DE10065568A1 - Verschiebungsmesseinrichtung - Google Patents
VerschiebungsmesseinrichtungInfo
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Abstract
Elektrostatisch-kapazitiver Stellwertgeber, der eine Skala und einen Messfühlerkopf umfasst, der der Skala gegenüberliegend und relativ zu ihr bewegbar angeordnet ist. Eine Mehrzahl von Vorsprüngen zum Gleiten, die in einem gewissen Muster hergestellt sind, befinden sich auf einem flachen Bereich, der Übertragungselektroden und Empfangselektroden des Messfühlerkopfes umgibt.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verschiebungsmesseinrichtung, wie elektrostatisch-
kapazitive, fotoelektrische und elektromagnetisch-induktive Stellwertgeber.
In einem elektrostatisch-kapazitiven Stellwertgeber, der an einer kleinen Längemessein
richtung angebracht ist, wie an einer Linearskala, ist eine Skala einem Fühlerkopf gegenü
berliegend angeordnet, wobei ein Luftspalt zwischen ihnen vorgesehen ist. Um bei der
Verwendung den Luftzwischenraum zwischen der Skala und dem Fühlerkopf besonders
aufrechtzuerhalten, umfassen gegenwärtig verfügbare Systeme ein System, das den Füh
lerkopf innerhalb eines Rahmens aufnimmt, der drei oder mehr Vorsprünge zum Gleiten
aufweist, damit der Fühlerkopf der Skala gegenüberliegt, sowie ein System, das Lager ein
setzt.
Bei diesen herkömmlichen Systemen ist jedoch der Zwischenraum schwierig einzustellen,
wenn ein engerer und kleinerer Zwischenraum verlangt wird. Dann kann ein anderes Sys
tem in Betracht gezogen werden, um die Skala zu verschieben, wobei der Messfühlerkopf
unmittelbar berührt. Dieses System verlangt eine Schutzschicht zum Schutz von Elektroden
sowohl an dem Fühlerkopf als auch an der Skala. Von dieser Schutzschicht wird verlangt,
dass sie eine ausgezeichnete elektrische Isolierung, Planarität und Abriebfestigkeit und
einen kleinen Reibungskoeffizienten aufweist.
Eine Isolierschicht, beispielsweise eine Siliciumoxid-Schicht, die durch chemische Dampf
abscheidung (CVD) aufgebracht wird, kann als eine solche Schutzschicht betrachtet wer
den. Eine diamantähnliche Kohlenstoffschicht (DLC), die durch Plasma CVD abgeschieden
wird, kann eine noch viel ausgezeichnetere Abriebfestigkeit und einen viel kleineren Rei
bungskoeffizienten verglichen mit der CVD Siliciumoxid-Dünnschicht erreichen.
Jedoch treten die folgenden Probleme auf, wenn die diamantähnliche Kohlenstoffschicht
(DLC) durch klinische Plasmaabscheidung als Schutzschicht auf der gesamten Oberfläche
des Fühlerkopfes gebildet wird. Erstens gibt es auf der Oberfläche des Fühlerkopfes und
der Skala Stufen mit ungefähr 1 µm Tiefe/Höhe aufgrund der Elektrodenanordnung, wo
durch ein enges Anhaften der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht auf der Oberfläche ver
schlechtert wird. Als Ergebnis kann eine ausreichende Dauerhaftigkeit nicht erreicht werden.
Des Weiteren wird von der Schutzschicht verlangt, dass sie eine flache Oberfläche
aufweist, wobei aber die Oberfläche der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht die Stufen an
dem Elektrodenabschnitt wiedergibt. Somit wird ein Planarisierungsverfahren ebenfalls
verlangt, um die diamantähnliche Kohlenstoffschicht eben zu machen. Als Planarisie
rungstechnologie ist z. B. chemisch-mechanisches Feinschleifen gut bekannt. Da jedoch
die diamantähnliche Kohlenstoffschicht eine hohe Härte aufweist, kann ein solches Planari
sierungsverfahren nicht ohne weiteres auf die diamantähnliche Kohlenstoffschicht ange
wendet werden.
