DD261812A1 - Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung - Google Patents

Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung Download PDF

Info

Publication number
DD261812A1
DD261812A1 DD30435987A DD30435987A DD261812A1 DD 261812 A1 DD261812 A1 DD 261812A1 DD 30435987 A DD30435987 A DD 30435987A DD 30435987 A DD30435987 A DD 30435987A DD 261812 A1 DD261812 A1 DD 261812A1
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
cathode
side magnet
electron source
arrangement
magnetic field
Prior art date
Application number
DD30435987A
Other languages
English (en)
Inventor
Andreas Mohnke
Original Assignee
Elektronische Bauelemente Veb
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elektronische Bauelemente Veb filed Critical Elektronische Bauelemente Veb
Priority to DD30435987A priority Critical patent/DD261812A1/de
Publication of DD261812A1 publication Critical patent/DD261812A1/de

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Die erfinderische Loesung bezieht sich auf die Hochratezerstaeubung bei der Beschichtung von Substraten und von Werkstuecken beliebiger Art mit haftfesten Ueberzuegen. Die Anordnung bezieht sich auf eine Katodenzerstaeubung mit Trichtermagnetfeld und zusaetzlicher Elektronenquelle. Die Elektronenquelle speist Elektronen an der Spitze des Trichtermagnetfeldes ein. Durch die Anordnung der erfinderischen Mittel erhoeht sich die Erosionsrate der Katode und die Entladungsspannung sinkt.

Description

Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung bezieht sich auf die Hochratekatodenzerstäubung. Es werden dünne, haftfeste Schichten auf Substrate und Werkstücke beliebiger Art abgeschieden.
Charakteristik des bekannten Standes der Technik
Aus den Patentschriften DD 208633 und DD 218634 sind Einrichtungen für die Hochratezerstäubung mit Trichtermagnetfeld bekannt.
Ihre Abscheiderate läßt sich allerdings nur durch eine Vergrößerung der zugeführten elektrischen Leistung steigern, weil die Ionisation des Arbeitsgases und damit der Strom positiver Gasionen zum Target begrenzt ist.
In der PS-US 4588490 und im Journal of Vacuum Science und Technology A4 (1986) 3, S. 393 bis 396 wird.eine Magnetronzerstäubungs„einrichtung beschrieben, die aus einer Hohlkatodenquelle für Elektronen und einem bekannten Planarmagneten besteht. Die Hohlkatodenquelle führt Elektronen durch das magnetische Ringspaltfeld in die Ringspaltentladung ein, was zu einerrrbedeutenden Anwachsen der Erosions- bzw. Abscheiderate führt. Die Elektronen müssen allerdings erst das magnetische Ringspaltfeld durchqueren, um in das Entladungsplasma zu gelangen.
Aus diesem Grunde ist die Hohlkatodenquelle nahe am Target und möglichst im magnetischen Ringspaltfeld angeordnet. Das hat Instabilitäten der Entladung und Verluste an Elektronen zur Folge. Des weiteren verteilen sich die Elektronen wegen der
punktförmigen Einspeisung nicht gleichmäßig über das Target. ·
Eine verbesserte Hohlkatodenquelle mit mehreren Austrittsöffnungen für Elektronen wäre zu aufwendig.
Ziel der Erfindung
Der nützliche Effekt zum bekannten Stand der Technik besteht darin, daß mit der erfinderischen Lösung die Abscheidung dünner Schichten in kürzerer Zeit erfolgt und bei guter Ausnutzung des Targets erreicht wird.
Darlegung des Wesens der Erfindung
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung zur Katodenzerstäubung zu schaffen, die eine stabile Glimmentladung und eine gleichmäßige Verteilung der Elektronen aus der Elektronenquelle über das gesamte Target ermöglicht.
Die Elektronen sollen dem Entladungsplasma direkt zugeführt werden, ohne das Magnetfeld erst durchstoßen zu müssen.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Austrittsöffnung der Elektronenquelle auf die Katode mit dem Target gerichtet ist und daß die Austrittsöffnung der Elektronenquelle in einem Abstand zum katodenseitigen Magneten der Magneteinrichtung angeordnet ist, der etwa gleich dem Abstand des nichtkatodenseitigen Magneten ist.
Ein katodenseitiger Ringmagnet und ein in einem Abstand von ihm befindlicher nichtkatodenseitiger Magnet sind so gepolt, daß sie sich gegenseitig anziehen.
Wegen der größeren Polfläche des katodenseitigen Ringmagneten bildet sich ein trichterförmiges Magnetfeld mit der größeren Öffnung zur Katode bzw. zum Target. Beide Magnete sind Permanentmagnete. Der katodenseitige Magnet trägt auf der dem Target abgewandten Seite eine Kurzschlußplatte aus magnetisch gut leitendem Material.
Die Elektronenquelle speist Elektronen an der Spitze des Trichtermagnetfeldes ein. Das elektrische Feld der Glimmentladung erfaßt diese Elektronen und läßt sie im Trichtermagnetfeld schwingen.
Da die Elektronen direkt an der Spitze des Magnetfeldes zugeführt werden, müssen sie das Magnetfeld nicht erst durchqueren, um ins Entladungsplasma zu gelangen.
Durch die Bewegung im trichterförmigen Kanal können sie sich ungehindert über das gesamte Target ausbreiten.
Als Elektronenquelle eignen sich beispielsweise Hohlkatodenentladungsröhren oder Glühfäden.
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert.
In Fig. 1 wird eine Anordnung zur Hochratezerstäubung mit Trichtermagnetfeld und zusätzlicher Elektronenquelle zur Zerstäubung eines ebenen Targets dargestellt.
Die Anordnung enthält eine Katode mit Target 1, einem ringförmigen katodenseitigen Magneten 9 und einem nichtkatodenseitigen Ringmagneten 10, der zentrisch bezüglich des katodenseitigen Magneten und in einem Abstand von vorzugsweise drei bis zehn cm zum katodenseitigen Magneten angeordnet ist.
Der katodenseitige Manget trägt auf der der Katode mit Target abgewandten Seite eine Kurzschlußplatte 8 aus magnetisch leitendem Material. Beide Magnete sind Permanentmagnete. Sie sind auf Anziehung gepolt. Da die Polfläche des katodenseitigen Magneten größer als die des nichtkatodenseitigen Magneten ist, bilden sich Feldlinien des magnetischen Trichterfeldes 6, dessen größere Öffnung auf der Katode mit Target liegt.
In der Nähe des katodenseitigen Magneten befinden sich Feldlinien des Ringspaltmagnetfeldes 7.
Die Form der Feldlinien des magnetischen Trichterfeldes ist durch Verschiebung des nichtkatodenseitigen Magneten in vertikaler und/oder horizontaler Richtung einfach zu beeinflussen. Die Substrate 3 sind auf einem Substrathalter 2 befestigt.
Eine Elektronenquelle 5 mit der Austrittsöffnung 4 ist durch den nichtkatodenseitigen Magneten (Ringmagneten) und durch den Substrathalter auch in vertikaler und/oder horizontaler Richtung bewegbar.
Als Elektronenquelle bietet sich vorzugsweise eine Hohlkatodenentladungsröhre an.
Die Katode mit Target ist mit dem negativen Pol einer Gleichspannungsquelle verbunden, die positive Anode umgibt die Katode ringförmig. Bei HF-Zerstäubung übernimmt der metallische Rezipient die Funktion der Anode.
Die Elektronenquelle wird in bekannter Weise mit einer Spannungsquelle verbunden.
(Anode und Spannungsquelle sind nicht dargestellt.)
Die Elektronenquelle speist Elektronen an der Spitze des Trichtermagnetfeldes ein. Das elektrische Feld der Glimmentladung erfaßt diese Elektroden und läßt sie im Trichtermagnetfeld in vertikaler Richtung schwingen. Sie verteilen sich über die gesamte Katode mit Target. Die eingeführten Elektronen bewirken einen sprunghaften Anstieg der Ionisation des Arbeitsgases.
Dadurch stehen vermehrt positive Ionen zum Abtrag der Katode zur Verfügung. Die Entladungsspannung verringert sich drastisch.
Die besonderen Vorteile der Trichterfeldanordnung sind eine homogene Abtragung der Katode im Bereich der großen Öffnung des Trichtermagnetfeldes und die Möglichkeit eine magnetisch leitende Katode mit beliebiger Dicke zu zerstäuben.

Claims (1)

  1. Anordnung zur Hochratezerstäubung in einer Katodenzerstäubungsanlage mit zusätzlicher Elektronenquelle, unter Verwendung eines katodenseitigen Magneten (9) und eines nichtkatodenseitigen Magneten (10), der in einem Abstand vom katodenseitigen Magneten und vorzugsweise zentrisch bezüglich des katodenseitigen Magneten angeordnet ist, wobei die Polfläche des katodenseitigen Magneten größer als die Polfläche des nichtkatodenseitigen Magneten ist, und einer Elektronenquelle, vorzugsweise einer Hohlkatodenquelle,gekennzeichnet, daß die Austrittsöffnung (4) der Elektronenquelle (5) auf die Katode mit Target (1) gerichtet ist und die Austrittsöffnung in einem Abstand zum katodenseitigen Magneten angeordnet ist, der etwa gleich dem Abstand des nichtkatodenseitigen Magneten ist.
    Hierzu 1 Seite Zeichnung
DD30435987A 1987-06-30 1987-06-30 Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung DD261812A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD30435987A DD261812A1 (de) 1987-06-30 1987-06-30 Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD30435987A DD261812A1 (de) 1987-06-30 1987-06-30 Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD261812A1 true DD261812A1 (de) 1988-11-09

Family

ID=5590243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD30435987A DD261812A1 (de) 1987-06-30 1987-06-30 Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung

Country Status (1)

Country Link
DD (1) DD261812A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10047430B2 (en) 1999-10-08 2018-08-14 Applied Materials, Inc. Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10047430B2 (en) 1999-10-08 2018-08-14 Applied Materials, Inc. Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0502242B1 (de) Reaktive Zerstäubungsvorrichtung
DE2556607C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung
DE19651811B4 (de) Vorrichtung zum Belegen eines Substrats mit dünnen Schichten
DE1515294C3 (de) Trioden-Anordnung zur Zerstäubung von Stoffen mittels einer elektrischen Niederspannungsentladung
DE2463431C2 (de)
DE69814687T2 (de) Plasmavorrichtung mit einem mit einer spannungsquelle verbundenen metallteil, das zwischen einer rf-plasma-anregungsquelle und dem plasma angeordnet ist
DE19902146C2 (de) Verfahren und Einrichtung zur gepulsten Plasmaaktivierung
DE3521053A1 (de) Vorrichtung zum aufbringen duenner schichten auf ein substrat
DD252205A1 (de) Zerstaeubungseinrichtung
DE3708717A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur bearbeitung von festkoerperoberflaechen durch teilchenbeschuss
EP0211057A1 (de) Sputteranlage zum reaktiven beschichten eines substrates mit hartstoffen.
EP0782173A2 (de) Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats mit Hilfe des Chemical-Vapor-Deposition-Verfahrens
EP1144714A1 (de) Verfahren und einrichtung zum beschichten von substraten mittels bipolarer puls-magnetron-zerstäubung und deren anwendung
EP0772223A2 (de) Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats von einem elektrisch leitfähigen Target
DE2208032A1 (de) Zerstäubungsvorrichtung
DE112009001534T5 (de) Sputter-Vorrichtung und Sputter-Verfahren
DE19506513C2 (de) Einrichtung zur reaktiven Beschichtung
DE3880275T2 (de) Anlage und Verfahren zur Ablagerung einer dünnen Schicht auf ein durchsichtiges Substrat, insbesondere zur Herstellung von Glasscheiben.
DE1953659C3 (de) Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen
DD261812A1 (de) Anordnung zur hochratekatodenzerstaeubung
DE3503397C2 (de)
DE7606084U1 (de) Anordnung zum zerstaeuben von festkoerpern im hochvakuum, insbesondere von dielektrischen stoffen in wechselspannungs- kathodenzerstaeubungs-anlagen
DE10240337B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Separation von Partikeln aus einem von einem Target zur Beschichtung eines Substrates erzeugten Plasma im Vakuum
DD141932A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur teilchenstromionisierung und hochratebeschichtung
DE2800852C2 (de) Einrichtung zum Ionenplasma-Beschichten

Legal Events

Date Code Title Description
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee