DE10126185A1 - Prüfkörper für optoelektronische Bildanalysesysteme - Google Patents

Abstract

Es wird ein Prüfkörper (1) für optoelektronische Bildanalysesysteme vorgeschlagen, der einen ebenen Basiskörper (2) aufweist, auf dem mehrere geometrische Strukturen (3) unterschiedlicher Form und/oder Größe in einer dauerbeständigen vorgebbaren Belegung fest angeordnet sind. Die geometrischen Strukturen (3) heben sich optisch von dem Basiskörper (2) ab. Die Belegung des Basiskörpers (2) mit den Strukturen ist derart vorgesehen, daß eine Überlagerung der Strukturen (3) untereinander vermieden wird (Figur 1).

Description

Stand der Technik

Die Erfindung betrifft einen Prüfkörper für optoelektroni­ sche Bildanalysesysteme, der einen ebenen Basiskörper auf­ weist, auf dem mehrere geometrische Strukturen angeordnet sind, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Prüfkör­ pers.

Nach der Herstellung von Produkten bzw. Bauteilen ist es meist erforderlich, diese vor ihrem Einsatz mit einem ge­ eigneten Reinigungsverfahren von Schmutzpartikeln zu säu­ bern. Im Rahmen der Qualitätssicherung wird üblicherweise die Leistungsfähigkeit der entwickelten Reinigungsverfahren mit Hilfe von lichtmikroskopischen Systemen überprüft.

Dazu wird ein Produkt bzw. Bauteil, welches nach dem ent­ wickelten Reinigungsverfahren gesäubert wurde, nochmals eingehend gereinigt, wobei die dabei entfernten Schmutzpar­ tikel beispielsweise in einer Reinigungsflüssigkeit ver­ bleiben, welche durch einen Filter geleitet wird. Dabei bleiben die Schmutzpartikel auf dem Filter zurück, der un­ ter einem Lichtmikroskop des lichtmikroskopischen Systems positioniert wird. Mit Hilfe des lichtmikroskopischen Sy­ stems wird der beladene Filter analysiert, wobei das Licht­ mikroskop mit einem Bildanalysesystem bzw. Auswertesystem verbunden ist. Bei der Auswertung werden helle und dunkle Flecken unterschieden sowie deren Größe und Anzahl be­ stimmt. Anschließend erfolgt eine Klassifizierung der dunk­ len Flecken, die die Schmutzpartikel darstellen.

Nachteilig dabei ist jedoch, daß die erhaltenen Auswerte­ protokolle der aus der Praxis bekannten Bildanalysesysteme derzeit nicht verifizierbar sind, da die genaue reale Bele­ gung des Filters, d. h. die Anzahl an Schmutzpartikeln ver­ schiedener Partikelgrößenklassen, nicht bekannt ist und über eine manuelle Auswertung nur schwer ermittelbar ist. Deshalb ist eine Abweichung zwischen dem Auswerteprotokoll und der realen Belegung nicht bestimmbar.

Aus der Praxis sind Prüfkörper bzw. sogenannte Standards bekannt, welche mit einer einzigen geometrischen Struktur belegt sind. Diese einzelne Struktur, dessen Abmessungen bekannt ist, wird mittels eines optoelektronischen Bild­ analysesystemes in einem einzelnen Meßschritt ausgemessen und klassifiziert.

Mit derartigen Prüfkörpern können nachteilhafterweise je­ doch nur Einzelmessungen durchgeführt werden, wohingegen mit einem Bildanalysesystem eine Gesamtheit realer mit Schmutzpartikeln belegter Filter dahingehend ausgewertet werden soll, daß eine Klassifikation der Schmutzpartikel nach Größe und Anzahl vorliegt, anhand der eine Bewertung eines angewendeten Reinigungsverfahrens durchgeführt werden kann.

Filter mit Schmutzpartikeln werden mit bekannten optoelek­ tronischen Bildanalysesystemen derart ausgewertet, daß die beladene Filterfläche in verschiedene Prüfparzellen bzw. Prüfflächen aufgeteilt wird, die nacheinander von dem Bild­ analysesystem abgetastet werden. Nach Beendigung des auto­ matischen Prüflaufes werden die verschiedenen Einzelmessun­ gen zusammengelegt, und es wird eine Auswertung für die ge­ samte Filterfläche erstellt. Mit den aus der Praxis bekann­ ten Prüfkörpern ist ein derartiger automatischer Meßlauf eines optoelektronischen Bildanalysesystems nicht simulier­ bar, da diese nur mit einer einzelnen geometrischen Struk­ tur belegt sind oder mehrere ineinanderverschachtelte geo­ metrische Strukturen aufweisen, welche von den Bildanalyse­ systemen nicht aufgelöst werden können.

Des weiteren ist es bekannt, reale Schmutzpartikel auf ei­ nem Basiskörper anzuordnen und in einer mit dem Basiskörper eine feste Verbindung ausbildende Einbettungsmasse zu loka­ lisieren.

Dabei ist jedoch von Nachteil, daß bekannte Einbettungsma­ ssen nicht dauerbeständig sind und die Anordnung der Parti­ kel nicht gleich bleibt, so daß derartige Prüfkörper mit zunehmender Lebensdauer unbrauchbar werden.

Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß die Abmessungen der verwendeten Schmutzpartikel erst manuell bestimmt wer­ den müssen, um die Auswertung eines optoelektronischen Bildanalysesystems bewerten zu können, wobei derartige Standards Unikate darstellen, die nur sehr schwer, wenn überhaupt, reproduzierbar sind.

Vorteile der Erfindung

Der erfindungsgemäße Prüfkörper für optoelektrische Bilda­ nalysesystem mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 hat demgegenüber den Vorteil, daß unter Verwendung des erfin­ dungsgemäßen Prüfkörpers ein automatischer Meßverlauf simu­ liert werden kann und dessen Ergebnis eindeutig verifizier­ bar ist bzw. anhand der bekannten Belegung des Prüfkörpers exakt bewertet werden kann.

Dies wird dadurch erreicht, daß auf einem ebenen Basiskör­ per des Prüfkörpers mehrere geometrische Strukturen unter­ schiedlicher Größe in einer vorgegebenen, d. h. bekannten, Belegung angeordnet sind, die sich optisch von dem Basis­ körper abheben, und die Belegung des Basiskörpers mit den geometrischen Strukturen derart vorgesehen ist, daß eine Überlagerung der Strukturen vermieden wird. Dadurch wird zum einen die reale Belegung eines Filters hinreichend ge­ nau nachgebildet, und zum anderen werden geometrische Strukturen zur Verfügung gestellt, die für ein Bildanalyse­ system auflösbar sind.

Der erfindungsgemäße Prüfkörper bietet bei einem automati­ schen Meßlauf den Vorteil, daß bei einer Aufteilung der Oberfläche des Prüfkörpers in mehrere Prüfparzellen, welche nacheinander von einem optoelektronischen Bildanalysesystem angefahren, ausgemessen und anschließend bewertet werden, der besonders problematische Anwendungsfall, daß ein Parti­ kel bzw. im vorliegenden Fall eine geometrische Struktur nur teilweise in einer Prüfparzelle bzw. einem Prüfab­ schnitt angeordnet ist und der andere Teil der geometri­ schen Struktur in einem benachbarten Prüfabschnitt angeord­ net ist, exakt überprüft werden kann, in wiefern bei der Auswertung dieses Schmutzpartikels bzw. dieser geometri­ schen Struktur auf eine einzige Struktur erkannt wird, ob durch die Aufteilung von dem Bildanalysesystem mehrere ver­ schiedene Schmutzpartikel bzw. geometrische Strukturen bzw. eine geometrische Struktur mehrfach erkannt wird, oder ob keine Struktur erkannt wird.

Dieser problematische Fall kann zu erheblichen Abweichungen der Meßreihe des Bildanalysesystems von der realen Belegung eines Filters führen, was unerwünscht ist, da anhand der Auswertung eines optoelektronischen Bildanalysesystemes die Güte eines Reinigungsverfahrens bewertet wird und bei er­ mittelten hohen Verunreinigungen eines Bauteils mit be­ stimmten Schmutzpartikeln einer bestimmten Größenklasse entsprechende Maßnahmen zur Verbesserung des Reinigungsver­ fahren unternommen werden.

Mit dem erfindungsgemäßen Prüfkörper ist vorteilhafterweise die Leistungsfähigkeit eines optoelektronischen Bildanaly­ sesystems anhand einer Abweichung einer Auswertung des Prüfkörpers mittels eines optoelektronischen Bildanalyse­ systemes von der tatsächlichen Belegung des Prüfkörpers be­ stimmbar, was bisher nahezu unmöglich war.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gemäß den Merkmalen des Patentanspruches 11 können in vorteilhafter Weise reprodu­ zierbare Prüfkörper mit beliebigen geometrischen Strukturen mit einer vorgegebenen Belegung auf einfache Art und Weise erzeugt werden. Insbesondere können mit dem Verfahren nach der Erfindung dauerbeständige Prüfkörper mit einer hohen Präzision gefertigt werden, die beliebig oft mit gleicher Güte reproduzierbar sind. Damit kann in vorteilhafter Weise auf Dauer ein standardisierter Abgleich von eingesetzten optoelektronischen Bildanalysesystemen zur Partikelanalyse realitätsnah erfolgen.

Die Realitätsnähe ergibt sich insbesondere aus der Tatsa­ che, daß die vorgegebene Belegung des Prüfkörpers mit den geometrischen Strukturen und auch die Form der Strukturen der Belegung von realen Filtern und der Form von realen Schmutzpartikeln nachgebildet bzw. simuliert wird.

Zeichnung

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird in der nachfolgenden Beschreibung nä­ her erläutert. Es zeigt

Fig. 1 einen Basiskörper, der mit mehreren geometrischen Strukturen einer vorgegebenen Belegung versehen ist;

Fig. 2 eine vergrößerte Darstellung der Anordnung der geometrischen Strukturen gemäß dem Ausschnitt X aus Fig. 1; und

Fig. 3 eine Anordnung mehrerer Kreisflächen in einer Ma­ trix.

Beschreibung des Ausführungsbeispiels

Die Fig. 1 zeigt in vereinfachter Darstellung einen Prüf­ körper 1 für optoelektronische Bildanalysesysteme, der ei­ nen ebenen Basiskörper 2 aufweist, auf dem mehrere geome­ trische Strukturen 3 unterschiedlicher Form und Größe in einer dauerbeständigen vorgegebenen Belegung fest angeord­ net sind. Die Strukturen 3 heben sich optisch von dem Ba­ siskörper 2 ab, wobei die Belegung des Basiskörpers 2 mit den geometrischen Strukturen derart vorgesehen ist, daß ei­ ne Überlagerung der geometrischen Strukturen 3 untereinan­ der vermieden wird.

Der Basiskörper 2 besteht im vorliegenden Ausführungsbei­ spiel aus einer transparenten Glaskeramikplatte, welche vorzugsweise eine Dicke von etwa 2,4 mm aufweist, auf wel­ cher die geometrischen Strukturen 3 in der vorgegebenen Be­ legung fest angeordnet sind.

Für die Belegung des Basiskörpers 2 bzw. der Meßfläche des Basiskörpers 2 sind verschiedene Freiheitsgrade vorgesehen, wobei die Belegung des Basiskörpers 2 insbesondere in Ab­ hängigkeit der Form der geometrischen Strukturen 3 ausge­ bildet ist. Unter der Form der geometrischen Strukturen 3 sind bei einem Rechteck das Seitenverhältnis sowie die Ab­ messungen insgesamt zu verstehen, wobei bei der Auswertung der Belegung des Prüfkörpers 1 mit einem Bildanalysesystem die Diagonale einer als Rechteck ausgebildeten geometri­ schen Struktur 3 von besonderem Interesse ist.

Selbstverständlich liegt es im Ermessen des Fachmannes die geometrischen Strukturen als andere zweidimensionale geome­ trische Formen, wie beispielsweise Dreiecke, Kreise, Ellip­ sen oder dergleichen auszugestalten. Ein wesentliches Kri­ terium bei der Gestaltung der geometrischen Strukturen 3 stellt die Gestaltung des Umrisses jeder einzelnen geome­ trischen Struktur 3 dar, der für ein einwandfreies Meßer­ gebnis scharf und klar ausgebildet sein sollte.

Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt X gemäß Fig. 1 in stark vergrößerter Darstellung, wobei die verschiedenen Größen, Formen und Orientierungen der einzelnen geometrischen Strukturen 3 besser erkennbar sind. Die geometrischen Strukturen 3 sind als Rechtecke mit unterschiedlichen Sei­ tenverhältnissen und einer maximalen Länge bzw. Diagonale von ca. 20 µm bis 700 µm ausgebildet.

Des weiteren weisen die geometrischen Strukturen 3 eine vorgegebene bzw. definierte Orientierung auf dem Basiskör­ per 2 auf, die einen weiteren Freiheitsgrad bzw. einen wei­ teren Parameter der Belegung des Basiskörpers 2 darstellt. Die geometrischen Strukturen 3 sind in der Regel nicht mit der gleichen Orientierung auf dem Basiskörper 2 angeordnet. Dies ist darin begründet, daß die auf realen Filtern ange­ ordneten Schmutzpartikel ebenfalls verschiedene Orientie­ rungen aufweisen und der Prüfkörper 1 somit so realitätsnah wie möglich ausgestaltet ist. Damit kann die Wirksamkeit bzw. Leistungsfähigkeit der optoelektronischen Bildanalyse­ systeme noch besser überprüft werden.

Einen weiteren Freiheitsgrad der Belegung des Basiskörpers 2 stellt die Vorgabe einer absoluten Position jeder einzel­ nen geometrischen Struktur 3 auf dem Basiskörper 2 dar. Die Absolutkoordinaten einer geometrischen Struktur 3 auf dem Basiskörper 2 sind insbesondere dann von besonderen Inter­ esse, wenn der Prüfkörper 1 bzw. die Meßfläche des Basis­ körpers 2 in mehrere Meß- bzw. Prüffelder unterteilt wird und mehrere geometrische Strukturen 3 an der Grenze zwi­ schen zwei, drei oder vier Meßfeldern angeordnet sind. Idealerweise wird die Gesamtheit einer solchen Struktur in einem Meßfeld vollständig und in den anderen Meßfeldern nicht erfaßt.

Liefert das Bildanalysesystem nach der Erfassung der geome­ trischen Strukturen 3 in seiner Auswertung eine von der tatsächlichen Anzahl der geometrischen Strukturen abwei­ chende Anzahl, so kann die Abweichung darin begründet sein, daß das Bildanalysesystem anstatt einer geometrischen Struktur 3 mehrere oder gar keine geometrische Strukturen 3 erkennt und klassifiziert.

Weiter ist die Belegung des Basiskörpers 2 durch eine An­ zahl an geometrischen Strukturen 3 einer bestimmten Größen­ klasse sowie in Abhängigkeit eines Abstandes zwischen je­ weils zwei benachbarten Strukturen vorgegeben. Die geome­ trischen Strukturen 3 werden vorzugsweise sehr nahe neben­ einander plaziert, um überprüfen zu können, wie das Bild­ analysesystem diese auflöst. Dabei ist von besonderem In­ teresse, ob das Bildanalysesystem aus den vielen kleinen geometrischen Strukturen eine einzige geometrische Struktur bildet oder ob es alle einzeln auflösen und einzeln klassi­ fizieren kann.

In diesem Zusammenhang wird auf die Darstellung in der Fig. 2 hingewiesen, bei der mehrere geometrische Strukturen 4A bis 4E stufenförmig aneinander gereiht sind, wobei der Abstand zwischen den geometrischen Strukturen 4A bis 4E et­ wa so groß gewählt ist wie die Größe der geometrischen Strukturen 4A bis 4E selbst. Aus der Praxis ist bekannt, daß derartige Anordnungen von geometrischen Strukturen zu­ einander, die stellvertretend für reale Schmutzpartikel stehen, dazu führen, daß nur ein einziger Partikel von dem Bildanalysesystem erkannt und klassifiziert wird.

Mit dem Prüfkörper 1 können zusätzlich unterschiedliche Aspektverhältnisse betrachtet werden, die der Realität sehr nahe kommen. So stehen die großen quadratischen geometri­ schen Strukturen stellvertretend für Spänchen, während die länglichen nadelförmigen geometrischen Strukturen als Stellvertreter für nadelförmige Fasern bzw. Partikel vorge­ sehen sind.

Die vorbeschriebenen Freiheitsgrade der Belegung des Prüf­ körpers 1 bzw. des Basiskörpers 2 mit den geometrischen Strukturen 3 werden in Abhängigkeit des jeweils vorliegen­ den realen Anwendungsfalles definiert, und der Prüfkörper 1 wird entsprechend den festgelegten Werten hergestellt, wo­ mit im allgemeinen ein einmal modellierter Prüfkörper mit hoher Präzision beliebig oft reproduzierbar ist.

