DD150127A1 - METHOD FOR THE DEPOSITION OF STABLE NICKEL-PHOSPHOR RESISTANT LAYERS - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der chemischen Abscheidung von Nickel-Phosphor-Widerstandsschichten aus waeszrigen Nickelsalzloesungen.Das Ziel der Erfindung besteht darin, kleinste elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten bei gleichzeitig maximaler Schichtqualitaet zu realisieren. Die technische Aufgabe besteht darin, eine Verschiebung des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten in positiver Richtung zu verhindern, welche durch die erforderliche chemische Passivierung und thermische Behandlung erfolgt. Erfindungsgemaesz wird die Aufgabe dadurch geloest, dasz bei Anwendung von Metallsalzloesungen bei der Passivierung der pH-Werte fuer die Schichtabscheidung m so hoeher gewaehlt wird, je unmittelbarer die Behandlung nach der Schichtabscheidung erfolgt. Durch eine zusaetzliche Lagerung der Schichten in destilliertem oder entionisiertem Wasser wird der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient auf den notwendig kleinen Wert einstellen. Die Erfindungwird in der Elektronik bei der Herstellung von elektrischen Widerstaschichten angewandt.The invention relates to the field of chemical deposition of nickel-phosphorus resistance layers from aqueous nickel salt solutions. The object of the invention is to realize minimum electrical resistance temperature coefficients with maximum layer quality. The technical object is to prevent a shift of the electrical resistance temperature coefficient in the positive direction, which is done by the required chemical passivation and thermal treatment. According to the invention, this object is achieved by the fact that the more the treatment is carried out after the layer deposition, the more is selected when using metal salt solutions in the passivation of the pH values for the layer deposition m. By additionally storing the layers in distilled or deionized water, the electrical resistance temperature coefficient will be set to the necessary low value. The invention is used in electronics in the production of electrical resistive layers.
Description
220 205 -<220 205 - <
Verfahren zur Abscheidung stabiler NickeI-Phosphor-WiderstandsschichtenMethod for depositing stable nickel-phosphate resistance layers
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung bezieht sich auf das Anwendungsgebiet der chemischen Abscheidung von Nickel-Phosphor-Widerstandsechichten aus wäßrigen Nickelsalzlösungen, die mindestens einen Komplexbildner für Nickelionen und Natriumhypophosphit als Reduktionsmittel enthalten.The invention relates to the field of application of the chemical deposition of nickel-phosphorus resistance layers from aqueous nickel salt solutions containing at least one complexing agent for nickel ions and sodium hypophosphite as reducing agent.
Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions
Es ist bekannt, daß die chemische Abscheidung von Nickel-Phosphor-Legierungen für die Herstellung von elektrischen Widerstandsschichten mit einem kleinen elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten genutzt werden kann· Diese Legierungen werden auf keramischen Trägerkörpern aus wäßrigen Nickelsalzlösungen unter Verwendung von Natriumhypophosphit als Reduktionsmittel abgeschieden. In Abhängigkeit von den Verfahrensparamtern kann in unterschiedlicher Konzentration elementarer Phosphor in die Nickelschicht eingelagert werden, über dessen Gehalt der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient beeinflußt werden kann.It is known that the chemical deposition of nickel-phosphorus alloys can be used for the production of electrical resistance layers with a small electrical resistance temperature coefficient. These alloys are deposited on ceramic carrier bodies of aqueous nickel salt solutions using sodium hypophosphite as reducing agent. Depending on the process parameters elemental phosphorus can be incorporated in the nickel layer in different concentrations, on the content of the electrical resistance temperature coefficient can be influenced.
Die thermische, elektrische und klimatische Langzeitstabilität wird durch eine thermische und chemische Nachbehandlung der Schichten erreicht. Aus der DE 1 270 661 ist es bekannt, daß kleine elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten durch die Wahl eines geeigneten pH-Wertes während der AbscheidungThe thermal, electrical and climatic long-term stability is achieved by a thermal and chemical aftertreatment of the layers. From DE 1 270 661 it is known that small electrical resistance temperature coefficients by the choice of a suitable pH during the deposition
erreicht werden können. Die Abhängigkeit wird so beschrieben, daß unabhängig vom angestrebten Flächenwiderstandswert durch eine Verringerung des pH-Wertes -von 4,0 auf 2,5 der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient von +120 . 10" /0K auf -20 · 10"" /0K verändert werden kann. Durch eine Verringerung der Abscheide tempera tür von 98 0C auf 60 0C kann der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient bis zu 40 · 10 /0K noch weiter gesenkt werden.can be achieved. The dependency is described as that, regardless of the target sheet resistance value, by reducing the pH from 4.0 to 2.5, the electrical resistance temperature coefficient is +120. 10 "/ 0 K to -20 x 10""0 K can be changed /. By reducing the deposition tempera door of 98 0 C to 60 0 C, the electrical resistance temperature coefficient can be decreased up to 40 · 10/0 K further ,
Die beschriebenen Abhängigkeiten konnten.für andere Badzusammensetzungen nicht als allgemeingültig gefunden werden.The described dependencies could not be found to be generally valid for other bath compositions.
In der DE 1 690 507 wird zur Erreichung kleiner elektrischer Widerstandsteraperaturkoeffizienten über einen weiten Widerstandswertebereich vorgeschlagen, den pH-Wert umso höher zu wählen je hochohmiger die Widerstandsschicht sein soll. Der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient darf nicht zu negativ werden und in der Nähe von Null bleiben. Dabei wird keine konstante Badzusammensetzung gewählt, weil der höhere pH-Wert durch eine Verringerung des Anteils an Komplexbildner in der Lösung eingestellt wird·In DE 1 690 507, in order to achieve small electrical resistance toner coefficients over a wide resistance range, it is proposed that the higher the value of the pH value, the higher the resistance should be. The electrical resistance temperature coefficient must not become too negative and remain close to zero. In this case, no constant bath composition is chosen because the higher pH is set by a reduction in the proportion of complexing agent in the solution.
Diese Verfahrensweise ist für eine kontinuierliche Massenfertigung nicht geeignet.This procedure is not suitable for continuous mass production.
In der DD 99 251 wird ein Verfahren für die Massenfertigung und die Herstellung von kleinen elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten beschrieben, das aber die bei den inzwischen erhöhten Anforderungen an die Schichten die erforderliche chemische Passivierung und ihre Auswirkung auf den elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten nicht berücksichtigt.In DD 99 251 a method for the mass production and the production of small electrical resistance temperature coefficient is described, which does not take into account the required chemical passivation and its effect on the electrical resistance temperature coefficient at the now increased demands on the layers.
In der DD 114 103 wird eine Verfahrensweise zur chemischen Passivierung von Nickel-Phosphor-Widerstandsschichten zwecks Erhöhung der klimatischen Stabilität beschrieben. Der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient soll gegenüber dem Abscheide zustand möglichst wenig verändert werden. Die Veränderung des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten erfolgt in positiver Sichtung.DD 114 103 describes a procedure for the chemical passivation of nickel-phosphorus resistance layers in order to increase the climatic stability. The electrical resistance temperature coefficient should be changed as little as possible with respect to the deposition state. The change of the electrical resistance temperature coefficient takes place in positive sighting.
Die Anforderungen hinsichtlich der Reproduzierbarkeit der Verfahrenstechnik, der Schichtstabilität sowie hinsichtlich derThe requirements regarding the reproducibility of the process engineering, the layer stability as well as regarding the
Realisierung extrem kleiner elektrischer Widerstandstemperaturkoeffizienten sind so gestiegen, daß die genannten Verfahren diesen nicht mehr gerecht werden können·Realization of extremely small electrical resistance temperature coefficients have risen so much that the methods mentioned can no longer do justice to them.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziel der Erfindung ist es, auf der Basis der chemischen Nickelabscheidung bei guter Reproduzierbarkeit kleinste elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten bei gleichzeitig maximaler Schicht Stabilität zu erreichen.The aim of the invention is to achieve on the basis of chemical nickel deposition with good reproducibility smallest electrical resistance temperature coefficient at the same time maximum layer stability.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Die chemische Passivierung sowie thermische Behandlung der Schichten führt zu einer Verschiebung des elektrischen Widerstandsteraperaturkoeffizienten in positiver Richtung gegenüber den Zustand ohne chemische Nachbehandlung.The chemical passivation as well as thermal treatment of the layers leads to a shift of the electrical resistentaperaturkoeffizienten in the positive direction compared to the state without chemical aftertreatment.
Somit besteht die Aufgabe darin, trotz erforderlicher chemischer Passivierung und thermischer Nachbehandlung kleinste elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten bei gleichzeitig maximaler Schichtqualität zu realisieren.Thus, the object is, despite the required chemical passivation and thermal treatment, to realize the smallest electrical resistance temperature coefficients with maximum layer quality.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß bei Anwendung von Metallsalzlösungen als Passivierungslösungen der pH-Wert für die Schichtabscheidung umso höher gewählt wird, je unmittelbarer die Behandlung nach der Schichtabscheidung erfolgt, d. h. je stärker die Einwirkung ist. Durch eine zusätzliche abschließende Lagerung der mit Metallsalzlösungen behandelten Schichten in destilliertem bzw. entionisiertem Wasser wird der elektrische Widerstahdstemperaturkoeffizient durch seine dabei in Abhängigkeit von der Lagerzeit auftretende Veränderung auf den notwendig kleinen Wert eingestellt. Als maximale Temperatur zur thermischen Stabilisierung wird die Temperatur angewendet, bei der der lineare Verlauf des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten im Teraperaturintervall von -55 0C bis 100 0C noch erhalten bleibt.The object is achieved according to the invention in that, when using metal salt solutions as passivation solutions, the pH value for the layer deposition is selected to be higher, the more directly the treatment takes place after the layer deposition, ie the stronger the action. By additional final storage of the treated with metal salt solutions layers in distilled or deionized water, the electrical resistance temperature coefficient is adjusted by its occurring as a function of the storage time change to the necessary small value. The maximum temperature for the thermal stabilization the temperature is applied, wherein the linear profile of the electric resistance-temperature coefficient in the Teraperaturintervall from -55 0 C to 100 0 C is still maintained.
Untersuchungen an chemisch abgeschiedenen Nicke1-Phosphor-Widerstandsschichten haben gezeigt, daß die Schichten besonders im frisch abgeschiedenen Zustand eine hohe BeeinflußbarkeitInvestigations on chemically deposited Nicke1 phosphorus resistance layers have shown that the layers, especially in the freshly deposited state, have a high ability to be influenced
des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten in Abhängigkeit von der Behandlungsdauer in wäßrigen Medien zeigen, besonders solange sie noch nicht thermisch stabilisiert sind. Der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient verändert sich gegenüber seinem Ausgangswert, der nach den vorgegebenen Absehe ideparamtern zu erwarten gewesen wäre. Es wurde festgestellt, daß die Behandlung der frisch abgeschiedenen Schichten in wäßrigen Metallsalzlösungen den elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten in Abhängigkeit von der Schichtdicke und der Stärke der Wirkung der passivierenden Behandlung den elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten stets in positiver Richtung verändert und eine anschließende Lagerung der Schichten in destilliertem oder entionisiertem Wasser den elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten in Abhängigkeit von der Lagerzeit sowohl in positiver als auch in negativer Richtung verändert. Erfolgt eine Lagerung in entionisiertem Wasser ohne vorherige Behandlung der Schichten mit einer Metallsalzlösung, so wird der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient nur in positiver Richtung verschoben.show the electrical resistance temperature coefficient as a function of the treatment time in aqueous media, especially as long as they are not thermally stabilized. The electrical resistance temperature coefficient changes with respect to its initial value, which would have been expected after the predetermined Absehe ideparamtern. It has been found that the treatment of the freshly deposited layers in aqueous metal salt solutions, the electrical resistance temperature coefficient depending on the layer thickness and the strength of the effect of the passivating treatment always changes the electrical resistance temperature coefficient in the positive direction and subsequent storage of the layers in distilled or deionized water change electrical resistance temperature coefficient as a function of the storage time in both the positive and in the negative direction. If stored in deionized water without prior treatment of the layers with a metal salt solution, the electrical resistance temperature coefficient is shifted only in the positive direction.
Aus der Kenntnis dieser Zusammenhänge ist es trotz chemischer Nachbehandlung der Nickel-Phosphor-Widerstandsschichten zwecks Erhöhung der klimatischen Stabilität jetzt möglich, kleinste elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten reproduzierbar herzustellen.From the knowledge of these relationships, it is now possible despite chemical post-treatment of the nickel-phosphorus resistance layers to increase the climatic stability to reproducibly produce smallest electrical resistance temperature coefficient.
Es wurde gefunden, daß sich in Abstimmung mit der Nachbehandlungstechnologie stets Abscheideparameter der Vernickelungslösung finden lassen, bei denen sich in Abhängigkeit vom Flächenwiderstandswert sehr kleine elektrische Widerstandsteraperaturkoeffizienten einstellen. So wurde z. B. ermittelt, daß der pH-Wert der Vernickelungslösung während der Abscheidung umso höher eingestellt werden muß bei konstantem Flächenwiderstandswert, je stärker die Wirkung der Passivierungslösung auf die Schicht ist. Für einen Flächenwiderstandswert von 10 Ohm muß bei starker Einwirkung der pH-Wert für eine bestimmte Zusammensetzung der Vernickelungslösung 3,8 betragen. Bei schwächerer Einwirkung liegt der optimale pH-Wert bei 3,6 und nähert sich dem Wert an, der ohne chemische Nachbehandlung optimalIt has been found that deposition parameters of the nickel plating solution can always be found in coordination with the aftertreatment technology, in which very small electrical resistance toner coefficients are established as a function of the sheet resistance value. So z. For example, it has been found that the pH of the nickel plating solution during precipitation must be set higher with a constant sheet resistance, the stronger the effect of the passivation solution on the layer. For a sheet resistivity of 10 ohms, the pH for a given composition of the nickel plating solution must be 3.8 in the case of heavy exposure. At lower exposure, the optimum pH is 3.6, approaching the optimum value without chemical post-treatment
were. Die Stärke der Einwirkung der Passivierungslösung ist z. B. abhängig von der Konzentration der Metallsalzlösung, der Einwirkzeit und der Tatsache, ob die Passivierung vor der thermischen Stabilisierung, also unmittelbar nach der Beschichtung, oder nach der thermischen Stabilisierung durchgeführt wird. Von weiterem Nutzen für die Erreichung kleiner elektrischer Widerstandstemperaturkoeffizienten ist die Tatsache, daß sich bei einer abschließenden Lagerung der passivierten Widerstandsschichten nach einer erforderlichen Druckwasserwäsche der elektrische Widerstandstemperaturkoeffizient in Abhängigkeit von der Lagerzeit sowohl in positiver als auch in negativer Richtung verändern kann.were. The strength of the action of the passivation solution is z. B. depending on the concentration of the metal salt solution, the exposure time and the fact whether the passivation before the thermal stabilization, ie immediately after the coating, or after the thermal stabilization is performed. Of further benefit to achieving small electrical resistance temperature coefficients is the fact that in a final storage of the passivated resistive layers after a required pressurized water wash, the electrical resistance temperature coefficient may change depending on the storage time in both the positive and negative directions.
Für einen Flächenwiderstandswert von 15 Ohm und einer Passivierung mit einer 30 %igen Nickelsulfatlösung wurde folgende Abhängigkeit des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten von der Lagerzeit in entionisiertem Wasser festgestellt:For a surface resistance value of 15 ohms and a passivation with a 30% nickel sulfate solution, the following dependence of the electrical resistance temperature coefficient on the storage time in deionized water was found:
Lagerzeit min mittlerer Widerstaadsteraperaturkoeffizient . 10"°/0K Storage time min. Average resistance of the water. 10 "° / 0 ° K
5 135 13
15 1815 18
30 - 130 - 1
45 2345 23
Die Schichten wurden bei 220 0O über die Dauer von 24 Stunden thermisch stabilisiert.The layers were thermally stabilized at 220 ° C. for 24 hours.
Somit können negative elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten in positiver Richtung und positive.elektrische Widerstandstemperaturkoeffizienten in negativer Richtung verschoben werden, ohne daß die Qualität der Schichten vermindert wird.Thus, negative electrical resistance temperature coefficients in the positive direction and positive electrical resistance temperature coefficients in the negative direction can be shifted without lowering the quality of the layers.
Als maximal anwendbare Temperatur zur thermischen Stabilisierung der Schichten wird dabei die Temperatur angewendet, bei der sich noch ein linearer Verlauf des elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten im Temperaturbereich von -55 0O bis 100 0C beibehalten läßt. Als pH-Wert für dieAs the maximum applicable temperature for the thermal stabilization of the layers while the temperature is applied at which can still maintain a linear course of the electrical resistance temperature coefficient in the temperature range of -55 0 O to 100 0 C. As pH for the
Abscheidung wird dabei der Wert gewählt, bei dem sich ein minimaler elektrischer Widerstandstemperaturkoeffizient bei maximal möglicher Teraperungstemperatur einstellt. Für einen Flächeηwiderstandswert von 1 Ohm wäre bei einer bestimmten Badzusammensetzung fUr eine Stabilisierungstemperatur von 180 0C ein pH-Wert von 3,0 optimal, während sich für eine Stabilisierungstemperatur von 220 0O ein pH-Wert von 3,3 als optimal erweist.Deposition is chosen here the value at which sets a minimum electrical resistance temperature coefficient at the maximum possible terapillation temperature. For a Flächeηwiderstandswert of 1 ohm for a particular bath composition for a stabilization temperature of 180 0 C, a pH value of 3.0 would be optimal, while turns for a stabilization temperature of 220 0 O a pH of 3.3 to be optimal.
Ausführungsbeispieleembodiments
Ausführungsbeispiel 1Embodiment 1
Zylindrische Keramikträgerkörper werden in einer Zinn-II-Chloridlösung sensibilisiert und in einer Palladiurachloridlösung aktiviert, Nach sorgfältigem Abspülen werden die aktivierten Keramikträgerkörper in eine Vernickelungslösung folgender Zusammensetzung getaucht und bewegt:Cylindrical ceramic carrier bodies are sensitized in a stannous chloride solution and activated in a palladium-chloride solution. After thorough rinsing, the activated ceramic carrier bodies are immersed in a nickel plating solution of the following composition and agitated:
0,19 mol/1 Natriumhypophosphit . H2O 0,5 mol/1 Milchsäure0.19 mol / l sodium hypophosphite. H 2 O 0.5 mol / 1 lactic acid
0,04 raol/1 Propionsäure0.04 raol / 1 propionic acid
0,097 mol/1 Nickelsulfat . 7H2O0.097 mol / 1 nickel sulfate. 7H 2 O
Nach Erreichen eines Flächenwiderstandswertes von ca. 20 Ohm werden die beschichteten Keraraikträgerkörper aus der Lösung genommen und nach folgenden Verfahrensschritten chemisch nachbehandelt:After reaching a surface resistance value of about 20 ohms, the coated Keraraikträgerkörper be removed from the solution and chemically treated by the following steps:
- Abspülen in heißem Wasser bei 60 0C- Rinse in hot water at 60 0 C.
- Abspülen mit Leitungswasser- Rinse with tap water
- Passivieren in einer Nickelsulfatlösung mit einer Konzentration von 300 g/l für die Dauer von 5 minPassivate in a nickel sulphate solution at a concentration of 300 g / l for 5 minutes
- Abspülen mit Leitungswasser- Rinse with tap water
- Lagern in entionisiertem 7/asser- Store in deionized 7 / asser
Zur Erreichung eines mittleren TK-Wertes der Charge £ 15 . 10"6/°K wird die Beschichtung bei einem pH-Wert der Vernickelungslösung von 3,8 und einer Bescbchtungstemperatur von 84 0G durchgeführt. Als optimale Lagerzeit fürTo achieve a mean TK value of the batch £ 15. 10 "6 / ° K, the coating is carried out at a pH of the nickel plating of 3.8 and a Bescbchtungstemperatur of 84 G 0. The optimum storage time for
die abschließende Lagerung in entionisiertem Wasser zur Einstellung eines kleinen elektrischen Widerstandstemperaturkoeffizienten wurde eine Dauer von 30 Minuten ermittelt. Dabei ergab sich ein mittlerer. Widerstandstemperaturkoeffizient der Charge von 30 000 Widerständen von -0,7 . 10 /0K, der maximale Wert betrug 20,5 - 10 /0K und der minimale Wert betrug -11 . 1O-6/0K.the final storage in deionized water to set a small electrical resistance temperature coefficient was determined to be a duration of 30 minutes. This resulted in a mean. Resistance temperature coefficient of the batch of 30 000 resistors of -0.7. 10/0 K, the maximum value was 20.5 - 10/0 K and the minimum value was -11. 1O -6 / 0 K.
Die Schichten wurden 24 Stunden bei einer Temperatur von 488 0K thermisch stabilisiert.The layers were thermally stabilized for 24 hours at a temperature of 488 0 K.
Ausführungsbeispiel 2Embodiment 2
Zylindrische Keraraikträgerkörper werden wie im Ausführungsbeispiel 1 vorbehandelt und in einer Lösung gleicher Zusammensetzung auch auf einen Plächenwiderstandswert von 20 Ohm beschichtet. Jedoch erfolgt die chemische nachbehandlung nach folgenden Verfahrensschritten:Cylindrical Keraraikträgerkörper be pretreated as in Example 1 and coated in a solution of the same composition to a Plächenwiderstandswert of 20 ohms. However, the chemical treatment is carried out according to the following process steps:
- Abspülen in heißem Wasser bei 60 0C- Rinse in hot water at 60 0 C.
- Abspülen mit Leitungswasser- Rinse with tap water
- Lagern in entionisiertem Wasser für die Dauer von 15 Minuten- Store in deionized water for 15 minutes
Nach dieser Behandlung werden die beschichteten Keramikträgerkörper getrocknet und für die Dauer von 24 Stunden bei einer Temperatur von 488 0K thermisch stabilisiert. Die weitere Behandlung wird wie folgt vorgenommen:After this treatment, the coated ceramic carrier bodies are dried and thermally stabilized for a period of 24 hours at a temperature of 488 0 K. The further treatment is carried out as follows:
- Passivieren in einer Kickelsulfatlösung mit einer Konzentration von 300 g/l für die Dauer von 5 MinutenPassivate in a solution of Kickelsulfat at a concentration of 300 g / l for 5 minutes
- Abspülen mit Leitungswasser- Rinse with tap water
- Lagern in entionisiertem Wasser- Store in deionized water
- Trocknen der Schichten- drying the layers
Zur Erreichung eines mittleren TK-Wertes der Charge i=15 . 10"* /0K wird die Beschichtung bei einem pH-Wert der Vernickelungslösung von 3,55 und einer BeSchichtungstemperatür von 84 0C durchgeführt. Die optimale Lagerzeit für dieTo achieve a mean TK value of the batch i = 15. 10 "* / K 0 is carried out at a pH of the nickel plating of 3.55 and a coating temperature of 84 0 C door the coating. The optimum storage time for the
abschließende Lagerung in entionisiertem Wasser beträgt 30 Minuten. Dabei ergibt sich ein mittlerer elektrischer Widerstandstemperaturkoeffizient der Charge von 30 000 Widerständen von 1,6 . 10 /0K, der maximale Wert beträgt 13,3 . 10~6/°K und der minimale Wert beträgt -6,7 . 10"6/°K.final storage in deionized water is 30 minutes. This results in a mean electrical resistance temperature coefficient of the batch of 30 000 resistors of 1.6. 10/0 K, the maximum value is 13.3. 10 ~ 6 / ° K and the minimum value is -6.7. 10 " 6 / ° K.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22020580A DD150127A1 (en) | 1980-04-03 | 1980-04-03 | METHOD FOR THE DEPOSITION OF STABLE NICKEL-PHOSPHOR RESISTANT LAYERS |
Applications Claiming Priority (1)
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| DD22020580A DD150127A1 (en) | 1980-04-03 | 1980-04-03 | METHOD FOR THE DEPOSITION OF STABLE NICKEL-PHOSPHOR RESISTANT LAYERS |
Publications (1)
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| DD150127A1 true DD150127A1 (en) | 1981-08-12 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD150127A1 (en) |
-
1980
- 1980-04-03 DD DD22020580A patent/DD150127A1/en unknown
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