DE10110792A1 - Keramisches Kochsystem mit Glaskeramikplatte,Isolationsschicht und Heizelementen - Google Patents
Keramisches Kochsystem mit Glaskeramikplatte,Isolationsschicht und HeizelementenInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein keramisches Kochsystem mit einer Glaskeramikplatte, die auf ihrer Unterseite eine elektrische Isolationsschicht mit einem oder mehreren Heizelementen zur direkten Beheizung der Glaskeramikplatte trägt. Eine bessere Haftung der Isolation beim Aufheizen und ein Verhindern von teilweisem Lösen der Isolation wird dadurch sichergestellt, dass die Isolationsschicht in mehrere Isolationssegmente unterteilt ist, die sich über die Kochzone erstrecken und segmentindividuelle Heizelemente tragen.
Description
Die Erfindung betrifft ein keramisches Kochsystem mit einer Glaskeramikplatte,
die auf ihrer Unterseite eine elektrische Isolationsschicht mit einem oder mehre
ren Heizelementen zur direkten Beheizung der Glaskeramikplatte trägt.
Diese keramischen Kochsysteme mit einer direkten Beheizung der Glaskeramik
platte zeichnen sich durch hohe Ankochleistung aus und haben gegenüber der
Beheizung mittels Strahlungsheizkörper bezüglich Effizienz und Designmöglich
keiten Vorteile.
Keramische Kochsysteme bestehen aus einer ebenen Glaskeramikplatte, auf
dessen Oberseite das zu beheizende Kochgefäß abgestellt wird. Die Glas
keramikplatten umfassen oxidische und nicht oxidische Keramiken, wie der WO 00/15005,
der FR 2 744 116, der EP 0 861 014 A1 und der US 6,037,572 zu
entnehmen ist.
Zur elektrischen Isolation wird zwischen der Glaskeramikplatte und den Heiz
elementen eine Isolationsschicht für die elektrische Isolation aufgebracht. Als
Material für diese Isolationsschicht eignen sich Stoffe mit hohem elektrischem
Isolationswert, vor allem Stoffsysteme AL2O3-SiO2-MgO mit Werkstoffen wie Ko
rund, Mullit, Periklas, Spinell und Cordierit.
Auf der Isolationsschicht werden die Heizelemente aufgebracht. Als Heizele
mente können dünne Schichten vollflächig durch Sputtern oder im CVD-Verfah
ren vorgesehen werden, wobei insbesondere SnO2 verwendet wird, wie die WO 00/18189
zeigt.
Eine weitere Möglichkeit besteht in dem Aufbringen von Dickschicht-Leiter
bahnen aus Silber-Palladium-Legierungen im Siebdruckverfahren, wie aus der EP 0 861 014 A1
und der EP 0 069 218 A1 zu entnehmen ist.
Bei derartigen keramischen Kochsystemen bereitet die Aufbringung der Isola
tionsschicht auf die Unterseite der Glaskeramikplatte Schwierigkeiten, denn
diese muss nicht nur sehr fest an der Glaskeramikplatte haften, sie muss auch
eine hohe elektrische Isolationswirkung bei guter Wärmeleitfähigkeit besitzen.
Dies bedingt in der Regel einen nicht voll befriedigenden Kompromiss.
Es sind als Dickschicht aufgetragene Isolationsschichten für ein keramisches
Kochsystem aus AL2O3, Spinell, ZrO2 oder MgO bekannt, die eine hohe
Isolationswirkung haben. Da sie einen wesentlich größeren Ausdehnungskoeffizienten
als die Glaskeramikplatte aufweisen, ergeben sich gerade während
des Aufheizens große Spannungen in der Isolationsschicht, die zu einem
teilweisen Lösen der Haftung an der Glaskeramikplatte führen können.
Werden für die Isolationsschicht besser an der Glaskeramikplatte haftende und
einen niedrigeren Ausdehnungskoeffizienten aufweisende Materialien, wie
Mullit, oder Cordierit, verwendet, dann muss aus Isolationsgründen eine dickere
Schicht aufgetragen werden, die dann zudem zu höherem Wärmeübergangs
verlust führt.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein keramisches Kochsystem der eingangs er
wähnten Art zu schaffen, bei dem eine als Dickschicht ausgebildete Isolation
verwendet werden kann, ohne ein teilweises Lösen derselben von der Unter
seite der Glaskeramikplatte befürchten und hohen Wärmeübergangsverlust in
Kauf nehmen zu müssen.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, dass die Isolations
schicht in mehrere Isolationssegmente unterteilt ist, die sich über die Kochzone
erstrecken und segmentindividuelle Heizelemente tragen.
Durch die Unterteilung der Isolationsschicht in mehrere Isolationssegmente, d. h.
die Unterteilung der Kochzone in mehrere Teilzonen, werden kleinflächige Iso
lationsbereiche geschaffen. Die zugeordneten Isolationssegmente sind in ihren
Abmessungen so, dass sich in ihnen keine hohen mechanischen Spannungen
ausbilden können, die beim Aufheizen zu einem teilweisen Lösen von der
Unterseite der Glasplatte führen können. Dies bedingt, dass ohne Gefahr von
auftretenden Fehlern als Dickschichten aufbringbare Materialien hoher
Isolationswirkung, jedoch guter Wärmeübertragung verwendet werden können.
Dazu wird in vorteilhafter Weise vorgesehen, dass die Isolationssegmente als
Schicht mit einer Dicke von 100 bis 400 µm aus AL2O3, Mullit oder Cordierit,
ZrO2 aufgebracht sind.
Ist nach einer Ausgestaltung vorgesehen, dass die Isolationssegmente zumin
dest teilweise über Isolationsbrücken für Verbindungs-Leiterbahnen miteinander
verbunden sind, dann können die auf den Isolationssegmenten aufgebrachten,
segmentindividuellen Heizelemente in gewünschter Weise verschaltet werden.
Um in den Teilzonen der so unterteilten Kochzone eine segmentindividuelle
Temperaturmessung durchführen zu können, sieht eine weitere Ausgestaltung
vor, dass den isolationsschichtfreien Stellen der Unterseite der Glaskera
mikplatte Sensorbahnen zur Temperaturmessung aufgebracht sind.
Für die Unterteilung der Isolationsschicht lassen sich verschiedene Muster reali
sieren. So kann vorgesehen sein, dass die Unterteilung der Isolationsschicht in
konzentrisch zueinander angeordnete kreisausschnittförmige Isolationssegmente
vorgenommen ist.
Eine besonders günstige Unterteilung kann so vorgenommen sein, dass die Un
terteilung der Isolationsschicht in ein zentrisches, annähernd scheibenförmiges
Isolationssegment mit sektorförmiger Aussparung für Anschlussleitungen und
mehrere das scheibenförmige Isolationssegment umschließende kreisausschnitt
förmige Isolationssegmente vorgenommen ist.
In bestimmten Fällen kann eine zentrisch in der Kochzone vorgenommene Tem
peraturmessung von Vorteil sein. Dazu wird die Ausgestaltung so vorgenommen,
dass das scheibenförmige Isolationssegment im Zentrum eine Ausneh
mung zum Aufbringen einer Sensorbahn aufweist.
Für die Verbindung der segmentindividuell aufgebrachten Heizelemente kann
nach einer Ausgestaltung vorgesehen sein, dass die segmentindividuellen Heiz
elemente als elektrisch leitende Dickschicht-Leiterbahnen aufgebracht und über
als Dickschicht-Leiterbahnen ausgebildete Verbindungs-Leiterbahnen in der ge
wünschten Weise elektrisch leitend miteinander verbunden sind.
Es bleibt zu erwähnen, dass die Heizelemente nicht nur als Dickschicht-Heiz
leiter sondern auch als vollflächige Heizfolien ausgebildet sein können, die an
die Größe und Form der Isolationssegmente angepasst sind.
Die Erfindung wird anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungs
beispiels näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Ansicht auf die mit einer unterteilten Isolationsschicht verse
hene Unterseite eines Glaskeramikplatten-Ausschnittes und
Fig. 2 den Glaskeramikplatten-Ausschnitt nach Fig. 1, wobei die Isola
tionssegmente aus Dickschicht-Leiterbahnen bestehende segment
individuelle Heizelemente tragen.
Wie Fig. 1 zeigt, ist jeder auf der Glaskeramikplatte 10 vorgesehenen und auf
deren Oberseite gekennzeichneten Kochzone auf der Unterseite 11 eine unter
teilte Isolationsschicht deckungsgleich zugeordnet. Im gezeigten Ausführungsbeispiel
sieht die Unterteilung ein zentrisches, annähernd scheibenförmiges
Isolationssegment 12 vor, das einen von einer zentrischen Ausnehmung 18 (Fig.
2) ausgehenden freien radialen Sektor 15 aufweist. Um dieses zentrische Iso
lationssegment 12 sind vier kreiausschnittförmige Isolationssegmente 13.1,
13.2, 13.3 und 13.4 verteilt angeordnet, wobei zwischen den Isolationsseg
menten 13.2 und 13.3 wieder ein Sektor 16 freibleibt. Dieser Sektor 16 verlän
gert den Sektor 15 und bietet Zugang für den elektrischen Anschluss der Heiz
elemente. Die Isolationssegmente 13.1 und 13.2 sind über eine Isolationsbrücke
14.1 miteinander verbunden. Die Isolationsbrücke 14.2 verbindet die Isolations
segmente 13.3 und 13.4, während die Isolationsbrücke 14.3 die Isolationsseg
mente 13.4 und 13.1 miteinander verbindet.
Die isolationsschichtfreien Bereiche zwischen den Isolationssegmenten 12,
13.1, 13.2, 13.3 und 13.4 können zur Temperaturmessung Seonsorbahnen 40,
41 und 42 tragen, mit denen teilzonenindividuelle Temperaturen erfasst werden
können, um die Heizelemente teilzonenindividuell schalten und regeln zu kön
nen.
Auf die Isolationssegmente 12, 13.1, 13.2, 13.3 und 13.4 sind segmentindi
viduelle Heizelemente 20, 30.1, 30.2, 30.3 und 30.4 aufgebracht, wie Fig. 2
zeigt. Dabei sind diese Heizelemente durch konzentrisch zueinander angeord
nete, kreisbogenförmige und mäanderförmig hintereinander geschaltete Dick
schicht-Leiterbahnen 25 bzw. 35 gebildet.
Die Anschlussleitungen 21 und 22 werden bei der Bestromung des auf dem
zentrischen Isolationssegment 20 aufgebrachten Heizelement 20 angesteuert.
Die Heizelemente 30.1, 30.2, 30.3 und 30.4 auf den Isolationssegmenten 13.1,
13.2, 13.3 und 13.4 sind in Reihe (hintereinander) geschaltet, wobei die Ver
bindungs-Dickschicht-Leiterbahnen 33.1, 33.2 und 33.3 auf den Isolations
brücken 14.1, 14.2 und 14.3 die Reihenschaltung vervollständigen.
Die in Reihe geschalteten Heizelemente 30.1, 30.2, 30.3 und 30.4 werden über
Anschlussleitungen 31 und 32 angesteuert und bestromt.
Es ist leicht einzusehen, dass die Isolationssegmente 12, 13.1, 13.2, 13.3 und
13.4 auf diese Weise klein gehalten werden können, wodurch beim Aufheizen
wesentlich kleinere, mechanische Spannungen auftreten, wie bei einer ge
schlossenen, die gesamte Kochzone abdeckenden Isolationsschicht. Es können
daher Materialen für die Isolationssegmente verwendet werden, die einen
höheren Ausdehnungskoeffizienten, jedoch höhere Isolationswirkung und als
dünnere Schicht günstigere Wärmeübertragungseigenschaften aufweisen.
Claims (8)
1. Keramisches Kochsystem mit einer Glaskeramikplatte, die auf ihrer Unter
seite eine elektrische Isolationsschicht mit einem oder mehreren Heizele
menten zur direkten Beheizung der Glaskeramikplatte trägt,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Isolationsschicht in mehrere Isolationssegmente (12, 13.1, 13.2,
13.3, 13.4) unterteilt ist, die sich über die Kochzone erstrecken und seg
mentindividuelle Heizelemente (20, 30.1, 30.2, 30.3, 30.4) tragen.
2. Kochsystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Isolationssegmente (20, 30.1, 30.2, 30.3, 30.4) zumindest teil
weise über Isolationsbrücken (14.1, 14.2, 14.3) für Verbindungs-Leiter
bahnen (33.1, 33.2, 33.3) miteinander verbunden sind.
3. Kochsystem nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass den isolationsschichtfreien Stellen der Unterseite (11) der Glas
keramikplatte (10) Sensorbahnen (40, 41, 42, 43) zur Temperaturmes
sung aufgebracht sind.
4. Kochsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Unterteilung der Isolationsschicht in konzentrisch zueinander an
geordnete kreisausschnittförmige Isolationssegmente vorgenommen ist.
5. Kochsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Unterteilung der Isolationsschicht in ein zentrisches, annähernd
scheibenförmiges Isolationssegment (20) mit sektorförmiger Aussparung
(15) für Anschlussleitungen und mehrere das scheibenförmige Isolations
segment (12) umschließende kreisausschnittförmige Isolationssegmente
(13.1, 13.2, 13.3, 13.4) vorgenommen ist.
6. Kochsystem nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass das scheibenförmige Isolationssegment (12) im Zentrum eine Aus
nehmung (17) zum Anbringen einer Sensorbahn (40) aufweist.
7. Kochsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Isolationssegmente (12, 13.1, 13.2, 13.3, 13.4) als Dickschicht
mit einer Dicke von 100 bis 400 µm aus AL2O3, SiO2 oder Mullit,
Cordierit, ZrO2 aufgebracht sind.
8. Kochsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
dass die segmentindividuellen Heizelemente (20, 30.1, 30.2, 30.3, 30.4)
als elektrisch leitende Dickschicht-Leiterbahnen (25, 35) aufgebracht und
über als Dickschicht-Leiterbahnen ausgebildete Verbindungs-Leiterbahnen
(33.1, 33.2, 33.3) in der gewünschten Weise elektrisch leitend miteinan
der verbunden sind.
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: SCHOTT AG, 55122 MAINZ, DE |
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