DD288215A5 - Anordnung zur interferenzpruefung von oberflaechen - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Interferenzpruefung von Oberflaechen insbesondere zur Messung der Ebenheitsabweichung von technischen Oberflaechen wie Halbleiterwafern, Metall- und Glasflaechen. Der erfindungsgemaesze Interferenzmodul besteht aus einem Meszprisma mit einer teildurchlaessigen Referenzflaeche und einem Endspiegel, wobei an der teildurchlaessigen Referenzflaeche fuer ein kollimiertes Eingangsstrahlenbuendel eine erste Strahlaufspaltung in ein Teilstrahlenbuendel und ein erstes Prueflingsstrahlenbuendel und nach Reflexion an der verspiegelten Flaeche eine zweite Aufspaltung in ein Referenzstrahlenbuendel und ein erstes und ein zweites Prueflingsstrahlenbuendel erfolgt, welche das Meszprisma eingangsseitig wieder verlassen und zur Interferenz gelangen. Hierdurch wird die Justierung der optischen Anordnung wesentlich vereinfacht und das Beleuchtungsobjektiv auch als Abbildungsobjektiv benutzt. Fig. 1{Interferenzmodul; Meszprisma; Ebenheitsabweichung; Prueflingsoberflaeche; Mehrstrahlinterferenz; symmetrisches Intensitaetsprofil; Strahlaufspaltung}
Description
Hierzu 2 Seiten Zeichnungen
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Interferenzprüfung von Oberflächen, insbesondere für die Ebenheitsprüfung technischer Oberflächen wie Halbleiterwafer!!, Metall- und Glasflächen.
Es sind technische Lösungen bekannt, bei denen als modifiziertes Fizeau-Interferometer ein Meßprisma nach Abramson mit je einem direkt gekoppelten Beleuchtungs-und Abbildungsobjektiv fürdie Messung der Oberflächenform eingesetzt wird, wie z. B. in Optik 30 (1969), S. 56 beschrieben. Das hierbei entstehende Interferenzbild wird durch visuelle Beobachtung auf einem Schirm bzw. entsprechend WP 219565 durch Detektion rrii einem Bildempfänger über einen gekoppelten Rechner ausgewertet und dargestellt.
Nachteilig ist, daß das oben beschriebene Interferometer durch die Verwendung mindestens eines Boleuchtungs- und Abbildungsobjektivs mit einem Objektivdurchmesser, der etwa der Größe der Prüflingsoberfläche entspricht, sehr großvolumig ist, da diese Objektive in der Regel, bedingt durch die hohe erforderliche Abbildungsgüte, eine relativ große Brennweite aufweisen. Diese große Volumen erweist sich als entscheidender Nachteil, wenn z. B. diamantbearbeitete Metalloberflächen noch auf der Werkzeugmaschine in der Maschinen-Einsponnung untersucht werden müssen, um die Maschinenjustierung bzw. die Zustellgenauig:;eit des Werkzeugs zu analysieren. Hier ist ein minimiertes Volumen des Meß-Interferometers für dessen Handhabbarkeit zwingend erforderlich.
Die in der DD-PS 242473 dargestellte technische Lösung verringert die benötigte Apertur der verwendeten Objektive durch den Einsatz von anamorphotischen Spiegelprismen mit zwei optisch aktiven Flächen. Diese Spiegelprismen werden einmalig optisch durchsetzt, wodurch sich eine begrenzte Vergrößerung des Bündelquerschnittes ergibt. Dies ist für die Messung der Einheit einer Oberfläche von Vorteil, jedoch besitzt diese optische Anordnung einen bestimmten Raumbedarf, da die relativ geringe Vergrößerung des Bündelquerschnitts durch die anamorphotischen Spiegelprismen noch zwei vergleichsweise große Objektive erforderlich macht, die eine kompaktere, volumensparende Anordnung nicht gestatten. Weiterhin ist bekannt, in einem interferometrischen Ebenheitsmeßgerät (Autosort Mark Il Flatness Analysis System, GCA Corporation Tropel Division, USA) ein Meßprisma mit einer mattierten Strahlaustrittsfläche zu verwenden. Durch die Wirkung der Mattfläche genügt für den Abbildungsstrahlengang ein vergleichsweise kleines Abbildungsobjektiv. Jedoch führt diese Anordnung durch die Wirkung der Mattfläche zu großen Lichtverlusten.
