CZ306541B6 - Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD - Google Patents
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD Download PDFInfo
- Publication number
- CZ306541B6 CZ306541B6 CZ2015-837A CZ2015837A CZ306541B6 CZ 306541 B6 CZ306541 B6 CZ 306541B6 CZ 2015837 A CZ2015837 A CZ 2015837A CZ 306541 B6 CZ306541 B6 CZ 306541B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- target
- central carrier
- coolant
- cylindrical cathode
- space
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 abstract 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/342—Hollow targets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič (1), na jehož obvodu je uspořádán target (2). Centrální nosič (1) má alespoň v oblasti targetu (2) vytvořený prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem (6) chladicí kapaliny a výstupem (7) chladicí kapaliny. Uvnitř centrálního nosiče (1) je uspořádán zdroj (5) magnetického pole. Prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu (2) oddělen pružnou trubkou (4), jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu (2). Vnější průměr centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2) v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky (4) a prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2).
Description
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD
Oblast techniky
Vynález se týká cylindrické katody pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán target, přičemž centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole, přičemž prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu oddělen pružnou trubkou, jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu.
Dosavadní stav techniky
Metoda fyzikální depozice z plynné fáze, označovaná zkratkou PVD (Physical Vapor Deposition), je metoda nanášení tenkých vrstev.
Nanášení vrstev probíhá ve vakuové komoře. Před samotným nanášením vrstev se v komoře sníží tlak, komora se v závislosti na materiálu nástroje vyhřeje na příslušnou teplotu, nanese se adhezní vrstva a potom se nanáší otěruvzdorná vrstva.
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD je umístěna uvnitř komory a při nanášení rotuje, aby se nanášený materiál z katody odpařoval rovnoměrně.
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD zahrnuje trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán materiál, který má být nanášen. Tento materiál se označuje jako target. Centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny. Uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole.
Pokud je target ze snadno obrobitelných materiálů, například Ti, TiAl, AI, je výhodné vyrobit target přímo ve tvaru trubky z jednoho kusu, která koaxiálně obepíná centrální nosič.
V případě targetu ze špatně obrobitelných materiálů, například TiB2 nebo B4C, je target vyroben ve formě prstencových segmentů. Tyto segmenty jsou kvůli dobrému přenosu tepla vedle sebe napájeny nebo nalepeny na centrální nosič. Takové provedení je známo například z dokumentu US 2014/174920 AI.
Pro pájení targetu je možno použít pájku s nízkou taviči teplotou nebo pájku s vysokou taviči teplotou.
Při použití pájky s nízkou taviči teplotou (např. na bázi In) je maximální výkon, který lze přivést na katodu, limitován teplotou, při které dojde k odlepení targetu (a jeho následné destrukci).
Větší výkon je na katodu možné přivézt při použití pájky s vysokou taviči teplotou (tzv. tvrdá pájka, s výhodou aktivní pájka s příměsí Ti či Si). Nicméně může dojít k popraskání targetu již během pájení targetu na centrální nosič, resp. během chladnutí po pájení. Důvodem je rozdílná tepelná roztažnost materiálu centrálního nosiče a targetu. Ze stejného důvodu může dojít k destrukci targetu při tepelném zatížení během depozičního procesu, při kterém dochází k opakovatelnému chlazení a zahřívání.
Obě metody vedou k omezení maximálního výkonu, který lze přivést na katodu. Tím se prodlužuje celková doba nanášení vrstev metodou PVD.
-1 CZ 306541 B6
Metoda lepení s sebou nese podobné problémy jako metoda pájení. Je sice o něco snazší target nalepit než napájet, nicméně lepením se typicky dosáhne horšího tepelného kontaktu a tedy ještě většího omezení maximálního výkonu.
U rovinných targetu je znám způsob chlazení targetu přes tenký měděný plech. Toto známé provedení pochopitelně není určeno ke kompenzaci tepelné dilatace targetu během ohřevu a chladnutí.
Dokument WO 03080891 popisuje rotační trubkovou katodu pro naprašování, například pro povlékání okenních tabulí. Taková trubková katoda má většinou kapalinové chlazení. Pro ulehčení výměny katody je mezi targetem na obvodu katody nebo nosičem targetu a centrální podélnou osou trubkové katody uspořádána válcová elastická fólie, která těsní kapalinový okruh vůči targetu a tím,, tvoří uzavřený systém. Nevýhodou takového provedení je, že zdroj magnetického pole je umístěný přímo v prostoru s chladicí kapalinou, což způsobuje korozi magnetů (především v případě použití nejvhodnějších permanentních magnetů typu FeNdB), čímž dochází k nežádoucímu snížení intensity magnetického pole. Magnety navíc fungují jako lapače magnetických nečistot z chladicí kapaliny, což v delším horizontu opět způsobí snížení intensity magnetického pole.
Dokument US 2014/174920 popisuje naprašovací katodu, která zahrnuje vnitřní základní těleso, které je umístěno ve vnějším nosném tělese, mezi kterými je uspořádán prostor pro průtok chladicí kapaliny s přítokem a odtokem. Rozdílná tepelná roztažnost hliníkového nosného tělesa a vnitřního základního tělesa, které je například z nerezové oceli, se řeší pomocí spirálové pružiny, avšak pouze v podélném směru, což neřeší problém s přenosem tepla mezi nosným tělesem a 2V základním tělesem.
Podstata vynálezu
Nedostatky stavu techniky odstraňuje cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán target, přičemž centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole, přičemž prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu oddělen pružnou trubkou, jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu, podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že vnější průměr centrálního nosiče v oblasti pod targetem v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky a prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče v oblasti pod targetem.
Výhodou řešení podle vynálezu je optimální průtok tlakové chladicí kapaliny a pružná trubka dokonale kopíruje tepelnou dilataci targetu, takže na katodu lze přivést vysoký výkon, aniž by docházelo k jeho praskání. Vyšší výkon pak vede ke zkrácení doby nanášení povlaku. Technologie výroby takové cylindrické katody je levnější než známé technologie pájení či lepení a centrální nosič je navíc vícenásobně použitelný.
Podle výhodného provedení je pružná trubka z elektricky vodivého materiálu, zejména z kovu nebo elektricky vodivého plastu, a má tloušťku stěny v rozmezí od 0,01 do 1 mm, s výhodou 0,05 do 0,2 mm.
Podle dalšího výhodného provedení je pružná trubka z mědi.
Target může být sestaven z několika za sebou uspořádaných, navazujících prstencových segmentů.
-2CZ 306541 B6
Podle výhodného provedení je zdroj magnetického pole uvnitř centrálního nosiče oddělen od protékající chladicí kapaliny.
Objasnění výkresů
Cylindrická katoda podle vynálezu bude blíže popsána na dvou příkladech konkrétního provedení, které se liší konstrukcí centrálního nosiče s targetem. První příklad provedení cylindrické katody je zobrazen na obr. 1. Na obr. 2 je zobrazen centrální nosič s targetem a na obr. 3 pouze centrální nosič cylindrické katody z obr. 1. Druhé provedení centrálního nosiče s targetem je zobrazeno na obr. 4 a samotný centrální nosič tohoto provedení je zobrazen na obr. 5.
Příklady uskutečnění vynálezu
Na obr. 1 je v řezu schematicky zobrazen první příklad provedení cylindrické katody pro nanášení vrstev metodou PVD. Katoda zahrnuje trubkovitý centrální nosič 1, na jehož obvodu je uspořádán target 2. Na obr. 2 je pak zobrazen pouze centrální nosič 1 s targetem 2 a na obr. 3 jen samotný centrální nosič 1.
Target 2 zahrnuje na sebe navazující prstencové segmenty, například z TiB2, B4C, W, TiSi.
Centrální nosič 1 má v oblasti pod targetem 2 vytvořený prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem 6 chladicí kapaliny a výstupem 7 chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče Ije uspořádán zdroj 5 magnetického pole (viz obr. 1). Zdroj 5 magnetického poleje uvnitř centrálního nosiče 1 uspořádán v samostatném prostoru (viz obr. 1), takže je zcela oddělen od protékající chladicí kapaliny.
Prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je vytvořen zmenšením vnějšího průměru centrálního nosiče 1 v oblasti pod targetem 2.
Prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu 2 oddělen pružnou trubkou 4, na kterou target 2 dosedá.
Pružná trubka 4 dosedá na centrální nosič 1 pouze v místech připojení 9 na obou koncích targetu 2, kde je pružná trubka 4 k centrálnímu nosiči 1 přilepena nebo připájena.
Odnímatelný díl 8 (viz obr. 1) umožňuje snadnou výměnu segmentů targetu 2.
Pružná trubka 4 je v zobrazeném příkladu provedení z Cu a má tloušťku stěny 0,1 mm. Z důvodů jednoduchosti konstrukce je výhodné, pokud je pružná trubka 4 z elektricky a tepelně vodivého materiálu, zejména z kovu nebo z elektricky vodivého plastu, například z elektricky vodivého plastu, komerčně dostupného pod označením TECACOMP TC. Pokud se však zajistí jiný přívod elektrického proudu k targetu 2, lze použít i pružnou trubku z elektricky nevodivého materiálu.
Tloušťka stěny pružné trubky 4 se volí v rozmezí od 0,01 do 1 mm, s výhodou 0,05 do 0,2 mm.
Prstencové segmenty targetu 2 se nasunou na pružnou trubku 4, která je z její vnitřní strany chlazená tlakovou chladicí kapalinou. Protože má pružná trubka 4 tloušťku stěny jen 0,1 mm a tlak chladicí kapaliny je 0,2 MPa, dojde k roztažení pružné trubky 4 a k vytvoření dokonalého tepelného a elektrického kontaktu mezi trubkou 4 a segmenty targetu 2.
Na takto zhotovenou cylindrickou katodu lze při nanášení tenkých vrstev přivést vyšší výkon, než je tomu u známých katod, protože pružná trubka 4 dokonale kopíruje tepelnou dilataci targetu 2, takže nedochází k jeho praskání. Vyšší výkon pak vede ke zkrácení doby nanášení povlaku.
-3CZ 306541 B6
Centrální nosič 1 lze použít k nesení targetu 2 opakovaně.
Podle výhodného postupu lze pružnou trubku 4 zhotovit s menším vnějším průměrem, než je vnitřní průměr targetu 2, poté se na ni nasune trubkovitý přípravek o stejném vnitřním průměru, jako je vnitřní průměr targetu 2, a následně se pružná trubka 4 „naformátuje“ přivedením vody o tlaku 0,5 MPa. Trubka 4 se deformuje a po vypuštění vody má již přesně definovaný „správný“ průměr.
Na obr. 4 a 5 je provedení centrálního nosiče 1 podle vynálezu. Vnější průměr centrálního nosiče 1 v oblasti pod targetem 2 v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky 4 a prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče 1 v oblasti pod targetem 2.
Zbytek konstrukce cylindrické katody je stejný jako u provedení z obr. 1. Prstencové segmenty targetu 2 jsou nasunuty na pružnou trubku 4, která je z její vnitřní strany chlazená tlakovou chladicí kapalinou, která proniká množinou průchozích otvorů v plášti centrálního nosiče 1, tlačí na pružnou trubku 4, která tak vytvoří dokonalý tepelný a elektrický kontakt mezi trubkou 4 a segmenty targetu 2.
Claims (5)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič (1), na jehož obvodu je uspořádán target (2), přičemž centrální nosič (1) má alespoň v oblasti targetu (2) vytvořený prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem (6) chladicí kapaliny a výstupem (7) chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče (1) je uspořádán zdroj (5) magnetického pole, přičemž prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu (2) oddělen pružnou trubkou (4), jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu (2), vyznačující se tím, že vnější průměr centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2) v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky (4) a prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2).
- 2. Cylindrická katoda podle nároku 1, vyznačující se tím, že pružná trubka (4) je z elektricky vodivého materiálu, zejména z kovu nebo elektricky vodivého plastu, a má tloušťku stěny v rozmezí od 0,01 do 1 mm, s výhodou 0,05 do 0,2 mm.
- 3. Cylindrická katoda podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že pružná trubka (4) je z mědi.
- 4. Cylindrická katoda podle nároku 1, 2 nebo 3, vyznačující se tím, že target (2) je sestaven z několika za sebou uspořádaných, navazujících prstencových segmentů.
- 5. Cylindrická katoda podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tí m, že zdroj (5) magnetického pole je uvnitř centrálního nosiče (1) oddělen od protékající chladicí kapaliny.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2015-837A CZ2015837A3 (cs) | 2015-11-27 | 2015-11-27 | Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD |
| PCT/CZ2016/000125 WO2017088842A1 (en) | 2015-11-27 | 2016-11-22 | Cylindrical cathode for deposition of layers by pvd method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2015-837A CZ2015837A3 (cs) | 2015-11-27 | 2015-11-27 | Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ306541B6 true CZ306541B6 (cs) | 2017-03-01 |
| CZ2015837A3 CZ2015837A3 (cs) | 2017-03-01 |
Family
ID=57796080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2015-837A CZ2015837A3 (cs) | 2015-11-27 | 2015-11-27 | Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ2015837A3 (cs) |
| WO (1) | WO2017088842A1 (cs) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111719122A (zh) * | 2019-03-21 | 2020-09-29 | 广东太微加速器有限公司 | 靶 |
| AT18282U1 (de) | 2023-05-16 | 2024-08-15 | Plansee Composite Mat Gmbh | Segmentiertes Ringtarget |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3852181A (en) * | 1972-11-02 | 1974-12-03 | Siemens Ag | Continuous cathode sputtering system |
| EP0482541A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-29 | METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH | Grossflächige Kathodenanordnung mit gleichmässigem Abbrandverhalten |
| US6096176A (en) * | 1994-07-02 | 2000-08-01 | Tokyo Electron Limited | Sputtering method and a sputtering apparatus thereof |
| WO2003080891A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Dieter Wurczinger | Drehbare rohrkathode |
| US6689254B1 (en) * | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
| US20080011601A1 (en) * | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Applied Materials, Inc. | Cooled anodes |
| US20140174920A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Sulzer Metaplas Gmbh | Evaporation source |
| CZ304905B6 (cs) * | 2009-11-23 | 2015-01-14 | Shm, S.R.O. | Způsob vytváření PVD vrstev s pomocí rotační cylindrické katody a zařízení k provádění tohoto způsobu |
| EP2907890A1 (en) * | 2012-10-12 | 2015-08-19 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Pvd treatment method and pvd treatment device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL1813695T3 (pl) * | 2006-01-31 | 2013-04-30 | Materion Advanced Materials Tech And Services Inc | Rurowa tarcza do napylania katodowego o ulepszonej sztywności |
| DE102006017455A1 (de) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Rohrkathode |
| DE102011075543B4 (de) * | 2011-05-10 | 2015-10-08 | Von Ardenne Gmbh | Anordnung zur Kühlung eines längserstreckten Magnetron |
-
2015
- 2015-11-27 CZ CZ2015-837A patent/CZ2015837A3/cs unknown
-
2016
- 2016-11-22 WO PCT/CZ2016/000125 patent/WO2017088842A1/en unknown
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3852181A (en) * | 1972-11-02 | 1974-12-03 | Siemens Ag | Continuous cathode sputtering system |
| EP0482541A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-04-29 | METAPLAS IONON Oberflächenveredelungstechnik GmbH | Grossflächige Kathodenanordnung mit gleichmässigem Abbrandverhalten |
| US6689254B1 (en) * | 1990-10-31 | 2004-02-10 | Tokyo Electron Limited | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
| US6096176A (en) * | 1994-07-02 | 2000-08-01 | Tokyo Electron Limited | Sputtering method and a sputtering apparatus thereof |
| WO2003080891A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Dieter Wurczinger | Drehbare rohrkathode |
| US20080011601A1 (en) * | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Applied Materials, Inc. | Cooled anodes |
| CZ304905B6 (cs) * | 2009-11-23 | 2015-01-14 | Shm, S.R.O. | Způsob vytváření PVD vrstev s pomocí rotační cylindrické katody a zařízení k provádění tohoto způsobu |
| EP2907890A1 (en) * | 2012-10-12 | 2015-08-19 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Pvd treatment method and pvd treatment device |
| US20140174920A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Sulzer Metaplas Gmbh | Evaporation source |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| (Novel techniques and devices for in-situ film coatings of long, small diameter tubes or elliptical and other surface contours; A. Hershcovitch, M. Blaskiewicz, J. M. Brennan, W. Fischer, C.-J. Liaw; Journal of Vacuum Science & Technology B (Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena) Vol. 33, No. 5, ISSN: 1071-1023) 14.08.2015 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2017088842A1 (en) | 2017-06-01 |
| CZ2015837A3 (cs) | 2017-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2016080262A1 (ja) | 静電チャック装置 | |
| US20080138529A1 (en) | Method and apparatus for cathodic arc ion plasma deposition | |
| EP2039797B1 (en) | Sputtering target/backing plate conjunction element | |
| CN104259644B (zh) | 一种钨钛合金靶材焊接方法 | |
| JP6655007B2 (ja) | 放射冷却増進エンドホール・イオン源 | |
| RU2665059C2 (ru) | Мишень для распыления, имеющая увеличенную энергетическую совместимость | |
| CZ306541B6 (cs) | Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD | |
| WO2012009264A2 (en) | Rotary target backing tube bonding assembly | |
| TW201144464A (en) | Rotatable target, backing tube, sputtering installation and method for producing a rotatable target | |
| JP2019530801A5 (cs) | ||
| CN106471151B (zh) | 溅镀靶 | |
| JP6407857B2 (ja) | 間接冷却装置に合ったターゲット | |
| JP2004003817A (ja) | 流体温度調節装置 | |
| US9546418B2 (en) | Diffusion-bonded sputter target assembly and method of manufacturing | |
| JPH0853758A (ja) | プレート装置を固定するための装置 | |
| KR20160029081A (ko) | 간접 냉각 디바이스에 적응된 냉각 플레이트를 구비하는 타깃 | |
| EP3043371B1 (en) | X-ray tube anode arrangement and method of manufacturing | |
| CN110724918A (zh) | 一种中空内环磁控溅射阴极 | |
| CN102082388B (zh) | 固体激光器的串联扇形辐射式微通道晶体热沉冷却方法 | |
| TWI695414B (zh) | 管靶 | |
| JP7258437B2 (ja) | ウェーハの製造方法 | |
| US9786474B2 (en) | Cathodic arc deposition apparatus and method | |
| CN110565062A (zh) | 一种磁控溅射共沉积铌铜、铌镍合金用于燃料电池双极板的应用 | |
| US20060163059A1 (en) | Sputtering cathode, production method and corresponding cathode | |
| CN103757595B (zh) | 一种磁控溅射镀膜机传热装置 |