DD274591A1 - Schichtverbund - Google Patents
Schichtverbund Download PDFInfo
- Publication number
- DD274591A1 DD274591A1 DD31879488A DD31879488A DD274591A1 DD 274591 A1 DD274591 A1 DD 274591A1 DD 31879488 A DD31879488 A DD 31879488A DD 31879488 A DD31879488 A DD 31879488A DD 274591 A1 DD274591 A1 DD 274591A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- carbon
- layer
- layers
- amorphous
- silicon
- Prior art date
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Optik und der Optoelektronik und betrifft Schichtverbunde, wie z. B. Kohlenstoffschichten auf IR-transparenten Substraten. Die Aufgabe der Erfindung, die Haftfestigkeit von Kohlenstoffschichten auf IR-transparenten Halogenid-, Chalkogenid- und Puictid-Substraten zu verbessern, wird erfindungsgemaess dadurch geloest, dass zwischen Substrat und hart-amorpher (diamantaehnlicher) Kohlenstoffschicht eine oder mehrere haftvermittelnde Zwischenschichten mit einer Gesamtdicke von 1-50 Atomlagen angeordnet sind, wobei mindestens eine Zwischenschicht aus weich-amorphem (graphitaehnlichem) Kohlenstoff besteht oder diesen enthaelt und zusaetzlich Silizium und/oder Reaktionsprodukte des Siliziums mit Kohlenstoff als Schicht oder Schichtbestandteil mit 0-50 Massenanteilen enthalten sind. Der erfindungsgemaesse Schichtverbund zeigt eine sehr gute Haftung der Schichten auf dem Substrat.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Optik und der Optoelektronik und betrifft Schichtverbunde wie z. B. Kohlenstoffschichten auf IR-transparenten Substraten, die z. B. in der Laseroptik Anwendung finden.
Charakteristik des bekannten Standes der Technik
Es ist bekannt, hart-amorphe Kohlenstoffschichten auf optisch transparenten Substraten anzuwenden. Sie werden sowohl als Schutzschichten als auch als Antireflexionsschichten eingesetzt (Bubenser, A., u.a., Optical Engineering, März/April 1984, Vol. 23, No. 2, S. 153-156). Als Substratmaterialien werden Silizium, Germanium, verschiedene Gläser, Quarz, Natriumchlorid, Kaliumchlorid oder Zinkselenid verwendet. Darauf befindet sich jeweils eine Schicht aus hart-amorphem Kohlenstoff, die durch verschiedene Abscheideverfahren aufgebracht werden kann.
Der Nachteil dieser bekannten Lösung besteht darin, daß die Lebensdauer von beschichteten Halogenid-, Chalkoge.iid- und Pnictid-Substraten unzureichend ist.
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist es, die Lebensdauer von beschichteten IR-transparenten Halogenid-, Chalkogenid- und Pnictid-Substraten zu erhöhen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Haftfestigkeit von Kohlenstoffschichten auf IR-transparenten Halogenid-, Chalkogenid- und Pnictid-Substraten zu verbessern. Die Aufgabe wird mit einem Schichtverbund, bestehend aus IR-transparente Halogenid-, Chalkogenid- oder Pnictid-Substraten und einer hart-amorphen (diamantähnlichen) Kohlenstoffschicht, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß zwischen Substrat und hart-amorpher (diamantähnlicher) Kohlenstoffschicht eine oder mehrere haftvermittelnde Zwischenschichten mit einer Gesamtdicke von 1-50 Atornlagen angeordnet sind, wobei mindestens eine Zwischenschicht weich-amorphem (graphitähnlichem) Kohlenstoff besteht oder diesen enthält und zusätzlich Silizium und/oder Reaktionsprodukte des Siliziums mit Kohlenstoff als Schicht oder Schichtbestandteil mit 0-50 Massenanteilen e ithalten sind
Der erfindungsgemäGe Schichtverbund zeigt eine sehr gute Haftung der Schichten auf dem Substrat.
Ein ZnSe-Fenster für einen CO2-Laser soll mit einem Antireflexionsüberzug, bestehend aus hart-amorphem (diamantähnlichem) Kohlenstoff der Schichtdicke V< versehen werden. Die Beschichtung wird mit der LPVD durchgeführt. Dabei sind in einer Vakuumkammer ein graphitisches Target und das ZnSe-Fenster parallel in einem Abstand von etwa 80mm angeordnet. Der Druck in der Kammer beträgt etwa 1O-3Pa. Mit einem Xe-Cl-Excimerlaser der Impulslänge 20ns und einer Energie von 10OmJ wird das graphitische Target verdampft und das entstehende Kohlenstoffplasma auf dem ZnSe-Fr nster abgeschieden. Durch Variation der Leistungsdichte des Lasers kann die Struktur der abgeschiedenen Kohlenstoifschk.ht (hart- oder weich-amorph) gezielt eingestellt werden. Über die Anzahl der Laserimpulse wird die Schichtdicke eingestellt.
Auf diese Weise wird ein ZnSe-Fenster mit einer 10 Atomlagen dicken weich-amorphen und einer */4-dicken hart-amorphen Kohlenstoffschicht versehen, wobei sehr gute Haftung aller Schichten des Schichtverbundes erzielt wird.