Die folgende Erfindung ist in Anbetracht der obigen Situation gestaltet worden und hat ent
sprechend als Aufgabe, eine Verschiebungsmesseinrichtung zu schaffen, die einen leicht
einstellbaren Zwischenraum und somit Gleiteigenschaften aufweist, die eine ausgezeich
nete Dauerhaftigkeit haben.
Die vorliegende Erfindung umfasst eine Verschiebungsmesseinrichtung, die umfasst:
eine Skala, die einen Signalübertragungsabschnitt aufweist, der entlang einer Messachse
angeordnet ist, einen Messfühlerkopf, der der Skala gegenüberstehend und zu ihr relativ
bewegbar angeordnet ist, wobei der Messfühlerkopf einen Signalübertragungsabschnitt und
einen Signalempfangsabschnitt zur Übertragung und zum Empfang eines Signals über den
Signalübertragungsabschnitt aufweist, und eine Mehrzahl von Vorsprüngen, die sich auf
einen flachen Bereich in zumindest einer der gegenüberstehenden Oberflächen der Skala
und des Messfühlerkopfes befinden, zum Gleiten auf der anderen Oberfläche.
Bei der Verschiebungsmesseinrichtung entsprechend der vorliegenden Erfindung befinden
sich die Vorsprünge an einer Mehrzahl von Positionen in dem flachen Bereich, um durch
die Anordnung von Elektroden in dem Messfühlerkopf und der Skala erzeugte Stufen zu
vermeiden. Dies ermöglicht, dass die Vorsprünge das Grundmaterial eng berühren und mit
ausgezeichneter Haltbarkeit gleiten, selbst wenn für die Vorsprünge eine diamantähnliche
Kohlenstoffschicht verwendet wird. Zusätzlich wird keinerlei Verfahren zur Planarisierung
verlangt, wie es in dem Fall der Bildung der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht über der
gesamten Oberfläche des Messfühlerkopfes und der Skala der Fall ist.
Vorteilhafterweise können bei der Verschiebungsmesseinrichtung entsprechend der vorlie
genden Erfindung die Vorsprünge, insbesondere durch eine laminierte Schicht gebildet
sein, die aus einer Pufferschicht und einer darauf abgeschiedenen diamantähnlichen Koh
lenstoffschicht besteht. Erwünschter Weise weist die Pufferschicht eine enge Adhäsion zu
dem Grundmaterial und zu der diamantähnlichen Schicht und in gewisser Weise eine grö
ßere Härte auf, obgleich von ihr keine hohe wie die bei der diamantähnlichen Kohlenstoff
schicht verlangt wird. Insbesondere kann die Pufferschicht aus einer Isolierschicht gebildet
sein, wie Siliciumoxid und Siliciumnitrid, die durch chemische Plasmaabscheidung oder
Aufstäuben gebildet wird. Die Pufferschicht kann auch eine Halbleiterschicht umfassen, wie
Polysilicium, wenn die Vorsprünge an Stellen gebildet werden, wo keine Elektrode ange
ordnet ist.
Die Zeitdauer zur Schichtabscheidung ist äußerst lang, wenn eine Schichtdicke, die ver
langt wird, um einen notwendigen Zwischenraum zu erreichen, nur durch die diamantähnli
che Kohlenstoffschicht gewährleistet wird, wobei jene durch Verwendung einer Kombination
aus einer diamantähnlichen Kohlenstoffschicht und einer anderen Isolierschicht verringert
werden kann.
Wenn die Vorsprünge aus der Puffer- und der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht gebildet
werden, erstreckt sich diamantähnliche Kohlenstoffschicht bevorzugt von den Vorsprüngen
über den Bereich der Elektrodenanordnung. Dies ermöglicht, dass die diamantähnliche
Kohlenstoffschicht als eine Schutzschicht für den Bereich der Elektrodenanordnung dient,
damit Fremdstoffe nicht in den Bereich der Elektrodenanordnung eingemengt werden.
Wenn der Bereich zur Elektrodenanordnung in einem Messfühlerkopfträger oder in einem
Skalenträger im Voraus so gebildet ist, dass er einen ausgenommenen Bereich aufweist
und die Elektroden in dem ausgenommenen Bereich angeordnet werden, wird von den
Vorsprüngen nicht verlangt, dass sie eine viel größere Dicke aufweisen. In diesem Fall
können die Vorsprünge nur aus der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht gebildet werden.
Die aus der Puffer- und aus der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht gebildeten Vorsprün
ge sind an dem Fühlerkopf oder der Skala angeordnet, wobei die diamantähnliche Kohlen
stoffschicht vorzugsweise auf der gesamten Oberfläche des anderen Teils als Schutz
schicht gebildet wird. Dies kann einen Schutz der Elektroden in dem anderen Teil erzielen
und eine ausgezeichnete verschleißfeste Gleiteigenschaft mit einem kleinen Reibungskoef
fizienten erreichen.
Andere Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung der
bevorzugten Ausführungsform offensichtlich.
Die vorliegende Erfindung lässt sich ausführlicher aus der folgenden ins Einzelne gehenden
Beschreibung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen verstehen. Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Sprengdarstellung eines elektrostatisch-kapazitiven
Stellwertgebers entsprechend einer Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung,
Fig. 2 eine Schnittansicht des Stellwertgebers der gleichen Ausführungsform,
Fig. 3A-3C ein Verfahren zur Bildung einer Gleitschicht in einem Messfühlerkopf der glei
chen Ausführungsform,
Fig. 4 eine Schnittansicht, die einen Messfühlerkopf entsprechend einer anderen
Ausführungsform,
Fig. 5 eine Schnittansicht, die einen Messfühlerkopf entsprechend einer anderen
Ausführungsform zeigt,
Fig. 6A-6C ein Verfahren zur Bildung einer Gleitschicht in einem Messfühlerkopf entspre
chend einer anderen Ausführungsform,
Fig. 7 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht,
Fig. 8 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht,
Fig. 9 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht,
Fig. 10 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht,
Fig. 11 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht, und
Fig. 12 ein anderes Musterbeispiel einer Gleitschicht.
Fig. 1 ist eine perspektivische Sprengdarstellung eines elektrostatisch-kapazitiven Stell
wertgebers entsprechend einer Ausführungsfarm der vorliegenden Erfindung, und Fig. 2
ist eine Schnittansicht davon in einer Stellung, in der eine Skala 1 einem Fühlerkopf 2 ge
genübersteht. Wie es in Fig. 1 gezeigt ist, umfasst der Fühlerkopf 2 einen Träger 20, wie
Glas. Er umfasst auch auf dem Substrat gebildete, durchlässige Elektroden 21 (üblicher
weise haben sie einen zwei- bis vierschichtigen Aufbau), Empfangselektroden 22 (übli
cherweise haben sie einen zwei- bis dreischichtigen Aufbau) und Klemmen 23 zur Verbin
dung dieser Elektroden mit einer externen Schaltung. Die Oberfläche des Fühlerkopfes 2,
die zu der Skala 1 weist, ist eine solche Oberfläche, die hervorspringende und zurückge
nommene Bereiche aufgrund der Elektrodenanordnung (der Übertragungs- und Empfangs
elektroden 21 und 22) aufweist. Vorsprünge 24 zum Gleiten sind als Muster an einer Mehr
zahl von Orten in einem flachen Bereich ohne die Elektrodenanordnung innerhalb der O
berfläche des Fühlerkopfes 2 gebildet, der zu der Skala 1 weist.
Die Vorsprünge 24 weisen schmale Rechteckmuster auf, die sich entlang einer Messachse
x erstrecken und in zwei Reihen angeordnet sind, so dass die Übertragungs- und Emp
fangselektrodenabschnitte 21 und 22 dazwischen angeordnet sind. Im Beispiel der Fig. 1
sind drei Vorsprünge 24 einzeln auf einer Linie und einer auf der anderen angeordnet. Die
Vorsprünge 24 sind aus einer laminierten Schicht gebildet und haben flache Oberflächen,
wie es später beschrieben ist.
