DE10125798A1 - Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines Mikrochips - Google Patents
Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines MikrochipsInfo
- Publication number
- DE10125798A1 DE10125798A1 DE10125798A DE10125798A DE10125798A1 DE 10125798 A1 DE10125798 A1 DE 10125798A1 DE 10125798 A DE10125798 A DE 10125798A DE 10125798 A DE10125798 A DE 10125798A DE 10125798 A1 DE10125798 A1 DE 10125798A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- imaging system
- contact area
- measuring tip
- signal
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Abbildungssystem zur Hilfe bei einer Positionierung einer Messspitze (6) beim Aufsetzen auf einen Kontaktbereich (7) eines Mikrochips (2), um ein chipinternes Signal zu messen, mit einer Abbildungsebene (3), in der der Kontaktbereich (7) vergrößert abgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, dass eine Einblendvorrichtung vorgesehen ist, die geeignet ist, eine Darstellung des chipinternen Signals in der Abbildungsebene (3) vorzusehen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Abbildungssystem zur Positionie
rung einer Messspitze beim Aufsetzen auf einen Kontaktbereich
eines Mikrochips gemäß dem Oberbegriff nach Anspruch 1.
Bei der Analyse von Mikrochips, insbesondere bei der Prototy
penfertigung, ist es oftmals erforderlich, chipinterne Sig
nale, d. h., Signale, die nicht an einer dafür vorgesehenen
Kontaktfläche abgegriffen werden können, mit Hilfe von Mess
spitzen abzutasten. Der Kontaktbereich der Messspitze wird
dabei auf eine auf dem Mikrochip freiliegende Leiterbahn auf
gesetzt, so dass eine elektrische Kontaktierung entsteht. Die
Messspitze muss dazu auf wenige Mikrometer genau auf der
Messfläche aufgesetzt und das Verhalten des Signals mit einem
Messgerät, das mit der Messspitze verbunden ist, beobachtet
werden. Das Aufsetzen muss sorgfältig erfolgen, da die Lei
terbahn durch die Messspitze nicht zerstört, d. h. unterbro
chen, werden darf.
Durch die sehr kleinen Dimensionen der Messbereiche auf den
Mikrochips, z. B. von Leiterbahnen, muss das Messgerät während
des Justier- und Kontaktiervorganges beobachtet werden, da es
nicht möglich ist, die Qualität des zwischen Messspitze und
Messbereich entstehenden Kontaktes optisch durch das Mikro
skop zu beurteilen. Dies ist ein sehr zeitaufwendiger Vor
gang, da man entweder gezwungen ist, ständig zwischen Mikro
skop und Messgerät hin- und herzuschauen oder aber einen Hel
fer braucht, der das Messgerät beobachtet und der Zeichen
gibt, sobald die Kontaktierung erfolgt ist.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zur Ver
fügung zu stellen, mit der das Kontaktieren von Messbereichen
auf Mikrochips erleichtert werden kann, und mit der es mög
lich ist, den Zeitaufwand zur Kontaktierung zu verringern.
Diese Aufgabe wird durch das Abbildungssystem nach Anspruch 1
gelöst. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung
sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
Erfindungsgemäß ist ein Abbildungssystem bei einer Positio
nierung einer Messspitze beim Aufsetzen auf einen Kontaktbe
reich eines Mikrochips vorgesehen, um ein chipinternes Signal
zu messen. Das Abbildungssystem weist eine Abbildungsebene
auf, in der der Kontaktbereich vergrößert abgebildet wird.
Weiterhin ist eine Einblendvorrichtung vorgesehen, die geeig
net ist, eine Darstellung des chipinternen Signals in der Ab
bildungsebene vorzusehen.
Mit Hilfe der Erfindung ist es möglich, Messspitze, Kontakt
bereich sowie Signal bzw. Signalverlauf auf der gleichen Ab
bildungsebene anzuzeigen, entweder durch Überlagerung der Ab
bildungen oder durch Nebeneinanderabbildung. Dadurch muss man
beim Kontaktieren des Kontaktbereichs mit der Messspitze kei
nen zeitaufwendigen Blickwechsel ausführen, um die Qualität
der Kontaktierung zu messen. Vielmehr ist es möglich, dass
ein Benutzer durch Bedienelemente die Messspitze auf den Kon
taktbereich aufsetzt und gleichzeitig den Signalverlauf be
obachten kann, so dass anhand des Signalverlaufs erkennbar
ist, wann der Kontaktbereich erfolgreich durch die Messspitze
kontaktiert wurde. Durch das Verknüpfen von zwei bisher räum
lich getrennten optischen Ebenen auf eine gemeinsame Abbil
dungsebene wird somit ermöglicht, eine Information über die
aktuelle Position der Messspitze bezüglich des Kontaktberei
ches gleichzeitig mit einem Signal, an dem die Qualität der
Kontaktierung erkennbar ist bzw. erkennbar ist, ob die Kon
taktierung erfolgt ist, darzustellen.
Vorzugsweise ist vorgesehen, dass das Abbildungssystem ein
optisches Abbildungssystem ist, wobei die Einblendvorrichtung
eine transparente Anzeigevorrichtung aufweist, die in einem
Strahlengang des optischen Abbildungssystems angeordnet ist.
Vorzugsweise weist das optische Abbildungssystem ein Okular
und ein Objektiv auf, zwischen denen die transparente Anzei
gevorrichtung angeordnet ist. Es besteht nun zum einen die
Möglichkeit, die transparente Anzeigevorrichtung dazu zu ver
wenden, das angezeigte Signal mit Hilfe des Objektivs auf den
Kontaktbereich des Mikrochips abzubilden. Die dort darge
stellte Abbildung wird dann gemeinsam mit dem Kontaktbereich
über Objektiv und Okular auf der Abbildungsebene abgebildet.
Zum anderen ist es möglich, die transparente Anzeigevorrich
tung dazu zu verwenden, mit Hilfe des Okulars das auf der
transparenten Anzeigevorrichtung dargestellte Signal auf die
Abbildungsebene abzubilden. Die transparente Anzeigevorrich
tung ist vorzugsweise in einer Zwischenbildebene zwischen
Okular und Objektiv angeordnet, so dass das auf der transpa
renten Anzeigevorrichtung dargestellte Signal deutlich auf
der Abbildungsebene angezeigt wird.
Vorzugsweise ist die Einblendvorrichtung so ausgestaltet, um
die Qualität des zwischen der aufgesetzten Messspitze und dem
Kontaktbereich gebildeten Kontakt in geeigneter Weise darzu
stellen. Insbesondere sind auf diese Weise schlechte Kontak
tierungen aufgrund eines hohen Kontaktwiderstandes, einem
zwischen Kontaktbereich und Messspitze gebildeten Schottky-
Kontakt oder ähnlichen Effekten erkennbar. Insbesondere ist
es vorteilhaft, die Anzeige so zu gestalten, dass der Verlauf
des Signals angezeigt wird. Somit ist es bevorzugt, eine Os
zilloskopanzeige mit der transparenten Anzeigevorrichtung an
zuzeigen, so dass die Qualität der Kontaktierung anhand Quan
tität und Qualität des Signals bzw. dessen Verlauf abgelesen
werden kann.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden im Folgen
den anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es
zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines optischen Abbil
dungssystems gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfin
dung; und
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines optischen Abbil
dungssystems gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfin
dung.
Fig. 1 zeigt schematisch ein optisches Abbildungssystem gemäß
einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Mit dem op
tischen Abbildungssystem wird ein abzubildender Bereich 1 auf
einem Chip 2, in dem sich ein zu kontaktierender Kontaktbe
reich befindet, in einer Abbildungsebene 3 abgebildet. Das
Abbildungssystem weist ein Objektiv 4 und ein Okular 5 auf.
Mit Hilfe des Objektivs 4 und des Okulars 5 wird der abzubil
dende Bereich 1 auf dem Chip 2 optisch vergrößert auf die Ab
bildungsebene 3 abgebildet. Die Vergrößerung ergibt sich aus
den optischen Eigenschaften des Objektivs 4 und des Okulars 5
sowie deren Anordnung zueinander.
