CZ6682U1 - Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho - Google Patents

Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho Download PDF

Info

Publication number
CZ6682U1
CZ6682U1 CZ19977150U CZ715097U CZ6682U1 CZ 6682 U1 CZ6682 U1 CZ 6682U1 CZ 19977150 U CZ19977150 U CZ 19977150U CZ 715097 U CZ715097 U CZ 715097U CZ 6682 U1 CZ6682 U1 CZ 6682U1
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
graphite
silicon
cultivation
czochralski method
crucible
Prior art date
Application number
CZ19977150U
Other languages
English (en)
Inventor
Jaroslav Kábrt
Pavel Ing. Pojman
Zdeněk Daníček
Original Assignee
Polovodiče, A.S.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Polovodiče, A.S. filed Critical Polovodiče, A.S.
Priority to CZ19977150U priority Critical patent/CZ6682U1/cs
Publication of CZ6682U1 publication Critical patent/CZ6682U1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

Oblast techniky
Technické řešení se týká zařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho.
Dosavadní stav techniky
Pěstování monokrystalů polovodičového křemíku tažením z taveniny na zárodku metodou Czochralskiho je jednou z nejrozšířenějších a průmyslově nejpoužívanějších metod přípravy tohoto základního materiálu pro elektroniku. Používá se všude tam, kde se požaduje velký průměr připravovaných krystalů, relativně velká koncentrace elektricky aktivních příměsí a kde nevadí, případně je i technologicky příznivá vyšší koncentrace kyslíku ve vyrobených monokrystalech křemíku. Tavba se provádí v uzavřené pracovní komoře ve vakuu nebo při nízkém tlaku v průtočném prostředí inertního plynu nebo plynu nereagujícího s roztaveným křemíkem. Tzv. teplotní uzel je tvořen koaxiální soustavou složenou z rostoucího monokrystalu křemíku, taveniny křemíku v křemenném kelímku vloženém do podpůrného grafitového kelímku, jenž je obklopen grafitovým nahřívatelem a vnější izolační soustavou několika grafitových zrcadel, případně vyplněnou grafitovou plstí. Optimalizace teplotních podmínek v průběhu procesu pěstování monokrystalů metodou Czochralskiho, na kterých závisí parametry vyrobených monokrystalů, úspěšnost růstu a ekonomičnost výroby se velmi složitě a citlivě zajišťuje stabilizací a řízením tepelného výkonu nahřívatele, rychlosti posuvu a rotace monokrystalu, rychlosti posuvu a rotace křemenného kelímku. Zvlášť obtížná je optimalizace teplotních podmínek v končící fázi růstu monokrystalu, kdy se prudce mění poměr plochy povrchu k objemu taveniny a snižuje se účinnost převodu tepla z nahřívatele. V této fázi procesu pěstování monokrystalů si různá hlediska jako např. maximální využití navážky a objemová, radiální i axiální homogenita vlastností vyrobeného monokrystalu, vynucují protichůdné technologické zásahy, takže za stávajících podmínek není komplexní stabilizace podmínek prakticky možná.
Podstata technického řešení
Uvedené nedostatky do značné míry odstraňuje zařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho podle tohoto technického řešení, které spočívá v tom, že sestává z koaxiální soustavy grafitového nahřívatele, grafitového kelímku a křemenného kelímku, kde stěna grafitového kelímku je alespoň ve své spodní polovině opatřena průchozími přihřívacími průzory, přičemž tyto přihřívací průzory zaujímají 5 až 50 % plochy grafitového kelímku a jsou rovnoměrně rozloženy po obvodu a radiálně k povrchu stěny grafitového kelímku. Výhodou zařízení podle tohoto technického řešení je zvýšení efektivity pěstování monokrystalů křemíku, omezení četnosti nezdarů a výskytu krystalograficky defektních monokrystalů. Současně eliminuje nebezpečí zatuhnutí taveniny od stěn kelímku a zmenšuje se hmotnost technologicky nezpracovatelného zbytku taveniny křemíku v křemenném kelímku o 30 až 50 I.
-1CZ 6682 Ul
Přehled obrázků na výkrese
Technické řešení bude blíže osvětleno na výkrese, na kterém obrázek znázorňuje teplotní uzel zařízení pro pěstování monokrystalu křemíku metodou Czochralskiho tvořený koaxiální soustavou složenou z rostoucího monokrystalu, taveniny křemíku v křemenném kelímku, vloženém do podpůrného kelímku, který je obklopen grafitovým nahřívatelem a vnější izolační soustavou grafitových zrcadel .
Příklady provedení
Příprava bezdislokačních monokrystalů křemíku vysoce dotovaných borem na koncentraci 5.1018 at/cm až 5.1019 at/cm, odpovídající rezistivitě 0,002 až 0,15 Ucm, p-typu elektrické vodivosti, které se zpracovávají na křemíkové elektrody, se provádí metodou Czochralskiho v zařízení, kde tepelný uzel je tvořen koaxiální soustavou. Soustava je složena z rostoucího monokrystalu 1, taveniny 2 křemíku v křemenném kelímku 3 o průměru 152 mm, uloženém do podpůrného grafitového kelímku 4, který je obklopen grafitovým nahřívatelem 5 a vnější izolační soustavou grafitových zrcadel 6, 16, vyplněnou grafitovou plstí 7. Tavba se provádí v uzavřené pracovní komoře v průtočném prostředí argonu Ar při tlaku 200 až 2500 Pa a průtoku 2 až 20 1/min. z navážky polykrystalického křemíku o hmotnosti 3 až 4 kg, tažením ze zárodku o krystalografické orientaci III. Ve spodní části grafitového kelímku 4 do výšky 55 mm jsou vytvořeny přihřívací průzory 9 ve formě průchozích zářezů o šířce 1 až 1,5 mm, rovnoměrně rozložených ve vzdálenosti 15 až 20 mm po obvodu grafitového kelímku 4, které jsou vedeny radiálně do jeho osy rotace. Řízením plošné hustoty, regulací umístění, resp. integrální plošné světlosti přihřívacích průzorů 9, lze regulovat přihřívací efekt. K optimalizaci objemového rozložení teploty a časového průběhu teploty taveniny 2 křemíku v křemenném kelímku 3 v průběhu pěstování monokrystalu 1 křemíku, zejména v končící fázi jeho růstu, kdy se prudce mění poměr plochy povrchu k objemu taveniny 2 křemíku dojde přímým tepelným vyzařováním grafitového nahřívatele 5 průchozími přihřívacími průzory 9 ve stěně 8 grafitového kelímku 4. Dochází k 10 až 20 % prodloužení stacionární části regulace teplotních podmínek růstu monokrystalu 1 a končící fáze růstu se vyznačuje plynulejšími změnami jednotlivých regulačních funkcí.

Claims (1)

  1. NÁROKY NA OCHRANU
    Zařízení pro pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralskiho, sestávající z koaxiální soustavy grafitového nahřívatele, grafitového kelímku a křemenného kelímku, vyznačující se tím, že stěna (8) grafitového kelímku (4) je alespoň ve své spodní polovině opatřena průchozími přihřívacími průzory (9), zaujímajícími 5 až 50 % plochy grafitového kelímku (4) a rovnoměrně rozloženými po obvodu a radiálně k povrchu stěny (8) grafitového kelímku (4).
CZ19977150U 1997-09-15 1997-09-15 Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho CZ6682U1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ19977150U CZ6682U1 (cs) 1997-09-15 1997-09-15 Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ19977150U CZ6682U1 (cs) 1997-09-15 1997-09-15 Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ6682U1 true CZ6682U1 (cs) 1997-10-13

Family

ID=38827989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ19977150U CZ6682U1 (cs) 1997-09-15 1997-09-15 Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho

Country Status (1)

Country Link
CZ (1) CZ6682U1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5059596B2 (ja) 単結晶シリコンにおける連続的成長用システム
JP3892496B2 (ja) 半導体単結晶製造方法
JP5731349B2 (ja) 単結晶シリコンにおける連続的成長用システム
JP2003277197A (ja) CdTe単結晶およびCdTe多結晶並びにその製造方法
EP0992618B1 (en) Method of manufacturing compound semiconductor single crystal
EP0141495B1 (en) A method for pulling a single crystal
CN115198350B (zh) 一种可降低硅晶体氧含量的热场系统及工艺方法
US5840116A (en) Method of growing crystals
US12351937B2 (en) Production method for silicon monocrystal
EP1614774A1 (en) Process for producing single crystal
JP2000335993A (ja) インゴット−溶融物の境界の中央及び縁での温度勾配の調節による単結晶シリコンインゴットの製造のためのチョクラルスキプーラー、チョクラルスキプーラー用熱遮断体及びチョクラルスキプーラーの改良方法
JP4013324B2 (ja) 単結晶成長方法
CZ6682U1 (cs) Zařízení k pěstování monokrystalů polovodičového křemíku metodou Czochralsklho
JP2003246695A (ja) 高濃度にドーピングされたシリコン単結晶の製造方法
JP3840683B2 (ja) 単結晶引上方法
JP3885245B2 (ja) 単結晶引上方法
JP4341379B2 (ja) 単結晶の製造方法
CS271848B1 (en) Device for semiconductor silicon's monocrystals growing by means of czochralski method
KR100831052B1 (ko) 실리콘 단결정 잉곳의 산소농도 조절방법, 이를 사용하여제조된 잉곳
JPH05294784A (ja) 単結晶成長装置
JP3467942B2 (ja) 単結晶引上方法
JPH10324592A (ja) 単結晶引き上げ装置
CN119465399A (zh) 单晶炉及单晶硅制备方法
JP2000072587A (ja) シリコン単結晶の引上げ装置及びその引上げ方法
JPH05221781A (ja) 単結晶引上装置