Wie in Fig. 2 gezeigt, sind die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 des
Fühlerkopfes 1 mit einer Schutzschicht 25 überzogen, die durch chemisches Plasmaab
scheiden von Siliciumoxid gebildet werden kann. Die Vorsprünge sind aus einer laminierten
Schicht auf der Schutzschicht 25 gebildet, die eine Pufferschicht 24a aus Siliciumoxid um
fasst, die durch chemisches Plasmaabscheiden gebildet ist, und eine diamantähnliche
Kohlenstoffschicht 24b, die durch chemisches Plasmaabscheiden gebildet ist. Die diamant
ähnliche Kohlenstoffschicht 24b erstreckt sich über andere Bereiche, als die Vorsprünge 24
und wird als eine Schutzschicht für die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22
verwendet.
Die Skala 1 umfasst einen Träger 10, wie Glas, und Übertragungselektroden 11, die auf
dem Träger gebildet und entlang der Messachse x zur kapazitiven Kopplung mit den Ü
bertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 angeordnet sind. Eine diamantähnliche
Kohlenstoffschicht 12 ist durch chemische Plasmaabscheidung gebildet, um die gesamte
Oberfläche des Trägers zu überdecken, auf der die Übertragungselektroden 11 gebildet
worden sind.
Fig. 3A-3C zeigen ein Verfahren zur Bildung der Vorsprünge 24 in dem Fühlerkopf 2 die
ser Ausführungsform. In einem Schichtbildungsverfahren wird die chemische Plasmaab
scheidungstechnologie verwendet, die eine Schicht bei einer niedrigen Temperatur bilden
kann. Zuerst wird, wie in Fig. 3A gezeigt, die Pufferschicht 24a auf der gesamten Oberflä
che des Trägers 20 abgeschieden, auf der die Übertragungs-, Empfangs- und Transfer
elektroden 21, 22 und die Anschlüsse 23 gebildet worden sind. Als nächstes wird die Puf
ferschicht 24a durch lithografische und Ätztechniken als Muster gebildet, wie es in Fig. 3B
gezeigt ist, damit nur die Orte der Vorsprünge 24 zurück bleiben. Im Wesentlichen wird die
diamantähnliche Kohlenstoffschicht 24d auf der gesamten Oberfläche abgeschieden, wie
es in Fig. 3C gezeigt ist. Somit sind die Vorsprünge 24 aus einem laminierten Aufbau ge
bildet, der aus der puffer- und der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht 24a bzw. 24b be
steht. Die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 werden mit der diamantähnli
chen Kohlenstoffschicht 24b überdeckt. Die Anschlüsse 23 können schließlich durch Ätzen
oder durch Bereitstellen einer Maske zur Zeit der Schichtabscheidung freigelegt werden.
Bei dieser Ausführungsform können die Vorsprünge 24, da sie einen laminierten Aufbau
aufweisen, ihre Höhe durch die Dicke der Pufferschicht 25a vergrößern. Entsprechend
kann, obgleich die diamantähnliche Kohlenstoffschicht 24b dünn ist, die Oberfläche der
Vorsprünge 24 aufwärts über die Oberfläche der Durchlass- und Empfangselektroden 21
und 22 hinaus vorspringend gemacht werden. Dies ermöglicht, dass der Fühlerkopf 2 relativ
zu der Skala 1 gleitet, während ein verlangter Zwischenraum zwischen gegenüberstehen
den Elektroden gewährleistet wird.
Bei dieser Ausführungsform sind die Vorsprünge 24 nicht auf der gesamten Oberfläche des
Fühlerkopfes 2 angeordnet, sondern einzeln auf dem Flächenbereich, wobei die Übertra
gungs- und Empfangselektroden umgangen werden. Deshalb kann ein schlechtes Anhaften
der Gleitschicht aufgrund von Stufen nicht auftreten und es kann eine ausgezeichnete
Gleiteigenschaft erreicht werden. Des Weiteren ist kein Planarisierungsverfahren erforder
lich, anders als dann, wenn es zur Bildung einer Schutzschicht zum Gleiten über die ge
samte Oberfläche des Fühlerkopfes eingesetzt wird.
