DE1810030A1 - Process for the treatment of a copper protective layer with an underlying, reflective silver layer - Google Patents
Process for the treatment of a copper protective layer with an underlying, reflective silver layerInfo
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Description
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ASAHIGLASSCO., LTD. 2-14, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo/ JAPANASAHIGLASSCO., LTD. 2-14, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo / JAPAN
Verfahren zur Behandlung einer Kupferschutzschicht mit einer darunter liegenden, reflektierenden Silberschicht.Method for treating a copper protective layer with a underlying, reflective silver layer.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung einer Kupferschutzschicht mit einer darunter liegenden, reflektierenden Silberschicht, Die Kupferschutzschicht wird durch chemische Reduktion auf einer reflektierenden Silberschicht, welche auf einer Glasplatte angeordnet ist, gebildet.The invention relates to a method for treating a copper protective layer with an underlying, reflective silver layer, the protective copper layer is created by chemical reduction on a reflective Silver layer, which is arranged on a glass plate, is formed.
H/KH / K
Durch die amerikanischen Patentschriften 2 664 363, 2 720 487 und 2 768 944 ist es bekannt, eine Kupferschutzschicht auf einer reflektierenden Silberschicht zu bilden, welche auf einer Glasplatte angeordnet ist. Bei diesen bekannten Verfahren wird derart vorgegangen, daß eine Kupfersulfatlösung und eine Suspension von fein verteiltem Metall auf der reflektierenden Schicht zur Einwirkung gebracht wird. Dieses Verfahren, welches nachstehend Cu-Back-Verfahren genannt wird, ist gut geeignet, um etwaige Beschädigungen der reflektierenden Silberschicht zu vermeiden. Mit diesem Verfahren gelingt ebenfalls die Hersteilung eines Spiegels mit einem ausreichenden Reflektionsvermögen, wobei selbst die Bildung einer dünnen Silberschicht möglich ist. Dies ist insofern von Vorteil, als Silber sehr teuer ist, so daß durch Anwendung einer·dünnen Silberschicht Kosten gespart werden können. Das ..Cu-Back-Vecfahren ist besonders vorteilhaft, wenn . die Kupfersulfatlösung einen sauren Stoff enthält - eine derartige Lösung wird nachstehend als saure Kupfersulfatlösung bezeichnet - wie dieg ia den ameri» kanischen Patentschriften 2 726 487 und 2 768 ψ4 beschrieben ist* wonach entweder 'Phosphorsäure oder Schwefelsaura ate aanr© Smtetans in Aawea-It is known from American patents 2,664,363, 2,720,487 and 2,768,944 to form a protective copper layer on a reflective silver layer which is arranged on a glass plate. In these known methods, the procedure is such that a copper sulfate solution and a suspension of finely divided metal are brought into action on the reflective layer. This method, which is referred to below as the Cu-Back method, is well suited to avoid any damage to the reflective silver layer. With this method it is also possible to produce a mirror with a sufficient reflectivity, whereby even a thin silver layer can be formed. This is advantageous in that silver is very expensive, so that costs can be saved by using a thin layer of silver. The .. Cu-Back process is particularly advantageous if. The copper sulphate solution contains an acidic substance - such a solution is hereinafter referred to as acidic copper sulphate solution - as described in the American patents 2,726,487 and 2,768,44 , according to which either phosphoric acid or sulfuric acid ate aanr © Smtetans in Aawea-
Damit eifis cilisa® So that eifis cilisa®
als "Pin-Holes" bezeichnet werden und von Lacken her als "Orangeneffekt" bekannt sind. Hierdurch entstehen in der Silberschicht Korrosionsstellen, weshalb die Silberschicht nicht ausreichend geschützt wird.are referred to as "pin holes" and as an "orange effect" when it comes to varnishes are known. This creates corrosion spots in the silver layer, therefore the silver layer is not adequately protected.
Die "Pin-Holes" sind weniger stark vorhanden, wenn die Dicke der Kupferschutzschicht zunimmt. Es liegt jedoch auf der Hand, daß der Dicke der Kupferschutzschicht nach oben gewisse Grenzen aus Gründen der Wirtschaftlichkeit gesetzt sind. Wird aus praktischen Gründen eine bestimmte Grenze hinsichtlich der Dicke der Kupferschicht eingehalten, so ist es jedoch sehr schwierig, wenn nicht sogar unmöglich,'sämtliche "Pin-Holes" zu vermeiden. In der Regel liegt die Dicke der Kupfer schicht in einem Bereich von 40 bis 20OmR. Es ist somit äußerst schwierig, eine Kupfer schutzschicht zu bilden, die gleichzeitig dünn ist und außerdem keine "Pin-Holes" aufweist. Das Cu-Back-Verfahren weist weiterhin folgenden Nachteil auf. Wenn eine saure Kupfersulfatlösung zur Herstellung einer Kupferschutzschicht benutzt wird, muß diese Lösung nach Bildung der Schicht vollständig ausgewaschen werden. Wenn das Waschen unvollständig ist, wird die Silberschicht allmählich durch den Rückstand an Säure zersetzt. Für einen sicheren Schutz gegen Zersetzung ist es erforderlich, die Kupferschutzschicht sorgfältig mit destilliertem Wasser zu waschen. Dieses Waschen erfordert einen relativ hohen Zeit- und Kostenaufwand.The "pin holes" are less present when the thickness of the copper protective layer increases. It is obvious, however, that the thickness of the copper protective layer has certain upper limits for reasons of economy are set. For practical reasons there is a certain limit In terms of the thickness of the copper layer, however, it is very difficult, if not impossible, to avoid all "pin holes". As a rule, the thickness of the copper layer is in a range from 40 to 20OmR. It is thus extremely difficult to form a protective copper layer at the same time is thin and also has no "pin holes". The Cu-Back process also has the following disadvantage. If an acidic copper sulphate solution is used to produce a protective copper layer, this solution must be used Formation of the layer can be washed out completely. If the washing is incomplete is, the silver layer is gradually decomposed by the residue of acid. For reliable protection against decomposition it is necessary that Wash the protective copper layer carefully with distilled water. This washing requires a relatively high expenditure of time and money.
Ausgehend von dem vorgenannten Stand der Technik ist es Aufgabe der Erfindung, die Nachteile der bekannten Verfahren, insbesondere des Cu-Back-Verfahrens zu vermeiden und die Herstellung einer Kupferschutzschicht zu ermöglichen, die keine "Pin-Holes" aufweist. Weiterhin soll erfindungsgemäß dasBased on the aforementioned prior art, the object of the invention is to avoid the disadvantages of the known processes, in particular the Cu-Back process and to enable the production of a copper protective layer, which has no "pin holes". Furthermore, according to the invention
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Waschen der Kupferschutzschicht entweder vereinfacht oder vollständig ' weggelassen werden, wobei zudem noch die Güte der Kupferschutzschicht verbessert werden soll. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kupferschutzschicht mit einer Chromierungslösung behandelt wird, die Chromsäure, Dichromsäure, Chromate und/oder Dichromate enthält.Washing of the copper protective layer either simplified or completely ' can be omitted, with the quality of the copper protective layer should be improved. According to the invention, this object is achieved by that the copper protective layer is treated with a chromating solution containing chromic acid, dichromic acid, chromates and / or dichromates.
Wenn die Kupferschutzschicht einer korrodierenden Atmosphäre ausgeset zt ' ist, findet eine punktweise Korrosion statt. Es wird angenommen, daß die Korrosionskerne von kleinen Fehlstellen der Schicht ausgehen, welche so klein sind, daß sie mit dem bloßen Auge unsichtbar sind. Diese kleinen Fehlstellen sind die vorgenannten "Pin-Holes".If the copper protective layer is exposed to a corrosive atmosphere there is point-wise corrosion. It is assumed that the cores of corrosion originate from small imperfections in the layer, which so are small that they are invisible to the naked eye. These little flaws are the aforementioned "pin holes".
Die Zahl der Korrosionskerne hängt von der Art der Atmosphäre ab, der die Kupferschutzschicht ausgesetzt wird. Die Zahl ist umso größer, je stärker die korrodierende Wirkung der Atmosphäre ist. Die Änderung der Zahl der "Pin Holes" kann durch folgende Hypothese erklärt werden.The number of corrosion nuclei depends on the type of atmosphere that the Copper protective layer is exposed. The stronger the number, the bigger it is is the corrosive effect of the atmosphere. The change in the number of "pin holes" can be explained by the following hypothesis.
Wie vorstehend erwähnt, weist eine sehr dünne Kupferschicht mit einer Dicke von 40 bis 200ητμ mehrere latente Fehlstellen auf, welche auf Störungen in der Ausrichtung der Kupferatome sowie auf andere Störungen zurückführen sind. Diese latenten Defekte und Fehlstellen wirken sich praktisch als "Pin-Holes" aus, die für die Korrosionskerne verantwortlich sind, wenn die Schicht einer korrodierenden Atmosphäre ausgesetzt ist.As mentioned above, a very thin layer of copper has a Thickness from 40 to 200ητμ several latent defects, which indicate disturbances in the alignment of the copper atoms as well as other perturbations. These latent defects and voids have a practical effect as "pin holes", which are responsible for the cores of corrosion, if the layer is exposed to a corrosive atmosphere.
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Die genannten Fehlstellen und Defekte sind von verschiedener Form und Typ.The mentioned flaws and defects are of various shapes and sizes Type.
Beim Typ A- zeigt sich eine praktische Auswirkung (tatsächliche Fehlstellen) sogar bei schwachen korrodierenden Einflüssen, z.B. bei einem Aufsprühen von destilliertem Wasser während 25 Sekunden mit nachfolgendem Trocknen. Beim Typ A„ zeigen sich tatsächlich Fehlstellen, wenn die Schicht etwas stärkeren korrodierenden Bedingungen ausgesetzt ist, z.B. bei einem Stehenlassen in einer Lösung von NaCl (30 g/l) während 48 Stunden bei Raumtemperatur, Beim Typ A„ zeigen sich tatsächliche Fehlstellen nur dann, wenn die Kupferschicht sehr starken korrodierenden Bedingungen ausgesetzt ist. Dies ist z.B. dann der Fall, wenn die Kupfer schicht mit einem Filterpapier in Berührung gebracht wird, welches mit einer wässrigen Lösung imprägniert ist, dieWith type A there is a practical effect (actual flaws) even with weak corrosive influences, e.g. when spraying distilled water for 25 seconds with subsequent drying. With type A “defects actually show up if the layer is somewhat thicker exposed to corrosive conditions, e.g. if left standing in a solution of NaCl (30 g / l) for 48 hours at room temperature, With type A “actual flaws only show up if the copper layer exposed to very strong corrosive conditions. This is the case, for example, when the copper layer is in contact with a filter paper is brought, which is impregnated with an aqueous solution that
60 g/l NaCl, 10 g/l Kaliumferricyanid und 1,2 cm /1 konzentrierten wässrigen Ammoniak enthält, wobei die Einwirkungszeit 5 Minuten bei Raumtemperatur beträgt.60 g / l NaCl, 10 g / l potassium ferricyanide and 1.2 cm / l concentrated aqueous Contains ammonia, the exposure time being 5 minutes at room temperature amounts to.
Wenn somit die Kupferschutzsehicht einer schwachen korrodierenden Atmosphäre ausgesetzt wird, entstehen aus den latenten Defekten vom Typ A- tatsächliche Defekte (d.h."Pin-Holes*').Wenn die Atmosphäre eine normale oder eine hohe korrodierende Wirkung hat, werden die latenten Defekte der Typen A- und A«, oder Aj, A„ und A„ zu tatsächlichen Defekten, d. h. zu "Pin-Holes" umgebildet. Durch die vorstehende Hypothese läßt sich erklären, warum die Zahl der "Pin-, Holes" größer ist, wenn die korrodierende Wirkung der Atmosphäre, der die Kupferschicht ausgesetzt ist, stärker wird.If thus the copper protective layer of a weak corrosive atmosphere is exposed arise from the latent defects of type A-actual Defects (i.e. 'pin holes *'). When the atmosphere is normal or high has a corrosive effect, the latent defects of types A and A «, or Aj, A "and A" to actual defects, i.e. H. converted to "pin holes". The above hypothesis explains why the number of "pin, Holes "is greater when the corrosive effect of the atmosphere, which is the Copper layer is exposed, becomes stronger.
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Aufgrund der erfindungsgemäßen Chromierungsbehandlung werden die latenten Fehlstellen und Defekte vom Typ A- bis zum Typ A3 und höher behoben, so daß eine erfindungsgemäß behandelte. Kupferschutzschicht selbst bei äußerst starker korrodierender Einwirkung keine "Pin-Holes" aufweist,Due to the chromating treatment according to the invention, the latent defects and defects of type A to type A 3 and higher are eliminated, so that one treated according to the invention. Copper protective layer does not have any "pin holes" even with extremely strong corrosive effects,
Warum das Waschen bei Vornahme der erfindungsgemäßen Chromierungsbehandlung in Wegfall kommen kann, ist nicht völlig geklärt. Es wird jedoch , angenommen, daß die "Entfernung" der latenten Defekte und der hierdurch gesteigerte Korrosionswiderstand der Schutzschicht der Grund hierfür ist, Eine andere Erklärung kann auch sein, daß die Kupfer schicht und/oder die Säure durch die Chromierungsbehandlung imobilisiert werden.Why the washing when performing the chromating treatment according to the invention can come in omission is not fully clarified. It will, however, assumed that the "removal" of the latent defects and the resulting increased corrosion resistance of the protective layer is the reason for this, Another explanation can also be that the copper layer and / or the Acid can be immobilized by the chromating treatment.
Wenn auch, wie vorstehend erwähnt, die tatsächlichen Gründe nicht völlig aufgeklärt sind, so bleibt jedoch festzuhalten, daß durch die erfindungsgemäße Behandlung der Verfahrensschritt des Waschens vollständig in Fortfall kommen kann. Durch die erfindungsgemäße Behandlung läßt sich sogar ein größerer Korrosionswiderstand der Schutzschicht erzielen, als bei einem äußerst sorgfältigen Waschen gemäß den bekannten Verfahren.Although, as mentioned above, the real reasons are not entirely are cleared up, it should be noted, however, that by the invention Treatment of the process step of washing can be omitted completely. The treatment according to the invention can even be used achieve greater corrosion resistance of the protective layer than with a extremely careful washing according to known procedures.
Bei praktischer Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die reflektierende Silberschicht auf der Glasplatte im Vakuum abgeschieden. Die Glasplatte wird sorgfältig mit reinem Wasser, z. B. destilliertem Wasser, gewaschen und sodann mit einer verdünnten Lösung von SnCl0 behandelt. Die Konzentration dieser Lösung liegt vorzugsweise zwischen 0,1 und 1%. DieWhen the method according to the invention is carried out in practice, the reflective silver layer is deposited on the glass plate in a vacuum. The glass plate is carefully washed with pure water, e.g. B. distilled water, washed and then treated with a dilute solution of SnCl 0. The concentration of this solution is preferably between 0.1 and 1%. the
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Behandlung der Glasplatte mit der SnCl2 -Lösung, die nachfolgend Inaktivierungsbehandlung genannt wird, verbessert die Bindekraft zwischen dem Glas und der Silberschicht. Zur Bildung der Silberschicht wird eine Lösung, welche ein Silbersalz und Ammoniak in Mengen von ca* 5 bis 25 Gramm bzw. ca. 10 bis 50 Gramm enthält - AgNO3 und NH4OH - benutzt (die vorstehenden Gewichtsangaben beziehen sich auf eine Menge von 1 Liter). Dieser Silber Salzlösung werden 30 bis 60% der stöichiometrischen Menge einer Lösung eines reduzierenden Agenz - z. B. Rochelle-Salz, Saccharic! oder Formaldehyd hinzugegeben. Die Mischung wird auf eine Glasplatte gegossen, wobei das Silbersalz reduziert wird, so daß sich auf der Glasplatte fest anhaftendes, metallisches Silber bildet, welches die reflektierende Silberschicht ergibt. Nach der Versilberung der Glasplatte wird die Silberschicht gewaschen und mit einer sauren Kupfersulfatlösung und einer Suspension von fein verteiltem Metall behandelt, wobei sich eine Kupferschutzschicht auf der Glasplatte bildet. Zu diesem Zweck können die in den amerikanischen Patentschriften 2 720 und 2 768 944 beschriebenen Verfahren in Anwendung kommen.Treatment of the glass plate with the SnCl 2 solution, which is referred to below as the inactivation treatment, improves the binding force between the glass and the silver layer. To form the silver layer, a solution containing a silver salt and ammonia in amounts of approx. 5 to 25 grams or approx. 10 to 50 grams - AgNO 3 and NH 4 OH - is used (the above weight data refer to an amount of 1 liter). This silver salt solution is 30 to 60% of the stoichiometric amount of a solution of a reducing agent - z. B. Rochelle Salt, Saccharic! or formaldehyde added. The mixture is poured onto a glass plate, the silver salt being reduced so that firmly adhering metallic silver forms on the glass plate, which results in the reflective silver layer. After the glass plate has been silvered, the silver layer is washed and treated with an acidic copper sulfate solution and a suspension of finely divided metal, a protective copper layer being formed on the glass plate. The methods described in US Pat. Nos. 2,720 and 2,768,944 can be used for this purpose.
Das fein verteilte Metall soll eine reduzierende Wirkung gegenüber den Kupferionen haben, westialb ein beliebiges der nachfolgend aufgeführten Metalle in Anwendung kommen kann: Zn, Fe, Cd, Ni, Co, Cr, W, Mo, Mn. Es können auch Legierungen dieser Metalle in Anwendung kommen. Die feinen und kleinen Teilchen des Metalles werden gleichmäßig mit Wasser zur Herstellung einer Suspension in einer Menge von 6 bis 12 Gramm pro Liter gernischt. Die Suspension wird auf die Silberschicht gleichzeitig mit der sauren Kupfersulfatlösung aufgesprüht. Die bevorzugt benutzte Volumenmenge beim Auf-The finely divided metal is said to have a reducing effect on the copper ions have, westialb any of the metals listed below in Can be used: Zn, Fe, Cd, Ni, Co, Cr, W, Mo, Mn. It can alloys of these metals are also used. The fine and small particles of the metal are evenly mixed with water for the preparation a suspension in an amount of 6 to 12 grams per liter. The suspension is applied to the silver layer simultaneously with the acidic copper sulfate solution sprayed on. The preferred volume used for the
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sprühen beträgt jeweils 20 Ms 30 cm nro dm .spray is 20 ms each 30 cm nro dm.
ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED
Die saure Kupfersulfatlösung ist eine Lösung, welche 50 bis 240 Gramm Kupfersulfat (CuSo4 ° 5 H2O) und 5 bis 20 Gramm einer sauren Substanz proThe acidic copper sulfate solution is a solution containing 50 to 240 grams of copper sulfate (CuSo 4 ° 5 H 2 O) and 5 to 20 grams of an acidic substance per
Liter enthält. Die vorgenannte saure Substanz kann eine beliebige organische oder anorganische Säure sein, z. B. Phosphorsäure, Schwefelsäure, Weinsäure, Oxalsäure, Ameisensäure. Es können auch Salze, wie z.B. Ammoniumpersulfat, in Anwendung kommen. Besonders bevorzugt werden Schwefelsäure und Ammoniumsulfat.Liter contains. The aforementioned acidic substance can be any organic or inorganic acid, e.g. B. phosphoric acid, sulfuric acid, tartaric acid, oxalic acid, formic acid. Salts such as e.g. Ammonium persulfate, come into use. Sulfuric acid and ammonium sulfate are particularly preferred.
Die Menge der sauren Kupfersulfatlösung wird so gewählt, daß 4er Anteil von CuSO; in der Lösung 5 bis lOmal .so groß ist wie die stöichiometrische Menge in bezug auf das fein verteilte Metall in der Suspension. Wenn die Suspension und die Lösung gleichzeitig auf die versilberte Glasplatte in den vorgenannten Mengen - d.h. ca. 20 bis 60 cm und.20 bis 60 cm pro 1 dm Silberschicht - aufgesprüht wenden, bildet sich eine Kupfer schutzschicht in einer Dicke von ca. 45 bis 100The amount of acidic copper sulphate solution is chosen so that the proportion is 4 of CuSO; in the solution is 5 to 10 times as large as the stoichiometric Amount related to the finely divided metal in the suspension. If the Suspension and the solution at the same time on the silver-plated glass plate in the the aforementioned amounts - i.e. approx. 20 to 60 cm and 20 to 60 cm per 1 dm Silver layer - when sprayed on, a protective copper layer forms in a thickness of approx. 45 to 100
Die so gebildete Kupferschutzschicht wird sodann mit einer Chromierungs™ lösung behandelt, die Chromsäure, Dichromsäure, Chromate und/oder Bichromate enthält.The copper protective layer formed in this way is then treated with a Chromierungs ™ solution treated, the chromic acid, dichromic acid, chromates and / or bichromates contains.
Bevorzugt werden als Chromate und Bichromate die Alkalimetallsalze oder Ammoniumsalze der Chromsäur© und der DicSiromsäwres wie z. B. Natriumchromat, Kaliumctiroraat, Ammoniumcferomatj, Kalramdictiromat,, Natrtamdichromat, Ammoiu'umdichromat usw.Preferred chromates and bichromates are the alkali metal salts or ammonium salts of chromic acid © and DicSiromsäwre s such as. B. Sodium chromate, Kaliumctiroraat, Ammoniumcferomatj, Kalramdictiromat ,, Natrtamdichromat, Ammoiu'umdichromat etc.
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Konzentration der Chromierungslösung liegt in einem Bereich von 0,01 bis 80 Gramm pro Liter, bevorzugt in einem Bereich von 0,1 bis 20 Gramm pro Liter. Besondere bevorzugt wird ein Bereich von 0,1 bis 2 Gramm pro Liter. Die Behandlungszeit ist zu lang, wenn die Konzentration zu niedrig ist. Der Kupferfilm wird aufgelöst, wenn die Konzentration der Lösung zu hoch ist. In beiden Fällen entstehen Nachteile=The concentration of the chromating solution is in the range of 0.01 to 80 grams per liter, preferably in a range from 0.1 to 20 grams per liter. A range from 0.1 to is particularly preferred 2 grams per liter. The treatment time is too long if the concentration is too low. The copper film is dissolved when the concentration of Solution is too high. In both cases there are disadvantages =
Bevorzugt enthält die Chromierungslösung keine starken Säuren, wie· Schwefelsäure und Salzsäure. Wenn eine starke Säure vorhanden ist, soll ein Wert von 0, 01 N oder weniger eingehalten werden, Eine Lösung, welche eine große Menge einer starken Säure enthält, bedingt eine Verschlechterung der Qualität der Kupferschicht. Die Gegenwart von Salpetersäure ist besonders schädlich.The chromating solution preferably does not contain any strong acids, such as Sulfuric acid and hydrochloric acid. If a strong acid is present, a value of 0.01 N or less should be observed, a solution which contains a large amount of a strong acid, it causes deterioration in the quality of the copper layer. The presence of nitric acid is particularly harmful.
Es wird erfindungsgemäß bevorzugt, zum Zwecke der Chromierung das mit der Kupferschicht versehene Produkt entweder in die Chromierungslösung einzutauchen oder die Chromierungslösung auf die Kupfer schutzschicht aufzusprühen. Beim Eintauchen liegt die erforderliche Zeit inIt is preferred according to the invention, for the purpose of chromating with the copper layer provided product either immerse in the chromating solution or the chromizing solution on the protective copper layer to spray on. When immersed, the time required is in
ca.
einem Bereich vor ca. 1 biSytöOO Sekunden. Beim Aufsprühen beträgt 4asapprox.
an area about 1 to 100 seconds ago. When spraying is 4as
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erforderliche Aufsprühvolumen ca. 5 bis 50 cm pro dm Kupfer schicht. Obgleich eine größere Sprühmenge an sich günstig ist, besteht hierbei jedoch der Nachteil höherer Kosten.Required spray volume approx. 5 to 50 cm per dm of copper layer. Although a larger spray amount is favorable per se, there is, however, the disadvantage here of higher costs.
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Die Kupfer Schutzschicht kann vor der Chromierungsbehandlung mit Wasser gewaschen werden. Ein Waschen mit Wasser kann jedoch auch nach der Chromierungsbehandlung erfolgen. Wenn auch, wie vorstehend erwähnt, ein zusätzliches Waschen vorgenommen werden kann, so ist dies zur Erzielung des erfindungsgemäß angestrebten Erfolges jedoch keinesfalls unbedingt erforderlich.The copper protective layer can be treated with water before the chromating treatment getting washed. However, washing with water can also be carried out after the chromating treatment. Even though, as mentioned above, an additional washing can be carried out, but this is by no means to achieve the success aimed for according to the invention absolutely necessary.
Erfindungsgemäß werden auch dann gute Ergebnisse erzielt, wenn die Chrömierung sofort nach Herstellung eines Produktes gemäß dem bekannten Cu-Back^Verfahren erfolgt, worauf sich ein Trocknen - ohne Waschen anschließt.According to the invention, good results are also achieved when the Chrome plating immediately after manufacturing a product according to the known Cu-Back ^ process takes place, which is followed by drying - without washing connects.
Weitere Einzelheiten und Merkmale der Erfindung sind aus der nachfolgenden Beschreibung von bevorzugten Ausführungsbeispielen ersichtlich.Further details and features of the invention are from the following Description of preferred embodiments apparent.
Eine Glasplatte wird sorgfältig mit destilliertem Wasser gewaschen und mit einer 0,3 % wässrigen Lösung von SnCIL behandelt. Sodann wird eineA glass plate is carefully washed with distilled water and treated with a 0.3% aqueous solution of SnCIL. Then becomes a
3 Mischung aus einem Liter einer Lösung A und 500 cm einer Lösung B j 3 Mixture of one liter of a solution A and 500 cm of a solution B j
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auf die Glasplatte in einer Menge von 5 cm pro dm gegossen, wobei eine reflektierende Silberschicht mit einer Dicke von 55 κιμ gebildet wird.poured onto the glass plate in an amount of 5 cm per dm, whereby a reflective silver layer with a thickness of 55 κιμ is formed.
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Lösung A: Silbersalz (ζ. B. AgNOJ 23 g/lSolution A: silver salt (ζ. B. AgNOJ 23 g / l
Ammoniak (NH4OH) 36 g/lAmmonia (NH 4 OH) 36 g / l
Lösung B: Zucker 10 g/lSolution B: sugar 10 g / l
Weinsäure 1,4 g/l.Tartaric acid 1.4 g / l.
Die reflektierende Silberschicht wird mit 25 cm einer Lösung C undThe reflective silver layer is with 25 cm of a solution C and
3
27 cm einer Lösung D besprüht, wobei eine Kupferschutzschicht mit einer Dicke von 87 ητμ erzeugt wird. 3
27 cm of a solution D sprayed, a copper protective layer with a thickness of 87 ητμ is generated.
Lösung C: CuSO4- 5 H3O 100 g/lSolution C: CuSO 4 - 5 H 3 O 100 g / l
(NH4)2 S2O8 10 g/l(NH 4 ) 2 S 2 O 8 10 g / l
Lösung D: Zn-Pulver (300 Maschen und weniger) θ g/l.Solution D: Zn powder (300 mesh and less) θ g / l.
Ohne Waschen wird das verkupferte Produkt in eine Chromierungslösung eingetaucht, die 5 g/l Chromsäure - CrO3 - enthält. Es wird während 5 Sekunden eingetaucht, nachfolgend schließt sich ein Trocknen an.Without washing, the copper-plated product is immersed in a chromating solution containing 5 g / l chromic acid - CrO 3 . It is immersed for 5 seconds, followed by drying.
Zur Prüfung des Korrosionsschutzes wird ein Filterpapier mit einer wässrigen Lösung imprägniert, die 60g/l NaCi, 10 g/l KaliumferricyanidA filter paper with a impregnated aqueous solution containing 60g / l NaCi, 10 g / l potassium ferricyanide
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und 1,2 cm /1 konzentrierten wässrigen Ammoniak enthält. Das impräg-3
and 1.2 cm / l of concentrated aqueous ammonia. The impres-
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nierte Filterpapier wird mit der Kupferechicht in Berührung gebracht und bei Raumtemperatur 5 Minuten lang stehen gelassen. Hierbei wird keine Schädigung oder Beeinträchtigung der reflektierenden Silberschicht festgestellt. nated filter paper is brought into contact with the copper layer and left at room temperature for 5 minutes. There will be no Damage or impairment of the reflective silver layer was found.
Bei der gleichen Korroeionspro.be wird ein sieht eteomieirteß Produkt ziemlieh stark korrodiert9 wobei sich 34 Korrosionsstellen pro dm zeigen/ obwohl die Kupferschicht während ca. 20 Sefesmden sorgfältig mit destilliertem Wasser abgewaschen worden war. 'With the same corrosion test, a product that looks eteomized is fairly heavily corroded 9 with 34 corrosion points per dm / although the copper layer had been carefully washed off with distilled water for about 20 days. '
Eine versilberte Glasplatte mit einer ehromier&en Küpferschichtj die ähnlich wie in Beispiel 1 hergestel^gwordcsn'ist, wiri ia eiae wäüsrige Lösung eingetauchtj, die 30 Gramm NaCÄpr© Liter ©istMlt. Di© Platte, wird wihreßd 48 Stunden bei Raumtemperatur ©ingeteuetiiL Is galgen sich keinerlei Beeinträchtigungen (Fleckee). A silver-plated glass plate with an Ehromier & en Küpferschichtj the similar as in Example 1, we are generally immersed in an aqueous solution, the 30 grams of NaCÄpr © liter © isMlt. The plate will be repeated 48 hours at room temperature © IngeteuetiiLis there are no impairments whatsoever (spots).
Im Gegensatz Merssu wird ein
15 Sekunden mit destilliertem
d. h. es zeigen sichIn contrast Merssu becomes a
15 seconds with distilled
ie it show up
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Beispiel 3 · Example 3
Eine durch Kupfer geschützte, versilberte Glasplatte wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, chromiert und in Luft während zwei Tagen stehen gelassen. Hierauf zeigt sich, daß der Glanz der Kupferschutzschicht der gleiche ist, wie er sofort nach der Herstellung gemäß dem Cu-Back-Verfahren beobachtet werden kann. Bei einem Produkt, bei dem die Kupferschutzschicht mit destilliertem Wasser während ca. 25 Sekunden gewaschen worden ist und bei dem ein Chromieren nicht stattgefunden hat, zeigt sich eine Schwarzfärbung in zwei Tagen, obgleich die Silberschicht nicht beeinflußt ist.A silver-plated glass plate protected by copper is, as in example 1, chromed and left to stand in air for two days. This shows that the gloss of the protective copper layer of the is the same as it is immediately after the production according to the Cu-Back method can be observed. In the case of a product in which the protective copper layer is washed with distilled water for approx. 25 seconds and in which chrome plating has not taken place, a black discoloration shows up in two days, although the silver layer has no effect is.
Ein ähnliches Produkt, auf welches destilliertes Wasser während ca. 5 Sekunden aufgesprüht worden ist und nachfolgend getrocknet wird, zeigt 100A similar product, on which distilled water for about 5 seconds 100 shows that it has been sprayed on and subsequently dried
2
Korrosionsstellen pro dm - der reflektierenden Silberschicht - nach 2 Tagen.2
Corrosion points per dm - the reflective silver layer - after 2 days.
Eine Mischung von 1 Liter einer Lösung A und 500 cm einer Lösung B wird auf eine Glasplatte gegossen, die mit destilliertem Wasser sorgfältigA mixture of 1 liter of solution A and 500 cm of solution B is poured onto a glass plate covered with distilled water carefully
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gewaschen und mit einer 0,1 % Lösung von SnCl2 behandelt worden ist.washed and treated with a 0.1% solution of SnCl 2.
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Es wird in einer Menge von 5 cm pro 1 dm . der Glasplatte aufgegossen, wobei eine reflektierende Silberschicht mit einer Dicke von 50 m^ erhalten wird.It is applied in an amount of 5 cm per 1 dm. poured onto the glass plate, a reflective silver layer having a thickness of 50 m ^ obtained will.
Die reilektierendjgjlilberschicht wird gleichzeitig mit 30 cm einer Lösung CThe reflective silver layer is coated with 30 cm of a solution C at the same time
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und mit 30 cm einer Lösung D - bezogen auf 1 dm - besprüht, wobei man eine Kupfer schutzschicht mit einer Dicke von 94 ΐημ erhält· .and with 30 cm of a solution D - based on 1 dm - sprayed, whereby one receives a protective copper layer with a thickness of 94 ΐημ ·.
Lösung C: CuSO4-OH2O 120 g/lSolution C: CuSO 4 -OH 2 O 120 g / l
H2SO4 7 g/lH 2 SO 4 7 g / l
Lösung D: Fe, feinverteilt 10 g/l (300 Maschenweiten oder weniger)Solution D: Fe, finely divided 10 g / l (300 mesh sizes or less)
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-Id--Id-
pro dm aufgesprüht, woran sich ein Trocknen anschließt.sprayed on per dm, followed by drying.
Eine starke kodierende Wirkung wird dadurch erzeugt, daß die Kupferschicht mit einem Filterpapier in Berührung gebracht wird, welches mitA strong coding effect is produced by the fact that the copper layer is brought into contact with a filter paper which is covered with
einer wässrigen Lösung imprägniert ist, die 60 g/l NaCl, 10 g/l Kaliumferricyanid und 1,2 cm /1 konzentrierten wässrigen Ammoniak enthält. Man läßt das Ganze bei Raumtemperatur während 5 Minuten stehen. Es zeigen sich keinerlei Beeinträchtigungen der reflektierenden Silberschicht. (Flecken).is impregnated with an aqueous solution containing 60 g / l NaCl, 10 g / l potassium ferricyanide and 1.2 cm / l concentrated aqueous ammonia. The whole is left to stand at room temperature for 5 minutes. It there are no impairments of the reflective silver layer. (Stains).
Ein in gleicher Weise hergestelltes Produkt, bei dem jedoch der Verfahrensschritt des Chremierens weggelassen wird, wird mit destilliertem WasserA product made in the same way, but in which the process step of chalking is omitted, is made with distilled water während ca. 30 Sekunden besprüht. Nach der Korrosionsprüfung zeigen sichsprayed for about 30 seconds. After the corrosion test, they show
ο 20 Korrosionsstellen pro dm .ο 20 corrosion spots per dm.
Ein versilbertes Glas, welches eine chromierte Kupferschutzschicht aufweist - ähnlich gemäß Beispiel 4 - wird in eine wässrige Lösung von NaCl (30 g/l) während 48 Stunden eingetaucht. Es zeigen sich keinerlei Beeinträchtigungen (Flecken) des Produktes.A silver-plated glass, which has a chromed copper protective layer - similar to Example 4 - is immersed in an aqueous solution of NaCl (30 g / l) immersed for 48 hours. There are no impairments (stains) on the product.
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Bei einem nicht chromierten Produkt, welches nur mit destilliertem Wasser während 20 Sekunden besprüht worden ist, zeigen sich bei einem EintauchenIn the case of a non-chromed product, which is only made with distilled water sprayed for 20 seconds show on immersion
2
von 6 Stunden 50 Korrosionsstellen pro dm .2
50 corrosion spots per dm within 6 hours.
Ein durch eine Kupfer schicht geschütztes, versilbertes Glas, welches in derselben Weise wie in Beispiel 4 beschrieben chromiert worden ist, wird der Atmosphäre während 2 Tagen ausgesetzt. Am Ende dieser Zeit zeigt die Schicht denselben Glanz wie unmittelbar nach dem Herstellen durch das Cu-Batk-Veriahren. A silver-plated glass protected by a copper layer, which has been chrome-plated in the same manner as described in Example 4, is exposed to the atmosphere for 2 days. At the end of this time, the layer shows the same gloss as immediately after production by the Cu-Batk process.
Im Gegensatz hierzu zeigt eine in gleicher Weise hergestellte Kupierschicht, die jedoch nicht chromiert, sondern nur mit destilliertem Wasser während 30 Sekunden besprüht und nachfolgend getrocknet worden ist, eine Schwarz-' färbung nach zwei Tagen, obwohl die Silberschicht intakt bleibt.In contrast to this, a cropping layer produced in the same way shows However, which is not chromed, but only with distilled water during Sprayed for 30 seconds and subsequently dried, blackening after two days, although the silver layer remains intact.
Eine ähnliche Kupferschutzschicht, die mit destilliertem Wasser während 5 Sekunden besprüht und getrocknet worden ist, zeigt nach zwei Tagen un-A similar copper protective layer that was treated with distilled water during Has been sprayed for 5 seconds and dried, shows after two days un-
2
gefähr 40 Korrosionsstellen pro dm. .2
40 corrosion spots per dm. .
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Eine Glasplatte wird sorgfältig mit destilliertem Wasser gewaschen und mit einer 0,05 % Lösung von SnCl« behandelt. Auf die Glasplatte werden 5 cm einer gemischten Lösung gegossen, die aus 1 Liter der Lösung AA glass plate is carefully washed with distilled water and treated with a 0.05% solution of SnCl «. 5 cm of a mixed solution consisting of 1 liter of solution A is poured onto the glass plate
und 500 cm der Lösung B besteht. Man erhält eine reflektierende Silberschicht mit einer durchschnittlichen Dicke von 54 m μ .and 500 cm of solution B. A reflective silver layer is obtained with an average thickness of 54 m μ.
Auf die reflektierende Silberschicht werden gleichzeitig nachfolgende Lösungen C und D in einer Menge von jeweils 40 cm pro dm aufgesprüht, wobei eine Kupferschutzschicht mit einer Dicke von 120 πμ gebildet wird.The following solutions are simultaneously applied to the reflective silver layer C and D sprayed on in an amount of 40 cm per dm each, with a copper protective layer with a thickness of 120 πμ is formed.
Lösung C: CuSO4. 5 H3O 100 g/lSolution C: CuSO 4 . 5 H 3 O 100 g / l
(NH4)2 S2O8 15 g/l(NH 4 ) 2 S 2 O 8 15 g / l
Lösung D: Zn fein verteilt 9,3 g/lSolution D: Zn finely divided 9.3 g / l
(300 Maschenweiten und weniger)(300 mesh sizes and less)
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Ohne Waschen wird die Kupferschutzschicht in eine Lösung von Natriumchromat (2 g/l, CrOJ während 3 Sekunden eingetaucht und getrocknet.Without washing, the protective copper layer is dissolved in a solution of sodium chromate (2 g / l, CrOJ immersed for 3 seconds and dried.
Eine starke korrodierende Wirkung wird dadurch erzeugt, daß die Kupferschicht mit einem Filterpapier während 5 Minuten bei Raumtemperatur in Berührung gebracht wird, welches mit einer wässrigen Lösung imprägniert ist, die 60 g/l NaCl, 10 g/l Kaliumferricyanid und 1,2 cm 1 konzentrierten, wässrigen Ammoniak enthält. Die Silberschicht zeigt keinerlei Beeinträchtigungen und bleibt völlig fleckenlos. Im Gegensatz hierzu zeigt eine ähnlich hergestellte Kupferschicht, die jedoch nicht chromiert, sondern lediglich mit destilliertem Wasser während ca. 30 Sekunden besprüht worden ist,A strong corrosive effect is produced by the fact that the copper layer is brought into contact with a filter paper for 5 minutes at room temperature, which is impregnated with an aqueous solution which is 60 g / l NaCl, 10 g / l potassium ferricyanide and 1.2 cm 1 concentrated, contains aqueous ammonia. The silver layer shows no impairments and remains completely spotless. In contrast, one shows similar Produced copper layer, which is not chromed, but only has been sprayed with distilled water for approx. 30 seconds,
ο
ca. 20 Korrosionsstellen pro dm , wenn derselbe korrodierende Einfluß ο
approx. 20 corrosion points per dm if the same corrosive influence
vorhanden ist.is available.
Eine versilberte Glasplatte, die eine chromierte Kupferschutzschicht ähnlich der gemäß Beispiel 7 aufweist, wird in eine wässrige Lösung von NaCl (30 g/l) während 48 Stunden eingetaucht. Auch hierbei wird keinerlei Fleckenbildung beobachtet. Im Gegensatz hierzu zeigt eine Kupferschicht, die nicht chromiert, sondern nur mit destilliertem Wasser während 5 Sekunden ge-A silver-plated glass plate that resembles a chrome-plated copper protective layer which has according to Example 7 is immersed in an aqueous solution of NaCl (30 g / l) for 48 hours. Again, there is no staining whatsoever observed. In contrast to this, a copper layer that is not chromed, but only treated with distilled water for 5 seconds
waschen worden ist, ca. 40 Korrosionsstellen pro dm nach einem 6-stündigen Eintauchen.has been washed, approx. 40 corrosion points per dm after a 6 hour period Immersion.
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Eine versilberte Glasplatte mit einer Kupferschicht - siehe Beispiel 7 -wird in Luft während 2 Tagen stehen gelassen. Der Glanz der Kupferschutzschicht bleibt völlig unverändert. Im Gegensatz hierzu zeigt eine in derselben Weise gebildete Kupferschicht, bei der anstelle des Chromierens jedoch ein Abwaschen mit destilliertem Wasser während 30 Sekunden durchgeführt wurde, eine Schwarzfärbung in 2 Tagen, obwohl die Silberschicht nicht beeinflußt worden ist. Wenn eine ähnlich gebildete Kupferschicht mit destilliertem Wasser während 5 Sekunden gewaschen wird, zeigen sich 30 Korrosionsstellen pro dm nach einer Zeit von 2 Tagen.A silver-plated glass plate with a copper layer - see Example 7 - is left to stand in the air for 2 days. The shine of the copper protective layer remains completely unchanged. In contrast, a Copper layer formed in the same way, but instead of chroming, washing off with distilled water for 30 seconds was carried out, blackening in 2 days, although the silver layer was not affected. If a similarly formed copper layer is washed with distilled water for 5 seconds, 30 points of corrosion per dm appear after a period of 2 days.
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