Ziel der Erfindung ist es, den Zeitaufwand bei der Kopplung eines Interferenzmoduls zur Erweiterung des Meßbereichs mit dem Beleuchtungs- und Abbildungsstrahlengangs eines Interferenz-Prüfgerätes zu verringern und dabei das Beleuchtungsobjektiv gleichzeitig als Abbildungsobjektiv zu benutzen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Ebenheitsabweichung großer Werkstückoberflächen über einen großen Meßbereich zu prüfen und hierzu das Beleuchtungsobjektiv gleichzeitig als Abbildungsobjektiv zu benutzen und dabei die Neigung zwischen Ein-Ausgangsstrahlenbündel zu minimieren sowie gut visuell direkt bzw. über einen Monitor oder einen Rechner auswertbare Interferenzstreifen zu erzeugen.
Erfindungsgemäß wird dies durch eine Anordnung mit einem Lasermodul mit einem Objektiv, einem Kollimatorobjektiv, einem Eingangsstrahlenbündei, einem Meßprisma mit einer teildurchlässigen Referenzfläche, einem an dieser reflektieren Teilstrahlenbündel und einer Prüflingsoberfläche, einer Teilerschicht, einem Objektiv und einer Blende erreicht, indem dem Meßprisma der Lasermodul mit dem Objektiv und das Kollimatorobjektiv vorgeordnet sind und dem Meßprisma mit der teildurchlässigen Referenzfläche die Prüflingsoberfläche und ein Endspiegel, eine Teilerschicht, eine Blende und ein Objektiv zugeordnet sind.
Dadurch erfährt das in das Meßprisma eintretende und auf die teildurchlässige Referenzfläche fallende Strahlenbündel eine Abspaltung eines ersten Teilstrahlenbündels durch Teilreflexion und eine Abspaltung eines ersten Prüflingsstrahlenbündels durch Teiltransmission, wobei letzteres an der Prüflingsoberfläche reflektiert wird, die teildurchlässige Referenzfläche wieder passiert und gemeinsam mit dem ersten Teilstrahlenbündel durch den Endspiegel rückreflektiert wird, jetzt das erste Teilstrahlenbündel durch eine Teilreflexion an der teildurchlässigen Referenzfläche zum Referenzstrahlenbündel und das vom ersten Teilstrahlenbündel durch Teiltransmission entstehende Teilstrahlenbündel zum zweiten Prüflingsstrahlenbündel wird, welches die teildurchlässige Referenzfläche wieder passiert.
Das erste Prüflingsstrahlenbündel fällt nach Rückreflexion durch den Endspiegel auf die teildurchlässige Referenzfläche, wird reflektiert und verläßt gemeinsam mit den anderen Teilstrahlenbündeln das Meßprisma. Das die teildurchlässige Referenzfläche passierende Teilstrahlenbündel des ersten Prüflingsstrahlenbündels erfährt eine zweite Reflexion an der Prüflingsoberfläche und wird deshalb vorzugsweise im weiteren Strahlverlauf unterdrückt. Nach dem Verlassen des Meßprismas breiten sich das erste und das zweite Prüflingsstrahlenbündel gemeinsam mit dem Referenzstrahlenbündel aus, wobei es bei schwach reflektierenden Prüflingsoberflachen zur Dreistrahlinterferenz kommt. Bei hochreflektierenden Prüflingsoberflächen entstehen Mehrstrahleninterferenzen. Nach dem Verlassen des Meßprismas werden die interferierenden Strahlenbündel durch die Teilerschicht reflektiert und passieren die Blende. Die bei einer zur teildurchlässigen Referenzfläche geneigten Prüflingsoberfläche entstehenden mehrfach reflektierten Teilstrahlenbündel können durch die Blende gesperrt werden. Durch das Objektiv werden die durch die Blende hindurchgelassenen Teilstrahlenbündel kollimiert. Danach erfolgt eine Auswertung mit bekannten technischen Mitteln.
Um die Auswertung mittels Interferenzstreifen praktisch durchzuführen, kann die Prüflingsoberfläche zur teildurchlässigen Referenzfläche schwach geneigt sein.
Der Endspiegel kann als Planspiegelfläche ausgebildet sein. Dadurch ergibt sich eine besonders oinfache optische Anordnung Die Planspiegelfläche ist vorzugsweise senkrecht zu dem ersten durch Teilreflexion an der teildurchlässigen Referenzfläche entstandenen Teilstrahlenbündel angeordnet. Hierdurch wird erreicht, daß das Eingangs- und das Referenzstrahlenbündel sich
nach dom Verlassen des Meßprismas parallel zueinander ausbreiten, wodurch die Justierung der gesamten optischen
teildurchlässigen Referenzfläche schwach geneigt sein.
von einem Meßprisma nach Abramson bekannten Mehrstrahlinterferenzen ein symmetrisches Intensitätsprofil auf, welches sich wesentlich besser visuell oder rechnergestützt auswerten läßt als Interferenzstreifen mit einem unsymmetrischen
entstandenen Strahlenbündel angeordnet sein. Dadurch wird zum einen die störende Rückreflexion in den Laser erschwert. Bei
wenn die Prüflingsoberfläche zur teildurchlässigen Referenzfläche etwas geneigt ist. Diese Schwebungsinterferenz entsteht durch die unterschiedliche Empfindlichkeit der Interferenzanordnung für die beiden Interferenzbilder.
teildurchlässige Referenzfläche des Meßprismas stehende Achse und die Planspiegelfläche um eine parallel zu dieser Achse stehenden Achse kippbar angeordnet ist.
etwa 0,5 bis etwa 0,01 praktisch möglich. Jedoch muß dabei die Planspiegelfläche um die oben beschriebene Achse stets go nachgekippt werden, daß wieder der senkrechte Strahleinfall des an der teildurchlässigen Referenzfläche reflektierten
können, wenn die Prüflingsoberfläche etwas zur teildurchlässigen Referenzfläche gekippt wird. Die Blende kann dabei als Loch-, als Doppelloch-, als Spalt- oder als Doppelspaltblende ausgeführt sein.
ist. Dabei ergibt sich zwar eine konstante Empfindlichkeit des Interferometers, dafür aber eine kompakte, in sich bezüglich der
bei einer Kippung der Prüflingsoberfläche zur teildurchlässigen Referenzfläche gegensätzlich zueinander geneigt sich ausbreiten. Um diese Interferenzen für dl· Interferenzprüfung verwenden zu können, ist die Einführung einer Kippung der
passieren und so sich sogar eine Zweistrahleninterferenz ergibt, wenn alle mehrfach an der Prüflingsoberfläche reflektierten
bekannte unsymmetrische Intensitätsprofil der Mehrstrahlinterferenz,
verhindert werden.
zur Strahleinfallsebene des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche des Meßprismas stehende Achse kippbar angeordnet. Hierbei bleibt der Interferenzeffekt stets erhalten. Die Dachkantspiegelflächen können als
sich stets gegeben.
kippbar angeordnet ist.
kompakten Bauweise, wobei der Vorteil der Einstellbarkeit der Empfindlichkeit des Interferometers beibehalten wird.
werden. Ist diese Beschichtung als Absorptionsschicht ausgebildet, können mehrfach reflektierte Strahlenbündel gedämpft werden, wobei eine zusätzliche Antireflexionsschicht auf der Luftseite der Beschichtung die mehrfach reflektierten
Das von einem Lasermodul 1 mit Aufweitungsoptik ausgehende kollimierte Strahlenbündel mit linearer Polarisation wird von einem Objektiv 2 fokussiert, wobei ein Pinhole 3 passiert und eine Strahlteilerschicht 4 in einem Teilerwürfel 5 durchsetzt werden. Das divergente Strahlenbündel wird durch ein Kollimatorobjektiv 6 kollimiert und tritt in ein Meßprisma 7 ein. Anschließend erfährt das in das Meßprisma 7 eingetretene und auf die teildurchlässige Referenzfläche 8 unter einem Winkel kleiner als den der Totalreflexion fallende Strahlenbündel eine Abspaltung eines ersten Teilstrahlenbündels durch Teilreflexion und eine Abspaltung eines ersten Prüflingsstrahlenbündels Pot durch Teiltransmisison. Der Strahleinfallswinkel ist dabei etwas unterhalb des Grenzwinkels der Totalreflexion gewählt, z.B. 0,05°. Das erste Prüflingsstrahlenbündel Poi wird anschließend an einer Prüflingsoberfläche 9 reflektiert, passiert wieder die teildurchlässige Referenzfläche 8 und wird gemeinsam mit dem ersten Teilstrahlenbündel durch eine Planspiegelfläche 10 rückreflektiert. Das erste Teilstrahlonbündel steht dabei senkrecht auf der Spurgeraden, welche sich aus dem Schnitt der Einfallsebene des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche 8 des Meßprismas 7 mit der Planspiegelflächo 10 ergibt, wobei letztere mit der teildurchlässigen Referenzfiäche einen Winkel unterhalb des Grenzwinkels der Totalreflexion für den Brechungsindex des Werkstoffs des Meßprismas einschließt. Dieser Brechungsindex beträgt hier z. B. η = 1,515, und so ergibt sich der Winkel der Totalreflexion zu 41,305°, wobei der Winkel zwischen der teildurchlässigen Referenzfläche 8 und der Planspiegelfläche 10 hier zu 41,255° gewählt wird. Nach der Reflexion an der Planspiegelfläche 10 trifft das erste Teilstrahlenbündel unter einem Einfallswinkel kleiner als den der Totalreflexion für den Werktstoff des Meßprismas auf die teildurchlässige Referenzfläche 8, wird teilreflektiert und dadurch zum Referenzstrahlenbündel R, das vom ersten Teilstrahlenbündel durch Transmission entstehende weitere Teilstrahlenbündel trifft auf die Prüflingsoberfläche 9 und wird zum zweiten Prüflingsstrahlenbündel Pi0. welches die teildurchlässige Referenzfiäche wieder passiert.
Das erste Prüflingsstrahlenbündel PO| fällt nach Rückreflexion durch den Planspiegel 10 auf die teildurchlässige Referenzfläche 8 und verläßt gemeinsam mit den anderen Teilstrahlenbündeln das Meßprisma 7. Das die teildurchlässige Referenzfläche 8 passierende Teilstrahlenbündel des ersten Prüflingsstrahlenbündels P0) erfährt eine zweite Reflexion an der Prüflingsoberfläche 9 und wird deshalb vorzugsweise im weiterer. Strahlverlauf unterdrückt.
Nach dem Verlassen des Meßprismas 7 breiten sich das erste und das zweite Prüflingsstrahlenbündel P01 und P|0 gemeinsam mit dem Referenzstrahlenbündel R aus, wobei es zur Dreistrahlinterferenz kommt. Im Fall eines senkrechten Auftreffens des Eingangsstrahlenbündels an der o.g. Spurgeraden und einem kleinen Abstand der Prüflingsoberfläche 9 von der teildurchlässigen Referenzfläche 8 entsteht eine Quasi-Zweistrahlinterferenz, welche sich gut auswerten läßt. Für die genannten Werte ergibt sich eine Vergrößerung der Empfindlichkeit des Interferometers gegenüber dem senkrechten Strahleinfall etwa um den Faktor 22.
Bei einer Abweichung von der exakten Rückreflexion der Strahlenbündel in sich solbst durch Kippung des Planspiegels 10 um die Hochachse entsteht eine Dreistrahlinterferenz zwischen dem Ref6renzstrahlenbündel Rund dem ersten und zweiten Prüflingsstrahlenbündel Poi und P1O, welche ebenfalls für die Auswertung der Prüflingsoberfläche 9 benutzt werden kann. Um die Auswertung mittels Interferenzstrelfen praktisch durchzuführen, kann die Prüflingsoberfläche zur teildurchlässigen Referenzfläche 8 schwach geneigt sein, wobei dann Schwebungsinterferenzen auftreten, weil zwei Interferenzbilder mit unterschiedlichen Streifenbreiten entstehen, welche sich aus einem jeweils unterschiedlichen Empfindlichkeitsfaktor ergeb'.n. Die das Meßprisma 7 verlassenden Teilstrahlenbündel werden anschließend durch das Kollimatorobjektiv 6 wieder fokussiert, durch die Strahlteilerschicht 4 des Teilerwürfels 5 reflektiert, passieren eine Blende 11 und werden durch ein Objektiv 12 auf einen Bildempfänger 13 abgebildet, wo es zur Interferenz kommt. Das Interferenzbild kann über einen Monitor 14 beobachtet werden.
Fig. 2 zeigt, wie aus dem Eingangsstrahlenbündel die drei miteinander interferierenden Teilstrahlenbündel R, POi und P10 entstehen, indem die vom Eingangsstrahlenbündel abgespaltenen Teilstrahler bündel zum einen zweimal an der teildurchlässigen Referenzfläche 8, zum anderen jeweils einmal an der teildurchlässigen Referenzfläche 8 und genau einmal an der Prüflingsoberfläche 9 reflektiert werden, so daß ein Referenzstrahlenbündel R und ein erstes und ein zweites Prüflingsstrahlenbündel Poi und P1O entstehen, welche sich gemeinsam ausbreiten, wobei zwischen dem Referenzstrahlenbündel R und den beiden Prüflingsstrahlenbündeln jeweils Shear besteht.
In Fig.3 ist dargestellt, wie aus dem Eingangsstrahlenbündel die vier miteinander interferierenden Teilstrahlenbündel R, P01, P1O und P11 entstehen. Gegenüber Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 ist hierbei das Meßprisma 7 mit dem Planspiegel 10 durch ein Meßprisma 7 mit einem Dachkantspiegel 15 ersetzt. Das Referenzstrahlenbündel R entsteht, indem die vom Eingangsstrahlenbündel abgespalteten Teilstrahlenbündel zweimal an der teildurchlässigen Referenzfläche 8 und einmal an dem Dachkantspiegel 15 reflektiert werden. Die Prüflingsstrahlenbündel P01 und P10 werden dadurch gebildet,daß jeweils genau einmal eine Reflexion an der teildurchlässigen Referenzfläche 8 und jeweils genau einmal eine Reflexion an der Prüflingsoberfläche 10 erfolgen. Bei einer Neigung der Prüflingsoberfläche 10 um eine zur Strahleinfallsebene des Prüflingsstrahlenbündels auf die Prüflingsoberfläche 10 senkrecht stehenden Achse (Hochachse) entsteht zwischen diesen beiden Prüflingsstrahlenbündeln P01 und P10 eine Neigung, welche zum Trennen der beiden Prüflingsstrahlenbündel voneinander benutzt werden kann. Durch eine Blende 11 in der Fokusebene des Kollimatorobjektivs 6 wird deshalb entweder das Prüflingsstrahlenbündel P01 oder Pio gesperrt. Das zweimal an der Prüflingsoberfläche 10 reflektierte Teilstrahlenbündel P11 wird hierbei ebenfalls durch eine Blendenfilterung unterdrückt. Gleiches gilt für mehrfach reflektierte Strahlenbündel, wenn die Prüflingsoberfläche etwas um ihre Querachse zur teildurchlässigen Referenzfläche 8 geneigt ist.
Claims (15)
1. Anordnung zur Interferenzprüfung von Oberflächen mit einem Lasermodul mit einem Objektiv, einem Kollimatorobjektiv, einem Eingangsstrahlenbündel, einem Meßprisma mit einer teildurchlässigen Referenzfläche, einem an dieser reflektierten Teilstrahlenbündel, einer Prüflingsoberfläche, einer Teilerschicht, einem Objektiv und einer Blende, dadurch gekennzeichnet, daß dem Meßprisma (7) der Lasermodul (1) mit einem Objektiv (2) und das Kollimatorobjektiv (6) vorgeordnet und dem Meßprisma (7) mit der teildurchlässigen Referenzfläche (8) die Prüflingsoberfläche (9), ein Endspiegel, eine Teilerschicht (4), eine Blende (11) und ein Objektiv (12) zugeordnet sind.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Endspiegel als Planspiegelfläche (10) ausgebildet ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Planspiegelfläche (10) senkrecht zu dem an der teildurchlässigen Referenzfläche (8) reflektierten Teilstrahlenbündel angeordnet ist.
4. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Planspiegelfläche (10) schwach gekippt zu dem an der teildurchlässigen Referenzfläche (8) reflektierten Teilstrahlenbündel angeordnet ist.
5. Anordnung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßprisma (7) um eine senkrecht zur Strahlenfallsebene des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche (8) des Meßprismas (7) stehenden Achse kippbar angeordnet ist.
6. Anordnung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Planspiegelfläche (10) um eine Achse kippbar angeordnet ist, die parallel zu einer senkrecht zur Strahleinfallsebene des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche (8) des Meßprismas (7) stehenden Achse kippbar angeordnet ist.
7. Anordnung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Planspiegelfläche (10) als Begrenzungsfläche des Meßprismas (7) ausgebildet ist, wobei die Planspiegelfläche (10) als Begrenzungsfläche des Meßprismas (7) unter einem Winkel unterhalb des Grenzwinkels der Totalreflexion des Prismenwerkstoffes zur teildurchlässigen Referenzfläche (8) angeordnet ist.
8. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Endspiegel als 90°-Dachkantspiegel (15) ausgebildet ist.
9. Anordnung nach Anspruch 1 und 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßprisma (7) um eine senkrecht zur Strahleinfallseben des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche (8) des Meßprismas (7) stehenden Achse kippbar angeordnet ist.
10. Anordnung nach Anspruch 1,8 und 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelflächen des Dachkantprismas (15) als Begrenzungsflächen des Meßprismas (7) ausgebildet sind.
11. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Endspiegel als Tripelspiegel ausgebildet ist.
12. Anordnung nach Anspruch 1 und 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Meßprisma (7) um eine senkrecht zur Strahleinfallsebene des Eingangsstrahlenbündels auf die teildurchlässige Referenzfläche (8) des Meßprismas (7) stehenden Achse kippbar angeordnet ist.
13. Anordnung nach Anspruch 1,11 und 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Tripelspiegel fachen als Begrenzungsflächen des Meßprismas (7) ausgebildet sind.
14. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf die teildurchlässige Referenzfläche (8) eine Beschichtung aufgebracht ist.
15. Anordnung nach Anspruch 1 und 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung als Absorptionsschicht ausgebildet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33200089A DD288215A5 (de) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | Anordnung zur interferenzpruefung von oberflaechen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33200089A DD288215A5 (de) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | Anordnung zur interferenzpruefung von oberflaechen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD288215A5 true DD288215A5 (de) | 1991-03-21 |
Family
ID=5611798
Family Applications (1)
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DD33200089A DD288215A5 (de) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | Anordnung zur interferenzpruefung von oberflaechen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD288215A5 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9383306B2 (en) | 2014-11-26 | 2016-07-05 | Universität Stuttgart | Apparatus and a method for spectroscopic ellipsometry, in particular infrared spectroscopic ellipsometry |
-
1989
- 1989-08-22 DD DD33200089A patent/DD288215A5/de not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9383306B2 (en) | 2014-11-26 | 2016-07-05 | Universität Stuttgart | Apparatus and a method for spectroscopic ellipsometry, in particular infrared spectroscopic ellipsometry |
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