Bei dieser Ausführungsform wird die laminierte Schicht, die aus der Puffer- 24a und der
diamantähnlichen Kohlenstoffschicht 24b besteht, die darauf abgeschieden ist, als die Vor
sprünge 24 verwendet, so dass die diamantähnliche Kohlenstoffschicht mechanische Fes
tigkeit und Verschleißfestigkeit gegenüber Gleitbewegungen gewährleisten kann. Des
Weiteren kann die Verwendung eines solchen laminierten Aufbaus die Zeit zur Schichtbil
dung verkürzen und die Herstellungskosten verringern, anders als in dem Fall, wenn die
diamantähnliche Kohlenstoffschicht alleine die verlangte Höhe gewährleisten muss. Die
Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 sind mit der diamantähnlichen Kohlen
stoffschicht überdeckt, damit eine ausgezeichnete Dauerhaftigkeit gegenüber Eintritt von
Fremdstoffen erreicht wird.
Fig. 4 zeigt einen Fühlerkopf 2 entsprechend einer anderen Ausführungsform. Diese
Ausführungsform ist ähnlich der vorhergehenden in Bezug auf den laminierten Aufbau der
Vorsprünge 24, die aus der Pufferschicht 24a und der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht
24b bestehen, mit der Ausnahme, dass die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und
22 nicht mit der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht überdeckt sind. Dieser Aufbau kann
erreicht werden, indem die Pufferschicht 24a und die diamantähnliche Kohlenstoffschicht
24b abgeschieden werden und nachfolgend die laminierte Schicht einheitlich als Muster
ausgebildet wird.
Fig. 5 zeigt einen Fühlerkopf 2 entsprechend einer weiteren Ausführungsform. Bei dieser
Ausführungsform wird ein ausgenommener Bereich 51 im Voraus in dem Träger 20 des
Fühlerkopfes 2 gebildet. Die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 sind in dem
ausgenommenen Bereich 51 gebildet. Die Vorsprünge 24 sind nur als Muster in der dia
mantähnlichen Kohlenstoffschicht auf einem flachen, vorspringenden Bereich am Umfang
des ausgenommenen Bereichs 51 ausgebildet, in dem die Übertragungs- und Empfangs
elektroden 21 und 22 gebildet werden.
Bei dieser Ausführungsform macht die Auswahl der Tiefe des ausgenommenen Bereichs
51 die obere Fläche der Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 ungefähr gleich
der flachen Oberfläche des hervorspringenden Bereichs, auf dem keine Elektrode angeord
net wird. Deshalb können die Vorsprünge 24 auf der vorspringenden flachen Oberfläche mit
nur einer dünnen diamantähnlichen Kohlenstoffschicht und ohne Pufferschicht gebildet
werden.
Fig. 6A-6C zeigen ein Verfahren zur Bildung eines Fühlerkopfes 2 entsprechend einer
alternativen Ausführungsform der Fig. 3A-3C. Nach der Bildung der Übertragungs- und
Empfangselektroden 21, 22 und der Anschlüsse 23 auf dem Substrat 20 wird die Puffer
schicht 24a darauf, ebenso wie beim Verfahren der Fig. 3A, abgeschieden. Dann wird die
obere Fläche der Pufferschicht 24a durch ein chemisch-mechanisches Feinschleifverfahren
eben gemacht, wie in Fig. 6B gezeigt it. Die diamantähnliche Kohlenstoffschicht 24b wird
abgeschieden und als Muster auf der eben gemachten Pufferschicht 24a ausgebildet, wie
es in Fig. 6C gezeigt ist. Schließlich werden die Anschlüsse 23 freigelegt.
Bei dieser Ausführungsform weist, da die Pufferschicht 24a eben gemacht worden ist, die
diamantähnliche Kohlenstoffschicht 24a oder der Hauptteil des Vorsprungs 24 eine verbes
serte Haftfähigkeit auf. Die diamantähnliche Kohlenstoffschicht 24a kann dünner gemacht
werden und die Schichtbildungszeit kann verringert werden. Die diamantähnliche Kohlen
stoffschicht 24a ist hart und kann daher nur schwierig eben gemacht werden. Im Kontrast
hierzu kann die Pufferschicht 24a ohne Weiteres eben gemacht werden, wenn sie aus ei
nem durch chemische Dampfabscheidung aufgebrachten Siliciumoxid oder ähnlichem ge
bildet ist.
Bei der vorhergehenden Ausführungsform kann eine Schicht aus Fluorharz, wie Teflon®,
statt der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht verwendet werden. Die Verwendung der Flu
orharzschicht kann auch einen kleinen Reibungskoeffizienten und ausgezeichnete Ver
schleißfestigkeit hervorrufen. Siliciumnitrid, Polysilicium und amorphes Silicium können
auch für die Pufferschicht ebenso wie Siliciumoxid verwendet werden.
Die Anwendung eines Schmiermittels auf der Fläche des Vorsprungs verbessert die Dauer
haftigkeit weiter.
Fig. 7 bis 12 zeigen unterschiedliche Beispiele von Mustern und Anordnungen der Vor
sprünge 24, die sich auf dem Messfühlerkopf 2 befinden. Fig. 7 zeigt beispielhaft, dass die
Vorsprünge 24 in zwei durchgehenden Linien als Muster ausgebildet sind, wobei die Ü
bertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 dazwischen eingefügt sind. Fig. 8 zeigt
beispielhaft, dass die Vorsprünge 24 als zwei unterbrochene Linien als Muster ausgebildet
sind, wobei die Übertragungs- und Empfangselektroden 21 und 22 dazwischen eingefügt
sind. Fig. 9 und 10 zeigen Beispiele von Abänderungen der Vorsprünge 24 der Fig.
7 und 8 zu schmalen, ovalen Mustern. Die Fig. 11 und 12 zeigen Beispiele von Abände
rungen der Vorsprünge 24 zu Kreismustern.
Bei den vorhergehenden Ausführungsformen sind die Vorsprünge als Muster auf dem
Messfühlerkopf ausgebildet, obgleich sie im Gegensatz dazu auch auf der Skala ausgebil
det sein können. Im letzteren Fall sind die Vorsprünge als Muster von zwei Linien in einem
Abstand von weniger als zumindest der Abmessung des Messfühlerkopfes in Längsrichtung
der Skala (Messachse x) gebildet. In diesem Fall wird auch verlangt, dass die Verdrah
tungsabschnitte auf dem Messfühlerkopf mit einer Schutzschicht überdeckt werden. Alter
nativ wird eine Konstruktion verlangt, um jegliche Verdrahtung von einem Bereich auszu
schließen, der den Vorsprung der Skala berührt, indem die rückseitigen Drähte des Mess
fühlerkopfes zur Drahtverbindung zwischen den Elektroden und den Anschlüssen des
Messfühlerkopfes durch Durchgangslöcher hindurch verwendet werden.
Die vorliegende Erfindung kann auch auf fotoelektrische und elektromagnetische-induktive
Stellwertgeber angewendet werden, wobei die vorhergehenden Ausführungsformen bei
spielhaft den elektrostatisch-kapazitätiven Stellwertgeber zeigen.
Wie es aus dem Vorstehenden offensichtlich ist, sind bei der Verschiebungsmesseinrich
tung gemäß der vorliegenden Erfindung die Vorsprünge zum Gleiten als Muster entweder
auf dem Fühlerkopf oder der Skala ausgebildet, wobei der Abschnitt der Elektrodenanord
nung umgangen wird und eine harte Schicht als Gleitschicht verwendet wird, wie eine dia
mantähnliche Kohlenstoffschicht. Deshalb kann die Einrichtung einen leicht einstellbaren
Zwischenraum und eine solche Gleiteigenschaft erreichen, die eine ausgezeichnete Dauer
haftigkeit zeigt.
Nachdem die Ausführungsformen beschrieben worden sind, die mit der vorliegenden Erfin
dung übereinstimmen, liegen andere Ausführungsformen und Abänderungen, die mit der
Erfindung übereinstimmen, für den Durchschnittsfachmann auf der Hand. Deshalb sollte die
Erfindung so betrachtet werden, dass sie nicht durch die hier geoffenbarten Ausführungs
formen begrenzt ist, sondern sollte so angesehen werden, dass sie nur durch den Gedan
ken und den Bereich der beigefügten Ansprüche begrenzt ist.
Claims (11)
1. Verschiebungsmesseinrichtung,
gekennzeichnet durch
eine Skala (1), die einen Signalübertragungsabschnitt aufweist, der entlang einer Messachse (x) angeordnet ist,
einen Messfühlerkopf (2), der der Skala (1) gegenüberliegend und zu ihr relativ be wegbar angeordnet ist, wobei der Messfühlerkopf (2) einen Signalübertragungsab schnitt (21) und einen Signalempfangsabschnitt (22) zur Übertragung und zum Empfang eines Signals über den Signalübertragungsabschnitt aufweist und
eine Mehrzahl von Vorsprüngen (24), die sich auf einen flachen Bereich in zumin dest einer der gegenüberstehenden Oberflächen der Skala (1) und des Messfühler kopfes (2) befinden, zum Gleiten auf der anderen Oberfläche.
eine Skala (1), die einen Signalübertragungsabschnitt aufweist, der entlang einer Messachse (x) angeordnet ist,
einen Messfühlerkopf (2), der der Skala (1) gegenüberliegend und zu ihr relativ be wegbar angeordnet ist, wobei der Messfühlerkopf (2) einen Signalübertragungsab schnitt (21) und einen Signalempfangsabschnitt (22) zur Übertragung und zum Empfang eines Signals über den Signalübertragungsabschnitt aufweist und
eine Mehrzahl von Vorsprüngen (24), die sich auf einen flachen Bereich in zumin dest einer der gegenüberstehenden Oberflächen der Skala (1) und des Messfühler kopfes (2) befinden, zum Gleiten auf der anderen Oberfläche.
2. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Vorsprünge (24) aus einer laminierten Schicht gebildet sind, die aus einer Puffer
schicht (24a) und einer diamantähnlichen Kohlenstoffschicht (24b) gebildet sind, die
auf der Pufferschicht (24a) abgeschieden ist.
3. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Pufferschicht (24a) eine der aus der Gruppe ausgewählten Schichten umfasst,
die aus Siliciumoxid-, Siliciumnitrid-, Polysilicium- und amorpher Siliciumschicht be
steht.
4. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die andere Oberfläche mit der diamantähnlichen Kohlenstoffschicht (24b) überdeckt
ist.
5. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
sich die Vorsprünge (24) auf zumindest einem flachen Bereich, der den Signalüber
tragungsabschnitt und den Signalempfangsabschnitt des Messfühlerkopfes umgibt,
und/oder einem flachen Bereich befindet, der den Signalübertragungsabschnitt der
Skala (1) umgibt.
6. Verschiebungsmesseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Vorsprünge (24) aus einer laminierten Schicht (24) gebildet sind, die aus einer
Pufferschicht (24a), die auf einem flachen Bereich gebildet ist, der den Signalüber
tragungsabschnitt und den Signalempfangsabschnitt des Messfühlerkopfes (2) um
gibt, und einer diamantähnlichen Kohlenstoffschicht gebildet ist, die auf der Puffer
schicht (24a) abgeschieden ist, und dass sich die diamantähnliche Kohlenstoff
schicht von den Vorsprüngen (24) über den Signalübertragungsabschnitt (21) und
den Signalempfangsabschnitt (22) als eine Schutzschicht für den Signalübertra
gungsabschnitt (21) und den Signalempfangsabschnitt (22) erstreckt.
7. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Vorsprünge (24) aus einer Pufferschicht (24a) gebildet sind, die auf der gesam
ten Oberfläche des Messfühlerkopfes (2) gebildet sind und eine eben gemachte obe
re Fläche aufweisen, und dass eine diamantähnliche Kohlenstoffschicht (24b) auf
der Pufferschicht (24a) abgeschieden und als Muster ausgebildet ist.
8. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Messfühlerkopf (2) einen Messfühlerkopfträger (20) aufweist, der einen darin
ausgebildeten vertieften Bereich aufweist, wobei der Signalübertragungsabschnitt
(21) und der Signalempfangsabschnitt (22) in dem vertieften Bereich des Trägers
(20) gebildet sind, und die Vorsprünge (24) durch die diamantähnliche Kohlenstoff
schicht (24b) als Muster ausgebildet und auf einem flachen, hervorspringenden Be
reich des Messfühlerkopfträgers (20) gebildet sind.
9. Verschiebungsmesseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Vorsprünge (24) als Muster ausgebildet sind und sich entlang der Messachse (x)
auf zwei Linien derart erstrecken, dass der Signalübertragungsabschnitt (21) und der
Signalempfangsabschnitt (22) dazwischen eingefügt sind.
10. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1,
wobei die Vorsprünge (24) als unterbrochenes Muster entlang der Messachse (x)
derart angeordnet sind, dass sie zwischen dem Signalübertragungsabschnitt (21)
und dem Signalempfangsabschnitt (22) eingefügt sind.
11. Verschiebungsmesseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Verschiebungsmesseinrichtung ein elektrostatisch-kapazitiver Stellwertgeber ist,
wobei der Stellwertgeber eine Übertragungselektrode (21) und eine Empfangselekt
rode (22) umfasst, die beide auf dem Messfühlerkopf (2) gebildet sind, sowie eine
Übertragungselektrode (22), die auf der Skala (1) gebildet ist, um die Übertragungs-
und Empfangselektroden kapazitiv zu koppeln.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI283914B (en) * | 2002-07-25 | 2007-07-11 | Toppoly Optoelectronics Corp | Passivation structure |
WO2009049147A2 (en) * | 2007-10-10 | 2009-04-16 | Philadelphia Health & Education Corporation D/B/A Drexel University College Of Medicine | Method of tumor screening by detection of tumour marker in low molecular weight nucleic acid from urine |
US8088295B2 (en) * | 2008-01-22 | 2012-01-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Diamond-like carbon (DLC) hardmask and methods of fabrication using same |
JP5687436B2 (ja) * | 2010-04-22 | 2015-03-18 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池用出力ターミナル |
EP3718960B1 (de) | 2014-12-10 | 2023-10-25 | Paul D. Okulov | System zur überwachung der strukturellen integrität |
JP6156747B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2017-07-05 | オリエンタルモーター株式会社 | 静電エンコーダ |
US9739642B2 (en) * | 2015-04-24 | 2017-08-22 | Mitutoyo Corporation | Encoder scale and manufacturing and attaching method thereof |
JP7160051B6 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-11-11 | 日本電産リード株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4215480A (en) | 1977-12-16 | 1980-08-05 | James Neill Holdings Limited | Distance measuring gauge |
DE3340782C2 (de) * | 1983-11-11 | 1985-12-05 | Mauser-Werke Oberndorf Gmbh, 7238 Oberndorf | Kapazitive Längen- und Winkelmeßeinrichtung |
US4586260A (en) * | 1984-05-29 | 1986-05-06 | The L. S. Starrett Company | Capacitive displacement measuring instrument |
JP3322067B2 (ja) * | 1995-04-24 | 2002-09-09 | 株式会社デンソー | 物理量検出装置 |
JP3894509B2 (ja) * | 1995-08-07 | 2007-03-22 | キヤノン株式会社 | 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US6046596A (en) * | 1996-11-13 | 2000-04-04 | Seagate Technology, Inc. | Capacitance probe for magnetic recording head transducer to disc surface spacing measurement |
US6168080B1 (en) * | 1997-04-17 | 2001-01-02 | Translucent Technologies, Llc | Capacitive method and apparatus for accessing contents of envelopes and other similarly concealed information |
JP3246726B2 (ja) * | 1998-11-13 | 2002-01-15 | 株式会社ミツトヨ | 静電容量式変位検出器及び測定装置 |
US6326794B1 (en) * | 1999-01-14 | 2001-12-04 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for in-situ monitoring of ion energy distribution for endpoint detection via capacitance measurement |
US6274428B1 (en) * | 1999-04-22 | 2001-08-14 | Acer Semiconductor Manufacturing Inc. | Method for forming a ragged polysilicon crown-shaped capacitor for a memory cell |
-
1999
- 1999-12-28 JP JP37345299A patent/JP2001183163A/ja active Pending
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