Die Herstellung des Prüfkörpers 1 erfolgt im wesentlichen in zwei Schritten. Zunächst wird eine Vorlage, vorzugsweise eine CAD-Zeichnung, für die Belegung des Basiskörpers 2 mit geometrischen Strukturen erstellt. Dabei werden in einem ersten Schritt mehrere verschiedene Flächenelemente mit je­ weils ca. 20 bis 30 geometrischen Strukturen 3 unterschied­ licher Form und Orientierung angefertigt. Das Flächenele­ ment weist im vorliegenden Ausführungsbeispiel eine Größe von 1 mm × 1 mm auf, wobei es selbstverständlich im Ermes­ sen des Fachmannes liegt, die Größenverhältnisse eines sol­ chen Flächenelementes sowie die Anzahl der Strukturen davon abweichend vorzusehen. Anschließend werden jeweils mehrere dieser unterschiedlichen Flächenelemente innerhalb einer in der Fig. 3 dargestellten Kreisfläche 5 statistisch ange­ ordnet. Die Aufteilung der Kreisfläche 5 in verschiedene Flächenelemente dient der Vereinfachung und bietet eine größere Übersichtlichkeit.

Alternativ hierzu kann es vorgesehen sein, die gesamte Flä­ che 5 auf einmal mit Strukturen zu versehen, wobei die Grö­ ße und Form der belegten Fläche frei wählbar ist und an­ statt der Kreisform auch ein Quadrat oder ein Rechteck vor­ gesehen werden kann.

Eine bestimmte Anzahl der Kreisflächen 5 wird in einer Ma­ trix 6 mit einem definierten Abstand zueinander, der vom Mittelpunkt einer jeden Kreisfläche zu dem Mittelpunkt der benachbart angeordneten Kreisfläche gemessen wird, positio­ niert.

Anschließend wird die Vorlage in Rasterdaten konvertiert, und es wird ein Basiskörper 2, der als transparente Glaske­ ramikplatte ausgeführt ist und eine aufgedampfte Metallbe­ schichtung aufweist, belichtet und geätzt, so daß die ein­ zelnen geometrischen Strukturen 3 der Kreisflächen 5 auf dem Basiskörper 2 verbleiben, während die Metallschicht in den anderen Bereichen des Basiskörpers 2 durch den Ätzvor­ gang entfernt wird. Die Matrix 6 bildet dabei eine Schablo­ ne bzw. Vorlage zur gleichzeitigen Herstellung der geome­ trischen Strukturen 3 auf mehreren Basiskörpern 2.

Die Glaskeramikplatte mit den jeweils in den Kreisflächen 5 angeordneten geometrischen Strukturen 3 wird auseinander gesägt, so daß in einem Fertigungsprozeß mehrere Prüfkörper 1 entstehen. Diese werden anschließend in nicht näher dar­ gestellte Metallträger eingebettet, die in Mikroskoptischen der optoelektronischen Bildanalysesysteme exakt positio­ niert werden können.

Bei der aufgedampften Metallschicht handelt es sich im vor­ liegenden Ausführungsbeispiel um eine Chromschicht, wobei es jedoch im Ermessen des Fachmannes liegt, für die Be­ schichtung des Basiskörpers 2 andere geeignete Metalle, Me­ tallegierungen oder auch geeignete nichtmetallische Werk­ stoffe vorzusehen.

Mit diesem Herstellverfahren sind Prüfkörper mit sehr hoher Präzision reproduzierbar, da bei der Herstellung der geome­ trischen Strukturen 3 ein sehr hoher Genauigkeitsgrad be­ züglich der Abmessungen erreicht wird, wobei der Genauig­ keitsgrad bei etwa 0,1 µm liegt.

Der Prüfkörper 1 ist zur Überprüfung optoelektronischer Bildanalysesysteme verschiedenster Bauarten anwendbar. Die Prüfkörper 1 sind für optoelektronische Bildanalysesysteme geeignet, die mit einem Auflichtsystem oder mit einem Durchlichtsystem ausgebildet sind.

Darüber hinaus sind mit den vorgeschlagenen Prüfkörpern 1 nahezu alle in der Realität auftretende Anordnungen und Formen von Schmutzpartikeln nachbildbar bzw. simulierbar, da die geometrischen Strukturen 3 als Kombinationen ver­ schiedenster geometrischer Formen, wie beispielsweise Krei­ se, Dreiecke, Vierecke und auch jede beliebige andere ge­ eignete geometrische Form, problemlos ausgeführt werden können.

Die vorgestellte Simulation einer realen Belegung einer Filterfläche zeichnet sich dadurch aus, daß sie in weiten Bereichen, insbesondere bei der Auswahl der Größe, Anzahl, Orientierung der einzelnen geometrischen Strukturen sowie bei der Gestaltung der Größe und der Form der belegten Flä­ che, eine enorme Variabilität aufweist. Dadurch, daß die Herstellung des Prüfkörpers 1 durch die computergestützte Erstellung der Vorlage und dem darauf aufbauenden Belichten und Ätzen der vorbeschichteten Glasplatte erfolgt, können sehr schnell Anpassungen an reale Aufgabenstellungen, wie beispielsweise Änderungen des Größenbereichs der geometri­ schen Strukturen, vorgenommen werden.

Darüber hinaus können mit dieser Vorgehensweise bzw. mit der Zeichnung als Ausgangspunkt jederzeit identische Prüf­ körper mit gleicher Genauigkeit gefertigt werden, und es sind aufgrund der Zeichnungsvorlage die Belegungsparameter des Prüfkörpers bzw. die Größe, Lage und Orientierung jeder einzelnen Struktur bekannt. Damit kann die bildanalytische Auswertung hinsichtlich der Genauigkeit der Messung und der vollständigen Erfassung der Strukturen, insbesondere bei automatischen Messungen über eine größere Bildfolge, beur­ teilt werden.

Claims (17)

1. Prüfkörper (1) für optoelektronische Bildanalysesyste­ me, der einen ebenen Basiskörper (2) aufweist, auf dem mehrere geometrische Strukturen (3) unterschiedlicher Form und/oder Größe in einer dauerbeständigen vorgebba­ ren Belegung fest angeordnet sind, wobei sich die Strukturen (3) optisch von dem Basiskörper (2) abheben und die Belegung des Basiskörpers (2) mit den Struktu­ ren derart vorgesehen ist, daß eine Überlagerung der Strukturen (3) untereinander vermieden wird.

2. Prüfkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Belegung des Basiskörpers (2) in Abhängigkeit der Form der Strukturen (3) vorgesehen ist.

3. Prüfkörper nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich­ net, daß die Belegung der Basiskörper (2) in Abhängig­ keit der Position der Strukturen (3) auf dem Basiskör­ per (2) erfolgt.

4. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Orientierung der Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) einen Freiheitsgrad der Be­ legung des Basiskörpers (2) darstellt.

5. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Belegung des Basiskörpers (2) durch eine Anzahl an Strukturen (3) einer bestimmten Größenklasse vorgebbar ist.

6. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Abstand zwischen zwei benach­ barten Strukturen (3) einen Freiheitsgrad der Belegung darstellt.

7. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Strukturen (3) jeweils eine Be­ schichtung, vorzugsweise eine Metallbeschichtung des Basiskörpers (2) darstellen.

8. Prüfkörper nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall wenigstens chromhaltig ist.

9. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskörper (2) transparent ausgeführt ist und vorzugsweise eine Glaskeramikplatte ist.

10. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskörper (2) in einen Me­ tallträger eingebettet ist.

11. Verfahren zur Herstellung eines Prüfkörpers (1), der einen Basiskörper (2) und mehrere darauf angeordnete geometrische Strukturen (3) aufweist, dadurch gekenn­ zeichnet, daß auf den Basiskörper (2) eine dünne un­ durchsichtige Schicht aufgebracht wird und aus dieser Schicht vorgegebene dauerfeste geometrische Strukturen (3) mit einer vorgegebenen Belegung herausgearbeitet werden.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht eine Metallschicht darstellt, welche auf den Basiskörper (2) aufdampft wird.

13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Basiskörper (2) mit der Schicht der­ art bearbeitet wird, daß die Schicht nur in den Berei­ chen, in welchen die geometrische Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) vorgesehen sind, verbleibt.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung der Belegung des Basiskörpers (2) ein Flächenelement aus mehreren geome­ trischen Strukturen (3) in Abhängigkeit verschiedener Freiheitsgrade definiert wird.

15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Flächenelemente innerhalb einer Kreisfläche (5) angeordnet sind.

16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Kreisflächen (5) in einem definierten Abstand zueinander in einer Matrix (6) angeordnet werden.

17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix (6) als Schablone zur Herstellung der geome­ trischen Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) verwen­ det wird.