CZ2015837A3 - Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD - Google Patents

Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD Download PDF

Info

Publication number
CZ2015837A3
CZ2015837A3 CZ2015-837A CZ2015837A CZ2015837A3 CZ 2015837 A3 CZ2015837 A3 CZ 2015837A3 CZ 2015837 A CZ2015837 A CZ 2015837A CZ 2015837 A3 CZ2015837 A3 CZ 2015837A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
target
central carrier
coolant
space
cylindrical cathode
Prior art date
Application number
CZ2015-837A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ306541B6 (cs
Inventor
MojmĂ­r JĂ­lek
Original Assignee
Shm, S. R. O.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shm, S. R. O. filed Critical Shm, S. R. O.
Priority to CZ2015-837A priority Critical patent/CZ306541B6/cs
Priority to PCT/CZ2016/000125 priority patent/WO2017088842A1/en
Publication of CZ2015837A3 publication Critical patent/CZ2015837A3/cs
Publication of CZ306541B6 publication Critical patent/CZ306541B6/cs

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/342Hollow targets
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3497Temperature of target

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič (1), na jehož obvodu je uspořádán target (2). Centrální nosič (1) má alespoň v oblasti targetu (2) vytvořený prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vtupem (6) chladicí kapaliny a výstupem (7) chladicí kapaliny. Uvnitř centrálního nosiče (1) je uspořádán zdroj (5) magnetického pole. Prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu (2) oddělen pružnou trubkou (4), jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu (2). Vnější průměr centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2) v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky (4) a prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2).

Description

Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD
Oblast techniky
X Vynález se týká cylindrické katody pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán target, přičemž centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole, přičemž prostor pro X průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu oddělen pružnou trubkou, jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu.
Dosavadní stav techniky
X Metoda fyzikální depozice z plynné fáze, označovaná zkratkou PVD (Physical Vapor Deposition), je metoda nanášení tenkých vrstev.
Nanášení vrstev probíhá ve vakuové komoře. Před samotným nanášením vrstev se v komoře sníží tlak, komora se v závislosti na materiálu nástroje vyhřeje na χζ příslušnou teplotu, nanese se adhezní vrstva a potom se nanáší otěruvzdorná vrstva.
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD je umístěna uvnitř komory a při nanášení rotuje, aby se nanášený materiál z katody odpařoval rovnoměrně.
Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD zahrnuje trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán materiál, který má být nanášen. Tento materiál se označuje jako target. Centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny. Uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole.
Pokud je target ze snadno obrobitelných materiálů, například Ti, TiAl, Al, je výhodné vyrobit target přímo ve tvaru trubky z jednoho kusu, která koaxiálně obepíná centrální nosič.
V případě targetu ze špatně obrobitelných materiálů, například TiBg nebo B^C, je target vyroben ve formě prstencových segmentů. Tyto segmenty jsou kvůli dobrému přenosu tepla vedle sebe napájeny nebo nalepeny na centrální nosič.
Takové provedení je známo například z dokumentu U
1.
Pro pájení targetů je možno použít pájku s nízkou tavící teplotou nebo pájku s vysokou tavící teplotou.
Při použití pájky s nízkou tavící teplotou (např. na bázi In) je maximální výkon, který lze přivést na katodu, limitován teplotou, při které dojde k odlepení targetu (a jeho následné destrukci).
X
Větší výkon je na katodu možné přivézt při použití pájky s vysokou taviči teplotou (tzv. tvrdá pájka, s výhodou aktivní pájka s příměsí Ti, či Si). Nicméně může dojít k popraskání targetu již během pájení targetu na centrální nosič, resp. během chladnutí po pájení. Důvodem je rozdílná tepelná roztažnost materiálu centrálního nosiče a targetu. Ze stejného důvodu může dojít k destrukci targetu při tepelném zatížení během depozičního procesu, při kterém dochází k opakovatelnému chlazení a zahřívání.
Obě metody vedou k omezení maximálního výkonu, který lze přivést na katodu. Tím se prodlužuje celková doba nanášení vrstev metodou PVD.
Metoda lepení s sebou nese podobné problémy jako metoda pájení. Je sice o něco snazší target nalepit než napájet, nicméně lepením se typicky dosáhne horšího tepelného kontaktu a tedy ještě většího omezení maximálního výkonu.
U rovinných targetů je znám způsob chlazení targetu přes tenký měděný plech. Toto známé provedení pochopitelně není určeno ke kompenzaci tepelné dilatace targetu během ohřevu a chladnutí.
Dokument WO03080891 popisuje rotační trubkovou katodu pro naprašování, například pro povlékání okenních tabulí. Taková trubková katoda má většinou kapalinové chlazení. Pro ulehčení výměny katody je mezi targetem na obvodu katody, nebo nosičem targetu a centrální podélnou osou trubkové katody uspořádána válcová elastická folie, která těsní kapalinový okruh vůči targetu a tím,, tvoří uzavřený systém. Nevýhodou takového provedení je, že zdroj magnetického pole je umístěný přímo v prostoru s chladicí kapalinou, což způsobuje korozi magnetů (především v případě použití nejvhodnějších permanentních magnetů typu FeNdB), čímž dochází k nežádoucímu snížení intensity magnetického pole.
Magnety navíc fungují jako lapače magnetických nečistot z chladicí kapaliny, což v delším horizontu opět způsobí snížení intensity magnetického pole.
Dokument 08201^174920 popisuje naprašovací katodu, která zahrnuje vnitřní základní těleso, které je umístěno ve vnějším nosném tělese, mezi kterými je uspořádáš prostor pro průtok chladicí kapaliny s přítokem a odtokem. Rozdílná tepelná roztažnost hliníkového nosného tělesa a vnitřního základního tělesa, které je například z nerezové oceli, se řeší pomocí spirálové pružiny, avšak pouze v podélném směru, což neřeší problém s přenosem tepla mezi nosným tělesem a základním tělesem.
Podstata vynálezu
Nedostatky stavu techniky odstraňuje cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič, na jehož obvodu je uspořádán target, přičemž centrální nosič má alespoň v oblasti targetu vytvořený prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem chladicí kapaliny a výstupem chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče je uspořádán zdroj magnetického pole, přičemž prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu oddělen pružnou X trubkou, jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu, podle vynálezu, jehož podstata spočívá vtom, že vnější průměr centrálního nosiče v oblasti pod targetem v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky a prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče v oblasti pod targetem.
Výhodou řešení podle vynálezu je optimální průtok tlakové chladicí kapaliny a pružná trubka dokonale kopíruje tepelnou dilataci targetu, takže na katodu lze přivést vysoký výkon, aniž by docházelo k jeho praskání. Vyšší výkon pak vede ke zkrácení doby nanášení povlaku. Technologie výroby takové cylindrické katody je levnější než známé technologie pájení či lepení a centrální nosič je navíc vícenásobně použitelný.
A
Podle výhodného provedení je pružná trubka z elektricky vodivého materiálu, zejména z kovu nebo elektricky vodivého plastu,a má tloušťku stěny v rozmezí od O,01ftw^do 1 mm(s výhodou 0,05 do 0,2 mm.
jK Podle dalšího výhodného provedení je pružná trubka z mědi.
Target může být sestaven z několika za sebou uspořádaných, navazujících prstencových segmentů.
)^o Podle výhodného provedení je zdroj magnetického pole uvnitř centrálního nosiče oddělen od protékající chladicí kapaliny.
Cylindrická katoda podle vynálezu bude blíže popsána na dvou příkladech konkrétního provedení, které se liší konstrukcí centrálního nosiče s targetem. První přiklad provedení cylindrické katody je zobrazen na obr. 1. Na obr. 2 je zobrazen centrální nosič s targetem a na obr. 3 pouze centrální nosič cylindrické katody z obr. 1. Druhé provedení centrálního nosiče s targetem je zobrazeno na obr. 4 a samotný centrální nosič tohoto provedení je zobrazen na obr. 5.
Příklady uskutečnění vynálezu
Na obr. 1 je v řezu schematicky zobrazen první příklad provedení cylindrické katody pro nanášení vrstev metodou PVD. Katoda zahrnuje trubkovitý centrální % nosič 1, na jehož obvodu je uspořádán target 2. Na obr. 2 je pak zobrazen pouze centrální nosič 1 s targetem 2 a na obr. 3 jen samotný centrální nosič £.
Target 2 zahrnuje na sebe navazující prstencové segmenty, například z Ti^2, B|4C, W, TiSi.
X
Centrální nosič 1 má v oblasti pod targetem 2 vytvořený prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem 6 chladicí kapaliny a výstupem 7 chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče £ je uspořádán zdroj 5 magnetického pole (viz obr. 1). Zdroj 5 magnetického pole je uvnitř centrálního nosiče 1 uspořádán X v samostatném prostoru (viz obr. 1), takže je zcela oddělen od protékající^ chladicí kapaliny.
Prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je vytvořen zmenšením vnějšího průměru centrálního nosiče £ v oblasti pod targetem 2.
X
Prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu 2 oddělen pružnou trubkou 4, na kterou target 2 dosedá.
Pružná trubka 4 dosedá na centrální nosič £ pouze v místech připojení 9 na obou X koncích targetu 2, kde je pružná trubka 4 k centrálnímu nosiči £ přilepena nebo připájena.
Odnímatelný díl 8 (viz obr. 1) umožňuje snadnou výměnu segmentů targetu 2.
X Pružná trubka 4 je v zobrazeném příkladu provedení z Cu a má tloušťku stěny 0,1^nm. Z důvodů jednoduchosti konstrukce je výhodné, pokud je pružná trubka 4 z elektricky a tepelně vodivého materiálu, zejména z kovu nebo z elektricky vodivého plastu, například z elektricky vodivého plastu, komerčně dostupného pod 6 : : : · : : · : ·“’· •· ··· ··· ··· ··· ·· označením TECACOMP TC. Pokud se však zajistí jiný přívod elektrického proudu k targetu 2, lze použít i pružnou trubku z elektricky nevodivého materiálu.
Tloušťka stěny pružné trubky 4 se volí v rozmezí od 0,01 do 1 mm^s výhodou 0,05fŤw(do 0,2 mm.
Prstencové segmenty targetu 2 se nasunou na pružnou trubku 4, která je z její vnitřní strany chlazená tlakovou chladicí kapalinou. Protože má pružná trubka 4 tloušťku stěny jen 0,|nm a tlak chladicí kapaliny je 0,2 MPa, dojde k roztažení pružné trubky 4 a k vytvoření dokonalého tepelného a elektrického kontaktu mezi trubkou 4 a segmenty targetu 2.
Na takto zhotovenou cylindrickou katodu lze při nanášení tenkých vrstev přivést vyšší výkon, než je tomu u známých katod, protože pružná trubka 4 dokonale X kopíruje tepelnou dilataci targetu 2, takže nedochází kjeho praskání. Vyšší výkon pak vede ke zkrácení doby nanášení povlaku.
Centrální nosič 1 lze použít k nesení targetů 2 opakovaně.
Podle výhodného postupu lze pružnou trubku 4 zhotovit s menším vnějším průměrem, než je vnitřní průměr targetu 2, poté se na ni nasune trubkovitý přípravek o stejném vnitřním průměrujako je vnitřní průměr targetu 2, a následně se pružná trubka 4 „naformátuje“ přivedením vody o tlaku 0,5 MPa. Trubka 4 se deformuje a po vypuštění vody má již přesně definovaný „správný“ průměr.
Na obr. 4 a 5 je jiné provedení centrálního nosiče 1/ Vnější průměr centrálního nosiče 1 v oblasti pod targetem 2 v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky 4 a prostor 3 pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče 1 v oblasti X pod targetem 2.
Zbytek konstrukce cylindrické katody je stejný jako u provedení z obr. 1. Prstencové segmenty targetu 2 jsou nasunuty na pružnou trubku 4, která je z její vnitřní strany chlazená tlakovou chladicí kapalinou, která proniká množinou průchozích otvorů v plášti centrálního nosiče 1, tlačí na pružnou trubku 4, která tak vytvoří dokonalý tepelný a elektrický kontakt mezi trubkou 4 a segmenty targetu 2.
Seznam vztahových značek centrální nosič target prostor pro průtok tlakové chladicí kapaliny pružná trubka řó. 5 zdroj magnetického pole vstup chladicí kapaliny výstup chladicí kapaliny odnímatelný díl připojení

Claims (5)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD, zahrnující trubkovitý centrální nosič (1), na jehož obvodu je uspořádán target (2), přičemž centrální nosič (1) má alespoň v oblasti targetu (2) vytvořený prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny se vstupem (6) chladicí kapaliny a výstupem (7) chladicí kapaliny a uvnitř centrálního nosiče (1) je uspořádán zdroj (5) magnetického pole, přičemž prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je od targetu (2) oddělen pružnou trubkou (4), jejíž vnější průměr dosedá na vnitřní průměr targetu (2), vyznačující X se tím, že vnější průměr centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2) v klidovém stavu v podstatě odpovídá vnitřnímu průměru pružné trubky (4) a prostor (3) pro průtok tlakové chladicí kapaliny je tvořen množinou průchozích otvorů, uspořádaných v plášti centrálního nosiče (1) v oblasti pod targetem (2).
    X
  2. 2. Cylindrická katoda podle nároku 1, vyznačující se tím, že pružná trubka (4) je z elektricky vodivého materiálu, zejména z kovu nebo elektricky vodivého plastu, a má tloušťku stěny v rozmezí od 0,01 fwwjdo 1 mm,s výhodou 0,05 do 0,2 mm.
  3. 3. Cylindrická katoda podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že pružná trubka (4) je z mědi.
  4. 4. Cylindrická katoda podle nároku 1, 2 nebo 3, vyznačující se tím, že target (2) je sestaven z několika za sebou uspořádaných, navazujících prstencových segmentů.
  5. 5. Cylindrická katoda podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že zdroj (5) magnetického pole je uvnitř centrálního nosiče (1) oddělen od protékající chladicí kapaliny.
CZ2015-837A 2015-11-27 2015-11-27 Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD CZ306541B6 (cs)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2015-837A CZ306541B6 (cs) 2015-11-27 2015-11-27 Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD
PCT/CZ2016/000125 WO2017088842A1 (en) 2015-11-27 2016-11-22 Cylindrical cathode for deposition of layers by pvd method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2015-837A CZ306541B6 (cs) 2015-11-27 2015-11-27 Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2015837A3 true CZ2015837A3 (cs) 2017-03-01
CZ306541B6 CZ306541B6 (cs) 2017-03-01

Family

ID=57796080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2015-837A CZ306541B6 (cs) 2015-11-27 2015-11-27 Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD

Country Status (2)

Country Link
CZ (1) CZ306541B6 (cs)
WO (1) WO2017088842A1 (cs)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111719122A (zh) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2253769C3 (de) * 1972-11-02 1979-07-12 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Kathodenzerstäubungsanlage mit kontinuierlichem Substratdurchlauf
DE9014857U1 (de) * 1990-10-26 1992-02-20 Multi-Arc Oberflächentechnik GmbH, 5060 Bergisch Gladbach Großflächige Kathodenanordnung mit gleichmäßigem Abbrandverhalten
US6689254B1 (en) * 1990-10-31 2004-02-10 Tokyo Electron Limited Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor
JP3419899B2 (ja) * 1994-07-26 2003-06-23 東京エレクトロン株式会社 スパッタリング方法及びスパッタリング装置
DE10213049A1 (de) * 2002-03-22 2003-10-02 Dieter Wurczinger Drehbare Rohrkatode
EP1813695B8 (en) * 2006-01-31 2011-09-28 Materion Advanced Materials Technologies and Services Inc. Tubular sputtering target with improved stiffness
DE102006017455A1 (de) * 2006-04-13 2007-10-25 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Rohrkathode
US20080011601A1 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 Applied Materials, Inc. Cooled anodes
CZ304905B6 (cs) * 2009-11-23 2015-01-14 Shm, S.R.O. Způsob vytváření PVD vrstev s pomocí rotační cylindrické katody a zařízení k provádění tohoto způsobu
DE102011075543B4 (de) * 2011-05-10 2015-10-08 Von Ardenne Gmbh Anordnung zur Kühlung eines längserstreckten Magnetron
JP5916581B2 (ja) * 2012-10-12 2016-05-11 株式会社神戸製鋼所 Pvd処理方法及びpvd処理装置
EP2746424B1 (de) * 2012-12-21 2018-10-17 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Verdampfungsquelle

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111719122A (zh) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司

Also Published As

Publication number Publication date
CZ306541B6 (cs) 2017-03-01
WO2017088842A1 (en) 2017-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI304841B (en) Tube cathode for use in sputter processes
US7879203B2 (en) Method and apparatus for cathodic arc ion plasma deposition
US20040074770A1 (en) Rotary target
CN104259644A (zh) 一种钨钛合金靶材焊接方法
CN105210169B (zh) 功率兼容性更高的溅射靶
JP2010232476A (ja) プラズマ処理装置
JPWO2016080262A1 (ja) 静電チャック装置
US5333726A (en) Magnetron sputtering source
TW201144464A (en) Rotatable target, backing tube, sputtering installation and method for producing a rotatable target
JPH03197670A (ja) 陰極スパツタリング装置
CN106653557A (zh) 一种聚焦式阳极层离子源装置
CZ2015837A3 (cs) Cylindrická katoda pro nanášení vrstev metodou PVD
JP2004346356A (ja) マスクユニットおよびそれを用いた成膜装置
JP6407857B2 (ja) 間接冷却装置に合ったターゲット
US10032594B2 (en) High efficiency hollow cathode and cathode system applying same
US20030183518A1 (en) Concave sputtering apparatus
CN106471151B (zh) 溅镀靶
NO20051376D0 (no) Fremgangsmate for a redistribuere varmefluksen til prosessror inn i prosessvarmere og prosessvarmere inkluderende dette
TW201242436A (en) Magnetron electrode for plasma processing
JP2001338970A (ja) 静電吸着装置
JP2016523315A (ja) 冷却プレートを有する、間接冷却装置に適合するターゲット
JP2016131150A (ja) X線管アノード装置
TWI705151B (zh) 物理氣相沉積的腔室內電磁鐵
US10515785B2 (en) Cathodic arc deposition apparatus and method
CN101203074A (zh) 超合金微型加热器及其制作方法