Die Reflexion des ZnSe-Fensters sinkt bei λ = 10,6μπΊ auf < 1 % und die Transmission steigt auf > 95%.
Ein NaCI-Fenster mit einen Co2-Laser soll mit einem Schutzüberzug, bestehend aus hart-amorphem Kohlenstoff der Schichtdicke 100nm, versehen werden. Die Beschichtung erfolgt entsprechend Beispiel 1, wobei die weich-amorphe Zwischenschicht aus Kohlenstoff der Dicke 10nm durch Ausheizen des Substrates bei 300 0C in 10min erzeugt wird. Dersehr gut haftende Kohlenstoff-Überzug verändert praktisch nicht die guten Transmissionseigenschaften des NaCI bei der Co2-I aserwellenlänge.
In einer Vakuumkammer entsprechend Beispiel 1 befinden sich neben einem ZnSe-Fenster für einen CO2-Laser ein graphitisches Target (Anordnung siehe Beispiel 1) und parallel neben diesem Target ein Siliziumtarget. Das ZnSe-Fensterwird mittels LPVD mi» 3 Atomlagen Silizium und anschließend entsprechend Beispiel 1 mit Kohlenstoff beschichtet. Ein so aufgebauter Schichtverbund haftet sehr gut auf dem Substrat.
Claims (1)
- Schichtverbund, bestehend aus IR-transparenten Halogenid-, Chalkogenid- oder Pnictid-Substraten und einer hart-amorphen (diamantähnlichen) Kohlenstoffschicht, dt durch gekennzeichnet, daß zwischen Substrat und hart-amorpher (diamantähnlicher) Kohlenstoffschicht eine oder mehrere haftvermittelnde Zwischenschichten mit einer Gesamtdicke von 1-50 Atomlagen angeordnet sind, wobei mindestens eine Zwischenschicht aus weich-amorphem (graphitähnlichern) Kohlenstoff besteht oder diesen enthält und zusätzlich Silizium und/oder Reaktionsprodukte des Siliziums mit Kohlenstoff als Schicht oder Schichtbestandteil mit 0-50 Massenanteilen enthalten sind.Anwendungsgebiet der Erfindung
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD31879488A DD274591A1 (de) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Schichtverbund |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD31879488A DD274591A1 (de) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Schichtverbund |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD274591A1 true DD274591A1 (de) | 1989-12-27 |
Family
ID=5601631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD31879488A DD274591A1 (de) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Schichtverbund |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD274591A1 (de) |
-
1988
- 1988-08-09 DD DD31879488A patent/DD274591A1/de not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2026805A1 (de) | Aufzeichnungsträger und Verfahren zur Datenaufzeichnung mittels eines Laserstrahles | |
| DE3728837C2 (de) | ||
| DE3902596C2 (de) | ||
| DE3434583A1 (de) | Reflexvermindernde beschichtung fuer ein optisches bauteil und verfahren zu ihrer ausbildung | |
| DE60111889T2 (de) | Silizium-Wärmeisolierungsdecke | |
| DE2931309A1 (de) | Interferenzfilter und verwendung desselben | |
| DE19537263C2 (de) | Transparente Wärmeschutzfolie und Verfahren zu deren Herstellung | |
| EP0584147B1 (de) | Elektrochromes lichtventil und verfahren zu dessen herstellung sowie anwendung desselben | |
| DE102015103494B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Reflektorelements und Reflektorelement | |
| DE3818341A1 (de) | Kunststoff-halbspiegel | |
| EP0918234A1 (de) | Verbundmaterial, insbesondere für Reflektoren | |
| DD204693A1 (de) | Verfahren zur herstellung waermereflektierender scheiben | |
| EP1271501A2 (de) | Optische Datenspeicherscheibe | |
| DD295144A5 (de) | Fassadenplatte, verfahren zu ihrer herstellung sowie verwendung derselben | |
| EP1307767B1 (de) | Reflexionsmindernde beschichtung | |
| DE3909654A1 (de) | Reflexionsverhindernder film fuer optische teile aus kunststoff | |
| DD274591A1 (de) | Schichtverbund | |
| DE19541014B4 (de) | Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems | |
| DD274592A1 (de) | Schichtverbund | |
| DE102017214736B4 (de) | Optische Anordnung zur gleichzeitigen Ausbildung von Oberflächenstrukturen an einem Substrat mittels direkter Laserinterferenzstrukturierung | |
| US5242709A (en) | Method for hardening zinc selenide and zinc sulfide | |
| DE102004043871A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines strahlungsabsorbierenden optischen Elements und strahlungsabsorbierendes optisches Element | |
| DE19838826B4 (de) | Optisches Element mit transparenter, kratzfester Beschichtung, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung | |
| EP1164388B1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Gegenstands, der optische Schichten aufweist | |
| DE2133129C3 (de) | Hygroskopischer Kristall mit einer gut haftenden Deckschicht, vorzugsweise einer Vergütungs- oder Spiegelschicht |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| UW | Conversion of economic patent into exclusive patent | ||
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |