DE10149998A1 - Process and system for the selective electroplating of metal surfaces - Google Patents

Process and system for the selective electroplating of metal surfaces

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    • B41J3/407Typewriters or selective printing or marking mechanisms characterised by the purpose for which they are constructed for marking on special material

Abstract

Disclosed is a method for selective electro-coating of the surfaces of metals, wherein the surface areas which not are to be coated are initially masked by contactless application of a liquid dielectric and, subsequently, the non-masked surface areas are electroplated. The dielectric is applied in a very precise manner in very fine droplets (14) having a substantially identical droplet size of between 3 and 70 micrometers and a contour acuity of less or equal to 80 micrometers. The droplets (14) are initially electrically charged and are then controlled according to requirements upon application by an electric field. The dielectric can be applied in at least one continuous interruption-free strip (16) or in a controlled discontinuous manner, enabling masking layers (16) of almost all conceivable forms to be produced, especially for flat, flat-stamped or embossed metal strips (10). After electroplating has occurred, the applied dielectric (16) is removed in a residue-free state in an aqueous solution with microdisperse additives. The invention also relates to an electroplating system for carrying out the above-mentioned method.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven galvanischen Beschichtung von Metalloberflächen, insbesondere von glatten, flachgestanzten oder formgestanzten Metallbändern, gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 und ein System zur Durchführung dieses Verfahrens. The present invention relates to a method for selective galvanic coating of metal surfaces, in particular of smooth, flat-punched or die-cut Metal strips, according to the preamble of claim 1 and a system for carrying out this procedure.

Aus Metallbändern der genannten Art werden insbesondere Steckverbinder, berührende oder reibende Kontakte sowie Lead-Frames hergestellt, wobei das Grundmaterial, wie z. B. E-Kupfer, Bronze, Messing, Neusilber, Eisenlegierungen zur Erreichung der gewünschten guten Oberflächeneigenschaften, wie eine gute Kontaktgabe, Bondbarkeit, Lötfähigkeit, Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit, galvanisch veredelt wird. Aus technischen und wirtschaftlichen Gründen (bei Gold-, Silber-, Rhodium- und Palladium-Beschichtungen) darf die Beschichtung nur an ausgesuchten Stellen der Oberfläche als Streifen oder Spot galvanisch aufgetragen werden, wobei alle geometrischen Figuren möglich sind. Insbesondere durch die zunehmende Miniaturisierung der Bauteile ist beim Aufbringen solcher Beschichtungen eine hohe Selektivität bei hoher Präzision der Randbegrenzung der selektivbeschichteten Flächen erforderlich. Metal strips of the type mentioned become, in particular, plug-in connectors or rubbing contacts and lead frames, the basic material, such as. B. E-copper, bronze, brass, nickel silver, iron alloys to achieve the desired good surface properties, such as good contact, bondability, solderability, Resistance to wear and corrosion, electroplated. From technical and economic reasons (with gold, silver, rhodium and palladium coatings) the coating only at selected points on the surface as a strip or spot be applied galvanically, whereby all geometrical figures are possible. In particular, due to the increasing miniaturization of the components during application such coatings a high selectivity with high precision of the edge limitation selectively coated surfaces required.

Selektive galvanische Beschichtungen lassen sich durch eine ganze Reihe unterschiedlicher Verfahren erzeugen, bei denen die nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche üblicherweise zunächst durch eine geeignete Maskierung abgedeckt und die nicht maskierten Bereiche anschließend galvanisch beschichtet werden. Lediglich bei dem einfachsten Selektiv-Beschichtungsverfahren wird das Metall auch ohne Maskierung einfach durch kontrolliertes partielles Eintauchen in einen geeigneten Elektrolyten kantenumgreifend galvanisch beschichtet. Mit diesem einfachen Beschichtungsverfahren sind auf der Oberfläche jedoch keine Streifen oder Spots herstellbar. Selective electroplating can be done using a number of different methods Generate processes in which the surface areas not to be coated usually initially covered by a suitable mask and not masked areas are then galvanically coated. Only with that simplest selective coating process, the metal becomes simple even without masking by controlled partial immersion in a suitable electrolyte encompassing edges galvanically coated. With this simple coating process are on the However, no stripes or spots can be produced on the surface.

Bei dem am weitesten verbreiteten Selektiv-Beschichtungsverfahren werden endlose bewegliche Maskierungsbänder aus Gummi oder einem sonstigen Kunststoff fest auf die nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche gedrückt und anschließend nur die freibleibenden Bereiche galvanisch beschichtet. Die Selektiv-Systeme können in Radform mit können stehend oder liegend angeordneten Rädern ausgebildet sein. Sie können jedoch auch als gerade oder gekrümmte Durchlaufzelle (Rainbow-Zelle) ausgelegt sein. Die erreichbare Präzision ist mit mehr als 0,1 mm in der Regel jedoch insbesondere für die Halbleitertechnik nicht ausreichend. The most common selective coating process uses endless movable masking tapes made of rubber or other plastic firmly on the pressed surface areas not to be coated and then only the free areas galvanically coated. The selective systems can be in wheel form with standing or lying wheels can be formed. However, you can can also be designed as a straight or curved flow cell (rainbow cell). The Achievable precision with more than 0.1 mm is usually especially for the Semiconductor technology is not sufficient.

Eine Sonderform dieses Beschichtungsverfahrens stellt das sogenannte MYLAR-Verfahren dar, bei dem als Maskierung für die nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche eine dünne Mylar-Folie auf das Metallband gepresst wird, die nach dem Beschichtungsdurchlauf für eine begrenzte Zeit wiederverwendbar ist. Das Verfahren ermöglicht zwar eine Streifen- oder Spotabscheidung mit hoher Präzision, es Ist jedoch nur bei glatten ebenen Metallbändern einsetzbar. A special form of this coating process is the so-called MYLAR process represents a masking for the surface areas not to be coated thin Mylar film is pressed onto the metal strip after the coating pass is reusable for a limited time. The method allows a stripe or spot separation with high precision, but it is only on smooth planes Metal straps can be used.

Auch bei dem Stop-and-Repeat-Verfahren (Spot-Beschichtung) wird eine Gummi oder Kunststoffabdeckmaske eingesetzt. Anders als bei den beweglichen Maskierungsverfahren wird jedoch eine stehende Maske geöffnet, um ein Metallband einzuziehen. Anschließend wird die Maske geschlossen und fest auf das eingezogene ruhende Metallband gepresst. Nach erfolgter galvanischer Beschichtung mit der entsprechenden Beschichtungsdauer wird die Maske wieder geöffnet und ein noch unbeschichtetes neues Stück Metallband wird zur Beschichtung eingezogen. Dieses Verfahren arbeitet quasikontinuierlich, da das Metallband vor und hinter der sogenannten Spot-Zelle kontinuierlich in einen Speicher hinein bzw aus ihm herausläuft. Es sind jedoch nur geringe Bandgeschwindigkeiten erreichbar, wodurch eine wirtschaftliche galvanische Beschichtung häufig in Frage gestelt ist. Mit Gold und Silber kann zwar die gewünschte hohe Päzision von 0,1 mm erreicht werden, Zinn- und Zinn-Blei- Beschichtungen hingegen sind häufig nicht mit der gewünschten Präzision herstellbar. A rubber or is also used in the stop-and-repeat process (spot coating) Plastic mask used. Unlike the movable masking process however, a standing mask is opened to pull in a metal band. Subsequently the mask is closed and pressed firmly onto the retracted resting metal band. After the galvanic coating with the appropriate coating time the mask is opened again and a new, uncoated piece of metal tape becomes Coating pulled in. This process works quasi-continuously since the metal strip in front of and behind the so-called spot cell continuously in and out of a memory runs out to him. However, only low belt speeds can be achieved, which means economical electroplating is often questioned. With gold and silver the desired high precision of 0.1 mm can be achieved, tin and tin-lead Coatings, on the other hand, can often not be produced with the desired precision.

Bei dem sogenannten Brush-Beschichtungsverfahren wird das zu beschichtende Metallband auf einen einen Elektrolyten absorbierenden porösen Nichtleiter gedrückt, auf dessen Gegenseite eine unlösliche Anode sitzt. Die galvanische Beschichtung erfolgt nur an der Stelle, die mit dem porösen Nichtleiter in Berührung kommt. Es können besonders gut Kanten und formgestanzte Metallflächen beschichtet werden. Spots und Streifen im Mittenbereich eines glatten ebenen Metallbandes sind jedoch nicht möglich bzw. bei Streifen nicht mit der gewünschten Selektivität erreichbar. Das Brush-Beschichtungsverfahren wird insbesondere im Steckverbinderbereich eingesetzt. In the so-called brush coating process, the metal strip to be coated is used pressed on a porous non-conductor absorbing an electrolyte, on the An insoluble anode sits on the opposite side. The galvanic coating takes place only on the Point that comes into contact with the porous non-conductor. It can be particularly good Edges and die-cut metal surfaces are coated. Spots and stripes in the However, the middle area of a smooth, flat metal strip is not possible or in the case of strips cannot be achieved with the desired selectivity. The brush coating process is used especially in the connector area.

Bei dem sogenannten Tape-Verfahren wird als Maskierung ein einseitig klebendes Band auf die Metalloberfläche aufgeklebt, das nach erfolgter galvanischer Beschichtung der frei bleibenden Oberflächenbereiche wieder abgezogen und verworfen wird. Die erreichbare Präzision im Randbereich der Beschichtung liegt bei etwa 0,1 mm. Das Verfahren ist jedoch nicht nur außerordentlich teuer sondern erzeugt auch noch zu entsorgenden Sondermüll. Es ist zudem auch nur bei ebenen glatten Bändern anwendbar. In the so-called tape process, a tape that is adhesive on one side is applied as a mask glued on the metal surface, which after the galvanic coating of the free permanent surface areas is removed and discarded. The attainable Precision in the edge area of the coating is approximately 0.1 mm. The procedure is however not only extremely expensive but also produces hazardous waste that has to be disposed of. It is also only applicable to flat, smooth belts.

Der Vollständigkeit halber sei auch noch die Laser-unterstützte Beschichtung genannt, die technologisch jedoch noch völlig unbedeutend ist. Obgleich dieses Verfahren ein berührungsloses Arbeiten mit einer Präzision im Mikrometerbereich und höchsten Abscheidungsraten ermöglicht, scheitert ein technischer Einsatz bisher daran, daß die für diese Technik benötigten vollkommen neuen Elektrolyte nicht zur Verfügung stehen. Darüber hinaus fehlen auch noch genügend leistungsstarke Festkörperlaser. For the sake of completeness, the laser-assisted coating should also be mentioned technologically, however, is still completely insignificant. Although this procedure non-contact work with precision in the micrometer range and highest Deposition rates enabled, a technical application so far failed because the for completely new electrolytes are not required for this technology. About that there is also a lack of high-performance solid-state lasers.

Schließlich sei auch noch die strukturierte Ressist-Auftragung genannt, die jedoch überwiegend nur zum selektiven Ätzen von Oberflächen eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren wird die gesamte Oberfläche mit einem flüssigen Resist beschichtet, das anschließend getrocknet, selektiv belichtet und entwickelt wird. Die entstehenden freiliegenden Metallflächen können dann elektrochemisch oder chemisch geätzt oder aber auch galvanisch beschichtet werden. In einem weiteren Arbeitsgang wird dann die organische Resistbeschichtung wieder von der Metalloberfläche entfernt, so dass die strukturierte Beschichtung oder die geätzte Metalloberfläche übrig bleibt. Durch dieses Verfahren lassen sich zwar sehr hohe Präzisionen erreichen, das Verfahren ist jedoch recht teuer. Finally, the structured application for resists should also be mentioned, however is mainly used only for the selective etching of surfaces. With this The entire surface is coated with a liquid resist that then dried, selectively exposed and developed. The emerging Exposed metal surfaces can then be etched or electrochemically or chemically can also be galvanically coated. In a further step the organic resist coating again removed from the metal surface, so that the structured coating or the etched metal surface remains. Because of this Procedures can be achieved with very high precision, but the procedure is right expensive.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Schaffung eines verbesserten, neuartigen, einfachen, flexiblen und kostengünstigen Beschichtungsverfahrens für Metalloberflächen, insbesondere glatte, flachgestanzte oder formgestanzte Metallbänder, das nicht nur hohe Beschichtungs- bzw. hohe Bandgeschwindigkeiten ermöglicht, sondern auch durch eine hohe Selektivität bei hoher Präzision der Randbegrenzung der selektivbeschichteten Flächen gekennzeichnet ist. The object of the present invention is to provide an improved, innovative, simple, flexible and inexpensive coating process for Metal surfaces, in particular smooth, flat-stamped or form-stamped metal strips, that not only enables high coating or high belt speeds, but also also by a high selectivity with high precision of the edge limitation selectively coated surfaces is marked.

Diese Aufgabe wird bei einem gattungsgemäßen Beschichtungsverfahren erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche durch berührungsloses Auftragen eines flüssigen Dielektrikums mit einer Konturenschärfe von insbesondere kleiner gleich 80 Mikrometer maskiert werden. Durch dieses Verfahren lassen sich gewünschte Maskierungsschichten nahezu beliebiger Gestalt bei geringen Kosten sehr schnell und äußerst präzise aufbringen. Das Verfahren ermöglicht eine hohe Flexibilität und ist insbesondere auch für dreidimensionale Anwendungen geeignet. This object is achieved according to the invention in a generic coating method solved in that the surface areas not to be coated by contactless application of a liquid dielectric with a sharpness of contour in particular less than 80 microns are masked. Let through this procedure desired masking layers of almost any shape at very low cost apply quickly and extremely precisely. The process enables a high degree of flexibility and is particularly suitable for three-dimensional applications.

Zur Gewährleistung einer stets ausreichend hohen Beschichtungsqualität wird hierbei vorzugsweise die Viskosität des Dielektrikums vor dem Auftragen kontrolliert und bei Abweichung von einem vorgegebenen Sollwert auf diesen Sollwert eingestellt. Das Dielektrikum wird zudem in feinsten Tröpfchen mit im wesentlichen gleicher Tröpfchengröße von insbesondere 3-70 Mikrometer aufgebracht, die elektrisch aufgeladen und beim Auftragen mittels eines elektrisches Steuerfeldes bedarfsgerecht gesteuert werden. Hierbei werden so hohe Tröpfchenauftragsraten verwendet, dass flächige Maskierungen erzeugbar sind. Die Tröpfchenauftragsraten betragen hierbei vorzugsweise etwa 40.000-60.000 Tröpfchen pro min. insbesondere jedoch etwa 50.000 Tröpfchen pro min. To ensure that the coating quality is always sufficiently high, preferably the viscosity of the dielectric is checked before application and at Deviation from a specified setpoint is set to this setpoint. The Dielectric is also in the finest droplets with essentially the same droplet size applied in particular 3-70 microns, which are electrically charged and at Application can be controlled as required using an electrical control panel. in this connection such high droplet application rates are used that flat maskings can be generated are. The droplet application rates are preferably about 40,000-60,000 Droplets per min. but especially about 50,000 droplets per min.

Das Dielektrikum kann hierbei je nach Bedarf sowohl in zumindest einem durchgehenden unterbrechungsfreien Streifen als auch gesteuert diskontinuierlich aufgebracht werden. Depending on requirements, the dielectric can be in at least one continuous one uninterrupted strips can be applied discontinuously as well as controlled.

Zur schnelleren Trocknung des aufgebrachten Dielektrikums wird das Dielektrikum kurzfristig einer erhöhten Temperatur von weniger als 200 Grad Celsius ausgesetzt. Zur Vermeidung eventueller Verunreinigungen werden beim Trocknen des Dielektrikums frei werdende Bestandteile abgesaugt. The dielectric becomes short-term for faster drying of the applied dielectric exposed to an elevated temperature of less than 200 degrees Celsius. To avoid Any contamination is released when the dielectric dries Aspirated components.

Es wird ein schnelltrocknendes Dielektrikum verwendet, das innerhalb von Sekunden auf der Metalloberfläche trocknet. Das eingesetzte Dielektrikum ist zudem abriebfest und zumindest für mehrere Minuten in Säuren, Laugen und komplexbildnerhaltigen Elektrolyten und bei einem Stromfluß durch das Metall beständig. Diese Anforderungen werden insbesondere durch eine MEK-haltige (Methyl-Ethyl-Keton-haltige) pigmentfreie Tinte erfüllt. A quick-drying dielectric is used, which is on the in a few seconds Metal surface dries. The dielectric used is also abrasion-resistant and at least for several minutes in acids, alkalis and complexing electrolytes and at resistant to current flow through the metal. These requirements in particular met by a pigment-free ink containing MEK (methyl ethyl ketone).

Das Dielektrikum wird durch eine Spritz- oder Sprüheinrichtung auf die zu beschichtende Metalloberfläche aufgespritzt bzw. aufgesprüht, die unter einem bestimmten Winkel von vorzugsweise 1-10 Grad bezüglich der Normalen auf die Metalloberfläche geneigt ist. Sie ist mit hoher Präzision von vorzugsweise weniger als 50 Mikrometer parallel zum Metalloberfläche verfahrbar. Beim Aufbringen des Dielektrikums wird sie von oben nach unten zur Metalloberfläche positioniert. Bei Bedarf können auch Spritz- oder Sprüheinrichtung mit mehreren neben- und/oder hintereinander angeordneten Spritz- bzw. Sprühköpfen verwendet wird. The dielectric is sprayed onto the surface to be coated Metal surface sprayed or sprayed on at a certain angle of is preferably inclined 1-10 degrees with respect to the normal to the metal surface. she is with high precision of preferably less than 50 microns parallel to the Movable metal surface. When the dielectric is applied, it turns from the top to the top positioned below the metal surface. If necessary, spray or Spraying device with several spraying or Spray heads is used.

Bei einem Aussetzen der Spritz- oder Sprüheinrichtung im Rahmen einer Eigenüberprüfung und einer Unterbrechung des Beschichtungsvorganges wird die Spritz- oder Sprüheinrichtung zur Kompensation einer zwischenzeitlichen Metallbewegung automatisch zumindest bis zur Aussetzungsstelle zurückverfahren, um eine unterbrechungsfreie Streifenauftragung zu erreichen. Zu diesem Zweck wird die Geschwindigkeit des Metalls bestimmt und an eine zugeordnete Steuerungseinrichtung übermittelt, die zu Beginn und am Ende einer Eigenüberprüfung auch Signale der Spritz- oder Sprüheinrichtung erhält. Aus der Geschwindigkeit und der bekannten Zeitdauer der Eigenüberprüfung bzw. der Unterbrechung des Dielektrikumsauftrags wird dann der Vorschub des Metalls bzw. die Streckenlänge des nicht beschichteten Oberflächenbereichs bestimmt und die Spritz- oder Sprüheinrichtung entsprechend weit zurückverfahren, um einen unterbrechungsfreien Streifen zu erreichen. If the spraying or spraying device is suspended as part of a self-check and an interruption of the coating process, the spraying or Spray device to compensate for an interim metal movement automatically at least back to the suspension point to get an uninterrupted To achieve strip application. For this purpose the speed of the metal determined and transmitted to an associated control device, which at the beginning and on End of a self-check also receives signals from the spraying or spraying device. From the Speed and the known duration of the self-check or the Interruption of the dielectric order is then the feed of the metal or Distance length of the uncoated surface area determined and the spray or Move the spraying device back far enough to ensure an uninterrupted To reach strips.

Alternativ hierzu kann das Metall bei einer feststehenden Spritz- oder Sprüheinrichtung aber auch durch durch eine Wippeinrichtung zurückbewegt wird. As an alternative to this, however, the metal can be used in the case of a fixed spraying or spraying device is also moved back by a rocker.

Zur Gewährleistung einer ordnungsgemäßen Beschichtung wird die zu beschichtende Metalloberfläche vorzugsweise vor dem Aufbringen des Dielektrikums gereinigt und getrocknet. To ensure a proper coating, the one to be coated Metal surface preferably cleaned and before applying the dielectric dried.

Zu beschichtendes Metall wird vorzugsweise mit einer Lagepräzision von weniger als 50 Mikrometer positioniert oder geführt, wobei die (Band)Geschwindigkeiten 3-10 m/min betragen. Metal to be coated is preferably used with a positional precision of less than 50 Micrometers positioned or guided, the (belt) speeds 3-10 m / min be.

Das aufgebrachte Dielektrikum wird nach erfolgter Galvanisierung der nicht beschichteten Oberflächenbereiche vorzugsweise in einer wässriger Lösung mit mikrodispersen Zuschlagsstoffe im wesentlichen rückstandsfrei entfernt. Es wird insbesondere eine wässrige Lösung verwendet, durch die die Metalloberfläche und die auf sie aufgebrachte galvanische Beschichtung chemisch nicht angregriffen werden. Das Ablösen oder Entfernen des aufgebrachten Dielektrikums wird vorzugsweise durch Einwirkenlassen von Ultraschall begünstigt. The applied dielectric is after the galvanization of the non-coated Surface areas preferably in an aqueous solution with microdisperse Aggregates are removed essentially without residue. In particular, it becomes an aqueous one Solution used by which the metal surface and the galvanic applied to it Coating cannot be attacked chemically. Detaching or removing the applied dielectric is preferably by exposure to ultrasound favored.

Ein Galvanisierungssystem zur Durchführung dieses Verfahrens umfasst eine Halte- oder Führungseinrichtung für ein zu beschichtendes Metall, eine Maskierungseinrichtung zum Maskieren der nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche, eine Galvanisiereinrichtung zum Galvanisieren der nicht maskierten Oberflächenbereiche, und eine Steuerungseinrichtung. Die Maskierungseinrichtung ist hierbei erfindungsgemäß als Spritz- oder Sprüheinrichtung für ein flüssiges Dielektrikum ausgebildet, so dass gewünschte Maskierungsschichten nahezu beliebiger Gestalt bei geringen Kosten sehr schnell und äußerst präzise auftragbar sind. Die Spritz- oder Sprüheinrichtung ermöglicht eine hohe Flexibilität und ist insbesondere auch für dreidimensionale Anwendungen geeignet. A galvanizing system for carrying out this method comprises a holding or Guide device for a metal to be coated, a masking device for Mask the surface areas not to be coated, a galvanizing device for galvanizing the unmasked surface areas, and a Control device. The masking device is here according to the invention as a spray or spray device for a liquid dielectric, so that desired Masking layers of almost any shape very quickly and at low cost are extremely precise to apply. The spraying or spraying device enables a high Flexibility and is particularly suitable for three-dimensional applications.

Die Maskierungseinrichtung umfasst eine Einrichtung zur Erfassung und bedarfsgerechten Einstellung der Viskosität des Dielektrikums, um die gewünschte hohe Präzision gewährleisten zu können. The masking device comprises a device for detection and needs-based Adjustment of the viscosity of the dielectric to the desired high precision to be able to guarantee.

Die Spritz- oder Sprüheinrichtung ist insbesondere so ausgebildet ist, dass das Dielektrikum in feinsten Tröpfchen mit einer engen Tröpfchengrößenverteilung mit einer Tröpfchengröße von vorzugsweise 3-70 Mikrometer aufspritzbar ist oder aufgespritzt wird. Sie umfaßt eine Einrichtung zum elektrischen Aufladen der Tröpfchen und eine Einrichtung zur Erzeugung eines elektrischen Steuerfeldes für die Tröpfchen. Die Spritz- oder Sprüheinrichtung ist für hohe Tröpfchenauftragsraten zur Erzeugung eines flächenmäßigen Dielektrikumsauftrags von insbesondere 40.000-60.000 pro Minute ausgelegt. Sie ist so ansteuerbar ist oder wird so angesteuert, dass das Dielektrikum bei einer Konturenschärfe kleiner gleich 80 Mikrometer in zumindest einem durchgehend unterbrechungsfreien Streifen und/oder diskontinuierliche auftragbar ist oder aufgetragen wird. The spraying or spraying device is in particular designed in such a way that the dielectric in the finest droplets with a narrow droplet size distribution with one droplet size is preferably sprayable from 3-70 microns or is sprayed on. It includes one Device for electrically charging the droplets and a device for generating an electrical control panel for the droplets. The spraying or spraying device is for high droplet application rates for the generation of an areal dielectric application designed in particular from 40,000-60,000 per minute. It is controllable or is controlled in such a way that the dielectric with a contour sharpness of less than or equal to 80 Micrometer in at least one continuous uninterrupted strip and / or can be applied discontinuously or is applied.

Die Spritz- oder Sprüheinrichtung ist vorzugsweise unter einem bestimmten Winkel von insbesondere 1-10 Grad bezüglich der Normalen auf eine zu beschichtende Metalloberfläche geneigt, wobei sie je nach Anwendungszweck auch mehrere neben- und/oder hintereinandergeschaltete Spritzköpfe umfassen kann. Sie ist vorzugsweise oberhalb der Halte- oder Führungseinrichtung angeordnet, um die Beschichtung von oben durchführen zu können. Die Spritz- oder Sprüheinrichtung ist vorzugsweise mit hoher Präzision von weniger als etwa 50 Mikrometer parallel zur Metalloberfläche verfahrbar. Sie ist durch die Steuerungseinrichtung so ansteuerbar ist oder wird so angesteuert, dass sie bei einem Aussetzen im Rahmen einer Eigenüberprüfung automatisch vor die Aussetzungsstelle entsprechend zurückverfahren wird. The spraying or spraying device is preferably at a certain angle of in particular 1-10 degrees with respect to the normal to one to be coated Inclined metal surface, which depending on the application, they also several additional and / or may include spray heads connected in series. It is preferred Arranged above the holding or guiding device to cover the coating from above to be able to perform. The spraying or spraying device is preferably high Precision of less than about 50 micrometers can be moved parallel to the metal surface. she can be controlled by the control device or is controlled so that it in the event of a suspension as part of a self-assessment, automatically before Suspension point will be retracted accordingly.

Die Halte- oder Führungseinrichtung ist vorzugsweise so ausgelegt, dass sie zu beschichtendes Metall mit einer Lagepräzision von weniger als etwa 50 Mikrometer hält oder führt und Bandgeschwindigkeiten von 3-10 m/min ermöglicht. Sie kann auch eine Einrichtung zur Messung der Bandgeschwindigkeit und eine durch die Steuerungseinrichtung ansteuerbare oder angesteuerte Wippeinrichtung zum bedarfsgerechten Zurücksetzen des Metalls nach einer Unterbrechung des Beschichtungsvorgangs umfassen. The holding or guiding device is preferably designed such that it closes coating metal holds with a precision of less than about 50 microns or leads and enables belt speeds of 3-10 m / min. It can also be one Device for measuring the belt speed and one by the control device controllable or controlled rocker for need-based resetting of the Metal after an interruption of the coating process.

Der Maskierungseinrichtung ist insbesondere zumindest eine Reinigungs- und Trocknungseinrichtung für das zu beschichtende Metall vorgeschaltet, die vorzugsweise zur Erzeugung einer erhöhten Trocknungstemperatur von maximal 200 Grad Celsius ausgelegt ist, um durch möglichst kurze Trocknungszeiten hohe Beschichtungs- bzw. Bandgeschwindigkeiten erreichen zu können. Sie umfasst zudem eine Absaugeinrichtung für sich lösendes Dielektrikumsmaterial, um unerwünschte Verschmutzungen der Metalloberfläche auszuschließen. The masking device is in particular at least one cleaning and Drying device for the metal to be coated upstream, preferably for Generation of an increased drying temperature of a maximum of 200 degrees Celsius is to ensure high coating or To be able to reach belt speeds. It also includes a suction device for dissolving dielectric material to prevent undesirable contamination of the Exclude metal surface.

Der Galvanisiereinrichtung ist zudem vorzugsweise noch eine Ablöseeinrichtung zum rückstandsfreinen Ablösen des Dielektrikum von der Metalloberfläche nachgeschaltet, die zur Begünstigung des Ablöseprozesses vorzugsweise eine Ultraschalleinrichtung umfasst. The electroplating device is also preferably a detachment device for residue-free detachment of the dielectric from the metal surface, which to favor the detachment process preferably comprises an ultrasound device.

Weitere Merkmale und Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens und des erfindungsgemäßen Galvanisiersystems zur Durchführung dieses Verfahrens ergeben sich nicht nur aus den zugehörenden Ansprüchen - für sich und/oder in Kombination - sondern auch aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den zugehörenden Zeichnungen. In den Zeichnungen zeigen: Further features and advantages of the method according to the invention and the Electroplating systems according to the invention for carrying out this method result not only from the associated claims - for themselves and / or in combination - but also from the following description of a preferred invention Embodiment in conjunction with the accompanying drawings. In the The drawings show:

Fig. 1 ein Flussdiagram (PROCESS SEQUENCE) eines erfindungsgemäßen selektiven Bandgalvanisierverfahrens; FIG. 1 is a flow chart (PROCESS SEQUENCE) a selective Bandgalvanisierverfahrens invention;

Fig. 2 eine schematische Darstellung des erfindungsgemäßen, selektiven dielektrischen Beschichtungsschrittes des Verfahrens gemäß Fig. 1; und FIG. 2 shows a schematic illustration of the selective dielectric coating step according to the invention of the method according to FIG. 1; and

Fig. 3 einen erfindungsgemäß beschichteten Schwalbenschwanzkontakt. Fig. 3 is a inventively coated dovetail contact.

Bei dem beispielhaften erfindungsgemäßen selektiven Bandgalvanisierverfahrens (REEL- TO-REEL-SELECTIVE-PLATING) gemäß Fig. 1 wird ein galvanisch zu beschichtendes flaches, flachgestanztes oder formgestanztes Metallband zunächst in einer ersten Reinigungseinrichtung einer Abkochentfettung (HOT SOAK CLEANING) unterzogen. Anschließend erfolgt in einer zweiten Reinigungseinrichtung noch eine elektrolytische Entfettung (ELECTROLYTIC CLEANING) bevor das Metallband In einer ersten Galvanisiereinrichtung mit einer vollständigen Grundplattierung aus einem geeigneten Metall, wie beispielsweise Kupfer, Nickel oder Silber, versehen wird. Das grundplattierte Metallband wird anschließend in einer dritten Reinigungseinrichtung einer Reinwasserreinigung (CYCLING WATER, CLEAR WATER oder CW CLEANING) mit Kreislaufwasser unterzogen, das über eine Ionenaustauschereinrichtung geführt wird, und nachfolgend in einer ersten Trocknungseinrichtung getrocknet (DRYING). Nun wird auf das vollständig vorplattierte, gereinigte und getrocknete Metallband auf die nachstehend anhand von Fig. 2 noch ausführlich beschriebene Art und Weise mit einer erfindungsgemäßen Maskierungseinrichtung mittels eines Tintenstrahls auf die nicht galvanisch zu beschichtenden Oberflächenbereiche eine selektive dielektrische Maskierungsschicht aufgebracht (SPINJET DIELECTRIC COATING, wobei SPINJET kurz für Selective Plating Ink Jet oder selektives Plattieren durch Tintenstrahltechnik steht). Die aufgebrachte dielektrische Maskierungsschicht wird in einer zweiten Trocknungseinrichtung getrocknet (DRYING), wobei zur Beschleunigung des Trocknungsprozesses höhere Temperaturen von bis zu 200 Grad Celsius eingestellt werden. Zur Vermeidung unerwünschter Oberflächenverschmutzungen und zur Gewährleistung der erforderlichen hohen Präzision von weniger als 80 Mikrometer, insbesondere sogar weniger als 30 Mikrometer, werden zudem beim Trocknen eventuell frei werdende Bestandteile von einer Absaugeinrichtung abgesaugt. Die nicht maskierten Oberflächenbereiche des Metallbandes werden nun in einer zweiten Galvanisiereinrichtung auf herkömmliche Art und Weise beispielsweise mit Gold, Silber oder Zinn beschichtet oder plattiert. Anschließend wird die aufgebrachte dielektrische Maskierungsbeschichtung in einer nachgeschaltenen Ablöseeinrichtung wieder vollständig abgelöst oder entfernt. Das Ablösen erfolgt hierbei in einer geeigneten wässrigen Lösung mit mikrodispersen Zuschlagsstoffen (US-DIELECTRIC STRIPPING) unter Einwirkung von Ultraschall (US) aus einer zugeordneten Ultraschalleinrichtung, der eine spürbare Beschleunigung des Ablösevorganges bewirkt. In einer vierten und fünften Reinigungseinrichtung wird schließlich eine erneute Reinwasserreinigung mit Kreislaufwasser (CLEAR WATER ODER CYCLING WATER (CW) CLEANING) bzw. eine Heißwasserreinigung (HOT WATER (HW) CLEANING) durchgeführt, bevor das wunschgemäß selektiv beschichtete Metallband abschließend in einer dritten Trocknungseinrichtung getrocknet wird. In the exemplary selective strip electroplating method according to the invention (REEL-TO-REEL-SELECTIVE-PLATING) according to FIG. 1, a flat, flat-stamped or form-stamped metal strip to be electroplated is first subjected to a cooking degreasing (HOT SOAK CLEANING) in a first cleaning device. An electrolytic degreasing (ELECTROLYTIC CLEANING) then takes place in a second cleaning device before the metal strip is provided with a complete base plating of a suitable metal, such as copper, nickel or silver, in a first electroplating device. The base-plated metal strip is then subjected to pure water cleaning (CYCLING WATER, CLEAR WATER or CW CLEANING) with circulating water in a third cleaning device, which is passed over an ion exchange device, and subsequently dried in a first drying device (DRYING). Now a selective dielectric masking layer (SPINJET DIELECTRIC COATING, SPINJET DIELECTRIC COATING) is applied to the completely pre-plated, cleaned and dried metal strip in the manner described in detail below with reference to FIG SPINJET stands for Selective Plating Ink Jet or selective plating using inkjet technology). The applied dielectric masking layer is dried in a second drying device (DRYING), with higher temperatures of up to 200 degrees Celsius being set to accelerate the drying process. In order to avoid undesirable surface contamination and to ensure the required high precision of less than 80 micrometers, in particular even less than 30 micrometers, any components that may become free are sucked off by a suction device during drying. The non-masked surface areas of the metal strip are then coated or plated in a conventional manner in a second electroplating device, for example with gold, silver or tin. The applied dielectric masking coating is then completely removed or removed in a subsequent detaching device. Detachment takes place in a suitable aqueous solution with microdisperse additives (US-DIELECTRIC STRIPPING) under the influence of ultrasound (US) from an assigned ultrasound device, which causes a noticeable acceleration of the detachment process. In a fourth and fifth cleaning device, a further clean water cleaning with circulating water (CLEAR WATER OR CYCLING WATER (CW) CLEANING) or a hot water cleaning (HOT WATER (HW) CLEANING) is finally carried out before the selectively coated metal strip is finally dried in a third drying device becomes.

Das erfindungsgemäße Aufbringen der gewünschten selektiven dielektrischen Beschichtung durch die Maskierungseinrichtung in dem genannten dielektrischen Beschichtungsschritt ist in Fig. 2 noch einmal schematisch dargestellt. Das zu beschichtende Metallband 10 wird hierbei mittels einer (nicht dargestellten) Halte- oder Führungseinrichtung mit einer hohen Lagepräzision von weniger als etwa 50 Mikrometer in Pfelrichtung unter einem über dem Metallband 10 angeordneten Spritz- oder Sprühkopf 12 vorbeigeführt. Die Bandgeschwindigkeit beträgt hierbei etwa 3-10 m/min. Der Spritz- oder Sprühkopf 12 ist zur Erzielung besserer Beschichtungsergebnisse unter einem Winkel von etwa 3 Grad bezüglich der Vertikalen bzw. der Normalen auf das Metallband 10 geneigt. The inventive application of the desired selective dielectric coating by the masking device in said dielectric coating step is shown again schematically in FIG. 2. The metal strip 10 to be coated is guided by means of a holding or guiding device (not shown) with a high positional precision of less than about 50 micrometers in the direction of the arrow under a spray or spray head 12 arranged above the metal strip 10. The belt speed is about 3-10 m / min. The spray or spray head 12 is inclined to achieve better coating results at an angle of approximately 3 degrees with respect to the vertical or normal to the metal strip 10.

Im vorliegenden Ausführungsbeispiel wird nur ein einziger Spritz- oder Sprühkopf 12 zur Erzeugung eines unterbrechungsfreien breiten Dielektrikumsstreifens 16 verwendet. Es sei jedoch bemerkt, dass je nach Anwendungszweck und gewünschtem Beschichtungs- oder Maskierungsmuster gegebenenfalls auch mehrere hinter- und/oder nebeneinander angeordnete Spritz- oder Sprühkopfe 12 eingesetzt werden können, mit denen nahezu beliebige Maskierungsstrukturen hoher Präzision erzeugbar sind. So können selbstverständlich nicht nur ein oder mehrere durchgehende Maskierungsstreifen 16 aufgebracht werden, sondern selbstvertständlich auch diskontinuierliche Auftragungen oder Spotauftragungen nahezu beliebiger Form. In the present exemplary embodiment, only a single spray or spray head 12 is used Generation of an uninterrupted wide dielectric strip 16 is used. It is however noted that depending on the application and the desired coating or Masking patterns, if necessary, also several in series and / or next to one another arranged spray or spray heads 12 can be used with which almost any masking structures with high precision can be generated. So can of course, not just one or more continuous masking strips 16 are applied, but of course also discontinuous applications or Spot orders of almost any shape.

Durch den Spritz- oder Sprühkopf 12 wird eine MEK-haltige (Methyl-Ethyl-Keton-haltige) pigmentfreie Tinte von oben auf das Metallband 10 gespitzt. Diese Tinte ist für den vorliegenden Anwendungszweck ausreichend abriebfest, schnell genug trocknend und in Säuren, Laugen komplexbildnerhaltigen Elektrolyten sowie bei einem Stromfluß durch das Metall zumindest für die Dauer des nachfolgenden Galvanisiervorgangs, d. h. zumindest für mehrere Minuten, ausreichend beständig. Wie schematisch dargestellt ist, wird diese Tinte in feinen dielektrischen Tröpfchen 14 mit einer engen Tröpfchengrößenverteilung zwischen 3 und 70 Mikrometer und einer für eine flächige Beschichtung geeigneten hohen Tröpfchenauftragsrate von etwa 50.000 pro min von oben auf die Oberfläche des Metallbandes 12 aufgespritzt. Die Tröpfchen 14 werden in dem Spritz- oder Sprühkopf 12 mittels einer (nicht dargestellten) geeigneten Einrichtung elektrisch aufgeladen und mittels eines durch eine angelegte Spannung erzeugten elektrischen Steuerfeldes bedarfsgerecht so gesteuert, dass auf der Metalloberfläche ein durchgehender unterbrechungsfreier breiter Streifen 16 entsteht. Wie in der Auschnittsvergrößerung in dem kleinen Diagramm rechts unten zu erkennen ist, beträgt die Kantenschärfe in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel etwa 80 Mikrometer. Es sind jedoch auch höhere Kantenpräzisionen von 30 Mikrometer oder weniger erreichbar. The spray or spray head 12 contains a MEK (methyl ethyl ketone) pigment-free ink from above onto the metal strip 10. This ink is for the present application sufficiently abrasion-resistant, drying fast enough and in Acids, bases electrolyte containing complexing agents as well as with a current flow through the Metal at least for the duration of the subsequent electroplating process, i.e. H. at least for several minutes, sufficiently stable. As shown schematically, this ink is in fine dielectric droplets 14 with a narrow droplet size distribution between 3 and 70 microns and a high one suitable for a flat coating Droplet application rate of approximately 50,000 per min from above onto the surface of the Metal tape 12 sprayed. The droplets 14 are in the spray head 12 by means of a suitable device (not shown) electrically charged and by means of of an electrical control field generated by an applied voltage as required controlled so that a continuous uninterrupted wider on the metal surface Strip 16 is created. As in the enlarged section in the small diagram on the right As can be seen below, the edge sharpness in the present exemplary embodiment is about 80 microns. However, there are also higher edge precision of 30 microns or less accessible.

Die Spritz- oder Sprüheinrichtung 12 führt - wie jeder Schreibkopf eines Tintenstrahldruckers auch - in bestimmten Zeitabständen eine Eigenüberprüfung oder ein sogenanntes Facing durch, bei dem der Tintenstrahl kurzzeitig aussetzt, so dass der Beschichtungsvorgang unterbrochen und der Streifen 16 nicht durchgehend aufgetragen wird. Zu Beginn einer solchen Eigenüberprüfung sendet die Spritz- oder Sprüheinrichtung 12 automatisch jeweils ein Signal aus, das von einer (nicht dargestellten) zugeordneten Steuerungseinrichtung erfasst wird. Entsprechend wird auch das Ende der Eigenüberprüfung und die erneute Spritz- oder Sprühbereitschaft des Tintenstrahlkopfes 12 registriert. Zudem wird mittels einer (nicht dargestellten) Meßeinrichtung die aktuelle Bandgeschwindigkeit des Metallbandes gemessen und über eine Messleitung ebenfalls an die Steuerungseinrichtung übermittelt. Diese bestimmt nun anhand der bekannten Dauer des Eigenüberprüfungsvorganges bzw. der zeitlichen Unterbrechung des Beschichtungsvorganges und der ermittelten aktuellen Bandgeschwindigkeit den zwischenzeitlich erfolgten Vorschub des Metallbandes bzw. die Unterbrechungslänge der dielektrischen Beschichtung und setzt die Spritz- oder Sprüheinrichtung zur Kompensation dieses Vorganges mit einer hohen Präzision von weniger als etwa 50 Mikrometer parallel zur Metalloberfläche zumindest bis zum Ende des bereits vorliegenden Beschichtungsstreifens, insbesondere jedoch sicherheitshalber noch geringfügig weiter zurück, so dass beim anschließenden Weiterverfahren der nun überprüften Spritz- oder Sprüheinrichtung auch der zuvor noch nicht beschichtete Oberflächenbereich ordnungsgemäß überspritzt oder beschichtet wird und ein durchgehender Beschichtungsstreifen entsteht. Alternativ hierzu kann das Metallband aber auch über eine (nicht dargestellte Wippeinrichtung) entsprechend weit automatisch zurückgesetzt werden, um das kurzfristige Aussetzen des Tintenstrahls im Rahmen einer Eigenüberprüfung oder bei einer sonstigen Unterbrechung zu kompensieren. The spraying or spraying device 12 guides - like any print head of an inkjet printer also - at certain time intervals a self-check or a so-called facing through, in which the ink jet temporarily stops, so that the coating process interrupted and the strip 16 is not applied continuously. At the beginning of a the spraying or spraying device 12 automatically sends such self-checking in each case a signal from an associated control device (not shown) is recorded. Accordingly, the end of the self-check and the renewed Readiness for spraying or spraying of the inkjet head 12 is registered. In addition, by means of a Measuring device (not shown) the current belt speed of the metal belt measured and also transmitted to the control device via a measuring line. This now determines on the basis of the known duration of the self-checking process or the time interruption of the coating process and the current determined The speed of the belt is the advance of the metal belt or the Interruption length of the dielectric coating and sets the spray or Spray device to compensate for this process with a high precision of less than about 50 microns parallel to the metal surface at least until the end of the already existing coating strip, but especially for safety reasons slightly further back, so that in the subsequent further process of the now checked spraying or spraying device, even the one not previously coated Surface area is properly overmolded or coated and a continuous coating strip is created. Alternatively, the metal band can also correspondingly far automatically via a rocking device (not shown) reset to the short-term exposure of the ink jet under a Self-check or to compensate for any other interruption.

Das erfindungsgemäße Beschichtungsverfahren ist beispielsweise zur Herstellung von Leiterplattenkontakten, zur Beschichtung halbleitergestanzter Bauelemente mit hoher Kantentoleranz oder auch zur Innenbeschichtung von Schwalbenschwanzkontakten einsetzbar. Das letztgenannte Ausführungsbeispiel wird nachstehend anhand von Fig. 3 verdeutlicht, die auf der rechten Seite in teilweiser weggebrochener Darstellung die Spitze eines Schwalbenschwanzkontaktes 18 mit einem eingeführten Gegenkontakt 20 zeigt, wobei die beiden Kontakte 18, 20 im wesentlichen nur an ihren Kontaktstellen 18a bzw. 20a selektiv plattiert sind. Zur Erzeugung dieser stark selektiven materialsparenden Plattierung des Schwalbenschwanzkontaktes 18 wurde dieser in zwei erfindungsgemäßen Beschichtungsvorgängen von neben bis auf die beiden Innenkontaktstellen 18a zunächst dielektrisch beschichtet und anschließend an den nicht beschichteten Stellen durch ein herkömmliches Galvanisierverfahren galvanisch veredelt. Die Präzision bei der dargestellten erfindungsgemäßen galvanischen Innenbeschichtung eines Schwalbenschwanzkontaktes 18 ist mit keinem herkömmlichen Verfahren erreichbar. Die linke Darstellung in Fig. 3 zeigt noch einmal zwei zugeordnete Steckverbinder mit einer Vielzahl entsprechender Kontakte 18 bzw. 20. The coating method according to the invention can be used, for example, for the production of printed circuit board contacts, for the coating of semiconductor-stamped components with a high edge tolerance or for the internal coating of dovetail contacts. The latter embodiment is illustrated below with reference to FIG. 3, which shows the tip of a dovetail contact 18 with an inserted mating contact 20 on the right in a partially broken-away representation, the two contacts 18, 20 essentially only at their contact points 18a and 20a are selectively plated. To produce this highly selective, material-saving plating of the dovetail contact 18, it was first dielectrically coated in two coating processes according to the invention from next to the two inner contact points 18a and then electroplated at the non-coated points by a conventional electroplating process. The precision in the illustrated galvanic inner coating of a dovetail contact 18 according to the invention cannot be achieved by any conventional method. The left-hand illustration in FIG. 3 again shows two assigned plug connectors with a large number of corresponding contacts 18 and 20.

Das erfindungsgemäße Beschichtungsverfahren wurde vorliegend anhand anhand einer selektiven Bandgalvanisierung beispielhaft dargestellt. Der Vollständigkeit halber sei jedoch bemerkt, dass das erfindungsgemäße Verfahren selbstverständlich auch zur Beschichtung anderer Metalloberflächen mit Erfolg einsetzbar ist. So ist beispielsweise auch eine quasikontinuierliche Beschichtung einzelner Metallteile möglich. The coating method according to the invention was in the present case based on a selective strip galvanization is shown as an example. For the sake of completeness, however notes that the inventive method of course also for coating other metal surfaces can be used successfully. For example, one is quasi-continuous coating of individual metal parts possible.

Claims (55)

1. Verfahren zum selektiven galvanischen Beschichten von Metalloberflächen, insbesondere bei flachen, flachgestanzten oder formgestanzten Metallbändern, durch: - Maskieren der nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche; und - Galvanisieren der nicht maskierten Oberflächenbereiche, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche durch berührungsloses Auftragen eines flüssigen Dielektrikums maskiert werden. 1. Method for the selective galvanic coating of metal surfaces, in particular in the case of flat, flat-stamped or form-stamped metal strips, by: Masking the surface areas not to be coated; and - galvanizing of the non-masked surface areas, characterized in that the surface areas not to be coated are masked by contactless application of a liquid dielectric. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Viskosität des Dielektrikums vor dem Auftragen kontrolliert und bei Abweichung von einem vorgegebenen Sollwert auf diesen Sollwert eingestellt wird. 2. The method according to claim 1, characterized, that the viscosity of the dielectric is checked before application and if there is any deviation is set from a predetermined setpoint to this setpoint. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Dielektrikum in feinsten Tröpfchen mit im wesentlichen gleicher Tröpfchengröße aufgebracht wird. 3. The method according to claim 1 or 2, characterized, that the dielectric is in the finest droplets with essentially the same droplet size is applied. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Tröpfchengröße 3-70 Mikrometer beträgt. 4. The method according to claim 3, characterized, that the droplet size is 3-70 microns. 5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Tröpfchen elektrisch aufgeladen und beim Auftragen durch ein elektrisches Feld bedarfsgerecht gesteuert werden. 5. The method according to claim 3 or 4, characterized, that the droplets are electrically charged and when applied by an electric field can be controlled as required. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3-5, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum mit einer so hohen Tröpfchenauftragsrate aufgebracht wird, dass flächige Maskierungen herstellbar sind. 6. The method according to any one of claims 3-5, characterized, that the dielectric is applied with such a high droplet application rate that flat maskings can be produced. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Tröpfchenauftragsrate 40.000-60.000 pro min beträgt. 7. The method according to claim 6, characterized, that the droplet application rate is 40,000-60,000 per min. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum in zumindest einem durchgehenden unterbrechungsfreien Streifen und/oder diskontinuierlich aufgebracht wird. 8. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the dielectric in at least one continuous uninterrupted strip and / or is applied discontinuously. 9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum mit einer Konturenschärfe von kleiner gleich 80 Mikrometer aufgebracht wird. 9. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the dielectric with a contour sharpness of less than or equal to 80 microns is applied. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum nach dem Auftragen kurzzeitig einer erhöhten Temperatur von maximal 200 Grad Celsius ausgesetzt wird. 10. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the dielectric briefly has an elevated temperature of exposed to a maximum of 200 degrees Celsius. 11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass beim Trocknen des Dielektrikums frei werdende Bestandteile abgesaugt werden. 11. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that when the dielectric dries, components that are released are suctioned off. 12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein schnelltrocknendes Dielektrikum verwendet wird, das innerhalb von Sekunden auf der Metalloberfläche trocknet. 12. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that a quick-drying dielectric is used, which within seconds dries on the metal surface. 13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Dielektrikum verwendet wird, das zumindest für mehrere Minuten in Säuren, Laugen und komplexbildnerhaltigen Elektrolyten und bei einem Stromfluß durch das Metall beständig ist. 13. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that a dielectric is used which is at least for several minutes in acids, Alkali and complexing electrolytes and with a current flow through the Metal is resistant. 14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als Dielektrikum eine MEK-haltige (Methyl-Ethyl-Keton-haltige) pigmentfreie Tinte verwendet wird. 14. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that as a dielectric a MEK-containing (methyl-ethyl-ketone-containing) pigment-free ink is used. 15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum durch eine Spritz- oder Sprüheinrichtung auf die zu beschichtende Metalloberfläche aufgespritzt bzw. aufgesprüht wird, die unter einem bestimmten Winkel bezüglich der Normalen auf die Metalloberfläche geneigt ist. 15. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the dielectric is sprayed onto the surface to be coated Metal surface is sprayed on or sprayed on at a certain angle is inclined to the metal surface with respect to the normal. 16. Verfahren Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel 1-10 Grad beträgt. 16. The method of claim 15 characterized, that the angle is 1-10 degrees. 17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum von oben auf die Metalloberfläche aufgespritzt bzw. aufgesprüht wird. 17. The method according to claim 15 or 16, characterized, that the dielectric is sprayed or sprayed onto the metal surface from above becomes. 18. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung mit hoher Präzision parallel zur Metalloberfläche verfahren wird. 18. The method according to any one of claims 15 to 17, characterized, that the spraying or spraying device with high precision parallel to the metal surface is proceeded. 19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass diese Parallelbewegung mit einer Genauigkeit von weniger als 50 Mikrometer erfolgt. 19. The method according to claim 18, characterized, that this parallel movement with an accuracy of less than 50 microns he follows. 20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19 dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung nach einem kurzzeitigen Aussetzen zur Kompensation einer zwischenzeitlichen Metallbewegung automatisch zurückverfahren wird. 20. The method according to claim 18 or 19 characterized, that the spraying or spraying device after a brief exposure to Automatically retract compensation for interim metal movement becomes. 21. Verfahren nach einem der Ansprüche 15-17, dadurch gekennzeichnet, dass das Metall bei feststehender Spritz- oder Sprüheinrichtung durch eine Wippeinrichtung zurückbewegt wird, um ein kurzzeitigen Aussetzen der Spritz- oder Sprüheinrichtung zu kompensieren. 21. The method according to any one of claims 15-17, characterized, that the metal with a fixed spraying or spraying device by a Rocker is moved back to a brief suspension of the spray or To compensate spray device. 22. Verfahren nach einem der Ansprüche 15-21, dadurch gekennzeichnet, dass eine Spritz- oder Sprüheinrichtung mit mehreren neben- und/oder hintereinander angeordneten Spritz- bzw. Sprühköpfen verwendet wird. 22. The method according to any one of claims 15-21, characterized, that a spraying or spraying device with several side by side and / or one behind the other arranged spray or spray heads is used. 23. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Metalloberfläche vor dem Aufbringen des Dielektrikums gereinigt und getrocknet wird. 23. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the metal surface is cleaned and dried before applying the dielectric becomes. 24. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Metall mit einer Lagepräzision von weniger als 50 Mikrometer positioniert oder geführt wird. 24. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the metal is positioned with a positional precision of less than 50 micrometers or to be led. 25. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein bewegtes Metallband beschichtet wird, dessen Geschwindigkeit 3-10 m/min beträgt. 25. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that a moving metal strip is coated, the speed of which is 3-10 m / min is. 26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Geschwindigkeit des Metallbandes bestimmt und an eine Steuerungseinrichtung weitergeleitet wird. 26. The method according to claim 25, characterized, that determines the speed of the metal strip and sent to a control device is forwarded. 27. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das aufgebrachte Dielektrikum nach erfolgter Galvanisierung in wässriger Lösung rückstandsfrei entfernt wird. 27. The method according to any one of the preceding claims, characterized, that the applied dielectric after electroplating in aqueous solution is removed without residue. 28. Verfahren Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass eine wässrige Lösung verwendet wird, durch die die Metalloberfläche und ihre galvanische Beschichtung chemisch nicht angregriffen werden. 28. The method of claim 27 characterized, that an aqueous solution is used, through which the metal surface and its galvanic coating cannot be attacked chemically. 29. Verfahren nach Anspruch 27 oder 28, dadurch gekennzeichnet, dass die wässrige Lössung mikrodisperse Zuschlagsstoffe umfasst. 29. The method according to claim 27 or 28, characterized, that the aqueous solution comprises microdisperse additives. 30. Verfahren nach einem der Ansprüche 27-29, dadurch gekennzeichnet, dass das Dielektrikum beim Ablösen mit Ultraschall beaufschlagt wird. 30. The method according to any one of claims 27-29, characterized, that the dielectric is exposed to ultrasound when detached. 31. Galvanisierungssystem zum selektiven galvanischen Beschichten von Metalloberflächen insbesondere bei flachen, flachgestanzten oder formgestanzten Metallbändern, mit:
einer Halte- oder Führungseinrichtung für ein zu beschichtendes Metall;
einer Maskierungseinrichtung zum Maskieren der nicht zu beschichtenden Oberflächenbereiche;
einer Galvanisiereinrichtung zum Galvanisieren der nicht maskierten Oberflächenbereiche; und
einer Steuerungseinrichtung,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Maskierungseinrichtung eine Spritz- oder Sprüheinrichtung für ein flüssiges Dielektrikum umfasst.
31. Galvanizing system for the selective galvanic coating of metal surfaces, in particular in the case of flat, flat-stamped or form-stamped metal strips, with:
a holding or guiding device for a metal to be coated;
a masking device for masking the surface areas not to be coated;
a plating device for plating the unmasked surface areas; and
a control device,
characterized,
that the masking device comprises a spraying or spraying device for a liquid dielectric.
32. Galvanisierungssystem nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Maskierungseinrichtung eine Einrichtung zur Erfassung und Einstellung der Viskosität des Dielektrikums umfasst. 32. electroplating system according to claim 31, characterized, that the masking device is a device for detecting and adjusting the Viscosity of the dielectric includes. 33. Galvanisierungssystem nach Anspruch 31 oder 32, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung so ausgebildet ist, dass das Dielektrikum in feinsten Tröpfchen mit einer engen Tröpfchengrößenverteilung aufspritzbar ist oder aufgespritzt wird. 33. galvanizing system according to claim 31 or 32, characterized, that the spraying or spraying device is designed such that the dielectric in finest droplets with a narrow droplet size distribution can be sprayed on or is sprayed on. 34. Galvanisierungssystem nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, dass Tröpfchengröße 3-70 Mikrometer beträgt. 34. electroplating system according to claim 33, characterized, droplet size is 3-70 microns. 35. Galvanisierungssystem nach Anspruch 33 oder 34, dadurch gekennzeichnet, dass die Maskierungseinrichtung eine Einrichtung zum elektrischen Aufladen der Tröpfchen und eine Einrichtung zur Erzeugung eines elektrischen Steuerfeldes für die Tröpfchen umfasst. 35. Galvanizing system according to claim 33 or 34, characterized, that the masking device is a device for electrically charging the Droplets and a device for generating an electrical control field for the Includes droplets. 36. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 33-35, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung für hohe Tröpfchenauftragsraten zur Erzeugung eines flächenmäßigen Dielektrikumsauftrags ausgelegt ist. 36. Galvanizing system according to one of claims 33-35, characterized, that the spraying or spraying device for high droplet application rates for generation of a surface dielectric order is designed. 37. Galvanisierungssystem nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass dass die Tröpfchenauftragsrate 40.000-60.000 beträgt. 37. Galvanizing system according to claim 36, characterized, that the droplet application rate is 40,000-60,000. 38. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-37, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung so ansteuerbar ist oder angesteuert wird, dass das Dielektrikum in zumindest einem durchgehend unterbrechungsfreien Streifen und/oder diskontinuierliche aufgetragen wird. 38. Galvanizing system according to one of claims 31-37, characterized, that the spraying or spraying device can be controlled or controlled in such a way that the dielectric in at least one continuous, uninterrupted strip and / or is applied discontinuously. 39. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-38, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung für eine Konturenschärfe kleiner gleich 80 Mikrometer ausgelegt ist. 39. Galvanizing system according to one of claims 31-38, characterized, that the spraying or spraying device for a sharpness of contour less than or equal to 80 Micrometer is designed. 40. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-39, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung unter einem bestimmten Winkel bezüglich der Normalen auf eine zu beschichtende Metalloberfläche geneigt ist. 40. electroplating system according to one of claims 31-39, characterized, that the spraying or spraying device at a certain angle with respect to the Normal is inclined on a metal surface to be coated. 41. Galvanisierungssystem nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel 1-10 Grad beträgt. 41. Galvanizing system according to claim 40, characterized, that the angle is 1-10 degrees. 42. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-41, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung mit hoher Präzision parallel zur Metalloberfläche verfahrbar ist oder verfahren wird. 42. Galvanizing system according to one of claims 31-41, characterized, that the spraying or spraying device with high precision parallel to the metal surface is or can be moved. 43. Galvanisierungssystem nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, dass Präzision besser ist als 50 Mikrometer. 43. Galvanizing system according to claim 42, characterized, that precision is better than 50 microns. 44. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-43, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungseinrichtung so ausgelegt ist, dass eine kurzzeitige Unterbrechung eines Beschichtungsvorgangs erfasst und durch automatisches Zurückverfahren der Spritz- oder Sprüheinrichtung kompensiert wird. 44. Galvanizing system according to one of claims 31-43, characterized, that the control device is designed so that a brief interruption of a coating process and by automatic retraction of the Spraying or spraying device is compensated. 45. Galvanisierungssystem nach nach einem der Ansprüche 31-44, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung oberhalb der Halte- oder Führungseinrichtung angeordnet ist. 45. Galvanizing system according to one of claims 31-44, characterized, that the spraying or spraying device above the holding or guiding device is arranged. 46. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-45, dadurch gekennzeichnet, dass die Spritz- oder Sprüheinrichtung mehrere neben- und/oder hintereinander angeordnete Spritz- bzw. Sprühköpfe umfasst. 46. Galvanizing system according to one of claims 31-45, characterized, that the spray or spray device several side by side and / or one behind the other arranged spray or spray heads comprises. 47. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-46, dadurch gekennzeichnet, dass die Halte- oder Führungseinrichtung zu beschichtendes Metall mit einer Lagepräzision von weniger als 50 Mikrometer hält oder führt. 47. Galvanizing system according to one of claims 31-46, characterized, that the holding or guiding device to be coated with a metal Position accuracy of less than 50 micrometers holds or leads. 48. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-47, dadurch gekennzeichnet, dass zu beschichtendes Metall durch die Halte- oder Führungseinrichtung mit einer Geschwindigkeit von 3-10 m/min bewegt wird oder bewegbar ist. 48. Galvanizing system according to one of claims 31-47, characterized, that metal to be coated by the holding or guiding device with a Speed of 3-10 m / min is moved or is movable. 49. Galvanisierungssystem nach Anspruch 48, dadurch gekennzeichnet, dass der Halte- oder Führungseinrichtung eine Einrichtung zur Bestimmung der Bewegungsgeschwindigkeit des Metalls zugeordnet ist. 49. Galvanizing system according to claim 48, characterized, that the holding or guiding device is a device for determining the Movement speed of the metal is assigned. 50. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-49, dadurch gekennzeichnet, dass die Halte- oder Führungseinrichtung eine Wippeinrichtung zum automatischen Zurücksetzen des Metalls umfasst. 50. Galvanizing system according to one of claims 31-49, characterized, that the holding or guiding device is a rocker for automatic Resetting the metal includes. 51. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-50, dadurch gekennzeichnet, dass der Maskierungseinrichtung eine erste Reinigungs- und Trocknungseinrichtung für zu beschichtendes Metall vorgeschaltet ist. 51. Galvanizing system according to one of claims 31-50, characterized, that the masking device a first cleaning and drying device for metal to be coated is connected upstream. 52. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-51, dadurch gekennzeichnet, dass der Maskierungseinrichtung eine zweite Trocknungseinrichtung zur Erzeugung einer erhöhten Temperatur von maximal 200 Grad Celsius nachgeschaltet ist. 52. Galvanizing system according to one of claims 31-51, characterized, that the masking device for generating a second drying device an elevated temperature of a maximum of 200 degrees Celsius. 53. Galvanisierungssystem nach Anspruch 52, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Trocknungseinrichtung eine Absaugeinrichtung umfasst. 53. Galvanizing system according to claim 52, characterized, that the second drying device comprises a suction device. 54. Galvanisierungssystem nach einem der Ansprüche 31-53, dadurch gekennzeichnet, dass der Galvanisiereinrichtung eine Ablöseeinrichtung für aufgebrachtes Dielektrikum nachgeschaltet ist. 54. Galvanizing system according to one of claims 31-53, characterized, that the electroplating device is a detachment device for applied dielectric is connected downstream. 55. Galvanisierungssystem nach Anspruch 54, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablöseeinrichtung eine Ultraschalleinrichtung umfasst. 55. electroplating system according to claim 54, characterized, that the detachment device comprises an ultrasound device.
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