der Medianwert wird mittels dynamischer Lichtstreuung bestimmt. Eingesetztes Gerät: Horiba LB-500
- Die Viskosität der Dispersion wird mittels eines Brookfield Rotationsviskosimeters bei 23°C in Abhängigkeit von der Schergeschwindigkeit bestimmt.
- Die BET-Oberfläche wird bestimmt nach DIN 66131.
- Pulver:
- Pulver P1: Lösung 1 und Lösung 2 werden in einem Verhältnis 90:10 bei einer Temperatur von 50°C gemischt. 1500 g/h der resultierenden homogenen Lösung werden mit 5 Nm3/h Luft mittels einer Düse mit einem Durchmesser von 0,8 mm zerstäubt.
- Das entstandene Aerosol wird in eine Flamme, gebildet aus Wasserstoff (5,0 Nm3/h) und Primär-Luft (10 Nm3/h), überführt und in einen Reaktionsraum hinein verbrannt.
- In den Reaktionsraum werden außerdem 20 Nm3/h (Sekundär)-Luft eingebracht. Anschließend werden in einer Kühlstrecke die heißen Gase und das feste Produkte abkühlt. Das erhaltene Zirkon-Hafnium-Mischoxidpulver wird in Filtern abgeschieden.
- Pulver P2:
- Eingesetzte Precursorlösungen: Die Lösung 1 in einer Menge von 312 g/h (bezogen auf Zirkondioxid) und die Lösung 3 in einer Menge von 7,0 g/h (bezogen auf Yttriumoxid) werden gemischt. Die Mischung bleibt stabil, es bilden sich keine Niederschläge.
- Anschließend wird die Mischung, Gesamtmenge einschließlich der Lösungsmittel 1300 g/h, mit Luft (3,5 Nm3/h) verdüst. Die erhaltenen Tröpfchen weisen ein Tropfengrößenspektrum d30 von 5 bis 15 μm auf. Die Tröpfchen werden in einer Flamme, gebildet aus Wasserstoff (1,5 Nm3/h) und Primär-Luft (12,0 Nm3/h), in einen Reaktionsraum hinein verbrannt. In den Reaktionsraum werden außerdem 15,0 Nm3/h (Sekundär)-Luft eingebracht. Anschließend werden in einer Kühlstrecke die heißen Gase und das feste Produkte abkühlt. Das erhaltene Yttrium-stabilisierte Zirkondioxid wird in Filtern abgeschieden.
- Dispersionen
- Beispiel D1 (Vordispersion, Vergleichsbeispiel): In einem Ansatzbehälter werden 42,14 kg VE-Wasser und 1,75 kg Dolapix CE64 (Fa. Zschimmer und Schwartz) vorgelegt und anschließend mit Hilfe des Saugrüssels der Ystral Conti-TDS 3 (Statorschlitze: 4 mm Kranz und 1 mm Kranz, Rotor/Stator-Abstand ca. 1 mm) unter Scherbedingungen die 43,9 kg Pulver P1 zugegeben. Nach Beendigung des Einziehens wird der Einsaugstutzen geschlossen und noch bei 3000 U/min 10 min lang nachgeschert. Die so erhaltene (Vor-)Dispersion weist einen Gehalt an Zirkon-Mischoxidpulver von 50 Gew.-%, einen Medianwert von 614 nm. Sie sedimentiert innerhalb eines Monates.
- Beispiel D2 (gemäß Erfindung): Diese Vordispersion wird in fünf Durchgängen durch eine Hochenergiemühle Sugino Ultimaizer HJP-25050 bei einem Druck von 2500 bar und Diamantdüsen von 0,3 mm Durchmesser geführt. Die so erhaltene Dispersion weist einen Medianwert von 112 nm und eine Viskosität bei 100 s–1 von 27 mPas auf. Sie mindestens 6 Monate gegenüber Sedimentation, Verbackung und Verdickung stabil.
- Die Sinterung von uniaxial hergestellten Presslingen (200 und 300 MPa) aus D2 setzt bereits bei Temperaturen um 1000°C ein und erreicht bei 1300°C 97% der theoretischen Dichte.
- Beispiel D3 (gemäß Erfindung): analog Beispiel D1 wird zunächst eine Vordispersion hergestellt, jedoch unter Verwendung von 0,88 kg Tetramethylammoniumhydroxid-Lösung (25 Gew.-% in Wasser) anstelle von Dolapix CE64. Anschließend wird analog zu Beispiel D2 die erfindungsgemäße Dispersion hergestellt. Sie weist einen Gehalt an Zirkon-Mischoxidpulver von 50,5 Gew.-%, einen Medianwert von 117 nm und eine Viskosität bei 1000 s–1 von 32 mPas auf. Sie mindestens 6 Monate gegenüber Sedimentation, Verbackung und Verdickung stabil.
- Beispiel D4 (gemäß Erfindung): analog Beispiel D1 wird zunächst eine Vordispersion hergestellt, jedoch unter Verwendung des Pulvers P2. Anschließend wird analog zu Beispiel D2 die erfindungsgemäße Dispersion hergestellt. Sie weist einen Gehalt an Zirkon-Mischoxidpulver von 50 Gew.-%, einen Medianwert von 99 nm und eine Viskosität bei 1000 s–1 von 27 mPas auf. Sie mindestens 6 Monate gegenüber Sedimentation, Verbackung und Verdickung stabil.
- Beispiel D5 (Vergleichsbeispiel): analog Beispiel 1 wird versucht eine Vordispergierung ohne Verwendung eines Oberflächenmodifizierungsmittels herzustellen. Es kann jedoch nur ein maximaler Füllgrad von 15 Gew.-% erzielt werden.
Claims (15)
- Dispersion von Zirkondioxid mit einem Feststoffgehalt von 30 bis 75 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, und einem Medianwert der Partikel in der Dispersion von weniger als 200 nm, erhältlich indem ein Zirkondioxidpulver und/oder ein Zirkon-Mischoxidpulver mit einem ZrO2-Gehalt von mindestens 70 Gew.-%, wobei die Pulver in Form aggregierter Primärpartikel vorliegen, keine innere Oberfläche und eine BET-Oberfläche des Pulvers 60 ± 15 m2/g aufweisen in einem Dispergiermittel in Gegenwart von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Dispersion, eines Oberflächenmodifizierungsmittels bei einem Energieeintrag von weniger als 200 KJ/m3 vordispergiert wird und die erhaltene Vordispersion in wenigstens zwei Teilströme aufteilt, diese Teilströme in einer Hochenergiemühle unter einen Druck von mindestens 500 bar, über eine Düse entspannt und in einem gas- oder flüssigkeitsgefüllten Reaktionsraum aufeinandertreffen lässt und dabei vermahlt, gegebenenfalls nachfolgend mit weiterem Dispergiermittel auf den gewünschten Gehalt einstellt.
- Dispersion von Zirkondioxid nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Oberflächenmodifizierungsmittel 3-Aminopropytriethoxysilan, ein Ammoniumsalz einer Polycarbonsäure und/oder ein Tetralkylammoniumhydroxid ist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Dispergiermittel Wasser ist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Pulver einen Gehalt an Zirkondioxid von mindestens 95 Gew.-%, an Hafniumdioxid von 0,5 bis 4 Gew.-% und an Chlorid von höchstens 0,05 Gew.-% aufweist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Pulver einen Gehalt an Zirkondioxid von mindestens 92 Gew.-%, an Yttriumoxid von 4,5 bis 5,5 Gew.-%, an Chlorid von höchstens 0,05 Gew.-% aufweist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die BET-Oberfläche 60 ± 5 m2/g ist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Pulver eine Stampfdichte von 100 ± 20 g/l aufweist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Feststoffgehalt 50 ± 5 Gew.-% ist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass sie im Scherratenbereich von 1 bis 1000 s–1 und bei 23°C eine Viskosität von weniger als 1000 mPas aufweist.
- Dispersion von Zirkondioxid nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass sie bimodal ist.
- Verfahren zur Herstellung der Dispersion von Zirkondioxid gemäß der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass man – zunächst ein Zirkondioxidpulver und/oder ein Zirkon-Mischoxidpulver mit einem ZrO2-Gehalt von mindestens 70 Gew.-%, wobei die Pulver in Form aggregierter Primärpartikel mit einer BET-Oberfläche von 60 ± 15 m2/g vorliegen, auf einmal oder portionsweise unter dispergierenden Bedingungen bei einem Energieeintrag von weniger als 200 KJ/m3 in das Dispergiermittel, bevorzugt Wasser, einbringt, welches mindestens ein im Dispergiermittel lösliches Oberflächenmodifizierungsmittel und gegebenenfalls Additive zur pH-Regulierung enthält, und so eine Vordispersion erzeugt, wobei die Menge an Pulver so gewählt ist, dass der Feststoffgehalt 30 bis 75 Gew.-%, und die Menge an Oberflächenmodifizierungsmittel so gewählt ist, dass der Gehalt an Oberflächenmodifizierungsmittel 0,1 bis 5 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtmenge der Vordispersion, beträgt, – die Vordispersion in wenigstens zwei Teilströme aufteilt, diese Teilströme in einer Hochenergiemühle unter einen Druck von mindestens 500 bar, über eine Düse entspannt und in einem gas- oder flüssigkeitsgefüllten Reaktionsraum aufeinandertreffen lässt und dabei vermahlt, gegebenenfalls nachfolgend mit weiterem Dispergiermittel auf den gewünschten Gehalt einstellt.
- Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die bereits einmal vermahlene Dispersion im Kreis geführt weitere 2 bis 6 mal mittels der Hochenergiemühle vermahlen wird.
- Verfahren nach den Ansprüchen 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Druck in der Hochenergiemühle 2000 bis 3000 bar ist.
- Verfahren nach den Ansprüchen 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die maximale Temperatur bei der Herstellung der (Vor-)Dispersion 40°C ist.
- Verwendung der Dispersion von Zirkondioxid gemäß der Ansprüche 1 bis 10 zur Herstellung von keramischen Schichten, keramischen Membranen und keramischen Formkörpern und zum Polieren von Glasoberflächen und Metalloberflächen.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004061697A DE102004061697A1 (de) | 2004-12-22 | 2004-12-22 | Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid |
CNA2005800443348A CN101087732A (zh) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | 二氧化锆和锆混合氧化物的分散液 |
JP2007547482A JP2008524417A (ja) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | 二酸化ジルコニウム及びジルコニウム混合酸化物の分散液 |
PCT/EP2005/056940 WO2006067131A1 (en) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | Dispersion of zirconium dioxide and zirconium mixed oxide |
US11/722,122 US20090105354A1 (en) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | Dispersion of zirconium dioxide and zirconium mixed oxide |
KR1020077014059A KR20070086491A (ko) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | 이산화지르코늄 및 지르코늄 혼합 산화물 분산액 |
EP05825185A EP1828057A1 (de) | 2004-12-22 | 2005-12-20 | Dispersion von zirkoniumdioxid und zirkoniummischoxid |
TW094145574A TW200640794A (en) | 2004-12-22 | 2005-12-21 | Dispersion of zirconium dioxide and zirconium mixed oxide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004061697A DE102004061697A1 (de) | 2004-12-22 | 2004-12-22 | Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102004061697A1 true DE102004061697A1 (de) | 2006-07-06 |
Family
ID=36061535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102004061697A Withdrawn DE102004061697A1 (de) | 2004-12-22 | 2004-12-22 | Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090105354A1 (de) |
EP (1) | EP1828057A1 (de) |
JP (1) | JP2008524417A (de) |
KR (1) | KR20070086491A (de) |
CN (1) | CN101087732A (de) |
DE (1) | DE102004061697A1 (de) |
TW (1) | TW200640794A (de) |
WO (1) | WO2006067131A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008039668A1 (de) * | 2008-08-26 | 2010-03-25 | H.C. Starck Gmbh | Ventilmetalloxidformulierung |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004007062B4 (de) * | 2004-02-13 | 2007-08-02 | Refractory Intellectual Property Gmbh & Co. Kg | Versatz zur Herstellung eines feuerfesten keramischen Erzeugnisses und Verfahren zu dessen Herstellung |
US7452481B2 (en) * | 2005-05-16 | 2008-11-18 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Polishing slurry and method of reclaiming wafers |
US20070026435A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Polysciences, Inc. | Hydroxysilane functionalized magnetic particles and nucleic acid separation method |
CN101626854B (zh) | 2007-01-29 | 2012-07-04 | 赢创德固赛有限责任公司 | 用于熔模铸造的热解金属氧化物 |
EP2053023A1 (de) * | 2007-10-23 | 2009-04-29 | Evonik Degussa GmbH | Zirkondioxid-Pulver und Zirkondioxid-Dispersion |
KR20090127820A (ko) * | 2008-06-09 | 2009-12-14 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 옥살산지르코늄 졸 |
DE102009045698A1 (de) * | 2009-10-14 | 2011-04-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zum Infiltrieren von porösen keramischen Bauteilen |
WO2011142468A1 (ja) * | 2010-05-10 | 2011-11-17 | 学校法人関西大学 | 硬化性組成物、これを用いたエポキシ樹脂-無機ポリマー複合材料の製造方法及びエポキシ樹脂-無機ポリマー複合材料 |
WO2012092361A2 (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Polishing slurry including zirconia particles and a method of using the polishing slurry |
DE102011075918A1 (de) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | Evonik Degussa Gmbh | Auf organischem Lösungsmittel basierende Metalloxid-Dispersion |
JP6099033B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2017-03-22 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法 |
SG188775A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-30 | Hoya Corp | Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, magnetic disk, and magnetic data recording/reproducing device |
CN105419399A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-03-23 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 一种机械力球磨法表面修饰氧化锌的处理方法 |
CN105712399B (zh) * | 2016-01-20 | 2017-10-24 | 淄博晶泽光学材料科技有限公司 | 一种二氧化锆抛光粉的制备方法 |
US11198797B2 (en) * | 2019-01-24 | 2021-12-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing compositions having stabilized abrasive particles for polishing dielectric substrates |
US10570063B1 (en) * | 2019-02-05 | 2020-02-25 | Magnesium Elektron Limited | Zirconia dispersion for use in forming nano ceramics |
GB201901560D0 (en) | 2019-02-05 | 2019-03-27 | Magnesium Elektron Ltd | Zirconium based dispersion for use in coating filters |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9123280D0 (en) * | 1991-11-02 | 1991-12-18 | Tioxide Group Services Ltd | Metallic oxides |
JPH11502495A (ja) * | 1995-01-31 | 1999-03-02 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 疎水化された表面を有するセラミック粉末、その製造方法および使用法 |
US6723143B2 (en) * | 1998-06-11 | 2004-04-20 | Honeywell International Inc. | Reactive aqueous metal oxide sols as polishing slurries for low dielectric constant materials |
US6551367B2 (en) * | 1998-09-22 | 2003-04-22 | Cheil Industries Inc. | Process for preparing metal oxide slurry suitable for semiconductor chemical mechanical polishing |
US20010036437A1 (en) * | 2000-04-03 | 2001-11-01 | Andreas Gutsch | Nanoscale pyrogenic oxides |
-
2004
- 2004-12-22 DE DE102004061697A patent/DE102004061697A1/de not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-12-20 JP JP2007547482A patent/JP2008524417A/ja not_active Withdrawn
- 2005-12-20 US US11/722,122 patent/US20090105354A1/en not_active Abandoned
- 2005-12-20 WO PCT/EP2005/056940 patent/WO2006067131A1/en active Application Filing
- 2005-12-20 KR KR1020077014059A patent/KR20070086491A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-12-20 CN CNA2005800443348A patent/CN101087732A/zh active Pending
- 2005-12-20 EP EP05825185A patent/EP1828057A1/de not_active Withdrawn
- 2005-12-21 TW TW094145574A patent/TW200640794A/zh unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008039668A1 (de) * | 2008-08-26 | 2010-03-25 | H.C. Starck Gmbh | Ventilmetalloxidformulierung |
DE102008039668B4 (de) * | 2008-08-26 | 2013-03-28 | H.C. Starck Gmbh | Ventilmetalloxidformulierung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070086491A (ko) | 2007-08-27 |
WO2006067131A1 (en) | 2006-06-29 |
TW200640794A (en) | 2006-12-01 |
US20090105354A1 (en) | 2009-04-23 |
EP1828057A1 (de) | 2007-09-05 |
JP2008524417A (ja) | 2008-07-10 |
CN101087732A (zh) | 2007-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102004061697A1 (de) | Dispersion von Zirkondioxid und Zirkon-Mischoxid | |
WO2006037591A2 (de) | Verfahren zur herstellung von nanopartikeln mit massgeschneiderter oberflächenchemie und entsprechenden kolloiden | |
EP2053023A1 (de) | Zirkondioxid-Pulver und Zirkondioxid-Dispersion | |
Chaput et al. | Alkoxide‐Hydroxide Route to Syntheltize BaTiO3‐Based Powders | |
DE10304849A1 (de) | Chemomechanische Herstellung von Funktionskolloiden | |
KR101371995B1 (ko) | 도포액 및 이 도포액을 이용한 티탄산계 세라믹스막의제조방법 | |
JP4525788B2 (ja) | 誘電体粒子の製造方法 | |
DE102005002659A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mischoxiden mittels Sprühpyrolyse | |
WO2004110671A2 (de) | Antiadhäsive hochtemperaturschichten | |
WO2010066640A1 (de) | Silan-modifizierte nanopartikel aus metalloxiden | |
EP1784359A1 (de) | Yttrium-zirkonium-mischoxidpulver | |
JPWO2020196650A1 (ja) | ジルコニア粉末、ジルコニア粉末の製造方法、ジルコニア焼結体の製造方法、及び、ジルコニア焼結体 | |
DE102004030093A1 (de) | Metalloxid-Sol, damit hergestellte Schicht und Formkörper | |
EP2061723B1 (de) | Zink und mangan enthaltende oxidpartikel | |
JP6530785B2 (ja) | ニオブ酸アルカリ化合物の製造方法 | |
EP1880979A2 (de) | Stabile Suspensionen von kristallinen ZrO2-Partikeln aus hydrothermal behandelten Sol-Gel-Vorstufenpulvern | |
WO2006067132A2 (en) | Zirconium-hafnium mixed oxide powder | |
US20120128577A1 (en) | Metal oxide synthesis | |
KR100840079B1 (ko) | 이트륨-지르코늄 혼합 산화물 분말 | |
DE102010030216A1 (de) | Zirkondioxid-Aluminiumoxid-Kompositpulver und Verfahren zu dessen Herstellung | |
JP2008174392A (ja) | セラミックス膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE |
|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |