CZ6682U1 - Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho - Google Patents
Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho Download PDFInfo
- Publication number
- CZ6682U1 CZ6682U1 CZ19977150U CZ715097U CZ6682U1 CZ 6682 U1 CZ6682 U1 CZ 6682U1 CZ 19977150 U CZ19977150 U CZ 19977150U CZ 715097 U CZ715097 U CZ 715097U CZ 6682 U1 CZ6682 U1 CZ 6682U1
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- graphite
- silicon
- cultivation
- czochralski method
- crucible
- Prior art date
Links
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 23
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 4
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003698 anagen phase Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000035784 germination Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
Oblast techniky
Technické řešení se týká zařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho.
Dosavadní stav techniky
Pěstování monokrystalů polovodičového křemíku tažením z taveniny na zárodku metodou Czochralskiho je jednou z nejrozšířenějších a průmyslově nejpoužívanějších metod přípravy tohoto základního materiálu pro elektroniku. Používá se všude tam, kde se požaduje velký průměr připravovaných krystalů, relativně velká koncentrace elektricky aktivních příměsí a kde nevadí, případně je i technologicky příznivá vyšší koncentrace kyslíku ve vyrobených monokrystalech křemíku. Tavba se provádí v uzavřené pracovní komoře ve vakuu nebo při nízkém tlaku v průtočném prostředí inertního plynu nebo plynu nereagujícího s roztaveným křemíkem. Tzv. teplotní uzel je tvořen koaxiální soustavou složenou z rostoucího monokrystalu křemíku, taveniny křemíku v křemenném kelímku vloženém do podpůrného grafitového kelímku, jenž je obklopen grafitovým nahřívatelem a vnější izolační soustavou několika grafitových zrcadel, případně vyplněnou grafitovou plstí. Optimalizace teplotních podmínek v průběhu procesu pěstování monokrystalů metodou Czochralskiho, na kterých závisí parametry vyrobených monokrystalů, úspěšnost růstu a ekonomičnost výroby se velmi složitě a citlivě zajišťuje stabilizací a řízením tepelného výkonu nahřívatele, rychlosti posuvu a rotace monokrystalu, rychlosti posuvu a rotace křemenného kelímku. Zvlášť obtížná je optimalizace teplotních podmínek v končící fázi růstu monokrystalu, kdy se prudce mění poměr plochy povrchu k objemu taveniny a snižuje se účinnost převodu tepla z nahřívatele. V této fázi procesu pěstování monokrystalů si různá hlediska jako např. maximální využití navážky a objemová, radiální i axiální homogenita vlastností vyrobeného monokrystalu, vynucují protichůdné technologické zásahy, takže za stávajících podmínek není komplexní stabilizace podmínek prakticky možná.
Podstata technického řešení
Uvedené nedostatky do značné míry odstraňuje zařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho podle tohoto technického řešení, které spočívá v tom, že sestává z koaxiální soustavy grafitového nahřívatele, grafitového kelímku a křemenného kelímku, kde stěna grafitového kelímku je alespoň ve své spodní polovině opatřena průchozími přihřívacími průzory, přičemž tyto přihřívací průzory zaujímají 5 až 50 % plochy grafitového kelímku a jsou rovnoměrně rozloženy po obvodu a radiálně k povrchu stěny grafitového kelímku. Výhodou zařízení podle tohoto technického řešení je zvýšení efektivity pěstování monokrystalů křemíku, omezení četnosti nezdarů a výskytu krystalograficky defektních monokrystalů. Současně eliminuje nebezpečí zatuhnutí taveniny od stěn kelímku a zmenšuje se hmotnost technologicky nezpracovatelného zbytku taveniny křemíku v křemenném kelímku o 30 až 50 I.
-1CZ 6682 Ul
Přehled obrázků na výkrese
Technické řešení bude blíže osvětleno na výkrese, na kterém obrázek znázorňuje teplotní uzel zařízení pro pěstování monokrystalu křemíku metodou Czochralskiho tvořený koaxiální soustavou složenou z rostoucího monokrystalu, taveniny křemíku v křemenném kelímku, vloženém do podpůrného kelímku, který je obklopen grafitovým nahřívatelem a vnější izolační soustavou grafitových zrcadel .
Příklady provedení
Příprava bezdislokačních monokrystalů křemíku vysoce dotovaných borem na koncentraci 5.1018 at/cm až 5.1019 at/cm, odpovídající rezistivitě 0,002 až 0,15 Ucm, p-typu elektrické vodivosti, které se zpracovávají na křemíkové elektrody, se provádí metodou Czochralskiho v zařízení, kde tepelný uzel je tvořen koaxiální soustavou. Soustava je složena z rostoucího monokrystalu 1, taveniny 2 křemíku v křemenném kelímku 3 o průměru 152 mm, uloženém do podpůrného grafitového kelímku 4, který je obklopen grafitovým nahřívatelem 5 a vnější izolační soustavou grafitových zrcadel 6, 16, vyplněnou grafitovou plstí 7. Tavba se provádí v uzavřené pracovní komoře v průtočném prostředí argonu Ar při tlaku 200 až 2500 Pa a průtoku 2 až 20 1/min. z navážky polykrystalického křemíku o hmotnosti 3 až 4 kg, tažením ze zárodku o krystalografické orientaci III. Ve spodní části grafitového kelímku 4 do výšky 55 mm jsou vytvořeny přihřívací průzory 9 ve formě průchozích zářezů o šířce 1 až 1,5 mm, rovnoměrně rozložených ve vzdálenosti 15 až 20 mm po obvodu grafitového kelímku 4, které jsou vedeny radiálně do jeho osy rotace. Řízením plošné hustoty, regulací umístění, resp. integrální plošné světlosti přihřívacích průzorů 9, lze regulovat přihřívací efekt. K optimalizaci objemového rozložení teploty a časového průběhu teploty taveniny 2 křemíku v křemenném kelímku 3 v průběhu pěstování monokrystalu 1 křemíku, zejména v končící fázi jeho růstu, kdy se prudce mění poměr plochy povrchu k objemu taveniny 2 křemíku dojde přímým tepelným vyzařováním grafitového nahřívatele 5 průchozími přihřívacími průzory 9 ve stěně 8 grafitového kelímku 4. Dochází k 10 až 20 % prodloužení stacionární části regulace teplotních podmínek růstu monokrystalu 1 a končící fáze růstu se vyznačuje plynulejšími změnami jednotlivých regulačních funkcí.
Claims (1)
- NÁROKY NA OCHRANUZařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho, sestávající z koaxiální soustavy grafitového nahřívatele, grafitového kelímku a křemenného kelímku, vyznačující se tím, že stěna (8) grafitového kelímku (4) je alespoň ve své spodní polovině opatřena průchozími přihřívacími průzory (9), zaujímajícími 5 až 50 % plochy grafitového kelímku (4) a rovnoměrně rozloženými po obvodu a radiálně k povrchu stěny (8) grafitového kelímku (4).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ19977150U CZ6682U1 (cs) | 1997-09-15 | 1997-09-15 | Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ19977150U CZ6682U1 (cs) | 1997-09-15 | 1997-09-15 | Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ6682U1 true CZ6682U1 (cs) | 1997-10-13 |
Family
ID=38827989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ19977150U CZ6682U1 (cs) | 1997-09-15 | 1997-09-15 | Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ6682U1 (cs) |
-
1997
- 1997-09-15 CZ CZ19977150U patent/CZ6682U1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5059596B2 (ja) | 単結晶シリコンにおける連続的成長用システム | |
| JP3892496B2 (ja) | 半導体単結晶製造方法 | |
| JP5731349B2 (ja) | 単結晶シリコンにおける連続的成長用システム | |
| JP2003277197A (ja) | CdTe単結晶およびCdTe多結晶並びにその製造方法 | |
| EP0992618B1 (en) | Method of manufacturing compound semiconductor single crystal | |
| EP0141495B1 (en) | A method for pulling a single crystal | |
| CN115198350B (zh) | 一种可降低硅晶体氧含量的热场系统及工艺方法 | |
| US5840116A (en) | Method of growing crystals | |
| US12351937B2 (en) | Production method for silicon monocrystal | |
| EP1614774A1 (en) | Process for producing single crystal | |
| JP2000335993A (ja) | インゴット−溶融物の境界の中央及び縁での温度勾配の調節による単結晶シリコンインゴットの製造のためのチョクラルスキプーラー、チョクラルスキプーラー用熱遮断体及びチョクラルスキプーラーの改良方法 | |
| JP4013324B2 (ja) | 単結晶成長方法 | |
| CZ6682U1 (cs) | Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho | |
| JP2003246695A (ja) | 高濃度にドーピングされたシリコン単結晶の製造方法 | |
| JP3840683B2 (ja) | 単結晶引上方法 | |
| JP3885245B2 (ja) | 単結晶引上方法 | |
| JP4341379B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
| CS271848B1 (en) | Device for semiconductor silicon's monocrystals growing by means of czochralski method | |
| KR100831052B1 (ko) | 실리콘 단결정 잉곳의 산소농도 조절방법, 이를 사용하여제조된 잉곳 | |
| JPH05294784A (ja) | 単結晶成長装置 | |
| JP3467942B2 (ja) | 単結晶引上方法 | |
| JPH10324592A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
| CN119465399A (zh) | 单晶炉及单晶硅制备方法 | |
| JP2000072587A (ja) | シリコン単結晶の引上げ装置及びその引上げ方法 | |
| JPH05221781A (ja) | 単結晶引上装置 |