Eine Messspitze 6 wird so über dem Chip 2 angeordnet, dass
der Kontaktierungsbereich der Messspitze 6 in etwa über dem
Bereich 1 des Chips 2 angeordnet ist und auf der Abbildungs
ebene 3 erscheint. Mit Hilfe einer (nicht gezeigten) Positio
niereinrichtung für die Messspitze 6 wird die Messspitze 6 so
über den Bereich 1 des Chips 2 bewegt, dass sie sich senk
recht über den zu kontaktierenden Kontaktbereich 7 in dem ab
zubildenden Bereich 1 befindet. Der zu kontaktierende Kon
taktbereich 7 wird durch die Messspitze 6 abgedeckt, weil
sich die Messspitze 6 im Strahlengang zwischen Abbildungs
ebene 3 und Bereiche 1 befindet. Somit ist auf der Abbil
dungsebene 3 nicht erkennbar, wann die Messspitze 6 den Kon
taktbereich 7 berührt. Zur Ausleuchtung von Kontaktbereich 7,
Messspitze 6 und abzubildendem Bereich 1 ist eine Lichtquelle
8 vorgesehen, die seitlich zum Strahlengang angeordnet ist
und den Chip 2 anstrahlt.
Die Messspitze 6 ist elektrisch mit einem Signaleingang 9 ei
nes Oszilloskops 10 verbunden. Das Oszilloskop 10 weist einen
Datenausgang 12 auf, der als eine transparente Abbildungsvor
richtung 11 ausgebildet ist. Die transparente Abbildungsvor
richtung 11 ist zwischen Okular 5 und Objektiv 4 in einer
Zwischenbildebene angeordnet, so dass die auf der transparen
ten Anzeigevorrichtung 11 dargestellte Ausgabe mit Hilfe von
von dem abzubildenden Bereich 1 reflektierten Licht und des
Okulars 5 in der Abbildungsebene 3 abgebildet ist. So wird
die Abbildung des Bereiches 1 auf der Abbildungsebene 3 von
der Ausgabe der Anzeigevorrichtung 11 überlagert.
Der Strahlengang durch Objektiv 4 und Okular 5 ist durch
Strahlen S1 und S2 schematisch dargestellt. Die Zwischenbild
ebene ist eine Ebene zwischen Objektiv 4 und Okular 5, an dem
sich die Strahlen S1 und S2 schneiden, wobei die Position der
Zwischenbildebene bezüglich des Objektivs 4 durch die Brech
kraft des Objektivs 4 und den Abstand des Objektivs 4 von dem
abzubildenden Bereich 1 auf dem Chip 2 abhängt.
Fig. 2 zeigt eine schematisch Darstellung einer zweiten Aus
führungsform der Erfindung. Elemente mit gleichen Bezugszei
chen stellen dabei gleiche oder im Wesentlichen funktions
gleiche Bauelemente dar.
In der Ausführungsform der Fig. 2 wird die transparente An
zeigevorrichtung 11 dazu verwendet, das Bild nicht direkt auf
die Abbildungsebene 3 zu projizieren, sondern zunächst auf
den abzubildenden Bereich 1 des Chips 2 abzubilden. Die Ober
fläche des Chips 2 dient dabei als Abbildungsebene für das
auf der transparenten Anzeigevorrichtung 11 dargestellte Sig
nal. Die Lichtquelle 8 ist dann im Strahlengang, d. h. entlang
der optischen Achse von Okular 5 und Objektiv 4 über der An
zeigevorrichtung 11 angeordnet. Das auf den Bereich 1 proji
zierte Bild wird dann über Objektiv 4 und Okular 5 auf die
Abbildungsebene 3 abgebildet.
In der dargestellten Ausführungsform befindet sich die trans
parente Anzeigevorrichtung 11 im Strahlengang zwischen Objek
tiv 4 und Okular 5, es ist jedoch auch möglich, dass sich die
transparente Anzeigevorrichtung 11 bei dieser Ausführungsform
außerhalb dieses Strahlengangs befindet und der anzuzeigende
Signalverlauf z. B. seitlich auf den abzubildenden Bereich 1,
in dem sich der zu kontaktierende Kontaktbereich 7 befindet,
abgebildet wird. Dann ist jedoch darauf zu achten, dass die
Messspitze 6 so angeordnet ist, dass sie keinen störenden
Schatten auf den abzubildenden Bereich 1 wirft.
Die Abbildungsvorrichtung ist nicht auf zwei optische Abbil
dungselemente, wie Objektiv 4 und Okular 5 beschränkt. Es
können auch weitere optische Elemente, z. B. Prismen und wei
tere Linsen in dem Abbildungssystem eingesetzt werden.
Vorzugsweise ist zur Darstellung des Signals eine transpa
rente Anzeigevorrichtung 11 vorgesehen, mit der ein Signal
verlauf dargestellt werden kann. Der Signalverlauf zeigt dem
Betrachter ein Signal, das auf dem Chip 2 an dem Kontaktbe
reich 7 abgegriffen wird, wobei die Form des Signals ein
Kennzeichen für die Qualität der Kontaktierung gibt. Es kann
jedoch auch vorgesehen sein, dass die Auswertung der Qualität
der Kontaktierung automatisch erfolgt, und die erfolgte Kon
taktierung sowie die Qualität der Kontaktierung über z. B.
eine Leuchtdiodenanzeige, die in den Strahlengang des Abbil
dungssystems integriert ist, stattfindet. D. h. es wird ein
optisches Signal ausgesendet, wenn die Kontaktierung erfolg
reich war und/oder die Kontaktierung nicht erfolgt ist.
Selbstverständlich kann das Abbildungssystem auch ein elekt
ronisches Abbildungssystem sein, wobei der abzubildende Be-
reich 1 mit einer elektronischen Kamera erfasst wird und ver
größert auf einen Bildschirm übertragen wird. Der Signalver
lauf bzw. die Anzeige zur Darstellung der Kontaktierungsqua
lität werden dann auf einer einzigen Bildschirmanzeige darge
stellt. Dies kann beispielsweise nebeneinander oder überla
gernd o. a. erfolgen.
Es sind vielerlei Ausgestaltungen denkbar, mit denen es dem
Benutzer ermöglicht wird, sowohl den Bereich auf dem Chip, in
dem sich die Kontaktstelle befindet, das aufzusetzende Ende
der Messspitze 6 und den Signalverlauf des abgegriffenen Sig
nals an der Kontaktstelle 7 gleichzeitig in einem Sichtfeld
darzustellen. Es ist somit für den Fachmann offensichtlich,
dass viele Ausgestaltungen und Realisierungsmöglichkeiten
existieren, die alle im Bereich der Erfindung liegen.
1
Abzubildender Bereich
2
Chip
3
Abbildungsebene
4
Objektiv
5
Okular
6
Messspitze
7
Kontaktbereich
8
Lichtquelle
9
Oszilloskopeingang
10
Oszilloskop
11
Transparente Anzeigevorrichtung
12
Datenausgang des Oszilloskops
S1, S2 Strahlengänge
S1, S2 Strahlengänge
Claims (9)
1. Abbildungssystem bei einer Positionierung einer Mess
spitze (6) beim Aufsetzen auf einen Kontaktbereich (7), vor
zugsweise eines Mikrochips (2), um ein Signal zu messen, mit
einer Abbildungsebene (3), in der der Kontaktbereich (7) ver
größert abgebildet wird,
dadurch gekennzeichnet,
dass eine Einblendvorrichtung vorgesehen ist, die geeignet
ist, eine Darstellung des Signals in der Abbildungsebene (3)
vorzusehen.
2. Abbildungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, dass das Abbildungssystem ein optisches Abbildungssystem
ist.
3. Abbildungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, dass die Einblendvorrichtung eine transparente Anzeige
vorrichtung (11) zur Darstellung des chipinternen Signals
aufweist, die in einem Strahlengang (S1, S2) des optischen
Abbildungssystem angeordnet ist.
4. Abbildungssystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, dass die transparente Anzeigevorrichtung (11) so ange
ordnet ist, um die Darstellung des chipinternen Signals auf
den Kontaktbereich (7) abzubilden.
5. Abbildungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da
durch gekennzeichnet, dass das Abbildungssystem ein Okular
(5) aufweist.
6. Abbildungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da
durch gekennzeichnet, dass das Abbildungssystem ein Objektiv
(4) aufweist.
7. Abbildungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da
durch gekennzeichnet, dass die Anzeige so ausgestaltet ist,
um die Qualität des zwischen der aufgesetzten Messspitze (6)
und dem Kontaktbereich (7) gebildeten Kontaktes dazustellen.
8. Abbildungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 7, da
durch gekennzeichnet, dass die Darstellung des chipinternen
Signals so gestaltet ist, um den Verlauf des chipinternen
Signals anzuzeigen.
9. Verfahren zur Darstellung eines Kontaktbereiches, wobei
eine Messspitze über einem Kontaktbereich dargestellt wird,
wobei mit der Messspitze ein Messsignal erfasst wird, da
durch gekennzeichnet, dass
das Messsignal und der Kontaktbereich in einer Abbildungs
ebene dargestellt werden.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10125798A DE10125798B4 (de) | 2001-05-26 | 2001-05-26 | Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines Mikrochips und ein Verfahren zur Darstellung |
US10/156,538 US6842260B2 (en) | 2001-05-26 | 2002-05-28 | Imaging system and method for positioning a measuring tip onto a contact region of a microchip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10125798A DE10125798B4 (de) | 2001-05-26 | 2001-05-26 | Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines Mikrochips und ein Verfahren zur Darstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10125798A1 true DE10125798A1 (de) | 2002-12-12 |
DE10125798B4 DE10125798B4 (de) | 2006-01-19 |
Family
ID=7686304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10125798A Expired - Fee Related DE10125798B4 (de) | 2001-05-26 | 2001-05-26 | Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines Mikrochips und ein Verfahren zur Darstellung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6842260B2 (de) |
DE (1) | DE10125798B4 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7270274B2 (en) | 1999-10-04 | 2007-09-18 | Hand Held Products, Inc. | Imaging module comprising support post for optical reader |
DE10156210A1 (de) * | 2001-11-15 | 2003-06-05 | Infineon Technologies Ag | Prüfanordnung zur messtechnischen Untersuchung einesPrüfobjektes, insbesondere in Form einer integrierten Schaltung |
US7463042B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-12-09 | Northrop Grumman Corporation | Connector probing system |
TWI313754B (en) * | 2007-01-03 | 2009-08-21 | Au Optronics Corp | A method for testing liquid crystal display panels |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4009947A1 (de) * | 1990-03-28 | 1991-10-02 | Telefunken Systemtechnik | Anordnung zur einblendung von optischen informationen in das blickfeld eines beobachters |
DE69017613T2 (de) * | 1989-12-21 | 1995-10-05 | International Business Machines Corp., Armonk, N.Y. | Abtastmikroskop mit elektrischer Sonde. |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD222391A1 (de) * | 1984-03-01 | 1985-05-15 | Zeiss Jena Veb Carl | Verfahren und anordnung zur optischen kontrolle mechanischer messobjektabtastung |
US4929893A (en) * | 1987-10-06 | 1990-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer prober |
JP2577495B2 (ja) * | 1990-08-21 | 1997-01-29 | 株式会社東芝 | 半導体評価回路 |
US5288996A (en) * | 1990-11-19 | 1994-02-22 | At&T Bell Laboratories | Near-field optical microscopic examination of genetic material |
US5298975A (en) * | 1991-09-27 | 1994-03-29 | International Business Machines Corporation | Combined scanning force microscope and optical metrology tool |
US5254854A (en) * | 1991-11-04 | 1993-10-19 | At&T Bell Laboratories | Scanning microscope comprising force-sensing means and position-sensitive photodetector |
US5331275A (en) * | 1991-12-09 | 1994-07-19 | Fujitsu Limited | Probing device and system for testing an integrated circuit |
US5681987A (en) * | 1993-04-28 | 1997-10-28 | Topometrix Corporation | Resonance contact scanning force microscope |
US5394100A (en) * | 1993-05-06 | 1995-02-28 | Karl Suss America, Incorporated | Probe system with automatic control of contact pressure and probe alignment |
DE4324983C2 (de) * | 1993-07-26 | 1996-07-11 | Fraunhofer Ges Forschung | Akustisches Mikroskop |
JP3003974B2 (ja) * | 1993-11-22 | 2000-01-31 | 富士通株式会社 | 電圧・変位検出プローブ及びこれを用いた電圧・変位測定装置 |
US5548113A (en) * | 1994-03-24 | 1996-08-20 | Trustees Of Boston University | Co-axial detection and illumination with shear force dithering in a near-field scanning optical microscope |
US5874726A (en) * | 1995-10-10 | 1999-02-23 | Iowa State University Research Foundation | Probe-type near-field confocal having feedback for adjusting probe distance |
JPH09264435A (ja) * | 1996-03-26 | 1997-10-07 | Nok Corp | ダイアフラムバルブ |
US5939709A (en) * | 1997-06-19 | 1999-08-17 | Ghislain; Lucien P. | Scanning probe optical microscope using a solid immersion lens |
DE19859877A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Robert Magerle | Nanotomographie |
US6208375B1 (en) * | 1999-05-21 | 2001-03-27 | Elite Engineering Corporation | Test probe positioning method and system for micro-sized devices |
US6178813B1 (en) * | 1999-11-17 | 2001-01-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Vibration distortion removal for scanning probe microscopes |
-
2001
- 2001-05-26 DE DE10125798A patent/DE10125798B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-05-28 US US10/156,538 patent/US6842260B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69017613T2 (de) * | 1989-12-21 | 1995-10-05 | International Business Machines Corp., Armonk, N.Y. | Abtastmikroskop mit elektrischer Sonde. |
DE4009947A1 (de) * | 1990-03-28 | 1991-10-02 | Telefunken Systemtechnik | Anordnung zur einblendung von optischen informationen in das blickfeld eines beobachters |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020176095A1 (en) | 2002-11-28 |
DE10125798B4 (de) | 2006-01-19 |
US6842260B2 (en) | 2005-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3787412T2 (de) | Optische Maus. | |
DE69632739T2 (de) | Vorrichtung zur fixierung von messbedingungen | |
DE2810025A1 (de) | Vorrichtung zur messung der neigung einer flaeche | |
DE102008035150A1 (de) | Stereokamerasystem | |
DE60015966T2 (de) | Messung der lagen oder koplanarität von kontaktelementen eines elektronischen bauteils mit flacher beleuchtung und zwei kameras | |
EP1883826B1 (de) | Tast- oder messkopf mit beleuchtung des kontaktbereichs | |
DE102007060008A1 (de) | Bestimmung und Überwachumg von Laserenergie | |
DE102009017695B3 (de) | Verfahren zur Inspektion von Lötstellen an elektrischen und elektronischen Bauteilen | |
DE10125798A1 (de) | Abbildungssystem zur Positionierung einer Messspitze auf einen Kontaktbereich eines Mikrochips | |
DE3732149C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Charakterisieren einer Genauigkeitseigenschaft einer optischen Linse | |
DE3006379C2 (de) | ||
EP2420820B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung von bruchgetrennten Bauteilen | |
EP1101187A1 (de) | Anordnung zur erfassung von oberflächenstrukturen von fingern und/oder handinnenflächen | |
EP1456602B1 (de) | Sensor zur visuellen positionserfassung ( bauelement, substrat ) mit einer modularen beleuchtungseinheit | |
EP2823263B1 (de) | Optoelektronische lagemessvorrichtung | |
DE3825228A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum messen des aussendurchmessers eines drahtstifts | |
DE10249669B3 (de) | Verfahren zur Bestimmung der relativen räumlichen Lage zwischen zwei Kameras und Kamera zum optischen Erfassen von Objekten | |
DE19836595A1 (de) | Anordnung zur Messung von optischen Spektren | |
EP0538432B1 (de) | Vorrichtung zum herstellen einer elektrischen schaltung, insbesondere für eine messonde und messonde | |
DE4027902C2 (de) | Verfahren zur visuellen Prüfung bestückter Flachbaugruppen und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE10156210A1 (de) | Prüfanordnung zur messtechnischen Untersuchung einesPrüfobjektes, insbesondere in Form einer integrierten Schaltung | |
DE3425568C2 (de) | ||
EP0848244A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum automatischen Überprüfen von Positionsdaten j-förmiger elektrischer Kontaktanschlüsse | |
DE19915052A1 (de) | Einrichtung zur Inspektion einer dreidimensionalen Oberflächenstruktur sowie Verfahren zur Kalibrierung einer derartigen Einrichtung | |
EP0454962B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Prüfen von Leiterplatten |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: POLARIS INNOVATIONS LTD., IE Free format text: FORMER OWNER: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE Owner name: INFINEON TECHNOLOGIES AG, DE Free format text: FORMER OWNER: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE |
|
R082 | Change of representative | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: POLARIS INNOVATIONS LTD., IE Free format text: FORMER OWNER: INFINEON TECHNOLOGIES AG, 85579 NEUBIBERG, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |